專利名稱：具有燈反射罩的背光模組及燈反射罩制造方法
技術領域：
本發(fā)明關于一種具有燈反射罩的背光模組及燈反射罩制造方法，并且特別地， 本發(fā)明系關于一種使用激光產生低反射區(qū)域的燈反射罩及其制造方法。
背景技術：
由于液晶顯示技術成熟，制造成本大幅降低，大多的顯示器已采用液晶顯示器。 并且由于液晶面板系非主動式元件，因此需要背光模組以提供均勻的燈源，進而使 得液晶面板的顯示功能得以實現。目前背光模組可概分兩類， 一是側光式， 一是直下式。側光式背光模組的燈反 射罩設置于導光板的側邊。為使從燈源發(fā)射的光線不外漏，燈反射罩需盡可能緊貼 導光板的表面。然而，縱使燈反射罩緊貼導光板的表面，在與導光板表面接觸的燈 反射罩邊緣處仍會有漏光的現象。因此，目前的解決方法是在燈反射罩上靠近該邊 緣處，涂布樹脂類材料或其他低反射材料以覆蓋該處的反射層，使得該處不再反射 光線而避免漏光的現象。請參閱圖1A及B，圖1A是繪示先前技術的一具體實施例的背光模組1的示意 圖，圖1B是繪示圖1中圓圈X的放大示意圖。背光模組1包含一導光板12、 一燈 反射罩14、 一燈源16、 一底反射板18、 一擴散板20以及一棱鏡片22。其中燈反 射罩14包含一基板142、 一反射層144以及一低反射層146。該低反射層146即前 述的低反射材料。若無涂布低反射材料，亦即該低反射層146不存在，則該處的該 反射層144即可發(fā)揮反射功能。燈反射罩14與導光板12接面邊緣，即圖1B中標 示Y所指之處，即因反射作用而顯現出較亮的現象，此即前述的漏光現象。此漏光 將使得背光模組1無法全面地提供均勻的光源以供液晶顯示面板使用，也就是說， 在液晶顯示面板上會有一道較亮的光痕跡。因此，在包含燈反射罩14的邊緣、約 lnmi至3mm的區(qū)域上涂布低反射材料，亦即該低反射層146，以消除前述的漏光現 象。請參閱圖1C，圖1C是繪示該具體實施例的反射罩的制造流程圖。原材料進廠 時，其上多已有一反射層，并且為保護該反射層，該反射層上覆蓋一膠膜，用以保 護該反射層。此外，為增加后續(xù)網版印刷的穩(wěn)定度以及后續(xù)加工的參考基準，在網版印刷前對原材料進行定位孔沖孔。在網版印刷制程中，因為原材料上覆蓋有膠膜， 所以需先將膠膜暫時移除，待網版印刷完成后，再行覆蓋膠膜。然而，在網版印刷 制程中，需對涂布的樹脂類材料烘烤，烘烤的高溫卻容易使原材料產生變形。并且， 重新覆蓋的膠膜亦與原材料進廠時的情況不同，甚至產生反射層剝離的現象。于網版印刷制程后，尚需對原材料進行沖壓成型。然而，前述的瑕疵(如變形、 剝離等)對精密的沖壓成型制程卻是極為不穩(wěn)定的因素，致使制程難度升高，良率 不易提升。因此，有需要設計一種新的燈反射罩制造方法以解決上述問題。 發(fā)明內容本發(fā)明目的在于，提供一種具有燈反射罩的背光模組及燈反射罩制造方法。 本發(fā)明另一目的在于，提供一種使用激光產生低反射區(qū)域的燈反射罩及其制造 方法。本發(fā)明的燈反射罩制造方法包含提供一反射板。該反射板包含一基板以及一反 射層。該反射層位于該基板上，該反射層包含一邊緣以及一包含該邊緣的區(qū)域。該 燈反射罩制造方法并且包含使用一激光照射該區(qū)域，使得該區(qū)域具有一低反射率。 其中該反射板可進一步包含一膠膜于該反射層上以保護該反射層，該激光為一紫外 線激光。該反射層可為銀或其他高反射材料。此外，該燈反射罩制造方法于該激光 照射之后或之前，進一步包含折彎成型該反射板。本發(fā)明的燈反射罩包含一基板以及一反射層。該反射層位于該基板上，該反射 層包含一邊緣以及一包含該邊緣的區(qū)域，其中該區(qū)域以一激光照射而形成并具有一 低反射率。該反射層上可覆蓋一膠膜以保護該反射層。其中該反射層可為銀或其他 高反射材料。該燈反射罩可由前述燈反射罩制造方法制成。本發(fā)明的背光模組包含一燈反射罩、 一導光板以及一燈源。該燈反射罩即前述 的燈反射罩。該導光板具有一側邊以及一表面，其中該燈反射罩的該基板包覆該側 邊致使該反射層朝向該側邊，并且該燈反射罩的該區(qū)域大致緊靠該表面。