專利名稱：用于修正slm戳圖像缺陷的方法和器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及工件(work piece)的生產(chǎn)和精確繪圖(patterning)，包括用于光刻(photolithography)的光掩模(photomask)的制造和在諸如半導(dǎo)體基底之類的其他基底上的直接寫操作。具體地說，其涉及對(duì)圖案數(shù)據(jù)應(yīng)用修正，諸如SLM曝光戳(stamp)域中的變形修正。其可以用于在基底上生產(chǎn)器件?；蛘?，可以將本發(fā)明實(shí)施為實(shí)施所公開的方法的器件或者包括用于實(shí)施所公開的方法的程序的制造物品，特別是存儲(chǔ)器易失存儲(chǔ)器或者非易失存儲(chǔ)器。在所附說明書、附圖和權(quán)利要求書中進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明的附加方面進(jìn)行說明。
背景技術(shù)：
在參照上面的WO申請(qǐng)中描述了涉及掩模制造的各種變形(distortion)。這些變形通常涉及被在其上印有圖案的基底的物理性質(zhì)，即掩?？瞻缀途蛘呔ПP(panel)、基底上的位置、包括曝光順序和環(huán)境的曝光器件(其可以使用電磁輻射或者粒子束)以及圖案自身。注意，還有其他潛在的變形原因。
在所述WO申請(qǐng)中引用了這樣的內(nèi)容當(dāng)使用SLM直接對(duì)工件進(jìn)行寫操作時(shí)應(yīng)用變形修正，見第31、33、和35-36頁(yè)。這些引用通常涉及使用SLM來修正變形，并沒有描述對(duì)SLM所特有的變形進(jìn)行修正。
雖然沒有在WO申請(qǐng)中提及，但是使用SLM的經(jīng)驗(yàn)已經(jīng)表明當(dāng)使用SLM時(shí)產(chǎn)生某些額外類型的變形。作為跨越SLM場(chǎng)的空間變形，名義上戳位置、旋轉(zhuǎn)和放大誤差都在應(yīng)該被關(guān)注的額外類型的變形之中。
因此，有機(jī)會(huì)來應(yīng)對(duì)使用SLM所特有的變形類型，并且將特別在SLM中可用的技術(shù)應(yīng)用于許多種類的變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及工件的生產(chǎn)和精確繪圖，包括用于光刻的光掩模的制造和在諸如半導(dǎo)體基底之類的其他基底上的直接寫操作。具體地說，其涉及對(duì)圖案數(shù)據(jù)應(yīng)用修正，諸如修正SLM曝光戳區(qū)域中的變形。其可以用于在基底上生產(chǎn)器件?；蛘?，可以將本發(fā)明實(shí)施為實(shí)施所公開的方法的器件或者包括用于實(shí)施所公開的方法的程序的制造物品，特別是存儲(chǔ)器易失存儲(chǔ)器或者非易失存儲(chǔ)器。在所附說明書、附圖和權(quán)利要求書中進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明的附加方面進(jìn)行說明。
因此本發(fā)明的目的是提供用于印制精確圖案的改進(jìn)型圖案產(chǎn)生器。憑借根據(jù)所述權(quán)利要求的、提供SLM中的像素的模擬調(diào)制的器件來實(shí)現(xiàn)該目的。


圖1圖解了各向異性偏移(biasing)、各向同性偏移、變形修正、旋轉(zhuǎn)和放大；圖2圖解了各向異性偏移；圖3圖解了樣本變形圖；圖4圖解了區(qū)域采樣；圖5是采樣、重構(gòu)和重采樣的概念框圖；圖6對(duì)圖5添加關(guān)于圖像重采樣操控的詳情；圖7圖解了在拐角(corner)沿著等級(jí)別強(qiáng)度曲線的梯度；圖8圖解了對(duì)在等級(jí)別曲線中所發(fā)現(xiàn)的梯度的有用估計(jì)；圖9圖解了如何發(fā)現(xiàn)圖案中的拐角的確切位置；圖10圖解了如何發(fā)現(xiàn)基本(underlying)二進(jìn)制圖案的假象拐角；圖11描述了正方形區(qū)域卷積采樣器；圖12-18描述了跨越特殊強(qiáng)度圖和輪廓(profile)而應(yīng)用圖11的卷積采樣器的結(jié)果；圖19A-19B描述了用于重構(gòu)的樣本集；圖20圖解了通過定義了強(qiáng)度表面的任何位置的參考橫截面2010；圖21圖解了使用相鄰線段的延伸以便將第一條線用于交叉點(diǎn)左側(cè)的樣本而將第二條線用于交叉點(diǎn)右側(cè)的樣本；圖22圖解了應(yīng)用于中心樣本對(duì)的直接兩點(diǎn)內(nèi)插；圖23圖解了在限制到1和0之后來自圖22的相同外插；圖24圖解了在外插之間帶有加權(quán)的來自圖22的相同外插；圖25A-25B圖解了如何將一維重構(gòu)器(reconstructor)擴(kuò)展為兩維；圖26圖解了定義為節(jié)距(pitch)和卷積區(qū)域的組合參數(shù)化(parameterization)的分辨率；圖27描述了奇偶超采樣(supersampling)和(aggregation)聚合；圖28描述了使用兩個(gè)不同矢量符號(hào)的采樣點(diǎn)位移(displacement)；圖29描述了AI圖值之間的線性內(nèi)插重構(gòu)；圖30描述了跟隨有最近鄰居重構(gòu)方法的AI函數(shù)的重采樣；圖31-35通過一種FPGA實(shí)施方式詳細(xì)圖解了實(shí)施邏輯的框圖；圖36圖解了區(qū)域樣本聚合器(ASA)3610；圖37描述了在網(wǎng)格(grid)上改變節(jié)距的各種近鄰；圖38是位移矢量產(chǎn)生器的高級(jí)框圖；圖39提供圖38中的偏移矢量產(chǎn)生器的附加詳情；圖40-41呈現(xiàn)在不參照FPGA領(lǐng)域(real estate)的情況下的替代框圖；圖42-46圖解了替代的拐角重定尺寸(resizing)方法，其中圖42A-42B圖解了從所述拐角產(chǎn)生的等級(jí)別輪廓和理想化的矢量定尺寸結(jié)果；圖43A-43B圖解了梯度矢量場(chǎng)的形狀，并且表明如果用這種矢量來移動(dòng)采樣點(diǎn)則將是什么樣的等效幾何區(qū)域輪廓；圖44A-44B圖解了梯度矢量場(chǎng)的形狀，并且表明如果用這種矢量來移動(dòng)采樣點(diǎn)則將是什么樣的等效幾何區(qū)域輪廓；圖47是拐角提取和增強(qiáng)的高級(jí)示意圖；圖48-49圖解了拐角提取器問題；圖50描述了根據(jù)可以是閉合或者開口的、沿其對(duì)強(qiáng)度表面值的變化進(jìn)行定性和關(guān)聯(lián)的多個(gè)搜索路徑的存在的方法；圖51描述了用與采樣網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的正方形路徑來代替路徑w1和w2的近似；圖52圖解了使用與梯度方向?qū)?zhǔn)的坐標(biāo)系統(tǒng)根據(jù)一階和二階導(dǎo)數(shù)的分析使用曲率的數(shù)學(xué)定義的方法；圖53圖解了諸如從由拐角檢測(cè)過程所產(chǎn)生的數(shù)據(jù)中出來的位置、方位和角度之類的屬性的拐角估計(jì)；圖54圖解了三種類型的拓?fù)鋸?fù)雜度；圖55圖解了拐角位移矢量；圖56A-56B圖解了如何分解對(duì)尺寸偏移位移拐角位移(Dimension BiasCorner Displacement)矢量的聚合分布；以及圖57圖解了如何導(dǎo)出偏移分量。
具體實(shí)施例方式
參照附圖進(jìn)行下面的詳細(xì)描述。描述優(yōu)選實(shí)施方式來說明本發(fā)明，但是不對(duì)由權(quán)利要求所限定的其范圍進(jìn)行任何限制。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解可以對(duì)該描述進(jìn)行各種等效變體。
修正類型在2001年9月12日提交的、題目為“Graphics Engine for High PrecisionLithography”的美國(guó)專利申請(qǐng)No.09/954,721中，描述了對(duì)矢量圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行光柵化(rasterization)并且將光柵數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為鏡方位和鏡驅(qū)動(dòng)電壓，將輻射中繼到圖像平面并且在掩模上對(duì)保護(hù)層(resist)進(jìn)行曝光，直接寫的器件或者其他工件，因此將所述專利公開通過參考合并于此。在后續(xù)工作中，發(fā)明者已經(jīng)開發(fā)了使用帶有先驗(yàn)(a priori)知識(shí)的區(qū)域重采樣以允許變形修正和特征的各向異性偏移的新方法。這種新方法具有幾個(gè)應(yīng)用。圖1圖解了特征的各向異性偏移110、各向同性偏移120、變形修正130、旋轉(zhuǎn)140和放大150。各向異性偏移是指將特征的X和Y方向(extent)以不同的量進(jìn)行改變110。各向同性偏移在特征的方向中施加類似的變化120。變形修正在整個(gè)圖像區(qū)域是不一致的?？梢詫⑿D(zhuǎn)和放大應(yīng)用于整個(gè)圖像。此外，可以通過重采樣來應(yīng)對(duì)平移誤差(translation)誤差(未示出)。
圖2圖解了的各向異性偏移。一組各向異性偏移矢量定義方位和位移?？梢愿鶕?jù)偏移矢量的位移來增加或者減少特征的大小。在一個(gè)實(shí)施方式中，對(duì)于矢量周期(vector circle)的僅僅一個(gè)象限確定偏移矢量210，然后將其跨越X和Y軸進(jìn)行鏡像(mirror)。在該圖中的實(shí)線220圖解了各向異性偏移之前的對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)，而虛線230圖解了應(yīng)用該偏移之后的對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)。
變形修正是指對(duì)跨越圖像區(qū)域的變形的補(bǔ)償，例如對(duì)包括中繼輻射的鏡子和透鏡的圖像產(chǎn)生系統(tǒng)所引起的變形的補(bǔ)償?？梢允褂弥T如Leica IPRO之類的計(jì)量(metrology)工具以普通的方式來執(zhí)行變形映射。在被報(bào)告為2001年1月出版的Seong-Yong-Moon等人所著、題目為“Analysis of Photomask DistortionCaused by Blank Material and Open Ratios，”in Proceeding of the 20thAnnualBACUS Symposium on Photomask Technology and Management，SPIE Vol.4186中，有關(guān)于變形映射的Leica應(yīng)用介紹。圖3是可以使用Leica IPRO進(jìn)行準(zhǔn)備的類型的、以稀疏圖和導(dǎo)出附加點(diǎn)(deriving additional points)開始的采樣變形圖。這是50×200微米SLM戳之上的典型模擬2D布置誤差誤差，其描述了在10-20納米范圍中的小誤差。
旋轉(zhuǎn)、放大和平移是以適應(yīng)于大數(shù)據(jù)量的實(shí)時(shí)處理的特殊方式實(shí)施的標(biāo)準(zhǔn)圖像操控。
可以從應(yīng)用于偏移和變形修正的相同方法中獲益的拐角增強(qiáng)超出了這個(gè)公開的范圍。
重采樣方法下面描述對(duì)到達(dá)同樣為像素光柵形式的新圖像描述器處的、像素光柵形式的圖像數(shù)據(jù)描述器進(jìn)行采樣、重構(gòu)和重采樣的方法。作為背景介紹，推薦由NeilAnthon Dodgson所著的論文“Image Resampling”，Wolfson College & ComputerLaboratory，University of Cambridge，Technical Report Number 261(Aug.19920)，特別是第6-7章。
