專利名稱：基板檢查裝置及基板檢查裝置使用的燈單元的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及可以通過目視和顯微鏡檢查半導體晶片等基板的基板檢 查裝置、及基板檢查裝置使用的燈單元。
本申請以在2006年7月27日提出申請的第2006—204349號日本專 利申請為基礎并要求其優(yōu)先權，并在此引用其內容。
背景技術：
在半導體晶片等基板上形成電路的制造工序、和在玻璃基板上形成 圖案來制造液晶顯示器等平板顯示器的工序中，實施通過目視來宏觀檢 查基板外觀的工序(宏觀檢查工序)、和通過使用顯微鏡的放大觀察來進 行微觀檢查的工序(微觀檢査工序)。作為此時使用的基板檢查裝置，有
這樣構成的裝置 一體地具有進行宏觀檢査的宏觀檢查部和進行微觀檢
查的微觀檢查部，并且按順序實施宏觀檢查和微觀檢查(例如參照國際
公開WO2002/021589號公報)。宏觀檢查部具有使基板朝向檢查人員立 起的機構、和從上方對基板進行照明的宏觀照明裝置。宏觀照明裝置由 光源裝置、以及切換散射光和會聚光來均勻地照亮基板的照明用光學系 統(tǒng)構成。
在此，在現(xiàn)有的基板檢查裝置中，有的裝置將宏觀檢查部和微觀檢 查部包圍起來在內部形成流過清潔空氣的局部清潔度高的環(huán)境(微環(huán)境 結構)，以使灰塵不附著在基板上。在這種基板檢查裝置中，向內部輸送 高清潔度的空氣，將裝置內的壓力設定成高于周圍環(huán)境，以使周圍的灰 塵不被吸入到裝置內部，由此保持裝置內的高清潔度。在這種裝置結構 中，當作業(yè)人員將手等伸入到裝置內部的高清潔度的區(qū)域中作業(yè)時，裝 置內部的清潔度會下降，所以有可能利用人手進行作業(yè)的結構要素被配 置在裝置的外側。所述宏觀照明裝置的光源裝置的燈等由于可能需要定
期更換，所以將其配置在裝置下部的露出于外側的部分。因此，在現(xiàn)有 的基板檢查裝置中，沿著裝置環(huán)繞光導，以將光源裝置的光引導到配置 在裝置上側的照明用光學系統(tǒng)。
但是，在現(xiàn)有的裝置結構中，由于沿著裝置環(huán)繞光導，所以容易受 到布局的制約。另外，由于光導變長，所以考慮到光導的損失，必須增 大光源裝置的燈的光量。
并且，由于光源裝置配置在裝置下側，所以在進行燈的更換時，作 業(yè)人員不得不屈身進行作業(yè)。
在現(xiàn)有的光源裝置中，除了燈以外，有時還設置IR (紅外線)截止 濾波器和熱線吸收濾波器等光學部件，若將這些光學部件的更換也包括 在內，則更換頻率增加，更換作業(yè)變得煩雜，所以期望開發(fā)出能夠容易 地進行燈的更換和光學部件的更換的裝置。

發(fā)明內容
本發(fā)明就是鑒于上述情況而完成的，其主要目的在于，在提高了裝 置內部的清潔度的基板檢査裝置中容易地進行燈光源的更換。
為了解決上述問題，在本發(fā)明中提供一種基板檢査裝置，其構成為 具有通過使清潔流體在裝置主體內流通而相比于外部提高了清潔度的檢 查部，在所述檢查部能夠實施通過目視進行的基板的外觀檢查和通過顯 微鏡進行的放大觀察，在所述檢查部內，在所述顯微鏡的上方配置有照 明裝置的光源裝置，所述照明裝置用于對所述基板進行照明，其在通過 目視進行外觀檢查時對基板進行照明。
并且，在設于本發(fā)明的所述基板檢査裝置的所述檢查部內，具有通 過目視對基板進行外觀檢查的宏觀檢查部、和通過顯微鏡進行放大觀察 的微觀檢查部，當在所述宏觀檢查部對所述基板進行照明并通過目視進 行外觀檢查時，將對所述基板進行照明的照明裝置的光源裝置配置在所 述檢查部內的所述微觀檢查部的上方。