該燈源置 于該反射層與該側邊之間。該燈反射罩的反射層可為銀或其他高反射材料。因為使用激光照射可不必暫時剝離膠膜，而可保持膠膜與該反射層間的附著 力。并且，使用激光照射可僅對局部加工，其產生的熱可被控制，不致過度影響其 他非被照射區(qū)域，不會有因烘烤而產生的缺點。另外，因為網版印刷制程通常需要 由原來的工廠運送至另一個工廠加工，越多的運送代表著越高的成本和越高的不良 率。因此，本發(fā)明的燈反射罩及其制造方法不僅克服先前技術的缺點，并且大幅減 少制造流程以降低成本并提升良率。關于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以藉由以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進一步的了解。


圖1A是繪示先前技術的一具體實施例背光模組的示意圖。圖IB是繪示圖1中圓圈X的放大示意圖。圖1C是繪示該具體實施例的燈反射罩的制造流程圖。圖2A是繪示根據一較佳具體實施例背光模組的示意圖。圖2B是繪示圖2A中圓圈X'的放大示意圖。圖2C是繪示燈反射罩的另一結構示意圖。圖3是繪示背光模組的燈反射罩制造方法的流程圖。
具體實施方式
請參閱圖2A至B，圖2A是繪示根據一較佳具體實施例的背光模組3的示意圖， 圖2B繪示圖2A中圓圈X'的放大示意圖。如圖2A及B所示，本發(fā)明的背光模組3 包含包含一導光板32、 一燈反射罩34、 一燈源36、 一底反射板38、 一擴散板40 以及一棱鏡片42。燈反射罩34包含一基板342以及一反射層344。反射層344位 于基板342上，反射層344包含一邊緣3442以及一包含邊緣3442的區(qū)域S。區(qū)域 S經一紫外線激光照射以形成一低反射層346，亦即區(qū)域S因此具有低反射率。該 紫外線激光可為Nd:YAG激光，其可使用的波長為532nm、 355nm、 266nm、 213nm。導光板32具有一側邊322以及一表面324。基板342包覆側邊322致使反射 層344朝向側邊322，并且區(qū)域S大致緊靠表面324。燈源36置于反射層344與側 邊322之間。底反射板38設置于導光板32與該表面324相對的表面。于實際設計 中，底反射板38可與燈反射罩34—體成型。此外，背光模組3的擴散板40與棱 鏡片42用以產生光學擴散效果及提高背光模組3的輝度，此系習知技術，在此不 再贅述。因此，由于區(qū)域S具有低反射率，所以在燈反射罩34與導光板32的接面 邊緣處，即圖2B中標示Y'所指之處，不會產生漏光現象。補充說明的是，反射層 344的區(qū)域S被照射的深度不以完全貫穿為必要，亦即如圖2B所示，至少區(qū)域S 的表面形成低反射層346。區(qū)域S的范圍通常包含距邊緣3442約lmm至3隱。另外，值得一提的是，反射層344不以覆蓋完全的基板342為必要。亦即，盡 管圖2B中顯示出反射層344的邊緣3442與基板342的邊緣3422對齊，但是于實 際設計中，反射層344的邊緣3442與基板342的邊緣3422間可有一段距離。此外， 由于本發(fā)明的低反射層346本質上系反射層344的一部分，因此燈反射罩34與導 光板32可平整地接觸，進而燈反射罩34與導光板32的接面，即圖2B中標示G' 所指之處，不會有如圖1B中反射層144與導光板12間的間隙G，進而提供更佳的反射效果。補充說明的是，燈反射罩34的形狀不以圖2A或B中所示。于實際設計中，燈 反射罩34'的形狀亦可配合燈源36，以獲取更佳的反射效率，如圖2C所示。請參閱圖3，圖3是繪示背光模組3的燈反射罩34的制造方法的流程圖。本 發(fā)明的燈反射罩制造方法包含提供一反射板，如步驟S100。該反射板即后續(xù)制成 燈反射罩34的素材。因此該反射板包含基板342以及反射層344，反射層344位 于基板342上并包含區(qū)域S，已如前述，在此不再贅述。接著,于該反射板上沖出數個定位孔用以供后續(xù)的制程定位之用，如步驟S102。 再接著，使用激光照射區(qū)域S以形成低反射層346，如步驟S104。