專利名稱：改善接合效應(yīng)的光罩及采用該光罩的曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種光罩及采用該光罩的曝光方法，特別是關(guān)于一種改善接合效應(yīng)的光罩及采用該光罩的曝光方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器薄膜晶體管基板制程主要是在玻璃基板上經(jīng)過多次涂敷、光罩制程，生成薄膜晶體管。光罩制程主要包括成膜→清洗→涂光阻劑→曝光→顯影→蝕刻→去光阻劑→檢查→成膜→清洗等步驟。在曝光步驟中，需要將已噴上感光極強(qiáng)的光阻劑的玻璃基板套上光罩，對(duì)其照射紫外光進(jìn)行曝光。而曝光的品質(zhì)直接影響到最終顯示器的顯示品質(zhì)，曝光所采用的光罩對(duì)在曝光制程至關(guān)重要。
請(qǐng)參考圖1，是利用一種現(xiàn)有技術(shù)的光罩曝光示意圖。光罩20分為三個(gè)區(qū)塊，其分別為第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III。該光罩20的第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III的接合處均是直線形結(jié)構(gòu)。制程中，利用光罩對(duì)需要曝光的玻璃基板10從左至右依次曝光，曝光時(shí)，首先利用光照射光罩20的第一區(qū)塊I形成曝光區(qū)1，然后光連續(xù)照射光罩20的第二區(qū)塊II形成曝光區(qū)2、3和4，最后利用光照射光罩20的第三區(qū)塊III形成曝光區(qū)5。該玻璃基板10的相鄰二曝光區(qū)的接合部份形成接合(Stitching)區(qū)域8。由于該光罩20的第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III接合處是直線形，因此玻璃基板10在曝光過程中，該玻璃基板10的各曝光區(qū)之間均是以直線切割方式分區(qū)。
請(qǐng)一并參考圖2，是圖1曝光流程示意圖。以曝光區(qū)4和5的接合區(qū)域8舉例說明。該接合區(qū)域8包括三部份，分別為子接合區(qū)域81、82和83。接合區(qū)域8A中子接合區(qū)域81和82是由光罩20的第二區(qū)塊II曝光而成，接合區(qū)域8B中子接合區(qū)域82和83是由光罩20的第三區(qū)塊III曝光而成，該接合區(qū)域8由接合區(qū)域8A和接合區(qū)域8B合成。如圖中所示能夠觀察到子接合區(qū)域82相較于子接合區(qū)域81和子接合區(qū)域83多了一次曝光，制程變異較大，導(dǎo)致灰階變異較大，因此能夠看見一整條直線，從而影響視覺品質(zhì)。
請(qǐng)參考圖3，是該接合區(qū)域產(chǎn)生接合效應(yīng)的示意圖，當(dāng)對(duì)第二區(qū)塊II曝光的強(qiáng)度與對(duì)第三區(qū)塊III曝光的強(qiáng)度差異性較大時(shí)，如圖中所示，子接合區(qū)域82陰影區(qū)域集中，子接合區(qū)域83陰影區(qū)域較少，使得接合區(qū)域的曝光制程異于正常區(qū)域的曝光制程，導(dǎo)致光學(xué)特性有差異，在基板上形成一條筆直的接合亮線(或黑線)，從而影響畫面品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)光罩接合區(qū)域的曝光制程異于正常區(qū)域的曝光制程，導(dǎo)致光學(xué)特性有差異，在基板上形成一條筆直的接合亮線(或黑線)，從而影響畫面品質(zhì)的缺陷，有必要提供一種曝光過程中改善接合區(qū)域直線效應(yīng)的光罩及采用該光罩的曝光方法。
一種改善接合效應(yīng)的光罩，其包括多個(gè)區(qū)塊，其中，相鄰區(qū)塊接合處是多個(gè)非直線形結(jié)構(gòu)。
一種采用上述的改善接合效應(yīng)的光罩的曝光方法，該光罩分為第一區(qū)塊、第二區(qū)塊和第三區(qū)塊，其包括如下步驟步驟一利用光照射一光罩的第一區(qū)塊形成第一曝光區(qū)；步驟二利用光連續(xù)照射該光罩的第二區(qū)塊形成多個(gè)第二曝光區(qū)；步驟三利用光照射該光罩的第三區(qū)塊形成第三曝光區(qū)，其中，該光罩的相鄰二區(qū)塊接合處是多個(gè)非直線形結(jié)構(gòu)。
相較于現(xiàn)有技術(shù)，上述的改善接合效應(yīng)的光罩，在曝光過程中，其彎曲結(jié)構(gòu)相較于現(xiàn)有直線結(jié)構(gòu)能夠增加觀察者察覺邊緣直線效應(yīng)困難度，從而能夠提高視覺品質(zhì)。

圖1是一種現(xiàn)有技術(shù)的光罩曝光示意圖。
圖2是圖1曝光流程示意圖。
圖3是圖2接合區(qū)域產(chǎn)生接合效應(yīng)的示意圖。
圖4是本發(fā)明的光罩曝光過程第一實(shí)施方式示意圖。
圖5是圖4中接合區(qū)域?qū)?yīng)像素的放大示意圖。
圖6是圖5對(duì)應(yīng)像素的變更形式示意圖。
圖7是本發(fā)明的光罩第二實(shí)施方式示意圖。