并且，在設于本發(fā)明的所述基板檢查裝置的所述光源裝置中，將所 述檢查部內分隔開，所述光源裝置配置在與處理基板的區(qū)域分割圩的區(qū)域中，而且所述光源裝置具有可更換地安裝有燈單元的結構，該燈單元 將燈和覆蓋所述燈的發(fā)光部分的收容箱設置為一體。
該基板檢查裝置通過將光源裝置配置在接近照明裝置的高處位置， 使得光路長度縮短，抑制了光的損失，使基板被照得更亮。另外，在更 換光源裝置的燈等消耗品時，作業(yè)人員不需屈身即可容易地進行更換作 業(yè)。
并且，本發(fā)明提供一種基板檢查裝置使用的燈單元，其是在基板檢 查裝置中使用的照明裝置的燈單元，該基板檢查裝置具有通過使清潔流 體在裝置主體內流通而相比于外部提高了清潔度的檢查部，在所述檢查 部內對基板進行照明并通過目視進行外觀檢査，所述燈單元的特征在于， 所述燈單元具有燈和收容箱，在所述收容箱中以覆蓋所述燈的發(fā)光部分 的方式固定有所述燈，并且安裝有照明所需要的光學部件，在所述收容 箱中設有可以抽吸或排出內部的空氣、但所述燈的結構要素不能通過的 通道。
并且，設于本發(fā)明的所述基板檢查裝置的所述燈單元構成為，可以 從面向進行目視檢査的檢査人員的所述裝置主體的前部或所述裝置主體 的側部取出。
并且，設于本發(fā)明的所述基板檢查裝置的所述收容箱上連接有配管， 該配管通過風扇來抽吸并排出由燈產生的熱和氣體。
并且，設于本發(fā)明的所述基板檢查裝置的所述檢查部被分隔為可以
從外裝門將手伸入進行作業(yè)的第1區(qū)域、和處理所述基板的第2區(qū)域。
該燈單元在進行燈的更換時，容易消耗的光學部件也能夠一起更換。 在使用時，燈被通過通道在收容箱內流通的空氣冷卻。根據(jù)本發(fā)明涉及 的基板檢查裝置，由于能夠縮短從光源裝置到基板之間的光路長度，所 以能夠抑制光的損失?？梢怨?jié)約光源裝置的輸出，實現(xiàn)了長壽命化和運 行成本的降低。并且，由于光源裝置配置在容易作業(yè)的高處位置，所以 消耗品的更換變得容易。
根據(jù)本發(fā)明涉及的基板檢查裝置使用的燈單元，光源裝置的燈的更 換變得容易。不但更換時間變短，而且檢查部與燈單元相隔離，所以能
夠在不大幅度降低檢查部的清潔度的情況下完成更換作業(yè)。在使用照明 裝置時，可以利用通過通道在收容箱內流通的空氣來冷卻燈，所以實現(xiàn) 了燈的長壽命化。


圖1是表示本發(fā)明的實施方式涉及的基板檢查裝置的概要結構的圖。
圖2是沿圖1中的A—A線的剖面圖。 圖3是沿圖1中的B—B線的剖面圖。
圖4是沿圖1中的C一C線的剖面圖，是表示光源裝置的結構的圖。
圖5是表示燈單元的立體圖。
圖6是沿圖4中的D—D線的剖面圖。
具體實施例方式
下面參照附圖具體說明本發(fā)明的實施方式。圖1表示裝置結構，是 除了光源裝置之外使前表面面板省略而描畫出的示意圖。
如圖1所示，檢查半導體晶片等基板的基板檢査裝置1具有設于地 面的裝置主體2，在裝置主體2的上部作為用于檢查基板W的空間劃分 出高清潔部3 (檢查部)。在裝置主體2的下部設有向外部敞開的主管裝 置控制的控制裝置4、和用于吸附保持基板W的吸附泵(未圖示)等。
高清潔部3使在過濾器風扇單元5生成的清潔空氣(清潔流體)從 裝置主體2的頂部2A流入,從而形成清潔度高于外部環(huán)境的微環(huán)境結構。 過濾器風扇單元5是清潔流體供給裝置，其具有風扇和過濾器，所述風 扇取入存在于基板檢查裝置1周圍的外部空氣，并將該空氣從形成于頂 部2A的多個孔6向高清潔部3內噴出，所述過濾器設于風扇和孔6之間， 用于去除外部空氣中的灰塵。
