專利名稱：：一種激光照排膠片的生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明屬于激光照排膠片的生產(chǎn)方法，特別屬于用高氯乳劑乳化的激光照排膠片的生產(chǎn)方法。技術(shù)背景激光照排膠片包括氦氖激光照排片、紅外激光照排片，目前激光照排膠片的生產(chǎn)方法包括雙注乳化工序，除雜工序、熟化工序，涂布工序所述的雙注乳化工序在一定溫度，高速攪拌的情況下，恒定保持鹵離子過量，將硝酸銀(AgN03)溶液和堿金屬鹵化物溶液同時以恒速加入到明膠水溶液中，堿金屬卣化物為氯化鈉、溴化鉀或者氯化鈉、溴化鉀、碘化鉀，在堿金屬鹵化物中攙雜有銥鹽、銠鹽。所述的除雜工序包括沉降工序、水洗工序、復(fù)溶工序水洗工序水洗至膠片的電導(dǎo)率〈800MS/cm;復(fù)溶工序用Na2C03溶液溶解膏體，再用醋酸調(diào)節(jié)PH二4.7士0.2;所述的涂布工序?qū)⑹旎ば蛩坪玫母囿w用硫、金，感紅染料增感后涂樣。通常激光照排膠片的涂層比較薄，由于雙注乳化工序所制備的乳劑為高氯乳劑，在涂布工序過程中，當高氯乳劑的雜質(zhì)元素過多時，會造成膠片表面存在缺陷。通常高氯乳劑的雜質(zhì)元素主要包括以下幾個方面1、在高氯乳劑制備過程中，由于高氯酸對設(shè)備的腐蝕，乳劑中會留下大量的鐵離子，鐵離子直接影響膠片的灰霧和感光度，對膠片的保存和生產(chǎn)非常不利；2、高氯乳劑所用的乳劑基質(zhì)為明膠，乳劑中的無機鹽如硝酸鈉，硝酸鉀，堿性鹵化物容易被明膠所吸附，不易清洗干凈；3、各種生產(chǎn)原材料本身就含有微量雜質(zhì)元素，如Au、Hg、Fe、Cr、Ni、Mn、Cu以及硫化物，當使用不同時期、產(chǎn)地的原料時，容易造成高氯乳劑中雜質(zhì)元素的不同，使不同批次激光照排膠片的性質(zhì)產(chǎn)生差異，用上述方法制備激光照排膠片時，膠片中銀的重量損失都在3%以上，印刷成本較高。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種雜質(zhì)元素少、成本低的激光照排膠片的生產(chǎn)方法。本發(fā)明解決技術(shù)問題的技術(shù)方案為一種激光照排膠片的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、熟化工序，涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為1:5-10。萘磺酸鹽是目前通用的沉降劑，當沉降劑與明膠的重量比為1:5-20時，使高氯乳劑能夠沉降為塊狀固體，有利于清洗，而且清洗過程中銀的損失較小，但當沉降劑與明膠的重量比小于為l:5時，則使高氯乳劑出現(xiàn)難以復(fù)溶的膠狀固體。b)水洗工序調(diào)節(jié)膏體的P^3.5士0.2，靜置，抽去上層清液，攪拌下使用純水進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;加入沉降劑的明膠由于氨基與磺酸基絡(luò)合而失去親水性，從而達到沉降的效果，當PH值調(diào)至明膠的等電點以下時，羧基也失去親水性，明膠就連同鹵化銀顆粒一起沉降，大部分雜質(zhì)鹽類溶解于水中而得以除去，如果PH值過低會出現(xiàn)銀沉現(xiàn)象，對于乳劑系統(tǒng)產(chǎn)生不可逆轉(zhuǎn)的破壞作用。c)復(fù)溶工序加入Na2C03溶液，升溫到38—40'C，將膏體溶解即可；d)沉降工序在C)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為1:10-20;本工序的沉降劑的用量比a工序少得多，因為a工序中加入的沉降劑還在乳劑中，增加這個過程是為了清除吸附在明膠中無機鹽、及微量的雜質(zhì)元素。e)水洗工序調(diào)節(jié)膏體的PH二3.5士0.2，靜置，抽去上層清液，攪拌下使用純水進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800^S/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—40'C，補加明膠，攪拌溶解。調(diào)節(jié)膏體的PH二4.7±0.2，即可；復(fù)溶工序后還應(yīng)補加適量的明膠，補加明膠的量依據(jù)不同的配方有不同的要求，對印刷膠片乳劑而言，膠銀比越低越好，這對減薄涂層，提高清晰度有良好作用。但過低的膠銀比會無法保證體系的穩(wěn)定，出現(xiàn)銀沉現(xiàn)象，對生產(chǎn)不利。為了增強除雜效果，還可進行一次以上的d、e、f工序。乳劑沉降是依靠改變明膠的親水基團，使明膠不再溶解于水中而達到清洗的目的，這時候會有一部分雜質(zhì)包裹于不溶解于水的明膠內(nèi)，由于雜質(zhì)外邊的明膠存在，不利于純水和雜質(zhì)的接觸，傳統(tǒng)依靠一次沉降后多次水洗并測定水洗水電導(dǎo)率來控制水洗程度的方案就對這部分雜質(zhì)無能為力。水洗后的乳劑復(fù)溶使包裹在明膠內(nèi)部的雜質(zhì)溶解于溶液中，沉降后可以較好的除去雜質(zhì)，使內(nèi)部雜質(zhì)含量進一步降低。