專利名稱：光波導(dǎo)路裝置的制造方法和由該方法獲得的光波導(dǎo)路裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光通訊、光信息處理、其它一般光學(xué)中廣泛使 用的光波導(dǎo)路裝置的制造方法和由該方法獲得的光波導(dǎo)路裝置。
背景技術(shù)：
光波導(dǎo)路裝置的光波導(dǎo)路通常是在下敷層的正面將作為 光通路的芯形成為規(guī)定的圖案，以覆蓋該芯的狀態(tài)形成上敷層 而構(gòu)成的。這樣的光波導(dǎo)路通常形成在金屬制基板等的基板正 面，與該基板一起作為光波導(dǎo)^各來被制造。
制造這樣的光波導(dǎo)路的以往的制造方法如下首先，如圖 4的(a)所示，在基板10的正面形成下敷層2。接著，如圖4的 (b)所示，在該下敷層2的正面涂敷芯形成用的感光性樹脂， 形成感光性樹脂層3A。接著，隔著形成有與芯的圖案相對(duì)應(yīng)的 開口圖案的曝光掩模M對(duì)上述感光性樹脂層3A照射照射線L, 使該照射線L通過上述開口圖案的開口到達(dá)上述感光性樹脂層 3A，對(duì)該感光性樹脂層3A的部分進(jìn)行曝光。上述照射線L與上 述感光性樹脂層3A垂直地對(duì)該感光性樹脂層3A進(jìn)行照射，利用 該照射在曝光部分進(jìn)行光反應(yīng)，進(jìn)行固化。然后，通過使用顯 影液進(jìn)行顯影，如圖4的(c)所示，使未曝光部分溶解而將其 去除，殘留的曝光部分形成規(guī)定圖案的芯3。通常該芯3的截面 形狀形成四邊形狀。之后，如圖4的(d)所示，覆蓋該芯3地在 上述下敷層2的正面形成上敷層4。這樣，在上述基板10的正面 形成光波導(dǎo)路W (例如參照專利文獻(xiàn)l )。
專利文獻(xiàn)l:日本特開2004-341454號(hào)公報(bào)可是，在這樣的以往的方法中，如圖5的(a)、 (b)所示， 根據(jù)情況有時(shí)芯30的側(cè)面31形成為粗糙面。而且，在具有這樣 的芯30的光波導(dǎo)路中，產(chǎn)生在芯30內(nèi)傳播的光的傳播損失大這 樣的問題。另外，圖5的(b)是根據(jù)用電子顯微鏡將以圖5的(a) 的圓圈部C圏起來的芯30放大700倍的照片而畫成的立體圖。這 樣，通過用電子顯微鏡;故大700倍，能夠確認(rèn)芯30的側(cè)面31形成 為啦U造面。
因此，本發(fā)明人為了研究芯30的側(cè)面31形成為粗糙面的原 因，進(jìn)行了反復(fù)的研究。在該過程中，如圖5的(a)所示，弄 清了上述芯30的側(cè)面31的粗糙面化是在作為上述基板10[參照 圖4的(a) ~ ( d)]使用由以聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯(PET) 為主成分的材料構(gòu)成的基板(以下稱為"PET制基板")l的情 況下而產(chǎn)生的。然后，進(jìn)一步反復(fù)研究的結(jié)果可知，如圖6所示， 在上述P E T制基板1中含有潤(rùn)滑劑1 a等的添加成分，上述芯形成 工序中曝光所使用的照射線L與該潤(rùn)滑劑la等的添加成分接觸 而產(chǎn)生反射，該照射線L的前進(jìn)路徑被打亂。此外，還可知幾 乎所有的該照射線L到達(dá)上述PET制基板1的底面(與背面對(duì)應(yīng) 的面)。即，如圖6所示，在上述芯形成工序中，用于曝光的照 射線L透過了芯形成用感光性樹脂層3A和下敷層2后，入射到上 述PET制基板1 ，在該P(yáng)ET制基板1內(nèi)與上述潤(rùn)滑劑1 a等接觸而前 進(jìn)路徑被打亂，傾斜地到達(dá)上述PET制基板1的底面。在此，因 為上述PET制基板1的背面通常與載置PET制基板1的載置臺(tái)等 的、不透過照射線L的載置面接觸，所以到達(dá)上述PET制基板1 的底面的照射線L不會(huì)自上述PET制基板1的背面射出而是在 PET制基板1的底面進(jìn)行反射。然后，如上所述，因?yàn)檎丈渚€L 傾斜地到達(dá)上述PET制基板1的底面，所以在該底面進(jìn)行反射的 照射線L在該底面沿斜向上方向反射。之后，該反射的照射線L