該方法允許從重構(gòu)的圖像中提取諸如梯度或者閾值之類的屬性。根據(jù)這些圖像依賴屬性和其他圖像獨(dú)立屬性，可以應(yīng)用一系列的圖案操控來改變重采樣坐標(biāo)的位置和/或疊加多個(gè)圖像平面。上述操控包括重要尺寸偏移、拐角增強(qiáng)、變形補(bǔ)償、鄰域效應(yīng)(表示圖像的特征或者次表面之間的相互作用，不包括在本公開中)、樣本網(wǎng)格的改變，產(chǎn)生采樣點(diǎn)之間的新的空間距離(放大/縮小)和整個(gè)圖案的位移以反映在網(wǎng)格相位移動(dòng)上。
可以將作為源以及結(jié)果的圖像描述為與圖像平面的原點(diǎn)相關(guān)的坐標(biāo)矢量的標(biāo)量函數(shù)。這種描述的圖像都具有有限范圍。
應(yīng)用該方法，而不是對(duì)圖像內(nèi)容進(jìn)行操控，對(duì)采樣點(diǎn)進(jìn)行操控。對(duì)相對(duì)少的、離散的采樣點(diǎn)進(jìn)行交替比移動(dòng)整個(gè)圖像更加有效，其可以在連續(xù)空間中被當(dāng)作具有無限分辨率來對(duì)待。即使是離散圖像，表示圖像內(nèi)容所需要的數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量也比采樣點(diǎn)的數(shù)量大許多倍。
圖像表示本方法使用圖像強(qiáng)度區(qū)域中的無限分辨率、或者連續(xù)圖像平面的概念。在這種情況中，坐標(biāo)矢量的數(shù)量是無限的，表示構(gòu)成圖像平面的點(diǎn)的無限集合。
因此，對(duì)于每個(gè)圖像，我們具有(至少)兩種表示，連續(xù)圖像平面和離散圖像平面。(在另外的情況中，可以將這稱為對(duì)象面，與SLM的表面對(duì)應(yīng)，而與工件的表面相對(duì)。)因此可以用連續(xù)或者離散值來表示對(duì)連續(xù)或者離散圖像平面中每個(gè)點(diǎn)的幅度值進(jìn)行表示的標(biāo)量。
對(duì)于原始圖像的圖像平面中的每個(gè)點(diǎn)，在進(jìn)行任何濾波或者卷積之前，指定原始圖像函數(shù)I(x，y)來表示在那點(diǎn)中的值。從空間和值上來說它是離散的?？梢詫⒃摵瘮?shù)采樣和表示為Im(xm，ym)，其中xm和ym是對(duì)圖像(有限范圍)的所有采樣點(diǎn)進(jìn)行限定的有限集的成員。
本方法在許多方面總體上與I(x，y)的標(biāo)量屬性相關(guān)，但是在所期望的應(yīng)用中，當(dāng)原始圖像I(x，y)是只包含像素值I＝0和I＝1的二進(jìn)制值集合時(shí)僅僅是特殊情況。
區(qū)域采樣通常將區(qū)域采樣當(dāng)作圖像的離散和有限區(qū)域(如一個(gè)像素或者一組像素)的離散樣本。但是，對(duì)于這個(gè)特殊的目的，考慮區(qū)域采樣而不是無限分辨率的概念。對(duì)于無限分辨率圖像中的每個(gè)點(diǎn)(xm，ym)存在區(qū)域樣本，使得在有空間范圍所限定的區(qū)域上區(qū)域樣本的值是圖像點(diǎn)函數(shù)的積分。
A(x，y)＝ffI(u，v)du，dv在該表述中，u和v是表示區(qū)域樣本的有限平面的變量?？梢钥紤]多種形狀，但是對(duì)于這個(gè)描述器考慮正方形樣本區(qū)域。(可以將矩形或者圓形區(qū)域考慮為本發(fā)明的延伸。)正方形樣本具有范圍h，使得通過x＝(x-h/2，x+h/2)和y＝(y-h/2，y+h/2)來限制上述積分。應(yīng)用于正方形采樣區(qū)域，該積分變?yōu)锳(x,y)=∫∫u=(x-h/2,x+h/2)v=(y-h/2,y+h/2)I(u,v)dudv∫∫u=(x-h/2,x+h/2)v=(y-h/2,y+h/2)1dudv=∫∫u=(x-h/2,x+h/2)v=(y-h/2,y+h/2)I(u,v)dudvh2]]>區(qū)域采樣描繪(rendering)是指用離散值和像素的離散集來估計(jì)函數(shù)A(x，y)的值。使用記號(hào)Am(xm，ym)來表示這些估計(jì)。圖4圖解了帶有結(jié)果A＝1(412)，A＝0.5(414)和A＝0(416)的特征410的區(qū)域采樣。
區(qū)域樣本尺寸和幅度將與所選擇的單元關(guān)聯(lián)，并且對(duì)卷積正方形的改變將改變A(x，y)的幅度。這導(dǎo)致系統(tǒng)參數(shù)之間的實(shí)際依賴。本文從現(xiàn)在起將使用標(biāo)準(zhǔn)化的區(qū)域樣本，其表示為值0和1的兩級(jí)原始圖像函數(shù)I(x，y)上所積分的、有卷積正方形區(qū)域分割的區(qū)域樣本值。所以，區(qū)域樣本在0和1之間變化。
圖像重構(gòu)本部分詳細(xì)描述對(duì)來自一組離散樣本估計(jì) 的連續(xù)正方形區(qū)域卷積圖像A(x，y)進(jìn)行重構(gòu)的方式。
這種重構(gòu)方法依賴于選擇樣本點(diǎn)(xm，ym)。在正交坐標(biāo)系統(tǒng)中以下面的方式來選擇樣本點(diǎn)xm＝g*{0..p}，其中g(shù)是原始圖像平面中所測(cè)量的樣本距離，以及ym＝g*{0..q}，并且p和q表示圖像的像素大小。
從實(shí)施的角度來說，區(qū)域樣本的范圍h之間的關(guān)系(見上面)和樣本點(diǎn)之間的距離g都非常重要，但是并不是基礎(chǔ)性的先決條件。對(duì)于計(jì)算機(jī)技術(shù)的實(shí)施，(在假設(shè)存在l的最小距離單元的情況下)對(duì)g＝2m的值特別感興趣。憑借這種限制，對(duì)大小為h＝2t的區(qū)域樣本特別感興趣。但是，本發(fā)明基本上并不將自身限制于此。
對(duì)連續(xù)圖像平面中的任意樣本點(diǎn)的估計(jì)在區(qū)域樣本估計(jì) 的幫助下，可以通過使用幾種重構(gòu)方法之一來對(duì)函數(shù)A(x，y)進(jìn)行估計(jì)。(除了不被考慮的“最近鄰居”之外)最簡(jiǎn)單的一種就是線性內(nèi)插?？梢酝ㄟ^使用三個(gè)樣本點(diǎn)作為虛構(gòu)三角形的頂點(diǎn)、形成從其可以采集樣本的平面，而將線性內(nèi)插的方法輕易地?cái)U(kuò)展到兩維圖像平面。
因此，可以將到達(dá)AP[xP，yP]的值的方法表示為下列步驟1.找出在樣本點(diǎn)(xP，yP)最接近鄰域中的三個(gè)離散樣本點(diǎn)(a，b，c)叫的集合。可以表明，在帶有在較早步驟中所引入的xm和ym的樣本網(wǎng)格中的限制的情況中，在m＝(a，b，c)集合中的至少兩個(gè)xm值或者兩個(gè)ym將相同。如果多個(gè)集合滿足條件(對(duì)于x＝xa，a是集合成員的情況)，可以表明選擇并不重要，可以對(duì)滿足鄰域條件的任意集合進(jìn)行選擇。
2.找出具有不同x值的樣本對(duì)(a，b)，和具有不同y值的另一個(gè)樣本對(duì)(a，c)。
3.使用線性內(nèi)插來計(jì)算新區(qū)域樣本估計(jì)A~′(x,y)=(A~[xa,ya]-A~[xa,ya])*(x-xa)+A~[xa,ya]-A~[xa,ya](y-ya)+A~[xa,ya].]]>與實(shí)際圖像A(x，y)比較的誤差與h和g的值成比例(區(qū)域樣本卷積大小和樣本距離)，并且可以表明當(dāng)g在常數(shù)h之下接近零時(shí)最大誤差消失。
區(qū)域卷積過程具有濾波特征，并且通常將卷積的原始圖像中的細(xì)節(jié)舍入或者完全衰減。用h的較低值，將減輕這種細(xì)節(jié)衰減，但是產(chǎn)生另外的負(fù)面效應(yīng)用h的較低值，則將出現(xiàn)增加的對(duì)在圖像中的分辨率限制的靈敏度，因此可以表明降低h對(duì)保真度(fideltiy)具有負(fù)面效應(yīng)。
后面將描述對(duì)內(nèi)插和重構(gòu)的方法進(jìn)行改進(jìn)的方法，這將提供對(duì)于提高樣本強(qiáng)度(降低g)的可供選擇的方法。
圖5是采樣、重構(gòu)和重采樣的概念框圖。所圖解的方法以原始強(qiáng)度圖像511開始。區(qū)域卷積521在理論上產(chǎn)生連續(xù)區(qū)域卷積圖像512。區(qū)域采樣522產(chǎn)生離散區(qū)域樣本圖像513、在離散點(diǎn)處的一組強(qiáng)度。在樣本點(diǎn)515的鄰居中應(yīng)用下述圖像重構(gòu)523。從例如離散樣本的4×4近鄰的近鄰的強(qiáng)度特征中，得出可以用于圖像重采樣的多項(xiàng)式描述器516。在圖像重采樣525中，將樣本坐標(biāo)515和多項(xiàng)式描述器514組合以產(chǎn)生結(jié)果圖像516的重采樣點(diǎn)。
操控圖像圖6圖解了對(duì)圖5添加的圖像重采樣操控的詳情。通過網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的樣本點(diǎn)產(chǎn)生626、操控矢量場(chǎng)產(chǎn)生627和樣本矢量操控628來詳細(xì)描述樣本點(diǎn)524的產(chǎn)生。
定義替代采樣點(diǎn)現(xiàn)在介紹一組新采樣點(diǎn)(um，wm)?？紤]采樣點(diǎn)來自離散、軸等距分布，諸如在帶有原始圖像的樣本的情況中。將開始樣本點(diǎn)集合表示為G[m]＝(xm，ym)。這意味著對(duì)于每個(gè)樣本點(diǎn)m存在有對(duì)應(yīng)坐標(biāo)(xm，ym)。
為了對(duì)用于重采樣的重要先決條件進(jìn)行建模，考慮稍微改變這些樣本的位置的三種因素。
1.圖像平面平移710。該因素表示為T＝(xt，yt)，它是恒定矢量，空間上不變化。
2.圖像平面空間依賴重定位矢量720。該因素表示為D(x，y)，它是坐標(biāo)x和y的函數(shù)，但獨(dú)立于圖像內(nèi)容A(x，y)。
3.圖像平面圖案依賴重定位矢量730。其表示為C(x，y，A(x，y))，其中C依賴于圖案區(qū)域樣本圖像A(x，y)。
參照?qǐng)D7，圖像平面的平移710的目的(1)正在實(shí)現(xiàn)已經(jīng)用恒定坐標(biāo)偏移矢量T移動(dòng)了整個(gè)開始區(qū)域樣本圖像A(x，y)的等效，因此產(chǎn)生圖像AR(x，y)＝AR(x-xby-yt)。應(yīng)用空間依賴矢量720的目的是表示一系列空間變形，包括旋轉(zhuǎn)、襯墊(cushion)變形、梯形變形和任何組合或者可以作為x和y的函數(shù)被建模的其他變形。CD偏移調(diào)整730的目的是通過在與表面邊緣的方向垂直的方向上在邊緣相鄰區(qū)域中改變樣本點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)與對(duì)圖案中的次表面的尺寸進(jìn)行改變的等效。
CD偏移梯度參照?qǐng)D8，為了實(shí)現(xiàn)C，使用另一個(gè)矢量場(chǎng)S。從A(x，y)中按照下面方式計(jì)算SS表示或者估計(jì)A(x，y)的標(biāo)準(zhǔn)化的梯度，其中S＝grad(A)*k，其中對(duì)k進(jìn)行選擇從而除了S為零時(shí)|S|＝1。在等級(jí)別曲線中，如圖8所示，特別在A(x，y)的半最大幅度的等級(jí)別曲線中，發(fā)現(xiàn)對(duì)梯度的有用估計(jì)，但是也可以從重構(gòu)的區(qū)域樣本圖像A(x，y)中直接得出梯度。
為了從S得到C，執(zhí)行一系列的操作。引入將矢量場(chǎng)S“擴(kuò)展”到S′的概念?？梢詫⑵淅斫鉃樵谒薅ǖ膮^(qū)域內(nèi)S′的值等于S。對(duì)于梯度不確定的區(qū)域，例如在拐角或者曲率之內(nèi)，需要定義從許多梯度中選擇一個(gè)梯度的方法。對(duì)于連續(xù)域，對(duì)此還沒有令人滿意的應(yīng)對(duì)方法，但是對(duì)于離散區(qū)域樣本圖像，提出一種選擇方法。
可以使用識(shí)別擴(kuò)展的矢量場(chǎng)S的幾種方法。與從A(x，y)圖像中直接獲得梯度相反，使用等級(jí)別線，并且在沿著等級(jí)別曲線的分段的(piecewise)線性內(nèi)插中，為每個(gè)段(piece)構(gòu)建矩形梯度表面，進(jìn)行這樣的設(shè)計(jì)從而梯度是恒定的并且在等級(jí)別線片段的正常方向中指引梯度。矩形應(yīng)該是這樣的該矩形的一邊與等級(jí)別線片段平行而另外一邊在兩個(gè)方向中延伸，與梯度平行。