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用一次以上復(fù)溶的方法除去乳劑里面的多種雜質(zhì)，控制方法比較簡單，不增加設(shè)備，可以保證每批乳劑性能穩(wěn)定，涂布質(zhì)量及膠片的穩(wěn)定性較好。具體實施方式下面結(jié)合實施例^t本發(fā)明作詳細的說明。實施例1:一種激光照排乳劑的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、熟化工序，涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:10;b)水洗工序用醋酸調(diào)節(jié)膏體的PH二3.5士0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800W/cm;c)復(fù)溶工序加入Na2C03溶液，升溫到38—40。C，將膏體溶解即可；d)沉降工序在c)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:20。e)水洗工序；用醋酸調(diào)節(jié)膏體的P^3.5士0.2,靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800l^/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—4(TC,補加明膠，攪拌溶解，醋酸調(diào)節(jié)膏體的P^4.7±0.2，即可。實施例2:一種激光照排乳劑的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、成熟工序，涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序:沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:8;b)水洗工序用醋酸調(diào)節(jié)膏體的^=3.5±0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;c)復(fù)溶工序加入Na2C03溶液，升溫到38—4(TC，將膏體溶解即可d)沉降工序在C)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:20。e)水洗工序；用醋酸調(diào)節(jié)膏體的ra^3.5士0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—4(TC，補加明膠,攪拌溶解，醋酸調(diào)節(jié)膏體的PH=4.7±0.2，即可。實施例3:一種激光照排乳劑的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、成熟工序，涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序-a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為1:9;b)水洗工序使用醋酸調(diào)節(jié)膏體的PH二3.5士0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;c)復(fù)溶工序加入Na2C03溶液，升溫到38—4(TC，將膏體溶解即可；d)沉降工序在c)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:20。e)水洗工序；使用醋酸調(diào)節(jié)膏體的P^3.5士0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—40。C，補加明膠，攪拌溶解。使用醋酸調(diào)節(jié)膏體的PH二4.7±0.2，即可。實施例4:一種激光照排乳劑的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、成熟工序，涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:10;b)水洗工序用硝酸調(diào)節(jié)膏體的P^3.5士0.2，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈80(mS/cm;c)復(fù)溶工序加入Na2C03溶液，升溫到38—40。C，將膏體溶解即可；d)沉降工序在d)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:20。e)水洗工序；使用硝酸調(diào)節(jié)膏體的P^3.5土0.2,靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—40'C，補加明膠，攪拌溶解使用硝酸調(diào)節(jié)膏體的PH二4.7±0.2，即可；g)沉降工序在f)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:30。