4在上述P E T制基板1內(nèi)接觸到上述潤(rùn)滑劑1 a等而前進(jìn)路徑被進(jìn) 一步打亂，自該P(yáng)ET制基板1的正面沿斜上方射出。而且，該沿 斜上方射出的照射線L自下方沿斜向上的方向透過上述下敷層 2，在芯形成用感光性樹脂層3A內(nèi)的芯形成區(qū)域S中，自斜向下 方對(duì)芯30的形成圖案的邊界面(成為側(cè)面31的面)進(jìn)行曝光。 該自斜向下方的曝光因?yàn)槭侨缟纤鐾ㄟ^由上述PET制基板1 中含有潤(rùn)滑劑la等而造成的漫反射而進(jìn)行的，所以不均勻。因 此，判斷出是因自該斜向下方進(jìn)行曝光的原因而造成在芯30的
31形成為粗纟造面。即，在芯30的成為側(cè)面31的面上，由于上述 照射線L的漫反射，曝光度的大小不同，或是未曝光部分與曝 光部分產(chǎn)生混雜。然后，在后面的顯影工序中，上述芯30的成 為側(cè)面31的面的、曝光度小的部分、未曝光的部分一皮溶解而3皮 去除，曝光度大的部分、曝光部分殘留下來。因此，芯30的側(cè) 面31形成相j造面。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的事情而做成的，其目的在于提供一種 即使在PET制基板的正面形成光波導(dǎo)路，也能抑制該光波導(dǎo)路 的芯側(cè)面的粗糙面化的光波導(dǎo)路裝置的制造方法和由該方法獲 得的光波導(dǎo)路裝置。
為了達(dá)到上述目的，作為本發(fā)明的第l技術(shù)方案的光波導(dǎo) 路裝置的制造方法包括在由以聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯為主成 分的材料構(gòu)成的基板的正面形成下敷層的工序；在該下敷層的 正面形成芯形成用感光性樹脂層的工序；對(duì)該感光性樹脂層照 射照射線，曝光成規(guī)定的圖案，將該曝光部分形成芯的工序， 其中，在上述芯形成工序中，對(duì)上述感光性樹脂層照射的照射線是透過該感光性樹脂層經(jīng)過上述基板的正面到達(dá)底面、并在
此進(jìn)行反射的照射線，上述基板是下述(A)和(B)中的任一 種基板
(A) 在背面形成有吸收上述照射線的顏色的著色層的帶 有著色層的基板；
(B) 整體以吸收上述照射線的顏色著色的著色基板。 此外，作為本發(fā)明的第2技術(shù)方案的光波導(dǎo)路裝置是由上
述光波導(dǎo)路裝置的制造方法獲得的光波導(dǎo)路裝置，其中，該光 波導(dǎo)路裝置中的、由以聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯為主成分的材料 構(gòu)成的基板是上述(A)和(B)中的任一種基板。
另外，在本發(fā)明中，主成分的意思是指占整體一半以上的 成分，也包括整體4義由主成分構(gòu)成的情況。
為了即使在PET制基板[由以聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯(PET) 為主成分的材料構(gòu)成的基板]的正面形成光波導(dǎo)路，也能使該光 波導(dǎo)路的芯側(cè)面不會(huì)粗糙面化，本發(fā)明人對(duì)使自上述PET制基 板側(cè)到達(dá)芯形成用感光性樹脂層的照射線大幅度減少的方法進(jìn) 行了反復(fù)地研究。在該研究過程中，著眼于用作上述照射線的 紫外線等被著色物吸收和幾乎所有上述照射線到達(dá)上述PET制 基板的底面并在此進(jìn)行反射進(jìn)一步反復(fù)進(jìn)行了研究。其結(jié)果發(fā) 現(xiàn)，在上述PET制基板是上述(A)和(B)中的任一種基板時(shí)， 上述照射線被上述(A)的帶有著色層的基板的著色層、(B) 的著色基板本身吸收，從而抑制芯側(cè)面的粗糙面化，完成了本 發(fā)明。