如果找到多個(gè)值，則如下所述需要應(yīng)對(duì)特殊情況。將S′與常數(shù)h相乘得到C，其中h是CD參數(shù)值矢量和S之間的標(biāo)量積。這得出帶有距離h的幾何邊緣的移動(dòng)。(將在后面描述用于在X軸和Y軸中被分開的CD參數(shù)的擴(kuò)展方法，但是基本原理不變。)然后通過疊加所有樣本矢量因素、T、D和C(將它們加)到所有開始網(wǎng)格樣本點(diǎn)G[m]＝[xm，ym]，產(chǎn)生新樣本點(diǎn)Q。
下面描述阻止S場(chǎng)的替代方法。
樣本點(diǎn)分割如果當(dāng)?shù)竭_(dá)擴(kuò)展區(qū)域時(shí)找到明顯不同的非零S′的多個(gè)值，則對(duì)于S的每個(gè)值用一個(gè)實(shí)例對(duì)C矢量進(jìn)行復(fù)制。然后在每個(gè)點(diǎn)中從來自A(x，y)的因素的加權(quán)和中得出樣本點(diǎn)值。這種機(jī)構(gòu)與輸入圖像情況對(duì)應(yīng)，其中以影響一個(gè)和相同輸出樣本值的方法縮減或者增長(zhǎng)在彼此鄰域區(qū)域中的兩個(gè)對(duì)象。
等級(jí)別線交叉(cross-point)搜索在A具有特定值的A(x，y)的圖像中找點(diǎn)的概念對(duì)于一些操作可能是有用的。因此，描述搜索方法，產(chǎn)生所有這種位置的估計(jì)表示。
對(duì)于連續(xù)區(qū)域樣本圖像A(x，y)可以考慮等級(jí)別線，表示在其上區(qū)域樣本值是特定幅度AT的曲線。如后面示出的，跟隨A的半最大幅度的路徑的曲線具有特別有趣的性質(zhì)。假設(shè)，如果對(duì)于連續(xù)區(qū)域A(x，y)是恒定的，等于所搜索的曲線的值，則曲線將延伸到區(qū)域。對(duì)于嚴(yán)格小于1并且嚴(yán)格大于0的所有曲線值，可以預(yù)見這中情況很少發(fā)生從而可以將其作為例外或者非正常對(duì)待。
對(duì)于在其中限定A(x，y)的區(qū)域中的兩個(gè)點(diǎn)之間的任何直線，將在A確切等于AT處的點(diǎn)(如果這樣的點(diǎn)存在的話)稱為等級(jí)別交叉點(diǎn)。
在將每個(gè)樣本與它的所有鄰居連接的假設(shè)網(wǎng)格中，可以將每條網(wǎng)格線分配有交叉點(diǎn)的值，或者替代分配有表示在該網(wǎng)格片段的延伸處沒有交叉點(diǎn)的空值。
找拐角為了在圖案中找到拐角的確切位置，可以使用下面的方法。如圖9中所示，創(chuàng)建由邊緣寬度u分開的兩個(gè)正方形，一個(gè)較大的910大于另一個(gè)920使得兩個(gè)正方形的中心點(diǎn)930重合。如果將較小的矩形的大小定義為s，則較大的矩形大小就是s+2u。搜索這些正方形的線以尋找其中值A(chǔ)(x，y)確切等于半最大幅度的點(diǎn)。
現(xiàn)在，在圖10中，在一個(gè)點(diǎn)在外正方形1011、1021上而一個(gè)點(diǎn)在內(nèi)正方形1012、1022上的點(diǎn)對(duì)之間創(chuàng)建矢量1010、1020。在大多數(shù)情況中，找到四個(gè)點(diǎn)和兩個(gè)矢量?，F(xiàn)在通過使用外插來找在這兩個(gè)因數(shù)之間在較小的正方形內(nèi)的交叉點(diǎn)(crossing point)。交叉點(diǎn)表示基本(underlying)二進(jìn)制圖案的假想拐角。
增強(qiáng)拐角搜索通過采用值A(chǔ)(x，y)并且從，中將其減去，找與拐角的角成比例的量度(metric)。使用平移函數(shù)，可以從A-1/2差中得出角度?？梢酝ㄟ^計(jì)算兩矢量之間的角度差來測(cè)量該角度。通過比較兩個(gè)角度值，可以檢測(cè)所謂的交叉點(diǎn)是真實(shí)還是平滑曲率的結(jié)果。
最好以下面方法對(duì)搜索矩形進(jìn)行映射將其與離散區(qū)域樣本網(wǎng)格線對(duì)準(zhǔn)，或者是實(shí)際樣本值或者來自所建議的上采樣(up-sampled)集合。
本方法的擴(kuò)展是使用兩個(gè)八角形而不是兩個(gè)正方形910、920。
圖像重構(gòu)的擴(kuò)展圖像重構(gòu)過程的目的是從由圖像源(即，描繪處理器)所產(chǎn)生的離散、等距區(qū)域樣本中，為區(qū)域樣本圖像中的任何點(diǎn)創(chuàng)建A(x，y)的多項(xiàng)式表示。
應(yīng)該將圖像重構(gòu)器進(jìn)行設(shè)計(jì)，使其對(duì)已經(jīng)被采樣的圖案的先驗(yàn)知識(shí)(A PrioriKnowledge，APK)很少使用或者不使用。相反地，應(yīng)該使用采樣機(jī)構(gòu)自身的APK。
上述建議的圖像重構(gòu)的方法是在已知(或斷言的)樣本值之間的線性內(nèi)插。下面描述根據(jù)與基本原始圖像圖案上的幾個(gè)假設(shè)結(jié)合的采樣機(jī)構(gòu)中固有的性質(zhì)，在用于線性內(nèi)插(上采樣)的集合中增加樣本點(diǎn)數(shù)量的方法。
為了解釋重構(gòu)器的設(shè)計(jì)，應(yīng)該介紹一些概念元素。考慮原始圖像的正方形區(qū)域樣本A(x，y)。然后考慮這樣的線在該線上以標(biāo)量線位置A(s)的標(biāo)量值的形式將區(qū)域樣本值表示為在該線上的函數(shù)，其中s是在該線上相對(duì)于線開始位置的位置。該線可以具有任何方位，但是如后面將要示出的，對(duì)某些方位特別感興趣。
圖11圖解了可以被應(yīng)用為滑動(dòng)窗口1120的正方形區(qū)域卷積采樣器1110。在圖12-18中圖解了橫跨各種強(qiáng)度圖和輪廓應(yīng)用該卷積采樣器的結(jié)果。
在圖12中，亮區(qū)域1201在垂直線1202的左邊。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度的距離上范圍從亮(1)到暗(0)的斜坡線1211表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖13中，亮區(qū)域1301在斜坡線1302的左邊。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度加上由斜坡線1302所穿越的距離的距離上、范圍從亮(1)到暗(0)的彎曲線來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖14中，亮區(qū)域1401是部分在采樣區(qū)域內(nèi)、在垂直線1402的左邊并且在水平線1403之下的拐角。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度的距離上的、范圍從半亮(1/2)到暗(0)的斜坡線1411來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖15中，亮區(qū)域1501是部分在采樣區(qū)域內(nèi)、在斜坡線1502和1503的左邊的拐角。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度加上由斜坡線1502、1502所穿越的距離的距離上的、范圍從亮(1)到暗(0)的彎曲線1511來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖16中，亮區(qū)域1601是部分在采樣區(qū)域內(nèi)、在斜坡線1602和1603的下邊的拐角。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度加上由斜坡線1602、1602所穿越的距離的距離上的、范圍從暗到部分亮再回到暗的彎曲線1611來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖17中，亮區(qū)域1701在采樣區(qū)域內(nèi)的、在拼合(jogged)線1702左側(cè)的拼合拐角對(duì)。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度加上拼合長(zhǎng)度的距離上的、范圍從亮(1)到暗(0)的三條分段的線1711、1712、1713來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
在圖18中，亮區(qū)域1801是部分在采樣區(qū)域內(nèi)、在垂直線1802和斜坡線1803左邊的斜拐角。在輪廓中，由沿著X軸等于卷積采樣器的寬度加上由斜坡線1803所覆蓋的距離的距離上的、范圍從亮(1)到暗(0)的兩條分段的線1812、1813來表示滑動(dòng)窗口1110移動(dòng)所遭遇的強(qiáng)度。
通過使用A(s)的導(dǎo)數(shù)(derivate)的符號(hào)差(signature)來對(duì)順序進(jìn)行分類，可以實(shí)現(xiàn)樣本點(diǎn)A(sm)之間的A(s)值的估計(jì)中的附加精確度。理解將區(qū)域積分器應(yīng)用于沿著各種特征邊緣的點(diǎn)的結(jié)果，可以應(yīng)對(duì)重構(gòu)和外插/內(nèi)插規(guī)則。
條件重構(gòu)重構(gòu)的基本元素在一維情況中進(jìn)行操作，沿著從區(qū)域樣本的2-D陣列中選擇的區(qū)域樣本的網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)線對(duì)新區(qū)域樣本值進(jìn)行重構(gòu)。重構(gòu)器1910使用沿著強(qiáng)度表面中的線方位的四個(gè)相鄰并且重疊的區(qū)域樣本以將值內(nèi)插在兩個(gè)中心值之間。圖19A-19B圖解了用于重構(gòu)的樣本集合，圖19A是頂視圖而圖19B是剖視圖。在該實(shí)施方式中，使用4×4的樣本近鄰來重構(gòu)點(diǎn)1950。在另外的實(shí)施方式中，可以使用其他樣本近鄰，如3×3、5×5、6×6或者矩形近鄰。最好是4×4的樣本近鄰，因?yàn)槠浯蟮阶銐蛟谔娲鷥?nèi)插路徑中進(jìn)行選擇而且仍然相對(duì)小。憑借四個(gè)1維重構(gòu)，可以將本方法容易地直接擴(kuò)展到2維重構(gòu)。
圖20圖解了通過由強(qiáng)度表面所限定的每個(gè)位置的參考交叉部分2010。從四個(gè)區(qū)域樣本值，即2011-2014中，導(dǎo)出交叉部分。如下面所說明的，重構(gòu)器方法在內(nèi)插和外插之間進(jìn)行選擇。路徑的選擇依賴于對(duì)四個(gè)樣本值之間的差進(jìn)行評(píng)估。將四個(gè)樣本分為三個(gè)樣本對(duì)，一個(gè)“中心”對(duì)2012、2013和兩個(gè)“外圍”對(duì)(2011、2012)、(2013、2014)。
重要準(zhǔn)則在對(duì)內(nèi)插器進(jìn)行設(shè)計(jì)的后面的中心原因是圖案情況之間的公差區(qū)別，其中拐角的公差比曼哈頓線的公差寬。對(duì)重構(gòu)器進(jìn)行設(shè)計(jì)以在所謂的曼哈頓方位線處為重構(gòu)的區(qū)域樣本產(chǎn)生零誤差，其產(chǎn)生類似地平線的矩形特征。另一個(gè)重要準(zhǔn)則是從適合于在可重新配置的邏輯器件中進(jìn)行實(shí)施的簡(jiǎn)單、線性操作中建造內(nèi)插器。
路徑1-通過外插的交叉點(diǎn)參照?qǐng)D21，該路徑在考慮線2110之間的交叉的情況下使用相鄰線片段(A[1]-A[2])，(A[3]-A[4])的擴(kuò)展，從而第一條線用于交叉點(diǎn)左邊的樣本而第二條線用于交叉點(diǎn)右邊的樣本。區(qū)域樣本的標(biāo)度范圍從0到1，1表示完全覆蓋區(qū)域樣本，0表示完全空樣本。由值1和0來限制外插線，從而外插不會(huì)產(chǎn)生大于1或者小于0的值。
數(shù)學(xué)表示是基于兩條外插線的平行推導(dǎo)AP(n)＝max(0，min(1，((A[2]-A[1])*(n)+A[2])).
AQ(n)＝max(0，min(1，(A[4]-A[3])*(1-n)+A[3])).
