專利名稱：采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及陣列波導(dǎo)光柵(AWG)器件，用以實現(xiàn)該器件的輸出通道均勻性。
背景技術(shù)：
陣列波導(dǎo)光柵是一種波導(dǎo)型干涉衍射光柵，其輸出譜包絡(luò)面分布為單縫衍射光柵的衍射面，近似為高斯型分布，如圖1所示，各通道輸出譜峰值不均勻，在大通道陣列波導(dǎo)光柵中，中心通道輸出譜與邊緣通道輸出譜峰值相差較大，約為2-3dB，而商品化陣列波導(dǎo)光柵的通道均勻性要求小于1.5dB。為滿足商品化陣列波導(dǎo)光柵的要求，通常是辦法是增大羅蘭圓半徑，但這會增加器件的尺寸，降低器件的集成度。本發(fā)明在不增加器件尺寸的前提下，通過在輸出波導(dǎo)末端加入偏移中心軸的微調(diào)波導(dǎo)來改善AWG輸出譜的均勻性，通過控制偏移量δ來增大中心波導(dǎo)的損耗，進(jìn)而使AWG中心通道與外側(cè)通道的損耗趨于一致，將各輸出通道均勻性控制在1.5dB以下。偏移量δ從中心波導(dǎo)向外以拋物線分布遞減，其遞減規(guī)律如圖2所示。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種改善陣列波導(dǎo)光柵輸出譜均勻性的方法。關(guān)鍵在于在輸出波導(dǎo)末端加入了損耗微調(diào)波導(dǎo)，損耗微調(diào)波導(dǎo)中心軸與原輸出波導(dǎo)偏移量δ從中心輸出波導(dǎo)向外以拋物線分布遞減，以此來改善輸出譜的均勻性。
本發(fā)明是通過下面方法實現(xiàn)的本發(fā)明一種采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，其特征在于，包括如下步驟步驟1取一陣列波導(dǎo)光柵；步驟2在陣列波導(dǎo)光柵的輸出波導(dǎo)的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵的輸出通道均勻。
其中損耗微調(diào)波導(dǎo)中心軸與輸出波導(dǎo)中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
其中陣列波導(dǎo)光柵的波導(dǎo)材料是SiO2、SOI、InP或低損耗聚合物。


為進(jìn)一步說明本發(fā)明的具體技術(shù)內(nèi)容，以下結(jié)合實施例及附圖詳細(xì)說明如后，其中圖1是AWG輸出全譜圖；圖2是波導(dǎo)傳輸損耗與中心軸偏移量δ的關(guān)系；圖3是在陣列波導(dǎo)光柵(AWG)輸出波導(dǎo)末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)示意圖。
具體實施例方式
請參閱圖3-1及圖3-2，本發(fā)明一種采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，包括如下步驟步驟1取一陣列波導(dǎo)光柵100，該陣列波導(dǎo)光柵100的波導(dǎo)材料是SiO2、SOI、InP或低損耗聚合物；步驟2在陣列波導(dǎo)光柵100的輸出波導(dǎo)10的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)11，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵100的輸出通道均勻；其中損耗微調(diào)波導(dǎo)11中心軸與輸出波導(dǎo)10中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
實例具體實施方式
對照圖3-1，取一陣列波導(dǎo)光柵100，該陣列波導(dǎo)光柵100的波導(dǎo)材料是SiO2；在陣列波導(dǎo)光柵100的輸出波導(dǎo)10的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)11，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵100的輸出通道均勻；對照圖3-2，其中損耗微調(diào)波導(dǎo)11中心軸與輸出波導(dǎo)10中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
具體實施方式
對照圖3-1，取一陣列波導(dǎo)光柵100，該陣列波導(dǎo)光柵100的波導(dǎo)材料是SOI；在陣列波導(dǎo)光柵100的輸出波導(dǎo)10的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)11，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵100的輸出通道均勻；對照圖3-2，其中損耗微調(diào)波導(dǎo)11中心軸與輸出波導(dǎo)10中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
具體實施方式
對照圖3-1，取一陣列波導(dǎo)光柵100，該陣列波導(dǎo)光柵100的波導(dǎo)材料是InP；在陣列波導(dǎo)光柵100的輸出波導(dǎo)10的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)11，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵100的輸出通道均勻；對照圖3-2，其中損耗微調(diào)波導(dǎo)11中心軸與輸出波導(dǎo)10中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
具體實施方式
對照圖3-1，取一陣列波導(dǎo)光柵100，該陣列波導(dǎo)光柵100的波導(dǎo)材料是低損耗聚合物；在陣列波導(dǎo)光柵100的輸出波導(dǎo)10的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)11，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵100的輸出通道均勻；對照圖3-2，其中損耗微調(diào)波導(dǎo)11中心軸與輸出波導(dǎo)10中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
如圖1所示，各通道輸出譜峰值不均勻，在大通道陣列波導(dǎo)光柵中，中心通道輸出譜與邊緣通道輸出譜峰值相差較大，約為2-3dB，而商品化陣列波導(dǎo)光柵的通道均勻性要求小于1.5dB。為滿足商品化陣列波導(dǎo)光柵的要求，通常是辦法是增大羅蘭圓半徑，但這會增加器件的尺寸，降低器件的集成度。本發(fā)明在不增加器件尺寸的前提下，通過在輸出波導(dǎo)末端加入偏移中心軸的微調(diào)波導(dǎo)來改善AWG輸出譜的均勻性，通過控制偏移量δ來增大中心波導(dǎo)的損耗，進(jìn)而使AWG中心通道與外側(cè)通道的損耗趨于一致，將各輸出通道均勻性控制在1.5dB以下。偏移量δ從中心波導(dǎo)向外以拋物線分布遞減，其遞減規(guī)律如圖2所示。
權(quán)利要求
1.一種采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，其特征在于，包括如下步驟步驟1取一陣列波導(dǎo)光柵；步驟2在陣列波導(dǎo)光柵的輸出波導(dǎo)的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵的輸出通道均勻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，其特征在于，其中損耗微調(diào)波導(dǎo)中心軸與輸出波導(dǎo)中心軸的距離從中心輸出波導(dǎo)到外側(cè)輸出波導(dǎo)分布為拋物狀分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，其特征在于，其中陣列波導(dǎo)光柵的波導(dǎo)材料是SiO2、SOI、InP或低損耗聚合物。
全文摘要
本發(fā)明一種采用損耗微調(diào)波導(dǎo)實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵通道均勻性的方法，其特征在于，包括如下步驟步驟1取一陣列波導(dǎo)光柵；步驟2在陣列波導(dǎo)光柵的輸出波導(dǎo)的末端加入損耗微調(diào)波導(dǎo)，從而實現(xiàn)陣列波導(dǎo)光柵的輸出通道均勻。
文檔編號G02B6/124GK1979238SQ20051012624
公開日2007年6月13日 申請日期2005年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月30日
發(fā)明者安俊明, 李建光, 王紅杰, 吳遠(yuǎn)大, 胡雄偉 申請人:中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所