在本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制造方法中，在形成光波導(dǎo)路 的PET制基板是上述(A)的帶有著色層的基板(帶有著色層的 P E T制基板)的情況下，在該帶有著色層的P E T制基板的正面(未 形成有著色層一側(cè)的面)經(jīng)過形成下敷層、形成芯形成用感光性樹脂層后，對(duì)該感光性樹脂層照射照射線，曝光成規(guī)定圖案， 將該曝光部分形成芯。在該芯形成工序中，透過了芯形成用感
光性樹脂層和下敷層的照射線入射到上述帶有著色層的PET制 基板的PET制基板部分內(nèi)，接觸到在該P(yáng)ET制基板部分的內(nèi)部所 含有的潤(rùn)滑劑等而打亂了前進(jìn)路徑，但幾乎所有的照射線到達(dá) 上述PET制基板部分的底面。在此，因?yàn)樵谏鲜鯬ET制基板部分 的背面形成有吸收照射線的顏色的著色層，所以幾乎所有到達(dá) 上述P E T制基板部分的底面的照射線被上述著色層吸收，在上 述PET制基板部分的底面進(jìn)行反射的照射線幾乎不存在。因此， 能夠大幅度地減少在上述PET制基板部分的底面進(jìn)行反射，并 自下方沿斜向上的方向透過下敷層而到達(dá)芯形成用感光性樹脂 層的照射線。其結(jié)果，在芯形成用感光性樹脂層內(nèi)，幾乎不存 在自斜下方對(duì)芯的成為側(cè)面的面進(jìn)行曝光而^f吏該面成為粗糙面 的照射線，能夠有效地抑制芯側(cè)面的粗纟造面化。
另 一方面，在形成光波導(dǎo)路的PET制基板是上述(B )的著 色基板(著色PET制基板)的情況下，在該芯形成工序中，幾 乎所有的入射到上述著色PET制基板內(nèi)的照射線在上述著色 PET制基板內(nèi)被吸收。由此，能夠大幅度地減少在上述著色PET 制基板的底面進(jìn)行反射，并自下方沿斜向上的方向透過下敷層 而到達(dá)芯形成用感光性樹脂層的照射線。其結(jié)果，在芯形成用 感光性樹脂層內(nèi)，幾乎不存在自斜下方對(duì)芯的成為側(cè)面的面進(jìn) 行曝光而使該面成為粗糙面的照射線，能夠有效地抑制芯側(cè)面 的粗糙面化。而且，在形成光波導(dǎo)路的PET制基板是上述(B ) 的著色PET制基板的情況下，如上所述，因?yàn)樵撝玃ET制基板 本身吸收照射線，幾乎不存在進(jìn)行反射的照射線，因此，具有 無需設(shè)置照射線吸收用的新的層，光波導(dǎo)路裝置整體的厚度不 會(huì)變厚這樣的優(yōu)點(diǎn)。而且，因?yàn)楸景l(fā)明的光波導(dǎo)路制造是由上述制造方法而獲 得的，所以能夠有效地抑制芯側(cè)面的粗糙面化，由此，能夠減 小在芯內(nèi)進(jìn)行傳播的光的傳播損失。
特別是在吸收上述照射線的顏色是黑色的情況下，由于照 射線的吸收性優(yōu)異，所以能夠更加有效地抑制芯側(cè)面的粗糙面 化。因此，在所獲得的光波導(dǎo)路裝置中，能夠進(jìn)一步減小在芯 內(nèi)進(jìn)行傳播的光的傳播損失。


圖l的(a)是示意性地表示由本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制 造方法的第l實(shí)施方式所獲得的光波導(dǎo)路裝置的剖視圖，(b)是 根據(jù)以(a)的圓圈部C圏起來的芯的電子顯微鏡照片而畫成的圖。