注意，在兩條線之間的交叉并不是必須存在的。對(duì)于存在的簡(jiǎn)單測(cè)試是對(duì)于n＝0和n＝1外插AP和AQ，并且將它們與A[2]和A[3]分別進(jìn)行比較，并且測(cè)試符號(hào)是否匹配。如果它們匹配，則外插的線不相交。
令Delta[m]為樣本值和外插值之間的差Delta[2]＝AP(1)-A[3]Delta[3]＝AQ(0)-A[2]如果Delta[2]和Delta[3]相等，則交叉不存在，并且不應(yīng)用路徑。
對(duì)于AP和AQ的選擇存在兩種不同的情況Delta[2]＜0或者Delta[3]＜0，其中A(n)＝max(AP(n)，AQ(n))。
Delta[2]＞0或者Delta[3]＞0，其中A(n)＝min(AP(n)，AQ(n))。
路徑2-直接線性內(nèi)插由圖22示出的這種路徑使用應(yīng)用于中心樣本對(duì)的直接兩點(diǎn)內(nèi)插。數(shù)學(xué)表示為AL(n)＝A[2](1-n)+A[3](n)。
路徑3-在兩個(gè)外插之間的加權(quán)內(nèi)插由圖23所示出的這種方法使用與情況1中相同的外插(在限制到1和0之后)。對(duì)兩個(gè)外插進(jìn)行加權(quán)從而左外插在點(diǎn)A[2]占支配地位而右內(nèi)插在點(diǎn)A[3]占支配地位。數(shù)學(xué)表示為AW(n)＝AP(n)*(1-n)+AQ(n)*(n)，其中AP和AQ與路徑1中的表示相同。
路徑4-路徑2和路徑3之間的加權(quán)路徑2(內(nèi)插)和3(外插之間的加權(quán))之間的加權(quán)2410在某些情況中給出稍好的結(jié)果。數(shù)學(xué)表述為A(n)＝AW(n)/2+AL(n)/2。見圖24。
選擇不同路徑何時(shí)最好有不同的路徑？對(duì)于在分離曼哈頓線的區(qū)域樣本斜坡的邊處的樣本點(diǎn)最好是路徑1。其在這種情況中產(chǎn)生零重構(gòu)誤差。當(dāng)外圍樣本對(duì)的導(dǎo)數(shù)確切為1時(shí)觸發(fā)路徑1，其對(duì)于曼哈頓線的區(qū)域樣本圖像非常重要。當(dāng)外圍樣本對(duì)的導(dǎo)數(shù)的符號(hào)不同時(shí)也使用路徑1，表示“峰值”而不是任何平坦等級(jí)。在例如非常窄的元素和非曼哈頓拐角處發(fā)生這種情況。
路徑2直接位于分離的曼哈頓線的區(qū)域樣本斜坡處的樣本點(diǎn)處是有益的。其在這種情況中產(chǎn)生零重構(gòu)。當(dāng)中心樣本對(duì)的導(dǎo)數(shù)確切為1時(shí)觸發(fā)路徑2，其對(duì)于曼哈頓線的區(qū)域樣本圖像非常重要。
在不同與路徑1和路徑2的其他情況中使用路徑3，其中中心樣本對(duì)的導(dǎo)數(shù)小于1并且外圍樣本對(duì)的導(dǎo)數(shù)相等。
進(jìn)一步的考慮每個(gè)重構(gòu)器使用多次相乘。當(dāng)基數(shù)(base)是外插時(shí)，使用兩次相乘；當(dāng)基數(shù)是內(nèi)插時(shí)，使用一次相乘。在甚至需要對(duì)更多的相乘資源進(jìn)行加權(quán)的情況中，為了分段線性化可以更加有效，將相乘工作減少到較少數(shù)量。
細(xì)分到較小線段如果內(nèi)插相乘的總數(shù)耗盡計(jì)算資源，則可以將曲線細(xì)分為分段線性片段。人們可以使用簡(jiǎn)單內(nèi)插點(diǎn)(0，1/4，2/4，3/4和4/4)來得出用于一個(gè)高分辨率、真實(shí)內(nèi)插的端點(diǎn)。因?yàn)閮H僅將兩個(gè)二進(jìn)制數(shù)字用于系數(shù)，所以這些簡(jiǎn)單內(nèi)插點(diǎn)產(chǎn)生帶有僅僅兩個(gè)元素的加法器樹。
將重構(gòu)器擴(kuò)展到兩維可以將1維重構(gòu)器擴(kuò)展到兩維，如圖25A-B所示。首先使用每個(gè)為2511-2514的四個(gè)樣本的四個(gè)樣本集在X方向中進(jìn)行內(nèi)插。這產(chǎn)生在Y中對(duì)準(zhǔn)的四個(gè)新重構(gòu)的樣本，如圖25A所示。然后使用新的四個(gè)樣本在Y方向(圖25B)中進(jìn)行內(nèi)插以產(chǎn)生所尋找的樣本2550。由于用于路徑選擇的規(guī)則應(yīng)用于任何網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的線，所以這對(duì)于曼哈頓方位的特征邊緣產(chǎn)生良好、甚至是完美的結(jié)果。
進(jìn)一步過程的描述這部分說明將在下面呈現(xiàn)的、在RID架構(gòu)的不同功能塊中涉及的過程。
區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生區(qū)域采樣的概念描述再次，區(qū)域樣本就是由幾何矢量描述器所限定的兩等級(jí)高分辨率圖案圖像所限定的源圖像的正方形區(qū)域上進(jìn)行積分而得來的圖像樣本值?？梢詮母拍钌蠈⒃搮^(qū)域采樣過程細(xì)分為這樣的過程用積分函數(shù)對(duì)源圖像進(jìn)行卷積并且在離散采樣點(diǎn)處對(duì)這個(gè)每個(gè)位置都限定的卷積的圖像進(jìn)行采樣。在實(shí)際中，不容易實(shí)施每個(gè)位置都限定的卷積的圖像，也不容易實(shí)施由矢量所限定的表面的積分，而且由于實(shí)際的原因，通過對(duì)描繪處理器所產(chǎn)生的微像素分辨率圖像進(jìn)行聚合和超級(jí)采樣，來產(chǎn)生區(qū)域樣本作為對(duì)上述積分的估計(jì)。
通過聚合和超級(jí)采樣產(chǎn)生區(qū)域樣本圖像用不同目的的不同分辨率來產(chǎn)生AP框架中的區(qū)域樣本圖像。將該分辨率定義為節(jié)距和卷積區(qū)域2610的組合的參數(shù)化，如圖26所示。如果節(jié)距小于卷積區(qū)域尺寸，則區(qū)域樣本重疊，其是重采樣過程的重要特性。節(jié)距表示區(qū)域樣本中心點(diǎn)之間的距離。卷積區(qū)域表示在其上基本源圖像被積分的卷積區(qū)域。
通過對(duì)較小區(qū)域樣本進(jìn)行聚合和超級(jí)采樣(在這種情況中，進(jìn)行合計(jì))，可以產(chǎn)生帶有密集節(jié)距的較大區(qū)域樣本和重疊樣本。根據(jù)大區(qū)域是區(qū)域的奇數(shù)還是偶數(shù)倍，聚合的樣本的中心點(diǎn)對(duì)于較小樣本的中心具有不同的關(guān)系。在圖27A-27B中圖解了偶數(shù)和奇數(shù)超級(jí)采樣和聚合。在圖27A中，超級(jí)采樣將四個(gè)四分之一像素區(qū)域組合到單個(gè)樣本中；圖解了五個(gè)樣本和它們的中心2710。在圖27B中，超級(jí)采樣將九個(gè)四分之一像素區(qū)域組合為單個(gè)樣本；圖解了四個(gè)樣本和它們的中心2720。
各向同性和各向異性尺寸偏移有時(shí)將尺寸偏移用作各向同性偏移和各向異性偏移的總稱。在一個(gè)實(shí)施方式中，各向同性偏移(也稱為CD偏移)是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的、用戶定義的、空間和時(shí)間變化的參數(shù)。各向異性是非對(duì)稱的和根據(jù)角度的、從基礎(chǔ)機(jī)器性質(zhì)中得出的并且時(shí)間和空間不變的。在對(duì)點(diǎn)位移進(jìn)行采樣的情況中，這兩種偏移的聚合效應(yīng)的一種實(shí)施方式包括將偏移矢量分為分量，將每個(gè)分量與從形式為(aib(edge_angle)，cdb}的各向異性偏移函數(shù)(aid)表和CD偏移(cdb)值參數(shù)中得出的因數(shù)相乘。aid表提供邊緣方位和偏移位移矢量的各向異性分量之間的歸納化的依賴關(guān)系。偏移幅度cdb給出偏移的幅度，其由尺寸偏移拐角矢量(CDB)而被更加完整地表示。
尺寸偏移樣本點(diǎn)位移采樣點(diǎn)位移的描述使用兩個(gè)不同矢量表示，如圖28所示。從圖案強(qiáng)度表面得出偏移矢量(sx，sy)。該偏移矢量表示名義位移矢量方向并且被從概念上標(biāo)準(zhǔn)化為單位長(zhǎng)度|l|，但是可以將其改為品質(zhì)因數(shù)(figure-of-merit)的平均實(shí)現(xiàn)。樣本位移矢量(dx，dy)表示與偏移值集合(aid，cdb)和偏移矢量對(duì)應(yīng)的樣本點(diǎn)位移。
注意，在通常情況中定尺寸矢量和偏移位移可以具有不同方向。在圖示中強(qiáng)調(diào)了這種情況。在具體實(shí)施方式
中，可以將樣本位移矢量的名義方向與偏移矢量對(duì)準(zhǔn)，但是數(shù)值舍入的影響可能導(dǎo)致方向稍稍不同。
各向異性偏移函數(shù)以其一般化的形式，將各向異性偏移函數(shù)定義為偏移矢量的方位的函數(shù)，(α)。
α＝arctan(sy/sx)(sy＞0，sx＞0)由各向異性偏移圖定義函數(shù)aib_a(α)，隨后由被細(xì)分的n個(gè)值的集合對(duì)其進(jìn)行定義，從而對(duì)于角α＝(0，90°+1/(n-1)，90°·2/(n-1)…，90°·(n-1)/(n-1)}定義aib_a(α)。僅僅通過圖對(duì)一個(gè)象限進(jìn)行定義，并且在每個(gè)軸附近對(duì)各向異性偏移函數(shù)進(jìn)行對(duì)稱的鏡像，從而aib_a(α)＝aib_a(α)aib_a(α)＝aib_a(180°-α)在實(shí)際實(shí)施中，可以將該函數(shù)也定義為sy/sx直接引用的函數(shù)；如果aib_a表示角相關(guān)函數(shù)并且aib_a表示引用相關(guān)函數(shù)，則有下面關(guān)系aib_q(sy/sx)＝aib_a(arctan(sy/sx))dx=sx·(cdb2+aib_q(sy/sx)2)]]>dy=sy·(cdb2+aib_q(sy/sx)2)]]>實(shí)際aib_a分布是零和一階連續(xù)的2910，但是可以將AI圖值之間的線性內(nèi)插重構(gòu)2920用作參考，如圖29所示。
aib_a()或者aib_q()函數(shù)的實(shí)際實(shí)施方式可以使用跟隨有最近鄰居重構(gòu)方法的AI函數(shù)的重采樣，如圖30所示。在下面圖c)中的重采樣點(diǎn)不需要等角。
偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生偏移矢量場(chǎng)影響其中應(yīng)該將樣本點(diǎn)進(jìn)行位移的方向，以產(chǎn)生尺寸偏移凈效應(yīng)。在大多數(shù)情況中，偏移矢量場(chǎng)對(duì)于源圖案中的邊緣的延伸垂直或者接近垂直。
可以考慮這種抽象的多個(gè)實(shí)施方式，但是現(xiàn)在最受喜愛的方法是對(duì)用大型卷積區(qū)域大小上的積分所得出的區(qū)域樣本強(qiáng)度表面的梯度進(jìn)行分析。這種策略產(chǎn)生提升健壯性的低通濾波器效應(yīng)，以及擴(kuò)展場(chǎng)的范圍。
應(yīng)該對(duì)樣本點(diǎn)位移器所使用的偏移矢量場(chǎng)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化，從而不選擇從梯度產(chǎn)生方法中演變來的幅度變化。這意味著在其不為零的每個(gè)點(diǎn)處偏移矢量場(chǎng)具有幅度1。這使得偏移矢量場(chǎng)零階不連續(xù)，從而引起特別注意。
不能將偏移矢量場(chǎng)和影響樣本點(diǎn)位移的幅度的偏移幅度場(chǎng)混淆。偏移矢量場(chǎng)影響樣本點(diǎn)位移的方向。
經(jīng)改變的偏移矢量幅度在方向信心或者網(wǎng)格一致性低的區(qū)域中可以將偏移矢量幅度(通常被標(biāo)準(zhǔn)化到單位矢量長(zhǎng)度)進(jìn)行衰減。這將促使導(dǎo)致接近零梯度的圖像情況的完美降級(jí)。
此外，可以增加定尺寸矢量幅度以在拐角處和拐角附近或者短半徑曲線處實(shí)現(xiàn)較大位移。在區(qū)域圖像位移框架的一個(gè)實(shí)施方式中，將偏移矢量幅度標(biāo)準(zhǔn)化到單位長(zhǎng)度，并且不使用用于使用這種機(jī)構(gòu)來促進(jìn)完美降級(jí)的可能性。