圖8是本發(fā)明的光罩第三實(shí)施方式示意圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參考圖4，是本發(fā)明的光罩曝光過程第一實(shí)施方式示意圖。光罩200分為三個(gè)區(qū)塊，其分別為第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III。該光罩200的第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III的二相鄰區(qū)塊接合處分別包括直線段和弧線段交替的結(jié)構(gòu)。曝光步驟是由光照射該光罩200以在玻璃基板100上形成所需要的薄膜晶體管電極圖案。將需要曝光的玻璃基板100從左至右依次曝光。首先利用光照射光罩200的第一區(qū)塊I形成曝光區(qū)11；然后利用光連續(xù)照射光罩200的第二區(qū)塊II形成曝光區(qū)12、13和14；最后利用光照射光罩200的第三區(qū)塊III形成曝光區(qū)15，由此便完成整個(gè)玻璃基板100的整體曝光。玻璃基板100在曝光過程中，該玻璃基板100的各曝光區(qū)之間不是以一條直線方式分區(qū)，而均是以一非直線方式切割分區(qū)，即一直線段和弧線段交替分布。該種方法不會(huì)增加設(shè)計(jì)或制程難度和程序，因?yàn)槠浣雍蠀^(qū)域18為不規(guī)則的形狀，因此能夠避免觀察者習(xí)慣性感知圖形排列。
請(qǐng)參考圖5，是圖4中該接合區(qū)域18對(duì)應(yīng)像素的放大示意圖。如圖中所示，每一個(gè)像素電極單元亮暗點(diǎn)呈不規(guī)則分布，陰影區(qū)域分散從而避免直線效應(yīng)，因此觀察者不容易看出一條亮線或暗線。
請(qǐng)參考圖6，是圖5接合區(qū)域18對(duì)應(yīng)像素的變更形式示意圖。該像素形狀為S形該種結(jié)構(gòu)也能夠增加觀察者察覺接合區(qū)域的直線效應(yīng)困難度，從而能夠提高視覺品質(zhì)。該每一個(gè)單元形狀不僅為S形也可為折線形或其它任意形。
請(qǐng)參考圖7，是本發(fā)明的光罩第二實(shí)施方式示意圖。光罩300分為三個(gè)區(qū)塊，其分別為第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III。該光罩300的第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III接合處分別為一弧線形結(jié)構(gòu)。
請(qǐng)參考圖8，是本發(fā)明的光罩第三實(shí)施方式示意圖。光罩400分為三個(gè)區(qū)塊，其分別為第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III。該光罩400的第一區(qū)塊I、第二區(qū)塊II和第三區(qū)塊III接合處分別為一折線形結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明還有其它變更形式，各區(qū)塊接合處還可以分別為一條由弧線段和折線段形成的結(jié)構(gòu)或一條由直線段和折線段形成的結(jié)構(gòu)。光罩200、300和400不僅僅可以分為三區(qū)塊，可以根據(jù)所曝光的玻璃基板面積大小而調(diào)節(jié)其大小。
權(quán)利要求
1.一種改善接合效應(yīng)的光罩，其包括多個(gè)區(qū)塊，其特征在于相鄰區(qū)塊接合處是多個(gè)非直線形結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是弧線形結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是折線形結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是直線段與弧線段交替分布的結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是直線段與折線段交替分布的結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是弧線段與折線段交替分布的結(jié)構(gòu)。
7.如權(quán)利要求1所述的改善接合效應(yīng)的光罩，其特征在于該多個(gè)區(qū)塊中每一區(qū)塊包括多個(gè)像素單元，該多個(gè)像素單元是彎曲形結(jié)構(gòu)。
8.一種改善接合效應(yīng)的曝光方法，該光罩分為第一區(qū)塊、第二區(qū)塊和第三區(qū)塊，其包括如下步驟步驟一利用光照射一光罩的第一區(qū)塊形成第一曝光區(qū)；步驟二利用光連續(xù)照射該光罩的第二區(qū)塊形成多個(gè)第二曝光區(qū)；步驟三利用光照射該光罩的第三區(qū)塊形成第三曝光區(qū)，其中，該光罩的相鄰二區(qū)塊接合處是多個(gè)非直線形結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的改善接合效應(yīng)的曝光方法，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是弧線形結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求8所述的改善接合效應(yīng)的曝光方法，其特征在于該非直線形結(jié)構(gòu)是折線形結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種改善接合效應(yīng)的光罩，其包括多個(gè)區(qū)塊，其中，相鄰區(qū)塊接合處是多個(gè)非直線形結(jié)構(gòu)。在液晶顯示器基板曝光中采用該種非直線形結(jié)構(gòu)的光罩可以改善基板接縫處接合效應(yīng)，以淡化觀賞者察覺接縫邊緣的直線效應(yīng)。本發(fā)明還提供一種采用該光罩的曝光方法。
文檔編號(hào)G03F1/00GK1967381SQ20051010155
公開日2007年5月23日 申請(qǐng)日期2005年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月18日
發(fā)明者陳弘育 申請(qǐng)人:群康科技(深圳)有限公司, 群創(chuàng)光電股份有限公司