圖2的(a) ~ ( d)是示意性地表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置 的制造方法的第l實(shí)施方式的說明圖。
圖3是示意性地表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制造方法的 第2實(shí)施方式中的、對(duì)芯形成用感光性樹脂層照射照射線的工序 的說明圖。
圖4的(a) ~ ( d)是示意性地表示以往的光波導(dǎo)路裝置的 制造方法的說明圖。
圖5的(a)是示意性地表示上述以往的光波導(dǎo)路裝置的制 造方法的芯形成的剖視圖，(b)是根據(jù)以(a)的圓圏部C圈起 來的芯的電子顯微鏡照片而畫成的圖。
圖6是示意性地表示上述以往的光波導(dǎo)路裝置的制造方法 中的芯形成工序中的狀況的說明圖。
具體實(shí)施方式
圖l的(a)表示由本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制造方法的第1 實(shí)施方式所獲得的光波導(dǎo)路裝置。該光波導(dǎo)路裝置在帶有著色 層的PET制基板A的正面形成有光波導(dǎo)路W,該帶有著色層的 PET制基板A由PET制基板1部分和在該P(yáng)ET制基板1部分的背面 形成的、吸收照射線的顏色的著色層5構(gòu)成。該光波導(dǎo)路W具有 形成在上述帶有著色層的PET制基板A的正面的下敷層2，如下 那樣地制造而成。即，在上述下敷層2的正面形成感光性樹脂層 3A[參照?qǐng)D2的(b)]后，對(duì)該感光性樹脂層3A照射照射線L， 曝光成規(guī)定圖案，形成芯3，而且，在該芯3上層疊形成上敷層4 而進(jìn)行制造。在此，吸收上述照射線的顏色的著色層5起到吸收 對(duì)上述感光性樹脂層3A所照射的照射線L的作用。另外，圖l 的(b )是根據(jù)用電子顯微鏡將以圖l的(a)的圓圏部C圈起來 的芯3放大700倍的照片而畫成的立體圖。詳細(xì)地說明該實(shí)施方式的光波導(dǎo)路裝置的制造方法。首先，準(zhǔn)備上述PET制基板1[參照?qǐng)D2的(a)]。該P(yáng)ET制 基板l是無色透明的，通常使用市場(chǎng)販賣品。市場(chǎng)上販賣的PET 制基板1在該制造過程中無論如何都會(huì)含有潤(rùn)滑劑1 a等的添加 成分。另夕卜，作為上述PET制基板l,例如使用厚度為20nm lmm的范圍內(nèi)的基氺反。然后，如上所述，在上述PET制基板1的一面(背面)的規(guī) 定區(qū)域形成著色層5,該著色層5具有吸收在后面的芯3形成工序 [參照?qǐng)D2的(b) ~ ( c)]中曝光芯3形成用感光性樹脂層3A時(shí) 所使用的紫外線等照射線L的顏色。由此，形成由上述PET制基 板l部分和上述著色層5構(gòu)成的帶有著色層的PET制基板A。在 此，作為吸收上述照射線L的顏色，例如列舉有黑色、紅色、 藍(lán)色、綠色、黃色等。其中，從照射線L的吸收性優(yōu)異的方面且，作為上述著色層5的形 成方法，例如列舉有涂敷上述顏色的墨或涂料等的方法、進(jìn)行黑化處理的方法等。上述著色層5的厚度通常設(shè)定為1 ~ 100nm 的范圍內(nèi)，優(yōu)選為50 ~ 75nm的范圍內(nèi)。接著，如圖2的(a)所示，在上述PET制基板1部分的另一 側(cè)的面(正面)的規(guī)定區(qū)域涂敷在溶劑中溶解有下敷層2形成用 感光性樹脂而成的清漆，形成該涂敷層2a。作為上述感光性樹 脂，例如可以列舉出感光環(huán)氧樹脂等。涂Jt上述清漆的方法， 例如可采用旋涂法、浸漬法、澆鑄法、注射法、噴墨法等。然 后，根據(jù)需要，對(duì)上述涂敷層2a進(jìn)行50 ~ 120°C><10 ~ 30分鐘的 加熱處理，使其干燥。