從拐角提取中產(chǎn)生偏移矢量產(chǎn)生偏移矢量的替代方法是使用拐角提取的結(jié)果以在每個(gè)拐角點(diǎn)附近創(chuàng)建本地偏移矢量場(chǎng)。這么做的原因是通過源圖像強(qiáng)度表面的二階導(dǎo)數(shù)來影響拐角附加的偏移矢量場(chǎng)的重構(gòu)。這種影響導(dǎo)致源圖像的固有數(shù)字化噪聲被在拐角處或靠近拐角的地方所經(jīng)歷的非線性變換特性放大。通過使用拐角的開口角估計(jì)、方位、位置和拐角提取過程的噪聲濾波特性，可以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生更加噪聲不敏感的偏移矢量。在一種實(shí)施方式中，可以由源強(qiáng)度表面梯度估計(jì)來產(chǎn)生偏移矢量場(chǎng)。
用于確定S場(chǎng)的模型在幾何域中進(jìn)行定尺寸的理想化模型(在對(duì)稱的增長(zhǎng)尺寸的情況中)進(jìn)行定尺寸的理想化效應(yīng)是在它們垂直的方向中移動(dòng)原始矢量，如圖42A-42B所示。在圖42A中圖解了從拐角產(chǎn)生的等級(jí)別輪廓，而在圖42B中圖解了理想化的矢量定尺寸結(jié)果。
將定尺寸矢量理解為區(qū)域卷積表面的梯度在處于每個(gè)獨(dú)立樣本點(diǎn)的原始、非偏移位置的區(qū)域卷積表面的梯度中得出這種模型，如圖43A-43B所示。將該梯度標(biāo)準(zhǔn)化從而|S|＝1。
由于在拐角中可以被看到的梯度矢量場(chǎng)的發(fā)散，方向根據(jù)與拐角的相對(duì)位置而變化。圖43A-43B圖解了梯度矢量場(chǎng)的形狀，并且圖解了如果用這樣的矢量移動(dòng)了樣本點(diǎn)則等效幾何域輪廓是什么。由于梯度矢量場(chǎng)的發(fā)散，所以所產(chǎn)生的輪廓將根據(jù)不同CD值而不同。
將定尺寸矢量理解為與等級(jí)別輪廓垂直從在垂直方向中擴(kuò)展到矢量場(chǎng)的等級(jí)別輪廓的垂直方向中得出這種模型，如圖44A-B所示。對(duì)該場(chǎng)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化，從而|S|＝1。
在這種情況中，不存在拐角中所看到的矢量場(chǎng)的發(fā)散，并且對(duì)于矢量場(chǎng)(其不與拐角同意義)的焦點(diǎn)的相對(duì)位置該方向是恒定的。圖44A-B圖解了梯度矢量場(chǎng)的形狀，并且圖解了如果用這樣的矢量移動(dòng)樣本點(diǎn)則等效幾何域輪廓將會(huì)是什么情況。所產(chǎn)生的輪廓將對(duì)于不同CD值相同。
從拐角等分線(bisectrice)延伸和對(duì)準(zhǔn)的定尺寸矢量從不同拐角位置的分類和該拐角的等分線角中得出這種模型，如圖45A-B所示。將該等分線矢量延伸到以拐角附近為中心的長(zhǎng)菱形的輪廓，并且對(duì)矢量場(chǎng)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化從而|S|等于2的平方根。
這(據(jù)說至少)給出這樣的結(jié)果，其確切地模仿理想化的矢量位移的結(jié)果。
等分線理解和梯度的加權(quán)合成使用等分線矢量和梯度矢量場(chǎng)，從上述兩種方法的組合中得出這種模型，如圖46A-B所示。應(yīng)該選擇加權(quán)函數(shù)使得從梯度到等分線的平移是平滑的。
這可以給出這樣的結(jié)果根據(jù)加權(quán)函數(shù)模仿理想化的矢量位移的結(jié)果。
與偏移范圍成比例的S場(chǎng)的擴(kuò)展為了能夠模仿理想化的矢量偏移模型的行為，S場(chǎng)需要在與A表面的斜坡的延伸加上偏移的范圍對(duì)應(yīng)的范圍內(nèi)擴(kuò)展。至少已經(jīng)找到了兩種實(shí)現(xiàn)該目的的方法使用點(diǎn)層面(point-wise)的形態(tài)學(xué)搜索函數(shù)為了引入離散樣本空間中的搜索函數(shù)，其對(duì)區(qū)域進(jìn)行搜索以尋找梯度的發(fā)生，并且將所找到的梯度復(fù)制到該搜索從其擴(kuò)展的點(diǎn)?？梢詫⒋丝醋鹘?jīng)典二進(jìn)制形態(tài)學(xué)的擴(kuò)展，但是附加有不僅復(fù)制所搜索的點(diǎn)的標(biāo)量值，而且還有矢量值。
從較大區(qū)域樣本場(chǎng)中得出梯度擴(kuò)展S場(chǎng)以匹配于所期望的搜索范圍的另一種方法是從帶有較大區(qū)域卷積擴(kuò)展的區(qū)域樣本域中得出S場(chǎng)。例如，如果用8×8微像素區(qū)域采樣來對(duì)用于調(diào)制的區(qū)域樣本圖像進(jìn)行采樣，則來自12×12微像素采樣的區(qū)域樣本場(chǎng)將具有擴(kuò)展的更長(zhǎng)的梯度場(chǎng)。
拐角半徑控制上述方法通常擴(kuò)展或者減少拐角處特征，包括因?yàn)橛镁哂懈咚狗植嫉墓馐a(chǎn)生尖銳的拐角處而產(chǎn)生的不期望的半徑。從數(shù)學(xué)上說，可以期望對(duì)拐角處特征進(jìn)行重定尺寸會(huì)重定拐角半徑的尺寸。雖然對(duì)拐角重定尺寸，但是一些用戶希望半徑不變。為了控制拐角半徑或者拐角處幾何的其他特征，需要附加的步驟。下面描述替代的方法。一種涉及到在拐角處超級(jí)強(qiáng)加(superimposing)特征，如由本發(fā)明的一些發(fā)明者署名的在先專利中所述的。其他的涉及應(yīng)用拐角修正偏移。
總體上說，通過以兩種方法產(chǎn)生重定尺寸的特征并且比較該結(jié)果，為鄰居關(guān)系計(jì)算拐角修正偏移。在矢量域中執(zhí)行一種重定尺寸，然后進(jìn)行光柵化。重定尺寸以光柵化開始，然后在光柵域中應(yīng)用重定尺寸。拐角修正偏移是兩者之間的差異。也就是，添加到在光柵域中所執(zhí)行的重定尺寸的拐角修正偏移，對(duì)光柵化之前當(dāng)在矢量域中對(duì)特征重定尺寸時(shí)所產(chǎn)生的強(qiáng)度值進(jìn)行復(fù)制。
從概念上，通過將區(qū)域中的拐角位置匹配到較大拐角修正偏移鄰域關(guān)系中來應(yīng)用拐角修正偏移。假設(shè)拐角處在120×120微米區(qū)域中的某處，則用近鄰的中心中的拐角處點(diǎn)，可以使用240×240微米的拐角修正偏移近鄰。將其原始區(qū)域內(nèi)的拐角位置和方位進(jìn)行確定并且適配到修正數(shù)據(jù)中?，F(xiàn)實(shí)地說，更快的替代方法是確定各種拐角位置和方位并且使用它們作為對(duì)包括部分較大拐角修正偏移近鄰的表的索引。然后，可以有效地應(yīng)用偏移數(shù)據(jù)。
產(chǎn)生偏移矢量的一種方法是使用拐角提取的結(jié)果來創(chuàng)建每個(gè)拐角處點(diǎn)周圍的本地偏移矢量場(chǎng)。這么做的原因是源圖像強(qiáng)度表面的二階導(dǎo)數(shù)影響拐角處周圍的偏移矢量場(chǎng)的重構(gòu)。這種影響導(dǎo)致源圖像的固有數(shù)字化噪聲被拐角處和拐角附近所經(jīng)歷的非線性變換特征所放大。通過使用拐角的開口角估計(jì)、方位、位置和拐角提取過程的噪聲濾波特性，可以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生更加噪聲不敏感的偏移矢量。
拐角增強(qiáng)通過圖47所示的系列操作來實(shí)現(xiàn)拐角增強(qiáng)，范圍從源圖像中的拐角處的映射到改變輸出圖像。在下面的描述中，因此使用術(shù)語(yǔ)“拐角”來描述“拐角點(diǎn)”，也就是帶有無限小空間擴(kuò)展的點(diǎn)，其表示基本源圖案的兩條直線片段的交叉部分。
在拐角增強(qiáng)過程中的中心元素是拐角描述器，其表示拐角處點(diǎn)的位置和性質(zhì)。可以將拐角描述器集到拐角列表中，以表示較大的表面。拐角描述器具有下面屬性屬性 描述坐標(biāo)X 定義為線片段交叉點(diǎn)的X軸坐標(biāo)坐標(biāo)Y 定義為線片段交叉點(diǎn)的Y軸坐標(biāo)開口角定義為用較高強(qiáng)度在扇區(qū)上測(cè)量的線片段之間的角。因此如果γ是對(duì)應(yīng)‘外’拐角處開口角，則‘內(nèi)’拐角具有360°-γ的開口角，方位角定義為拐角的二等分線的方位，二等分線是交叉在兩個(gè)相同的對(duì)分部分中分割拐角的開口角的交叉點(diǎn)的第三條線。
品質(zhì)因數(shù) 定義為范圍從0％到100％的值，描述拐角報(bào)告的有效性，其中0％是完全無效的報(bào)告而100％是帶有100％有效性的報(bào)告拐角提取拐角提取是用于產(chǎn)生合格的拐角列表4725的過程的總體術(shù)語(yǔ)。在合格的拐角列表是帶有有效拐角的拐角列表，而沒有復(fù)制或者錯(cuò)誤發(fā)生，每個(gè)都帶有品質(zhì)因數(shù)評(píng)級(jí)和位置估計(jì)、開口角和方位。將抽象拐角提取用于捆綁四種過程拐角檢測(cè)4711、拐角區(qū)分4712、拐角估計(jì)4713、和拐角評(píng)級(jí)4714。這種捆綁表明拐角提取過程不需要一定包括檢測(cè)器、區(qū)分器和評(píng)級(jí)器。
這里所描述并且由圖48所示出的拐角提取器基于以搜索點(diǎn)4812附近為中心的封閉區(qū)域內(nèi)拐角搜索的概念，使用上下文區(qū)4822在特定目標(biāo)區(qū)4821內(nèi)找到和估計(jì)拐角4811、4831、4832。
由指導(dǎo)實(shí)施和性能等級(jí)的一組性質(zhì)對(duì)拐角提取進(jìn)行定性。它們是搜索點(diǎn)分辨率，其就是搜索點(diǎn)操作之間的節(jié)距。目標(biāo)區(qū)域，就是在其內(nèi)檢測(cè)拐角的、在搜索點(diǎn)附近的區(qū)域。上下文區(qū)域，就是被進(jìn)行評(píng)估以找到目標(biāo)范圍中的拐角的區(qū)域。上下文分辨率，就是其中對(duì)上下文區(qū)域進(jìn)行解析的空間分辨率。以及，上下文精度，就是用其來表示上下文的動(dòng)態(tài)分辨率。這些拐角提取器特性是相關(guān)的。搜索點(diǎn)分辨率和目標(biāo)范圍必須相關(guān)，從而覆蓋所有位置以確保覆蓋范圍。目標(biāo)范圍可以重疊，上下文范圍也可以重疊。用于上下文范圍選擇的一個(gè)條件是防止復(fù)雜圖案情況處或者復(fù)雜圖案情況的附近的拐角提取過程的降級(jí)。這種情況的例子是在上下文范圍內(nèi)發(fā)生相同路徑的其他拐角或者其他路徑的時(shí)候。
圖49圖解了相鄰路徑4933、4934或者拐角4935如何對(duì)拐角提取過程進(jìn)行混淆。在這些情況中的不確定性可以產(chǎn)生兩種效應(yīng)完全不能檢測(cè)拐角，或者以對(duì)位置、方位或者開口角的錯(cuò)誤估計(jì)檢測(cè)拐角。由于其固有的非線性行為，所以第一種效應(yīng)經(jīng)歷來自數(shù)字化誤差的網(wǎng)格變形。這導(dǎo)致下降的網(wǎng)格一致性，其中根據(jù)網(wǎng)格位置，可能檢測(cè)或者可能沒有檢測(cè)特定的拐角。可以增加架構(gòu)以犧牲準(zhǔn)確性和空間分辨率為代價(jià)來抵消這些負(fù)面效應(yīng)。
因此，最好將上下文區(qū)域4822的范圍最小化。由于(在恒定分辨率下)對(duì)于檢測(cè)和估計(jì)可用的信息更少，因此減小了結(jié)果的精確度。當(dāng)然，上下文區(qū)域4822不會(huì)小于目標(biāo)區(qū)域4821。上下文精確度和上下文分辨率確定結(jié)果的精確度。這兩個(gè)特性通過使用不同比例尺空間等級(jí)是可以互換的，增加分辨率與降低精確度對(duì)應(yīng)。
拐角檢測(cè)拐角檢測(cè)是從一個(gè)或多個(gè)源圖像4721導(dǎo)數(shù)的估計(jì)中產(chǎn)生拐角候選者列表4722的過程。源圖像導(dǎo)數(shù)可以包括多個(gè)比例尺空間采樣、多個(gè)卷積和被定有閾值的圖像?？梢栽谝粋€(gè)目標(biāo)區(qū)域上平行地操作多于一個(gè)的檢測(cè)過程4711。