如圖2所示，在俯視時在裝置主體2的背面2B側設有兩個裝載口 (loadport) 12，裝載口 12用于安裝收容了許多基板W的基板載體10、 11。高清潔部3具有向背面2B側輸送基板W的裝載部13，相對于裝載
部13在前表面2C側以從檢查人員側觀察左右分開的方式并列形成有宏 觀檢查部14和微觀檢查部15。
在裝載部13設有一個可以在一個軸向上移動的基板輸送機械手16。 基板輸送機械手16是多關節(jié)臂，其在安裝于裝置主體2的背面2B的基 板載體IO、 11和宏觀檢查部14之間輸送基板W，在前端部的臂16A上 設有多個吸附保持基板W的吸附孔17。
宏觀檢查部14是用于由檢查人員目視進行外觀檢查的檢查部，在檢 査用架臺21上可自由旋轉地安裝有旋轉臂22。旋轉臂22具有沿鉛直方 向向上延伸的旋轉軸23，三個臂24、 25、 26從旋轉軸23的前端大致水 平地延伸設置，并且從旋轉軸23觀察呈放射狀。在這三個臂24 26各 自的前端部設有多個吸附保持基板W的吸附孔27。
旋轉臂22由控制裝置4控制旋轉，以將各個臂24 26配置在位置 Pl、 P2、 P3中的某位置上。位置P1是在與基板輸送機械手16之間進行 基板W的交接的交接位置，位置P2是進行宏觀檢查的檢查位置。位置 P3是將基板W交接給微觀檢查部的交接位置。
在此，在位置P2設有表面檢查部30和背面檢查部31。表面檢查部 30具有從下側支撐基板W的中央的支撐部32 (旋轉擺動臺)；和使支 撐部32上升到比旋轉臂22高的位置的升降機構33。在支撐部32上設有 使基板W表面朝向位于前表面2C側的檢查人員立起并擺動的搖擺機構； 和使基板W以通過支撐部32的中心的垂直的軸為中心旋轉的機構。背 面檢查部31具有吸附保持基板W的外緣的背面的保持部34;和使保 持部34上升到比旋轉臂22高的位置的升降機構35。在保持部34設有使 基板W轉動以使其背面朝向檢查人員的機構。
在表面檢查部30和背面檢查部31的上方配置有對基板W進行照明 的宏觀照明裝置40。在宏觀照明裝置40中收容有用于對基板W進行照 明的照明用光學系統(tǒng)。作為照明用光學系統(tǒng)，例如可以列舉用于從通過 光導41引導的光形成會聚光束的菲涅耳透鏡、和配置于光路上的液晶板。 另外，照明光在對液晶板通電時，可以使照明光成為散射光。
微觀檢査部15具有配置在檢查用架臺51上的檢查平臺52。檢、,平
臺52將朝向位置P3沿X方向延伸的X軸平臺53、和在與X方向正交 的Y方向上可自由移動的Y軸平臺54上下層疊配置，從而可以在XY 兩個軸向上移動。另外，旋轉軸55從上側的Y軸平臺54沿鉛直方向向 上延伸。旋轉軸55被支撐為可自由升降而且可自由旋轉，在其前端部固 定有放置基板W的保持板56。在保持板56上形成有用于吸附保持基板 W的吸附孔(未圖示)。
另外，在微觀檢査部15的檢查用架臺51上固定有顯微鏡60，該顯 微鏡60用于放大觀察檢査平臺52上的基板W的表面。顯微鏡60具有 相對于檢查平臺52從背面2B側朝向上方延伸的顯微鏡主體61，鏡筒62 從顯微鏡主體61朝向前表面2C側延伸。在鏡筒62的下部，在旋轉式的 轉換器63上可以替換地安裝有物鏡64。另外，在鏡筒62的前表面安裝 有目鏡65。在鏡筒62的側部設有切換濾色器的旋紐66等，在鏡筒62的 背面設有收容用作照明光源的燈的燈殼67。