這樣，形成下敷層2形成用感光性樹脂層 2A。接著，用照射線對(duì)該感光性樹脂層2A進(jìn)行曝光。作為上述 曝光用的照射線例如可采用可見光、紫外線、紅外線、X射線、 a射線、卩射線、Y射線等。最好采用紫外線(波長(zhǎng)250 400nm)。 采用紫外線時(shí)，通過照射較大的能量能夠獲得較快的固化速度， 而且照射裝置也小型且便宜，能夠降低生產(chǎn)成本。作為紫外線 光源例如可以采用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈等。 紫外線照射量通常被設(shè)定在10 ~ 10000mJ/cm2 , 優(yōu)選50 ~ 3000mJ/cm2。在上述曝光后，為了結(jié)束光反應(yīng)而進(jìn)行加熱處理。該加熱 處理通常在80~ 250°C、優(yōu)選在IOO ~ 200°C , 10秒 2小時(shí)、優(yōu) 選在5分鐘~ l小時(shí)的范圍內(nèi)進(jìn)行。這樣，如圖2的(a)所示， 使上述感光性樹脂層2A形成為下敷層2。下敷層2的厚度通常設(shè) 定在l ~ 50fim的范圍內(nèi)，優(yōu)選設(shè)定在5 ~ 30nm的范圍內(nèi)。接著，如圖2的(b)所示，在上述下敷層2的正面形成芯3[參 照?qǐng)D2的(c)]形成用感光性樹脂層3A。該感光性樹脂層3A的形成與在圖2的(a)中說明的下敷層2形成用感光性樹脂層2A 的形成方法相同地進(jìn)行。另外，該芯3的形成材料采用折射率大 于上述下敷層2和后述上敷層4[參照?qǐng)D2的(d)]的形成材料的 折射率的材料。通過對(duì)上述下敷層2、芯3、上敷層4的各形成材 料種類進(jìn)行選擇、對(duì)該各形成材料的組成比例進(jìn)行調(diào)整，可以 調(diào)整該折射率。之后，在上述芯3形成用感光性樹脂層3A的上方配置曝光 掩模M,該曝光掩模M形成有與芯3對(duì)應(yīng)的開口圖案。隔著該曝 光掩模M,用照射線L對(duì)上述感光性樹脂層3A的與上述開口圖 案對(duì)應(yīng)的部分進(jìn)行曝光。該曝光與上述的下敷層2形成工序相同 地進(jìn)行。在上述曝光中，上述照射線L相對(duì)于上述感光性樹脂 層3A垂直地對(duì)其進(jìn)行照射，在通過該照射而曝光的部分上進(jìn)行 光反應(yīng)并使其固化。該照射線L透過上述感光性樹脂層3A和上 述下敷層2后，入射到上述PET制基板1部分內(nèi)。在該P(yáng)ET制基板 l部分的內(nèi)部，上述照射線L接觸到在該P(yáng)ET制基板1部分中所含 有的潤(rùn)滑劑1 a等而前進(jìn)路徑被打亂，但幾乎所有的照射線L到 達(dá)上述PET制基板1部分的底面。在此，因?yàn)樯鲜鯬ET制基板1 部分的背面形成有吸收照射線L的顏色的著色層5 ，所以幾乎所 有的到達(dá)上述PET制基板l部分的底面的照射線L被上述著色層 5吸收，在上述PET制基板1部分的底面進(jìn)行反射的照射線L幾乎 不存在。由此，在PET制基板1部分的底面進(jìn)行反射并自下方沿 斜向上方向透過下敷層2的照射線L大幅度地減少。其結(jié)果，在 芯3形成用感光性樹脂層3A內(nèi)，幾乎不存在由漫反射而對(duì)芯3的 成為側(cè)面的面進(jìn)行曝光的照射線L ，能夠抑制芯3的側(cè)面的粗糙 面化。上述曝光后，與上述的下敷層2形成工序相同地進(jìn)行加熱處 理。接著，用顯影液進(jìn)行顯影，如圖2的(c)所示，使上述感ii光性樹脂層3A中的未曝光部分溶解而將其去除，將殘留在下敷 層2上的感光性樹脂層3A形成為芯3的圖案。上述顯影，例如可 采用浸漬法、噴射法、攪拌法等。另外，作為顯影液例如可采 用有機(jī)溶劑、含有堿性水溶液的有機(jī)溶劑等。