拐角檢測(cè)器4711可以專門用于開口角和方位的特別間隔，在其中的每種情況中所報(bào)告的拐角隱含地定義了這些角的間隔。由于位置限于目標(biāo)區(qū)域所以拐角檢測(cè)器隱含地報(bào)告粗略位置估計(jì)。預(yù)見所有拐角檢測(cè)器都具有一種行為，從而總是報(bào)告特定方位和開口排列，對(duì)一些方位和排列完全不報(bào)告，而根據(jù)網(wǎng)格位置曝光或者不曝光一些方位和排列。
有許多方式來實(shí)施在強(qiáng)度表面中的拐角檢測(cè)。區(qū)域圖像位移框架可以使用強(qiáng)度表面等級(jí)別曲線交叉圖案匹配和/或強(qiáng)度表面導(dǎo)數(shù)零交叉圖案匹配。拐角檢測(cè)并不限于這些方法，并且框架的實(shí)施方式可以從其他檢測(cè)方法中受益，也就是它們可以使用零星采樣的強(qiáng)度表面作為輸入，產(chǎn)生拐角點(diǎn)或者拐角點(diǎn)候選者的列表。
強(qiáng)度表面等級(jí)別曲線交叉圖案匹配在圖50中所示出的方法基于存在有多條搜索路徑5021、5031，其可以是閉合或者開口的，強(qiáng)度表面值5013的變形沿著其而被定性5141-42、5151-52并且被相關(guān)5022-23、5032-33。實(shí)際實(shí)施方式可以從根號(hào)(radical)近似中受益。在圖51中所示出的一個(gè)這種近似用于用與樣本網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的正方形路徑5121、5131來代替路徑w1和w2。另一種近似是將導(dǎo)數(shù)符號(hào)變化5152和最大值5142的特征實(shí)現(xiàn)為在強(qiáng)度表面值中識(shí)別從‘1’到‘0’的轉(zhuǎn)換。
強(qiáng)度表面導(dǎo)數(shù)零交叉圖案匹配在圖52中示出的這種方法使用根據(jù)使用與梯度的方向?qū)?zhǔn)的坐標(biāo)系統(tǒng)對(duì)一階和二階導(dǎo)數(shù)進(jìn)行分析的曲率的數(shù)學(xué)定義。因此該方法僅僅在梯度不為零的點(diǎn)處才有效。
未改進(jìn)形式的該方法預(yù)先假設(shè)沿著通常情況下不與樣本網(wǎng)格對(duì)準(zhǔn)的坐標(biāo)系統(tǒng)執(zhí)行偏微分的方法。這使得未改進(jìn)形式的該方法除了用于與軸對(duì)準(zhǔn)的拐角方位以外，很少有別的用。
拐角區(qū)分拐角區(qū)分4712是消除復(fù)制或者不注意報(bào)告的拐角的過程。結(jié)果是清潔過的拐角列表4723。如果拐角檢測(cè)器陣列具有報(bào)表多個(gè)或者錯(cuò)誤拐角的趨勢(shì)，這才是必須的。這就是當(dāng)拐角檢測(cè)器的目標(biāo)區(qū)域重疊時(shí)、或者如果數(shù)字化噪聲影響使得在多個(gè)位置滿足拐角檢測(cè)條件的情況。
必須將區(qū)分的規(guī)則進(jìn)行修改以匹配檢測(cè)器。區(qū)分準(zhǔn)則的例子是拓?fù)渖喜豢赡艿墓战菆?bào)告，諸如類似方位對(duì)準(zhǔn)的兩個(gè)拐角以便會(huì)要求不可能的突然轉(zhuǎn)彎以描述連接路徑?？梢詮膮^(qū)域樣本圖像的空間頻率內(nèi)容中得出對(duì)不可能性的定義。
拐角估計(jì)拐角估計(jì)4713是對(duì)諸如來自拐角檢測(cè)過程所產(chǎn)生的數(shù)據(jù)的位置、方位和角之類的拐角屬性進(jìn)行估計(jì)的過程。在使用位于預(yù)測(cè)的邊緣附近的圖像數(shù)據(jù)時(shí)，擴(kuò)展對(duì)于拐角估計(jì)是有用的。可以將這種篩選看作上下文區(qū)域的適應(yīng)(圖53中的5311、5312)，排除了對(duì)于篩選操作不相關(guān)的區(qū)域部分。
拐角評(píng)級(jí)拐角評(píng)級(jí)4717是當(dāng)拓?fù)鋸?fù)雜性上升并且基于不確定拐角報(bào)告的完全拐角增強(qiáng)會(huì)導(dǎo)致異常或者變壞的圖案保真度時(shí)，對(duì)拐角進(jìn)行下評(píng)級(jí)從而實(shí)現(xiàn)拐角增強(qiáng)的平滑降級(jí)的過程。這種降級(jí)還通過對(duì)依賴于網(wǎng)格的數(shù)字化噪聲的影響進(jìn)行限制來促進(jìn)更好的網(wǎng)格一致性。在0到1的范圍上對(duì)拐角進(jìn)行評(píng)級(jí)，其中1代表其中應(yīng)用完全拐角增強(qiáng)的分離拐角，而0代表被完全降級(jí)的拐角，從而實(shí)際上將其當(dāng)作非拐角對(duì)待。
識(shí)別三種不同類型的拓?fù)鋸?fù)雜度拐角到拐角縫隙干擾5413，其發(fā)生在屬于不同拓?fù)渎窂讲⑶冶舜朔浅＝咏膬蓚€(gè)拐角干擾時(shí)。拐角到邊緣縫隙干擾5414，其發(fā)生在拐角與不同拓?fù)渎窂降倪吘壐蓴_時(shí)。以及曲線近似5412，其發(fā)生在某個(gè)的兩個(gè)拐角和相同的拓?fù)渎窂椒浅＝咏鼜亩诳臻g(aerial)圖像中的結(jié)果更接近曲線而不是兩個(gè)不同拐角之間的線段時(shí)。
由拐角評(píng)級(jí)處理曲線近似5412情況是最好的，而拐角到拐角縫隙干擾5413可以由另一種機(jī)構(gòu)更好地處理。
拐角評(píng)級(jí)過程可以從與被提出用于拐角估計(jì)類似的所采用的上下文區(qū)域中獲益。
拐角位移拐角位移4715是根據(jù)偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器所報(bào)告的偏移幅度4701和各向異性偏移圖，在拐角列表中改變?cè)氐墓战亲鴺?biāo)的過程?？梢詫⑽灰票硎緸楣战亲鴺?biāo)上疊加的拐角位移矢量。幅度與偏移幅度成比例，但不必相等。幅度還受各向異性偏移圖的影響。方向與拐角方位成比例，但不必相等。方向也受各向異性偏移圖的影響。
偏移幅度、各向異性偏移圖和拐角位移矢量之間的關(guān)系依賴于物理行為的確切定義，其可以隨著時(shí)間而變化(實(shí)際行為或者其定義)。因此在架構(gòu)中引入對(duì)這些關(guān)系的歸納。
下面定義應(yīng)用于歸納的位移拐角位移函數(shù)術(shù)語(yǔ)定義拐角處方位[α] 由提取過程所報(bào)告的拐角等分線的方位拐角開口角[γ] 由提取過程所報(bào)告的拐角的開口角邊緣垂直方位[β]與拐角每個(gè)邊的邊緣垂直的方位各向異性偏移函數(shù)在偏移位移矢量的各向異性分量和邊緣方位之間[aib(β)] 的歸納的依賴性偏移幅度[cdb] 在拐角坐標(biāo)的位置中采樣的各向同性偏移的幅度尺寸偏移拐角位移矢用于聚合尺寸偏移的拐角位移矢量(各向異性和量[CDB]CD的組合)各向異性偏移拐角 用于各向異性偏移的拐角偏置矢量[CAI]CD偏移拐角位移矢 用于CD偏移的拐角位移矢量量[CCD]在圖55中所示出的拐角位移矢量CDB依賴于拐角方位α、拐角開口角γ1、CD偏移幅度cdb和兩個(gè)各向異性偏移幅度aib(β)。
(cdb)是尺寸量度而(aib)是相對(duì)尺寸量度。它們根據(jù)下面關(guān)系與邊緣位移量度(cdb′)和(aib′)相關(guān)cdb′＝cdb/2aib′(β)=aib(β)4]]>從圖55中，我們可以看見β角直接依賴于α和γi，但是不依賴于cdb和aib(β)。拐角5511的包圍區(qū)域由邊緣5512進(jìn)行界定，并且可以被二等分5513。在幾何結(jié)構(gòu)中使用網(wǎng)格軸和邊緣之間的二等分線和角度。
β1＝α+γ/2-90°β2＝α-γ/2+90°可以根據(jù)圖56A-56B來分解對(duì)尺寸偏移拐角位移矢量CDB產(chǎn)生作用的聚合分布。
CDB＝CAI+CCD分解的目的是將聚合操作分為帶有較少變量的子部分。因?yàn)閹в休^少變量的函數(shù)使得它們自己容易被近似，所以從實(shí)施的角度來說這種分解是有用的。
可以從α和γ值以及cdb′中得出各向同性CD偏移分量CCDC‾CD=(x^·cos(α)+y^·sin(α))·(cdb′cos(γ/2))]]>可以使用圖57中所示的關(guān)系從α和γ值以及aib′()函數(shù)中得出各向異性偏移分量。通過對(duì)垂直于各向異性邊緣位移矢量的兩個(gè)矢量之間的交叉點(diǎn)進(jìn)行計(jì)算、并且用α和γ角代替β角來導(dǎo)出各向異性偏移分量CAI。
當(dāng)把聚合CDB矢量作為α和γ的兩個(gè)歸納函數(shù)時(shí)，可以將對(duì)用于各向同性和各項(xiàng)異性偏移函數(shù)的上述表述進(jìn)行的有用和可調(diào)整歸納公式化?？梢詫⒆鳛榭臻g和時(shí)間不變的aib()函數(shù)看作在歸納化的函數(shù)之一中固有的。
CCD＝cdb·FCD(γ，α)CAI＝FAI(γ，α)CDB＝cdb·FCD(γ，α)+FAI(γ，α)憑借用于CDB的有限的精確度要求以及α和γ的有限分辨率，可以用離散值之間的簡(jiǎn)單內(nèi)插來實(shí)施函數(shù)FCD和FAI(在最接近鄰居內(nèi)插的最簡(jiǎn)單情況中)。為了幫助對(duì)這些函數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)以匹配變化的物理模型，F(xiàn)函數(shù)的數(shù)學(xué)表示可以變化并且不允許從基礎(chǔ)上影響實(shí)施架構(gòu)。
拐角上下文映射上下文映射提供用于確定對(duì)多個(gè)偽特征之間和偽特征與圖案邊緣之間的干擾進(jìn)行分析的拐角近鄰的手段。
可以用三步來分解上下文映射過程從樣本點(diǎn)坐標(biāo)的位置中選擇交叉的相關(guān)近鄰。包括可能影響輸出樣本的所有拐角對(duì)象。然后，根據(jù)影響估計(jì)在該近鄰中對(duì)元素進(jìn)行排序。這種影響估計(jì)可以是Euclidian距離，可以潛在地與方位組合。而且，對(duì)除了(n)最接近或者高影響之外的所有元素進(jìn)行區(qū)分。上下文映射過程的結(jié)果是拐角集合的流，每個(gè)拐角集合是分離的上下文映射的結(jié)果，以短拐角列表表示。如果在過程步驟(1)之后沒有剩下拐角，則可以設(shè)想拐角集合為空。沒有任何集合會(huì)具有(n)各以上的元素。
產(chǎn)生拐角偏移表拐角偏移調(diào)節(jié)(CBT)使用來自拐角提取器的拐角信息，然后使用與拐角增強(qiáng)疊加類似的機(jī)構(gòu)來改變靠近拐角的像素?cái)?shù)據(jù)。通過計(jì)算帶有用IFR所獲得的曼哈頓外拐角的密度采樣圖像、與用在矢量域中對(duì)數(shù)據(jù)重定尺寸然后將其光柵化的Matlab程序所獲得的密度采樣圖像之間的差。憑借基于梯度的偏移方法，我們得到密度采樣圖像，其顯示偏移對(duì)于外拐角導(dǎo)致的誤差。通過使得該密度采樣誤差圖像具有例如帶有4 SP128的節(jié)距的96*96樣本的尺寸，我們就可以從該分布中將偏移數(shù)據(jù)添加到該圖像中。因?yàn)槊芏炔蓸硬顖D像依賴于偏移參數(shù)的值，所以對(duì)于各種偏移參數(shù)值重新計(jì)算表。從這些表中可以使用最接近鄰域值或者內(nèi)插的值。
密度采樣圖像用IFR和對(duì)于偏移參數(shù)值的Matlab來計(jì)算密度采樣圖像。在Matlab計(jì)算中，已經(jīng)將理想的描繪器(renderer)用于作為到DVG的輸入的區(qū)域樣本圖像。我們還使用理想的重采樣器來去除描繪(rendering)誤差和重構(gòu)器誤差。
計(jì)算差異圖像作為密度IFR圖像和密度Matlab計(jì)算的圖像之間的差。在該圖像中所使用的測(cè)試圖案包含外拐角和內(nèi)拐角兩者。從這些拐角附近切出區(qū)域以形成用于外拐角的一個(gè)密度采樣差異圖像和用于內(nèi)拐角的一個(gè)密度采樣差異圖像。對(duì)密度采樣的圖像進(jìn)行調(diào)整從而節(jié)距變?yōu)? SP128而尺寸變?yōu)?6*96像素。現(xiàn)在，使用128*128網(wǎng)格位置來計(jì)算密度圖像。產(chǎn)生對(duì)于分布可能需要的密度器采樣差異圖像。然后通過在高分辨率密度采樣差異圖像中計(jì)算4*4近鄰的平均值而獲得96*96輸出分布中的每個(gè)樣本。