在此，微觀檢查部15的檢查平臺52上方的空間被隔板71、 72、 73 分割，其被分割為基板W移動的區(qū)域(微觀檢查區(qū)域)、和配置有顯微 鏡60的上部的隔離區(qū)域(第一區(qū)域81)。微觀檢查區(qū)域被劃分在與宏觀 檢查部14和裝載部13同屬于高清潔部3的第二區(qū)域82中。在該實施方 式中，通過使第一區(qū)域81的內壓高于高清潔部3的外部，但使其低于第 二區(qū)域82的內壓，來使第一區(qū)域81的清潔度相對低于第二區(qū)域82的清 潔度。作為利用壓差來對清潔度設計差異的手段，可以列舉下述等方法 關于使來自過濾器風扇單元5的清潔空氣通過的孔6的數(shù)量，使第二區(qū) 域82側的頂部2A的孔的數(shù)量多于第一區(qū)域81側的頂部2A的孔的數(shù)量， 或者使第二區(qū)域82側的孔6的直徑大于第一區(qū)域81側的孔6的直徑。
隔板71配置在檢查平臺52的上部，在隔板71上設有使顯微鏡主體 61通過的開口部83。隔板72在不向宏觀檢查部14突出的狀態(tài)下沿大致 鉛直方向向上延伸，并且固定在裝置主體2的頂部2A上。隔板73密閉 第一區(qū)域81的背面?zhèn)取５谝粎^(qū)域81的前表面?zhèn)扔裳b置主體2的前表面 面板封閉。隔板72的相反側的側部由裝置主體2的側部2D封閉，在側 部2D的下部形成有多個排氣用切口 85，以將來自頂部2A的清潔空氣排
出到外部。另外，在側部2D上，在隔板71的下方形成有多個排氣用切 口 86，以將通過宏觀檢查部14流入檢查平臺52周圍的微觀檢查區(qū)域的 清潔空氣排出到外部。另外，也可以使用沖孔金屬等來代替形成切口 85、 86。并且，清潔空氣也可以從形成于高清潔部3的底面的間隙等排出到 外部。
如圖1和圖3所示，在第一區(qū)域81上部的顯微鏡60的目鏡65上方， 在前表面2C側設有前述的宏觀照明裝置40的光源裝置90。
光源裝置90形成為箱狀，在其背面?zhèn)冗B接有配管91。配管91在高 清潔部3內通過并被引出到在裝置主體2的下部向外部敞開的部分，配 管91能夠利用設于其端部的排氣用風扇92將光源裝置90內的清潔空氣 強制排出到外部。另外，配管91具有延伸到顯微鏡60的燈殼67附近的 支管91A，從而能夠排出在冷卻燈殼67和在燈點亮時產生的氣體。
光源裝置90的前壁90A嵌入裝置主體2的前表面面板并露出于外 部。在前壁90A配設有計時儀92等，并且設有開閉式的前壁門93。前 壁門93可以利用螺釘93A固定在光源裝置90的主體上。如圖3和圖4 所示，在打開前壁門93時，收容在光源裝置90內的燈單元100現(xiàn)出。 另外，在打開前壁門93時形成的窗94的周緣部，設有用于檢測前壁門 93的開閉的開關95。該開關95被用作使光源裝置90點亮時的聯(lián)鎖結構。
燈單元100具有大致方形的收容箱101，燈102通過安裝部件103 固定在收容箱101的一個面IOIA上。在與一個面IOIA對置配置的另一 個面101B上安裝有濾波器104作為照明用的光學部件。濾波器104由IR 截止濾波器和熱線吸收濾波器構成。
并且，如圖5所示，濾波器104通過轉接器螺紋緊固在收容箱101 上，在該轉接器上形成有通過使空氣流動能夠冷卻濾波器104的槽。
如圖4 圖6所示，收容箱IOI的一個面101A側的周緣部伸出，并 在此處穿設有多個孔105，孔105用于將燈單元100螺紋緊固到光源裝置 90側的支架90B上。
如圖6所示，收容箱101在其底部110和頂部111上分別隔開間隔 地各形成有兩條通道112。通道112通過切口 113和細長的板114形M為
迷宮狀，切口 113分別形成于收容箱101的底部110和頂部111，板114 分別對應各個切口 113的形成位置配置在內側。切口 113和板114之間 的距離形成為這樣的尺寸可以使清潔空氣通過，但燈102的結構要素、 例如在安裝燈102時出現(xiàn)了破損等情況下的燈泡102A的碎片等固體不能 通過。由此，即使在出現(xiàn)破損時，通過按收容箱101進行更換，碎片回 收變得容易。另外，燈102被固定在反射鏡102B朝向收容箱101內打開 的方向，該反射鏡102B包圍收容燈絲的燈泡102A。