這樣，根據(jù)感光 性樹脂組合物的成分適當(dāng)選擇顯影液和顯影條件。在上述顯影后，通過加熱處理去除殘留在形成為芯3的圖案 的感光性樹脂層3A的正面等上的顯影液。該加熱處理通常是在 80~ 120°CxlO~ 30分鐘的范圍內(nèi)進(jìn)行。這樣，將形成為上述芯3 的圖案的感光性樹脂層3A形成為芯3 。該芯3的側(cè)面如上所述地 被抑制粗糙面化。此外，上述芯3的厚度通常設(shè)定在5 ~ 150|im 的范圍內(nèi)，優(yōu)選5~ 100[xm的范圍內(nèi)。此外，芯3的寬度通常設(shè) 定在5 ~ 150i!m的范圍內(nèi)，優(yōu)選5 ~ lOOiim的范圍內(nèi)。接著，如圖2的(d)所示，在上述下敷層2的正面覆蓋芯3 地形成上敷層4形成用感光性樹脂層4A。該感光性樹脂層4A的 形成與在圖2的(a)中說明的下敷層2形成用感光性樹脂層2A 的形成方法相同地進(jìn)行。之后，也與下敷層2的形成工序相同地 進(jìn)行曝光，加熱處理等，將上述感光性樹脂層4A形成為上敷層 4。上敷層4的厚度(自芯3的正面起的厚度)通常設(shè)定在5 lOOiam的范圍內(nèi)，優(yōu)選IO ~ 80(im的范圍內(nèi)。這樣，獲得在帶有著色層的PET制基板A的正面形成有由上 述下敷層2、芯3和上敷層4構(gòu)成的光波導(dǎo)路W的光波導(dǎo)路裝置。 在該光波導(dǎo)路裝置的光波導(dǎo)路W中，因?yàn)樾?的側(cè)面的粗糙面化 被抑制，所以能夠減小光的傳播損失，進(jìn)行良好的光傳播。圖3表示本發(fā)明的光波導(dǎo)路裝置的制造方法的第2實(shí)施方式 中的、對(duì)芯3形成用感光性樹脂層3A照射照射線的工序。在該 實(shí)施方式中，作為PET制基板，采用其自身以吸收照射線L的顏 色被著色、成為有色透明的著色PET制基板B。該著色PET制基有潤(rùn)滑劑la等的添加成分。除 此之外的部分與上述第l實(shí)施方式相同，相同的部分標(biāo)注相同的 附圖標(biāo)記。在該實(shí)施方式中，因?yàn)橹玃ET制基板B為照射線L的顏色， 所以吸收相對(duì)于上述感光性樹脂層3A垂直地對(duì)其進(jìn)行照射，透 過上述感光性樹脂層3A和上述下敷層2，入射到上述著色PET 制基板B內(nèi)的照射線L在上述著色PET制基板B內(nèi)幾乎都被吸 收。由此，在該著色PET制基板B的底面進(jìn)行反射并自下方沿斜 向上方向透過下敷層2的照射線L大幅度地減少。其結(jié)果，在芯 3形成用感光性樹脂層3A內(nèi)，幾乎不存在由漫反射而對(duì)芯3的成 為側(cè)面的面進(jìn)行曝光的照射線L,能夠抑制芯3的側(cè)面的粗糙面 化。另外，在上述各實(shí)施方式中，光波導(dǎo)路W以形成在帶有著 色層的PET制基板A、著色PET制基板B的正面的狀態(tài)或自上述 帶有著色層的PET制基板A、著色PET制基板B剝離而使用。此外，在上述各實(shí)施方式中，形成了上敷層4，但也可以根 據(jù)情況而不形成上敷層4。接著，與比較例一起說明實(shí)施例。但是，本發(fā)明并不限定 于實(shí)施例。實(shí)施例1帶有著色層的PET制基板準(zhǔn)備無色透明的PET制基板(TORAY公司制、T60型、產(chǎn) 品編號(hào)188、厚度188jim)。然后，用油性標(biāo)記筆(marking pen ) 在其一面(背面)上涂敷黑色的乙醇系墨，形成了厚度為50nm 的著色層。下敷層和上敷層的形成材料 通過將下述通式(1 )所示的雙苯氧乙醇芴基縮水甘油醚(成.脂即3' ， 4'-環(huán)氧環(huán)己基甲 基3 , 4-環(huán)氧己烯羧酸酯(大賽璐化學(xué)工業(yè)公司制造， CELLOXIDE2021P )(成分B ): 40重量份、(3' ,4'-環(huán)氧環(huán) 己烷)甲基3' ，4'-環(huán)氧環(huán)己基羧酸酯(大賽璐化學(xué)工業(yè)公司 制造，CELLOXIDE2081 )(成分C): 25重量^f分、禾口4， 4'畫7又[二 ((3羥基乙氧基)苯基亞硫酸基]苯基硫酸-雙-六氟銻酸鹽的 50%碳酸丙二酯溶液(成分D ): 2重量份混合，調(diào)制成下敷層和 上敷層的形成材料。