由于將CBTD設(shè)想為對(duì)稱的，如同CEF分布一樣，所以通過將其沿著對(duì)角線折疊來計(jì)算最后的分布，并且計(jì)算平均值(即，CBTD＝(CBTD+CBTD′)/2)。
拐角偽特征疊加拐角偽特征疊加過程實(shí)施兩個(gè)圖案層的組合1)原始、未增強(qiáng)的圖像層，根據(jù)在樣本點(diǎn)位移上的變形補(bǔ)償影響和尺寸偏移進(jìn)行重新采樣；2)偽特征圖像層，由疊加在中間圖像層之上的偽特征強(qiáng)度表面分布組成。
這兩層具有相同的分辨率，以等距矩形網(wǎng)格表示，而且重疊是來自每個(gè)分布的兩個(gè)對(duì)應(yīng)樣本的標(biāo)量加。
然后，將結(jié)果圖像A′(Ci)饋通(feed through)到限制操作，其產(chǎn)生1和0之間的值A(chǔ)″(Ci)。
A′′(C‾i)=A′(C‾i)∀|A′|≤11∀A′>10∀A′<0]]>偽特征重疊過程產(chǎn)生P(Ci)，對(duì)于每個(gè)樣本點(diǎn)表示因素E(Dij)的線性相加，其中Dij是樣本點(diǎn)坐標(biāo)Ci和拐角坐標(biāo)Cj之間的差異矢量。A(Ci)和P(Ci)中的任意一個(gè)或者兩者在上述重疊之前經(jīng)歷下加權(quán)(down-weighting)，從而補(bǔ)償相鄰效應(yīng)。
FPGA和一種實(shí)施方式的塊實(shí)施圖31-35通過一種FPGA實(shí)施方式詳細(xì)圖解了實(shí)施邏輯的框圖。圖31圖解了在一個(gè)或多個(gè)描繪模塊板3110和接口模塊板3120之間的板級(jí)的相互關(guān)系。將五個(gè)FPGA描述為位于描繪模塊板上，但是當(dāng)可用FPGA的特性隨著時(shí)間變化時(shí)該數(shù)字和FPGA領(lǐng)域的分配也會(huì)變化。當(dāng)然，可以容易地用諸如半定制或者定制ASIC或者門陣列之類的其他邏輯器件替代FPGA。將兩個(gè)FPGA描述為位于接口模塊板上。
圖32圖解了穿過FPGA的邏輯塊的功能分配的高級(jí)框圖。在RMPL-3-A/B3210中的右半邊和左半邊中實(shí)施有描繪處理子系統(tǒng)(RP)3220。調(diào)節(jié)處理器子系統(tǒng)(AP)的區(qū)域圖像位移(RID)塊3241展開在三個(gè)FPGA上、被在RMPL-3-A/B3210的右半邊和左半邊之間分開，并且還在RMPL-4 3230上。調(diào)節(jié)處理器3240是處理鏈的一部分，其可以包括幾何的二排序(bin sorting)、描繪和區(qū)域采樣、圖案操縱和域轉(zhuǎn)換。RID的輸入和輸出數(shù)據(jù)是像素?cái)?shù)據(jù)或者區(qū)域樣本?？梢杂媒豢椀姆绞綇囊痪€一地(line wise)將圖像從FBIF 3221傳送到RID子系統(tǒng)3241。在RMPL-A 3230上實(shí)施調(diào)節(jié)處理器的照明補(bǔ)償(ILCON)塊3242和鏡像補(bǔ)償(MCOMP)塊3243，就像是像素輸出控制器(POC)3251一樣。
圖33圖解了在RMPL-3-A/B 3210的左半邊和右半邊中復(fù)制的RID元件的高級(jí)框圖。在這些FPGA上的RID元件用于提取和壓縮(compact)從描繪處理器所提供的光柵數(shù)據(jù)中導(dǎo)出的數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)。五個(gè)RID塊包括區(qū)域樣本聚合器(aggregator)3321、區(qū)域樣本編碼器3324、拐角提取器3323、拐角數(shù)據(jù)編碼器3325和線數(shù)據(jù)復(fù)用器3326。區(qū)域樣本聚合器3321從微像素高速緩存器中接收數(shù)據(jù)3311。由拐角提取器所使用的采樣節(jié)距是2微米3312，而用于區(qū)域樣本編碼器的采樣節(jié)距是4微米3313。來自微像素高速緩存器3311的數(shù)據(jù)最好在等距和垂直采樣網(wǎng)格上。這產(chǎn)生等距、毗連和非重疊的區(qū)域樣本?；蛘?，可以使用圓形區(qū)域樣本與從微鏡投射的光的高斯分布對(duì)應(yīng)，其非?？赡苤丿B。區(qū)域樣本編碼器3324提供聚合和緩存器給信息的多條線路。其通過產(chǎn)生請(qǐng)求事件在流控制中進(jìn)行預(yù)測(cè)。拐角提取器(CEX)3323是用于拐角檢測(cè)、拐角區(qū)分、拐角估計(jì)和拐角評(píng)級(jí)的束處理的總體術(shù)語(yǔ)。CEX 3323的目的是產(chǎn)生合格的拐角列表。拐角檢測(cè)(DET)過程在到來數(shù)據(jù)近鄰內(nèi)檢測(cè)最多16個(gè)可能的拐角候選者。拐角區(qū)分器(DISCR)通過用最多4個(gè)拐角候選者、應(yīng)用一組規(guī)則創(chuàng)建清潔的拐角列表，來去除錯(cuò)誤地檢測(cè)到的拐角。拐角估計(jì)(EST)和評(píng)級(jí)產(chǎn)生更加精確的拐角位置估計(jì)，以及用于候選者的品質(zhì)因數(shù)(figure of merit)。將估計(jì)的拐角候選者和品質(zhì)因數(shù)合并(MRG)為一組拐角數(shù)據(jù)記錄3314。在拐角數(shù)據(jù)記錄中的數(shù)據(jù)字段可以包括存在(1比特)、品質(zhì)因數(shù)(4比特)、拐角位置Y(6比特)、拐角位置X(6比特)、拐角方位(2比特)和拐角極性(1比特)。順序地，拐角提取器過程以節(jié)距AS2的區(qū)域樣本開始，拐角檢測(cè)過程從其產(chǎn)生候選者拐角的列表。拐角區(qū)分過程清除某些候選者拐角，產(chǎn)生清潔的拐角列表。拐角估計(jì)過程和拐角評(píng)級(jí)產(chǎn)生合格的拐角列表。將拐角記錄編碼器(CRE)3325用于將CEX所產(chǎn)生的拐角數(shù)據(jù)記錄編碼為CABS有效的格式3316。其可以存儲(chǔ)信息的多條線，可以接收一條線，而同時(shí)傳送另一條線。線數(shù)據(jù)復(fù)用器3326的目的是對(duì)編碼的區(qū)域樣本3315和編碼的拐角數(shù)據(jù)記錄3316線分組進(jìn)行時(shí)間復(fù)用，以在CABS上進(jìn)行傳送3317。
圖34是處于RMPL-4 3410中的RID元件的高級(jí)框圖，其對(duì)來自RMPL-3-A/B3421、3422的左半邊和右半邊的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。在該FPGA上的RID元件處理圖案操縱或者數(shù)字圖像包裝(wraping)，包括作為邏輯塊的線數(shù)據(jù)解復(fù)用器-LDD3521、區(qū)域樣本解碼器-ASD 3522、區(qū)域樣本聚合器-ASA 3524、變形矢量產(chǎn)生器-DVG 3325、圖像重采樣器-IRS 3326和拐角記錄解碼器-CRD 3323。圖35提供了這些塊的附加詳情。線數(shù)據(jù)解復(fù)用器3321的目的是將編碼的區(qū)域樣本(EAS)3315和編碼的拐角數(shù)據(jù)記錄3316線分組發(fā)送到ASD 3522和CRD 3523塊。通過發(fā)出線請(qǐng)求事件，其還是流控機(jī)構(gòu)的一部分。區(qū)域樣本解碼器3522的目的是從到來的32比特流中解包(unpack)17比特塊，并且將其解碼為4微米區(qū)域樣本3513的20比特流。ASD 3522具有能夠存儲(chǔ)多線信息的緩存器。
在圖36中圖解了區(qū)域樣本聚合器(ASA)3610。輸入數(shù)據(jù)3611是毗鄰區(qū)域樣本。線緩存器3621支持毗鄰樣本的重采樣和合計(jì)3622。到圖像重采樣器3612和變形矢量產(chǎn)生器3613的輸出數(shù)據(jù)流是等距并且重疊的區(qū)域樣本。區(qū)域樣本聚合器3610將具有8微米的節(jié)距的樣本3516提供給圖像重采樣器3526，并且將帶有16微米節(jié)距的樣本3515提供給位移矢量產(chǎn)生器3525。
圖37圖解了在具有特定節(jié)距3731的網(wǎng)格上，變化節(jié)距3711-3713的各種近鄰3721-3724。
位移矢量產(chǎn)生器(DVG)3525計(jì)算戳變形補(bǔ)償矢量(SDC矢量)3517和樣本點(diǎn)位移矢量，以在拐角增強(qiáng)重疊(CES)和強(qiáng)度表面再產(chǎn)生器(ISR)中使用，如圖38所示。將零星采樣的SDC圖存儲(chǔ)在內(nèi)部RAM中并且使用雙線性內(nèi)插進(jìn)行擴(kuò)展。
f(a,b)=floor(8-a-12)(8-b-12)*V[n,m]+(a+12)(8-b-12)*V[n+1,m]82+(8-a-12)(b+12)V[n,m+1]+(a+12)(b+12)V[n+1,m+1]82+12]]>如圖39中所示，通過應(yīng)用Prewitt濾波器3921來計(jì)算梯度場(chǎng)。SDC矢量3912用雙線性內(nèi)插指出在網(wǎng)格位置處的內(nèi)插。在用于標(biāo)準(zhǔn)化3923和角測(cè)量3913的ROM中實(shí)施CORDIC算法。
圖像再采樣器是兩維內(nèi)插器，已經(jīng)在上面詳細(xì)地進(jìn)行了說明，被設(shè)計(jì)用于曼哈頓方位的圖案的低誤差內(nèi)插。以1-D(掃描線)內(nèi)插的順序?qū)删S內(nèi)插器進(jìn)行分解。將大近鄰提供給圖像再采樣器，從而能夠在偏移位移矢量的范圍內(nèi)重構(gòu)任何樣本點(diǎn)。
代碼記錄解碼器CRD將CRE所產(chǎn)生的代碼字解碼為29-比特字，每個(gè)包含現(xiàn)存的拐角以及對(duì)應(yīng)的宏像素?cái)?shù)。這意味著從拐角記錄解碼器傳送來的線將僅僅包含現(xiàn)存拐角。以每第三個(gè)時(shí)鐘周期一個(gè)29-比特字的速率傳送數(shù)據(jù)。
替代框40-41圖解了不參照FPGA領(lǐng)域的替代框圖。在兩種圖種操作塊都相同。圖40將數(shù)據(jù)和參數(shù)源加入到操作塊中。圖41在操作塊中識(shí)別數(shù)據(jù)流。
輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)描述宏像素位圖4012描繪過程產(chǎn)生二進(jìn)制子像素位圖?？梢詫⒃撐粓D超級(jí)采樣以產(chǎn)生對(duì)各種尺寸的區(qū)域樣本的估計(jì)。在逐個(gè)元素的基礎(chǔ)上由描繪處理提供宏像素位圖，而且由產(chǎn)生的子系統(tǒng)來定義變形。
CD偏移值4013表示代表特定掩模部分扇區(qū)的所有區(qū)域的各向同性尺寸偏移(CD偏移)的空間和時(shí)間不變值(cdb)。提供CD偏移值作為WRI接口中的參數(shù)。其在掩模部分扇區(qū)的范圍上時(shí)間和空間不變。
CD偏移位移(offset)圖4014定義時(shí)間和空間緩慢變化的標(biāo)量場(chǎng)，表示掩模部分的每個(gè)區(qū)域的各向同性尺寸偏移(CD偏移)的幅度中的變化。CD偏移補(bǔ)償圖包括每個(gè)定義掩模部分坐標(biāo)(cx，cy)并且用正負(fù)值的范圍定義標(biāo)量幅度位移(dcdb)的樣本。樣本坐標(biāo)于等距、Cartesian網(wǎng)格，與SLM戳的中心一致。因此，由戳坐標(biāo)隱含給出CD偏移圖樣本坐標(biāo)。
以與由能量擴(kuò)散函數(shù)所使用的方式類似的方式，提供CD偏移補(bǔ)償圖作為圖案幾何數(shù)據(jù)流的分布和空間相關(guān)的補(bǔ)充部分。在逐個(gè)元素的基礎(chǔ)上進(jìn)行提供它，并且由產(chǎn)生的子系統(tǒng)對(duì)變形進(jìn)行定義。
各向異性偏移圖4015表示依賴于圖案邊緣方位的空間和時(shí)間不變化的偏移幅度位移，代表掩模部分扇區(qū)的所有區(qū)域的各向異性尺寸。提供各向異性偏移圖作為AP參數(shù)文件的一部分。其在掩模部分扇區(qū)上時(shí)間和空間不變。