最后，折彎該反 射板以成型燈反射罩34，如步驟S106。此步驟S106可于步驟S104之前實施，進 而可能與步驟S102整合在同一制程實施。此外，于整個燈反射罩制造方法中，該 反射板包含一覆蓋于反射層344上的膠膜(未顯示于圖中)，以避免反射層344被刮 傷。因此，此膠膜在組裝前仍宜保持在燈反射罩34上。綜上所述，因為使用激光照射可不必暫時剝離膠膜，而可保持膠膜與反射層 344間的附著力。并且，使用激光照射可僅對局部加工，其產生的熱可被控制，不 致過度影響其他非被照射區(qū)域，不會有因烘烤而產生的缺點。也就是說，膠膜可不 必暫時移除，燈反射罩34亦不會因激光照射而產生變形，反射層344亦不會因激 光照射而產生剝離現象。另外，因為網版印刷制程通常需要由原來的工廠運送至另 一個工廠加工，越多的運送代表著越高的成本和越高的不良率。因此，本發(fā)明的燈 反射罩及其制造方法不僅克服先前技術的缺點，并且大幅減少制造流程以降低成本 并提升良率。藉由以上較佳具體實施例的詳述，系希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精 神，而并非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本發(fā)明的范疇加以限制。相反地， 其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排于本發(fā)明所欲申請的專利范圍的 范疇內。因此，本發(fā)明所申請的專利范圍的范疇應該根據上述的說明作最寬廣的解 釋，以致使其涵蓋所有可能的改變以及具相等性的安排。
權利要求
1.一種燈反射罩制造方法，包含下列步驟(a)提供一反射板，該反射板包含一基板；以及一反射層，該反射層位于該基板上，該反射層具有一邊緣以及一包含該邊緣的區(qū)域；以及(b)使用一激光照射該區(qū)域，使得該區(qū)域具有一低反射率。
2. 如權利要求l所述的燈反射罩制造方法，其特征在于，該反射板包含一膠膜， 該膠膜位于該反射層上。
3. 如權利要求l所述的燈反射罩制造方法，其特征在于，該激光為一紫外線激光。
4. 如權利要求l所述的燈反射罩制造方法，其特征在于，于步驟(b)之后或之前 將該反射板折彎成型。
5. 如權利要求l所述的燈反射罩制造方法，其特征在于，該反射層為銀。
6. —種燈反射罩，包含 一基板；以及一反射層，該反射層位于該基板上，該反射層具有一邊緣以及一包含該邊緣的 區(qū)域，其中，該區(qū)域系以一激光照射而形成并具有一低反射率。
7. 如權利要求6所述的燈反射罩，其特征在于，進一步包含一膠膜，該膠膜位 于該反射層上。
8. 如權利要求6所述的燈反射罩，其特征在于，該反射層為銀。
9. 一種背光模組，包含一基板；一反射層，該反射層位于該基板上，該反射層具有一邊緣以及一包含該邊緣的 區(qū)域，其中該區(qū)域以一激光照射而形成并具有一低反射率；一導光板，該導光板具有一側邊以及一表面，其中該基板包覆該側邊致使該反 射層朝向該側邊，并且該區(qū)域大致緊靠該表面；以及一燈源，該燈源置于該反射層與該側邊之間。
10. 如權利要求9所述的背光模組，其特征在于，該反射層為銀。
全文摘要
本發(fā)明揭露一種燈反射罩制造方法，所述反射罩包含一反射板。該反射板包含一基板以及位于該基板上的一反射層。該反射層包含一包含一邊緣的區(qū)域。該制造方法并包含使用一激光照射該區(qū)域，使得該區(qū)域具有一低反射率。本發(fā)明亦揭露一種具有前述燈反射罩的背光模組，包含一導光板、一燈源以及該燈反射罩。該導光板具有一側邊以及一表面。該燈反射罩包覆該側邊致使該反射層朝向該側邊，并該區(qū)域大致緊靠該表面。該燈源置于該反射層與該側邊之間。
文檔編號G02F1/1335GK101324318SQ20071011086
公開日2008年12月17日 申請日期2007年6月13日 優(yōu)先權日2007年6月13日
發(fā)明者周萬順, 楊銘訓, 陳政宏, 黃俊豪 申請人:一詮精密工業(yè)股份有限公司