化1
O I Ri
CH2 _(OCHCH2)n —0
R6
I O O—(CH2 CHO)n—CH2"^
…(1)
(式中，R1 R6全部是氫原子，n=l ) 芯的形成材料
將70重量份的上述成分A、 30重量份的1， 3, 3-三{4-[2-(3-氧雜環(huán)丁烷)]丁氧基苯基}丁烷、和1重量份的上述成分D，溶 解到28重量份的乳酸乙烷中，調(diào)制成芯的形成材料。
光波導(dǎo)路裝置的制造
利用旋轉(zhuǎn)涂敷器在上述帶有著色層的PET制基板的正面 (未形成有著色層一側(cè)的面)涂敷上述下敷層的形成材料，形 成了膜厚為20nm的涂敷層。之后，由超高壓水銀燈對(duì)該涂敷層 的整個(gè)面照射紫外線，進(jìn)行了累積光量為1000mJ/cm2( i線基準(zhǔn)) 的曝光。接下來，放置在12(TC的加熱板上10分鐘，使反應(yīng)結(jié)束。 這樣，形成了下敷層。
接著，利用旋轉(zhuǎn)涂敷器在上述下敷層的正面涂敷上述芯的形成材料之后，通過放置在70°C的加熱板上5分鐘，使溶劑揮發(fā)， 形成了芯形成用感光性樹脂層。接著，隔著形成有規(guī)定的開口 圖案(開口寬度50jim、相鄰的開口與開口之間的間隙為200pm) 的玻璃掩模由超高壓水銀燈照射紫外線，以累積光量為 2000mJ/cm2 ( i線基準(zhǔn))對(duì)感光性樹脂層進(jìn)行曝光。然后，放置 在120。C的加熱板上10分鐘，使反應(yīng)結(jié)束。接著，利用噴射顯影 機(jī)使用90重量％的7- 丁內(nèi)酯顯影液進(jìn)行顯影，形成了芯(高度 50,)。
然后，利用旋轉(zhuǎn)涂敷器在上述下敷層的正面覆蓋上述芯地 涂敷了上述上敷層的形成材料。之后，與上述下敷層的形成方 法相同地形成了上敷層。這樣，制造了光波導(dǎo)路裝置(總厚 100(im )。
實(shí)施例2
通過在黑色透明的著色PET制基板(三菱樹脂公司制、 Z608E型、產(chǎn)品編號(hào)07-17MB、厚度25pm)的正面與上述實(shí)施 例l相同地直接形成下敷層、芯和上敷層，制造了光波導(dǎo)路裝置。
比4交例1
通過在與上述實(shí)施例l相同的無色透明的PET制基板的背 面不形成著色層，而是在該無色透明的PET制基板的正面與上 述實(shí)施例l相同地直接形成下敷層、芯和上敷層，制造了光波導(dǎo) 路裝置。
芯側(cè)面的^1M介
利用掃描型電子顯微鏡對(duì)上述實(shí)施例1 、 2和比較例1的光波 導(dǎo)路裝置的芯的側(cè)面進(jìn)行了確認(rèn)。其結(jié)果，比較例l的芯的側(cè)面 形成為粗4造面， <旦實(shí)施例1 、 2的芯的側(cè)面與比4交例1相比平坦得多。
光傳播損失的測(cè)量使用沖切機(jī)(DISCO公司制、DAD522 )切斷上述實(shí)施例1、 2和比較例1的光波導(dǎo)路裝置，使芯的端面露出。此外，將上述 光波導(dǎo)路裝置切斷成10cm的長(zhǎng)度，對(duì)光傳播損失進(jìn)行了測(cè)量。 其結(jié)果，實(shí)施例1的光波導(dǎo)路裝置的光傳播損失為1.96dB/10cm, 實(shí)施例2的光波導(dǎo)路裝置的光傳播損失為1.57dB/10cm,比較例1 的光波導(dǎo)路裝置的光傳播損失為3.80dB/10cm。