h)水洗工序；使用硝酸調(diào)節(jié)膏體的P^4.0，靜置5分鐘后，抽去上層清液，攪拌下使用純水行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;i)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—4(TC，補加明膠,攪拌溶解使用硝酸調(diào)節(jié)膏體的P^4.7±0.2，即可。實施例5:一種激光照排乳劑的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、成熟工序、涂布工序，所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為l:10;b)水洗工序醋酸調(diào)節(jié)PH值至P^3.5土0.2，靜置5分鐘后抽去上層清液，使用純水對沉降乳劑進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率〈800MS/cm;f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2C03溶液，升溫到38—40'C，醋酸調(diào)節(jié)膏體的PH二4.7±0.2，即可。對上述實例同樣條件下二成熟，感紅染料光譜增感，補加防灰霧劑，表面活性劑等，涂樣。實施例1_5現(xiàn)制樣片的性能如表1所示。曝光條件調(diào)光制型曝光儀，光源色溫2856K，雷登25濾色鏡，曝光時間3/20秒。沖洗條件程序時間，s溫度，°C加工藥液顯影6032±0.5D-ll定影6032±0.5F-5水洗60室溫---干燥—〈45---顯影液D-11為每升溶液含有105克無水亞硫酸鈉、9.0克的對苯二酚、30克無水碳酸鈉、l.O克米吐爾、5.0克溴化鉀。將實施例l一5所制成的樣片自然放置一年后的性能如表2所示。D。、y、S、D咖按照HG/T2172-1991標準進行檢測。銀量損耗通過測試乳劑含銀量進行檢測。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>實施例30.045.51.04.062.6%實施例40.045.51.24.131.1%實施例50.046.01.04.623.6%表2(自然放置一年后測量性能)項目DoyS實施例10.065.01.64.62實施例20.065.31.54.37實施例30.055.01.54.45實施例40.065.11.34.28實施例50.085.01.84.31從表1和表2看出，二次復(fù)溶的方法提高印刷膠片的生產(chǎn)穩(wěn)定性和保存穩(wěn)定性，并能有效的控制銀耗。權(quán)利要求1、一種激光照排膠片的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序、除雜工序、熟化工序、涂布工序，其特征在于所述的除雜工序包括以下工序a)沉降工序沉降工序所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為1∶5-10；b)水洗工序調(diào)節(jié)膏體的PH＝3.5±0.2，靜置，抽去上層清液，攪拌下使用純水進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率＜800μS/cm；c)復(fù)溶工序加入Na2CO3溶液，升溫到38-40℃，將膏體溶解即可；d)沉降工序在c)復(fù)溶工序所生成的溶液中加入沉降劑，所用的沉降劑為萘磺酸鹽，沉降劑與明膠的重量比為1∶10-20；e)水洗工序調(diào)節(jié)膏體的PH＝3.5±0.2，靜置，抽去上層清液，攪拌下使用純水進行水洗，水洗至膏體的電導(dǎo)率＜800μS/cm；f)復(fù)溶工序在水洗好的膏體中加入Na2CO3溶液，升溫到38-40℃，補加明膠，攪拌溶解。調(diào)節(jié)膏體的PH＝4.7±0.2，即可。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光照排膠片的生產(chǎn)方法，其特征在于所述的除雜工序進行一次以上的d、e、f工序。全文摘要本發(fā)明公開了一種激光照排膠片的生產(chǎn)方法，包括雙注乳化工序，除雜工序、熟化工序，涂布工序，其特征在于所述的除雜工序包括a)沉降工序、b)水洗工序、c)復(fù)溶工序、d)沉降工序、e)水洗工序、f)復(fù)溶工序，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，采用一次以上復(fù)溶的方法除去乳劑里面的多種雜質(zhì)，控制方法比較簡單，不增加設(shè)備，每批乳劑性能穩(wěn)定，涂布質(zhì)量及膠片的穩(wěn)定性較好。文檔編號G03C1/047GK101256346SQ200810020598公開日2008年9月3日申請日期2008年2月4日優(yōu)先權(quán)日2008年2月4日發(fā)明者何向明,翁宏飏,蔣延寧,磊陳申請人:黃山銀江科技有限公司