在燈單元100的濾波器104的前表面配設有旋轉式濾色器115。濾色 器115在使照射向基板W的照明光的顏色變化時使用。濾色器115雖然 用于因為照明光的顏色而使得基板W上的缺陷容易確認的情況，但其并 不是本實施方式必需的結構要素。另外，在從燈單元100射出的光的光 路上，光導41的端面固定在預定位置上。
下面，說明本實施方式的作用。
在實施基板檢查時，將收容了檢查對象的基板W的基板載體10和 空的基板載體11安裝在裝載口 12上?；遢斔蜋C械手16從基板載體10 取出一塊基板W，將基板W交接給在宏觀檢查部14的位置Pl待機的臂 24。在臂24吸附保持基板W后，旋轉臂22繞旋轉軸23旋轉，使基板 W移動到位置P2。在位置P2，解除臂24的吸附，并且用表面檢查部30 吸附保持基板W。驅動升降機構33使支撐部32上升，利用來自設于上 部的宏觀照明裝置40的照明光對基板W的表面進行照明。使支撐部32 擺動等，由位于前表面2C側的檢查人員越過裝置主體2的觀察窗通過目 視來檢查有無缺陷等。在檢查結束后，使基板W下降。在進行背面檢查 時，將基板W交接給背面檢查部31。背面檢查部31使基板W上升，并 且使基板W立起以使基板W的背面朝向檢查人員。在利用來自宏觀照 明裝置40的照明光進行基板W的背面檢査后，使背面檢査部31下降， 再次將基板W交接給臂24。
控制裝置4使旋轉臂22進一步旋轉將基板W輸送到位置P3。在位 置P3，由于微觀檢查部15的檢查平臺52正在待機，所以基板W被交接 給檢査平臺52。另外，其他兩個臂25、 26通過旋轉臂22的轉動按順序
移動到位置P1，所以通過基板輸送機械手16依次放置新的基板W。放
置在其他兩個臂25、 26上的基板W，通過旋轉臂22的轉動被按順序輸 送到位置P2的檢查位置。這樣，多個基板W連續(xù)進行宏觀檢査。
在微觀檢查部15，檢查平臺52進行驅動，將基板W輸送到顯微鏡 60的物鏡64的下方。檢查人員通過顯微鏡60獲取基板W的表面的放大 像?；錡的表面的放大像可以通過配置在裝置主體2的前表面2C上 的目鏡65確認，也可以顯示在顯示器68 (參照圖2)上。在利用放大像 進行基板W的表面的檢査后，使基板W返回位置P3并交接給臂24。旋 轉臂22轉動，使結束了宏觀檢査和微觀檢查的基板W返回到位置Pl。 該基板W由基板輸送機械手16送出并收納在基板載體11中。
在進行檢查的期間，從上部的過濾器風扇單元5強制噴出清潔空氣， 所以高清潔部3內相對外部成為正壓。朝向宏觀檢查部14和基板輸送機 械手16的周圍噴出的清潔空氣，主要按照圖1中的箭頭E所示，在檢査 平臺52周圍的微觀檢査區(qū)域流過，并從排氣用切口 86排出到外部。另 外， 一部分清潔空氣從隔板71的開口噴入到第一區(qū)域81內。在第一區(qū) 域81中，清潔空氣從過濾器風扇單元5被強制噴入，并從形成于裝置主 體2的側部的排氣用切口 85排出到外部。這樣，通過使高清潔部3成為 正壓，防止了來自外部的灰塵混入，而且借助于清潔空氣的流動防止了 灰塵附著在基板W的表面上。
這里，在進行宏觀檢查時，使收容在第一區(qū)域81中的燈102點亮。 燈102發(fā)出的照明光通過濾波器104 (IR截止濾波器、熱線吸收濾波器) 從燈單元100射出。在設有旋轉式濾色器115時，透過了濾色器115的 照明光入射到光導41中。光導41從光源裝置90穿過隔板72連接到宏 觀照明裝置40上，隔板72將第一區(qū)域81和位于其相鄰的位置的高清潔 部3隔開。引導到光導41的照明光從宏觀照明裝置40的上部射出，通 過菲涅耳透鏡和液晶板照射到基板W上。