由上述結(jié)果可知，在實(shí)施例l、 2中，因?yàn)榕c比較例l相比 較芯側(cè)面的粗4造面化被抑制，所以在實(shí)施例l、 2中，在帶有著 色層的PET制基板、著色PET制基板幾乎不發(fā)生漫反射。這是因 為，用于芯形成工序的紫外線幾乎都被實(shí)施例l中的著色層、實(shí) 施例2中的著色PET制基板吸收。
權(quán)利要求
1.一種光波導(dǎo)路裝置的制造方法，包括在由以聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯為主成分的材料構(gòu)成的基板的正面形成下敷層的工序；在該下敷層的正面形成芯形成用感光性樹脂層的工序；對(duì)該感光性樹脂層照射照射線，曝光成規(guī)定的圖案，將該曝光部分形成芯的工序，其特征在于，在上述芯形成工序中，對(duì)上述感光性樹脂層照射的照射線是透過該感光性樹脂層經(jīng)過上述基板的正面到達(dá)底面、并在此進(jìn)行反射的照射線，上述基板是下述(A)和(B)中的任一種基板(A)在背面形成有吸收上述照射線的顏色的著色層的帶有著色層的基板；(B)整體以吸收上述照射線的顏色著色的著色基板。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光波導(dǎo)路裝置的制造方法，吸收 上述照射線的顏色是黑色。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光波導(dǎo)路裝置的制造方法，上 述照射線是紫外線。
4. 一種光波導(dǎo)路裝置，是由上述權(quán)利要求l所述的光波導(dǎo) 路裝置的制造方法獲得的光波導(dǎo)路裝置，其特征在于，包括 由以聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯為主成分的材料構(gòu)成的基板；在該 基板的正面形成的、具有下敷層和芯的光波導(dǎo)路，上述芯由利 用照射線對(duì)芯形成用感光性樹脂層進(jìn)行了曝光的部分構(gòu)成，上 述基板是下述(A)和(B)中的任一種基板(A) 在背面形成有吸收上述照射線的顏色的著色層的帶有著色層的基板；(B) 整體以吸收上述照射線的顏色著色的著色基板。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的光波導(dǎo)路裝置，吸收上述照射線 的顏色是黑色。
全文摘要
本發(fā)明提供一種即使在PET制基板的正面形成光波導(dǎo)路，也能抑制該光波導(dǎo)路的芯側(cè)面的粗糙面化的光波導(dǎo)路裝置的制造方法和由該方法獲得的光波導(dǎo)路裝置。在由PET制基板部分和形成在該P(yáng)ET制基板部分的背面、吸收照射線的顏色的著色層構(gòu)成的帶有著色層的PET制基板的正面經(jīng)過形成下敷層、形成芯形成用感光性樹脂層后，對(duì)該感光性樹脂層照射照射線，曝光成規(guī)定圖案，將該曝光部分形成芯。在該芯形成工序中，照射線到達(dá)PET制基板部分的底面時(shí)，幾乎都被該著色層吸收，幾乎不存在在PET制基板部分的底面進(jìn)行反射的照射線。由此能大幅度減少在PET制基板部分進(jìn)行漫反射而到達(dá)感光性樹脂層的照射線，能有效地抑制芯側(cè)面的粗糙面化。
文檔編號(hào)G02B6/13GK101676753SQ20091017186
公開日2010年3月24日 申請(qǐng)日期2009年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月18日
發(fā)明者清水裕介, 疋田貴巳, 藤澤潤(rùn)一 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社