在宏觀檢查中，燈102發(fā)熱。并且，在燈102是鹵素燈時，會產生 臭氧。燈102的熱和臭氧借助于經(jīng)燈單元100的通道112在收容箱101 內流通的清潔空氣，從配管91排出到高清潔部3的外部。根據(jù)燈102的
種類，燈泡102A有時會破裂。在這種情況下，由于通道112的開口面積 與燈泡102A的玻璃碎片等的大小相比足夠小，所以碎片等不會從通道 112飛出到外部，而留在收容箱101內。
在更換宏觀照明裝置40的燈102時，打開前壁門93。當前壁門93 打開時，開關95斷開，聯(lián)鎖動作，燈102不與電源接通。在拔掉電源線 106后，卸下緊固燈單元100的螺釘107。取出用過的燈單元IOO，插入 新的燈單元100并將其螺紋緊固在支架90B上。當關閉前壁門93后，開 關95接通，聯(lián)鎖被解除。在前壁門93打開的期間，光源裝置90內的空 氣被從配管91強制排出到外部，所以配置有光源裝置90的第一區(qū)域81 的清潔度不會大幅度降低。另外，實際處理基板W的第二區(qū)域82通過 隔板71 73進一步與第一區(qū)域81隔離，所以第二區(qū)域82的清潔度幾乎 不會降低。
此外，在更換顯微鏡60的燈殼67內的燈時，打開裝置主體2的側 部2D的外裝門120，將手從開口 121伸入，將燈殼67內的燈更換為新 的燈。在燈的更換結束后，用外裝門120關閉開口 121。由于打開外裝門 120在第一區(qū)域81內進行手工作業(yè)，第一區(qū)域81的清潔度會臨時降低， 但通過隔板71 73隔開的第二區(qū)域82的清潔度幾乎不會降低。
根據(jù)該實施方式，將宏觀照明裝置40的光源裝置90配置在高清潔 部3內，并且配置在上部，所以能夠縮短光導41，能夠減少光的損失。 并且，在更換燈102時，作業(yè)人員可以不用屈身，能夠在從檢查裝置站 立的位置進行作業(yè)，因而作業(yè)性變好。
基板檢查裝置1根據(jù)清潔度被劃分為兩個區(qū)域，將光源裝置90配置 在顯微鏡60上部的允許相對低的清潔度的第一區(qū)域81中。因此，不會 因為光源裝置90的存在以及燈的更換，使得處理基板W的第二區(qū)域82 的清潔度降低。在每次更換燈時，可以省略使裝置停止并待機到清潔度 提高的手續(xù)，從而可以提高檢查效率。
光源裝置90內的清潔空氣通過配管91和風扇92被強制排出到外 部，所以可以防止臭氧等氣體泄漏，和防止熱積存在燈102和收容寧101 中。 燈單元100具有包圍燈102的玻璃部分的收容箱101，所以能夠可 靠地防止玻璃部分的碎片落到收容箱101夕卜。并且，在收容箱101中形 成有僅使清潔空氣通過的通道112，所以能夠防止異物落下，并且能夠冷 卻燈102。
另外，本發(fā)明不限于前述的實施方式，其可以得到廣泛的應用。
例如，收容箱101的通道112的結構和數(shù)量只要能夠防止異物落下 并能夠使燈冷卻等，則可以是任何形狀。也可以在收容箱101的側部增 加通道112。還可以在收容箱101上穿設大量微小的孔，來形成僅使清潔 空氣通過的通道。
也可以使燈單元100能夠從裝置主體2的側部側進行更換，來代替 能夠從前表面2C側進行更換。
并且，本發(fā)明的基板檢查裝置也可以是利用攝像裝置自動地對基板 W的成為檢査對象的面進行攝像，來代替通過目視進行的基板檢查和通 過顯微鏡60進行的放大觀察。還可以使裝置主體2形成為微環(huán)境結構， 將微環(huán)境結構的內部隔開，將光源裝置90從處理基板W的區(qū)域分割出 來。如果將用于更換燈等的門置于前表面面板側，特別是位于檢查用顯 示器的上部，可以獲得與前述實施方式相同的效果。
權利要求
1.一種基板檢查裝置，在該基板檢查裝置(1)中具有通過使清潔流體在裝置主體內流通而相比于外部提高了清潔度的檢查部(3)；和在所述檢查部內，而且在檢查部內的基板(W)的檢查位置的上方，對所述基板進行照明的照明裝置(40)的光源裝置(90)。
2. 根據(jù)權利要求1所述的基板檢查裝置，在所述檢查部內具有通過目視對基板進行外觀檢查的宏觀檢査部(14)、和通過放大觀察對基板進行外觀檢查的微觀檢查部(15)，當在所述宏觀檢查部對所述基板進行照明并通過目視進行外觀檢查 時，將對所述基板進行照明的照明裝置的光源裝置配置在所述檢查部內 的所述微觀檢査部的上方。
3. 根據(jù)權利要求2所述的基板檢査裝置，將所述檢查部內分隔開，所述光源裝置配置在與處理基板的區(qū)域分 割開的區(qū)域中。
4. 根據(jù)權利要求2所述的基板檢查裝置，所述光源裝置具有可更換地安裝有燈單元(100)的結構，所述燈單 元(100)將燈(102)和覆蓋所述燈的發(fā)光部分的收容箱(101)設置為 —體0
5. 根據(jù)權利要求4所述的基板檢査裝置，在所述收容箱中安裝有用于照明用的光學部件。
6. 根據(jù)權利要求4所述的基板檢查裝置，所述燈單元構成為可以從面向進行目視檢査的檢查人員的所述裝置 主體的前部或所述裝置主體的側部取出。
7. 根據(jù)權利要求4所述的基板檢査裝置，所述收容箱具有可以抽吸或排出內部的空氣、但所述燈的結構要素 不能通過的通道(112)。
8. 根據(jù)權利要求4所述的基板檢查裝置， 所述收容箱上連接有配管(91)，該配管(91)通過風扇(92)來抽 吸并排出由燈產生的熱和氣體。
9. 根據(jù)權利要求2所述的基板檢查裝置，所述檢查部被分隔為可以從外裝門(93)將手伸入進行作業(yè)的第1 區(qū)域(81)、和處理所述基板的第2區(qū)域(82)。
10. —種基板檢查裝置使用的燈單元，其是在基板檢查裝置(1)中 使用的照明裝置(40)的燈單元(100)，該基板檢查裝置(1)具有通過 使清潔流體在裝置主體內流通而相比于外部提高了清潔度的檢查部(3)， 在所述檢查部內對基板(W)進行照明并通過目視來進行外觀檢查，所述燈單元具有燈(102)和收容箱(101)，在所述收容箱中以覆蓋 所述燈的發(fā)光部分的方式固定有所述燈，并且安裝有照明所需要的光學 部件，在所述收容箱中設有可以抽吸或排出內部的空氣、但所述燈的結 構要素不能通過的通道(112)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板檢查裝置及基板檢查裝置使用的燈單元，本發(fā)明的目的在于在提高了裝置內部的清潔度的基板檢查裝置中容易地進行燈光源的更換，基板檢查裝置(1)構成為可以利用宏觀照明裝置(40)進行基板(W)的外觀檢查。宏觀照明裝置(40)在高清潔部(3)內在微觀檢查部(15)的上方具有光源裝置(90)。光源裝置(90)構成為可以從前壁門(93)更換內部的燈。光源裝置(90)配置在與處理基板的區(qū)域相比清潔度相對低的第一區(qū)域(81)中，所以即使對光源裝置(90)進行燈的更換，處理基板的區(qū)域的清潔度也不會降低。
文檔編號G02F1/13GK101113957SQ20071013844
公開日2008年1月30日 申請日期2007年7月27日 優(yōu)先權日2006年7月27日
發(fā)明者木戶浩章 申請人:奧林巴斯株式會社