變形圖4011表示代表在圖像場(chǎng)中的每個(gè)點(diǎn)處的圖像射線位移的緩慢變化的矢量場(chǎng)。用該場(chǎng)的零星樣本，例如每100×100調(diào)制器像素150個(gè)像素或更少，來填充變形圖。變形圖元素每個(gè)都定義掩模部分坐標(biāo)(cx，cy)和兩個(gè)元件變形矢量(dx，dy)。將變形圖樣本坐標(biāo)限制到等距、Cartesian網(wǎng)格。其位移和節(jié)距是輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)的隱含或者明示部分的等距網(wǎng)格定義坐標(biāo)。在參數(shù)文件中提供它。
CEF分布4016代表被重疊在拐角位置以增強(qiáng)拐角尺寸的偽特征。CEF分布是空間和時(shí)間不變的。
CEF鄰域參數(shù)化4017CEF函數(shù)具有鄰域處理參數(shù)集合，其可以包含一個(gè)或多個(gè)輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)用于對(duì)鄰域下加權(quán)進(jìn)行資格評(píng)定(qualify)。在掩模部分扇區(qū)上該參數(shù)集合時(shí)間和空間不變。
輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供和變形框架自身不指定提供參數(shù)的特定方式，但是由于在其下輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)變化的條件對(duì)于理解使用能力以及進(jìn)行實(shí)施兩者都重要，所以在這里定義輸入數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供機(jī)構(gòu)及其基礎(chǔ)。
塊描述區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生器4041-產(chǎn)生根據(jù)使用而疊加或者相鄰的等距區(qū)域樣本圖。樣本區(qū)域尺寸還可以變化。從描繪過程所提供的宏像素分辨率位圖中導(dǎo)出區(qū)域樣本。
當(dāng)使用正方形區(qū)域樣本時(shí)，容易將較小的區(qū)域樣本組合為較大的區(qū)域樣本，因此一種機(jī)構(gòu)可以服務(wù)多個(gè)輸出，其由多個(gè)輸出路徑指示。根據(jù)需要高程度還是低程度的預(yù)先濾波和高程度或者程度的分辨率，將不同區(qū)域樣本尺寸用于不同的目的。區(qū)域樣本的選擇不是最終確定的，但是可以將下面陳述當(dāng)作指南。
拐角提取器使用高分辨率區(qū)域樣本圖以能夠用高顆粒度區(qū)分拐角。樣本是毗鄰的并且具有四倍或者八倍的調(diào)制器像素空間分辨率。
圖像重采樣器使用帶有調(diào)制器像素的尺寸和兩倍調(diào)制器像素節(jié)距的重疊區(qū)域樣本。
偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器使用帶有兩倍調(diào)制器像素尺寸的大的、重疊區(qū)域樣本。這產(chǎn)生和擴(kuò)展將樣本外的對(duì)象向其內(nèi)移動(dòng)所需要的矢量場(chǎng)，而且當(dāng)輸入圖案復(fù)雜時(shí)還提供偏移矢量的平滑。
網(wǎng)格產(chǎn)生器4022使用變形場(chǎng)產(chǎn)生器所產(chǎn)生的矢量樣本來產(chǎn)生網(wǎng)格點(diǎn)的列表，根據(jù)變形矢量樣本的內(nèi)插所產(chǎn)生的場(chǎng)來移位每個(gè)點(diǎn)。
偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器4032使用區(qū)域樣本圖像來導(dǎo)出梯度場(chǎng)，將其在網(wǎng)格產(chǎn)生器所產(chǎn)生的網(wǎng)格點(diǎn)中進(jìn)行采樣。偏移矢量場(chǎng)可以具有與拐角鄰域的替代布局，為了該原因可以將拐角表示提供給偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器。偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器的輸出是偏移矢量的列表，對(duì)每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)使用一個(gè)。
樣本點(diǎn)位移器4033用每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)的一個(gè)樣本點(diǎn)來產(chǎn)生重采樣的點(diǎn)列表。根據(jù)偏移矢量的方位和(從CD偏移和各向異性偏移圖中導(dǎo)出的)偏移的幅度來位移每個(gè)重新采樣的點(diǎn)。通過用網(wǎng)格點(diǎn)坐標(biāo)調(diào)用偏移矢量產(chǎn)生器為每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)請(qǐng)求偏移矢量。通過用網(wǎng)格點(diǎn)坐標(biāo)調(diào)用偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器為每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)請(qǐng)求偏移值。
拐角提取器4052使用(帶有相對(duì)密度采樣)的區(qū)域樣本圖像來檢測(cè)帶有位置、開口角和二等分線的方位的拐角。
拐角點(diǎn)位移器4053從拐角提取器所提取的非偏移的拐角點(diǎn)中產(chǎn)生位移的拐角點(diǎn)列表。移位拐角點(diǎn)以反映各向同性和各向異性的尺寸偏移。位移依賴于偏移幅度場(chǎng)和各向異性偏移圖兩者。該函數(shù)使用偏移幅度和各向異性偏移同拐角點(diǎn)的方位一起來計(jì)算用于偏移的拐角點(diǎn)列表的元素的新拐角位置。對(duì)于變形場(chǎng)不移位拐角點(diǎn)；相反地，將預(yù)先變形的網(wǎng)格點(diǎn)列表相關(guān)于拐角增強(qiáng)重疊過程中的拐角點(diǎn)。這去除了在拐角位置處對(duì)變形場(chǎng)進(jìn)行采樣的需要。
圖像重采樣器4043使用4乘4的等距區(qū)域樣本組來計(jì)算使用樣本點(diǎn)位移器產(chǎn)生的重采樣點(diǎn)列表的新區(qū)域樣本。
偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器4023從CD偏移值和CD偏移補(bǔ)償圖中產(chǎn)生偏移幅度(標(biāo)量)。通過來自重采樣位移器和拐角點(diǎn)位移器的請(qǐng)求來激活產(chǎn)生器。
變形場(chǎng)產(chǎn)生器4021從變形圖中產(chǎn)生變形矢量。每個(gè)變形矢量樣本代表具體名義調(diào)制器像素中心點(diǎn)中的變形位移。
拐角增強(qiáng)重疊4044使用偏移拐角點(diǎn)列表的元素作為拐角增強(qiáng)分布的中心并且使用網(wǎng)格點(diǎn)列表的位移的網(wǎng)格點(diǎn)作為拐角增強(qiáng)分布的樣本位置，來將拐角增強(qiáng)貢獻(xiàn)置添加到重采樣的區(qū)域樣本中。拐角增強(qiáng)函數(shù)使用兩個(gè)分布集合，強(qiáng)度分布和鄰域場(chǎng)分布。在本文獻(xiàn)的其他獨(dú)立部分中給出了如果進(jìn)行該過程的更加詳細(xì)的描述。
數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)網(wǎng)格點(diǎn)列表4113每個(gè)產(chǎn)生的調(diào)制器像素一個(gè)的網(wǎng)格點(diǎn)的列表定義這樣的位置，在其處對(duì)也作為放置有結(jié)果偏移矢量的位置的偏移矢量場(chǎng)進(jìn)行采樣以形成重采樣的點(diǎn)。由坐標(biāo)[x，y]定義每個(gè)網(wǎng)格點(diǎn)。
偏移矢量4114矢量的列表，每個(gè)矢量用于每個(gè)調(diào)制器像素。每個(gè)矢量定義方向，應(yīng)該在該方向上將對(duì)應(yīng)的重采樣點(diǎn)進(jìn)行移動(dòng)以產(chǎn)生定尺寸效應(yīng)。由坐標(biāo)[x，y]和兩個(gè)矢量分量[dx，dy]定義每個(gè)點(diǎn)。
偏移幅度4116樣本點(diǎn)位移器和拐角點(diǎn)位移器兩者都根據(jù)分別用于樣本點(diǎn)和拐角點(diǎn)的坐標(biāo)來請(qǐng)求偏移幅度估計(jì)。偏移幅度代表各向同性尺寸偏移函數(shù)的名義邊緣位移。
重采樣點(diǎn)列表4117重采樣點(diǎn)的列表，每個(gè)產(chǎn)生的調(diào)制器像素一個(gè)重采樣點(diǎn)，定義了應(yīng)該在什么位置執(zhí)行到處到定義的區(qū)域樣本的重構(gòu)。由坐標(biāo)[x，y]定義每個(gè)點(diǎn)。
區(qū)域樣本圖像4111樣本的列表，每個(gè)產(chǎn)生的調(diào)制器像素有幾個(gè)樣本，定義了在特定點(diǎn)處的區(qū)域樣本。由坐標(biāo)[x，y]和區(qū)域樣本值[as]定義每個(gè)區(qū)域樣本。根據(jù)所需要的使用，區(qū)域樣本的尺寸和節(jié)距可以不同。
非偏移的拐角點(diǎn)列表4115拐角點(diǎn)的列表，為每個(gè)拐角定義了二等分線的方位角[方位]、開口角[開口]、坐標(biāo)[cx，cy]和可選地品質(zhì)因數(shù)[f.o.m]。這是在拐角位移過程中應(yīng)用尺寸偏移操縱之前、作為來自拐角提取過程報(bào)告的列表。
偏移拐角點(diǎn)列表4118包括與非偏移拐角處點(diǎn)列表相同的成員，但是每個(gè)成員被移位以在各向同性和各向異性尺寸偏移上進(jìn)行反映的拐角點(diǎn)列表。
帶有所涉及的不同功能的使用情形(use case)這部分圖解了每次涉及一個(gè)的架構(gòu)的不同功能。這試圖在較高抽象級(jí)系統(tǒng)功能(變形補(bǔ)償、尺寸偏移等)的上下文中產(chǎn)生對(duì)每個(gè)子功能(網(wǎng)格產(chǎn)生器、圖像重采樣器等)的角色的理解。
情形1-沒有區(qū)域圖像位移在這種情形中，將區(qū)域樣本圖像直接傳播到輸出。大多數(shù)塊在被動(dòng)、饋通模式中操作。
操作描述區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生器用半個(gè)調(diào)制器像素的節(jié)距產(chǎn)生等距網(wǎng)格的調(diào)制器像素定尺寸的區(qū)域樣本。區(qū)域樣本重疊。
變形場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生恒定、零值(zero-worth)矢量場(chǎng)。
網(wǎng)格產(chǎn)生器產(chǎn)生帶有1調(diào)制器像素的節(jié)距的等距網(wǎng)格位置的網(wǎng)格點(diǎn)列表。
不涉及偏移矢量產(chǎn)生器，也不涉及偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器。
樣本位移器在不作任何改變的情況下從網(wǎng)格產(chǎn)生器中傳播網(wǎng)格點(diǎn)列表，并且產(chǎn)生相同的重采樣點(diǎn)列表。
圖像重采樣器使用來自樣本點(diǎn)位移器的重采樣點(diǎn)列表來產(chǎn)生數(shù)據(jù)。重采樣點(diǎn)列表與用于區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生的網(wǎng)格位置完全一致。因此在這種情況中的重采樣就是選擇匹配樣本的過程。忽略其中心與重采樣點(diǎn)列表不一致的重疊樣本。
操縱結(jié)果描述用于重采樣的采樣點(diǎn)完全匹配用于描繪的采樣點(diǎn)。重采樣圖像重構(gòu)器產(chǎn)生完全匹配原始區(qū)域樣本值的值。
情形2-只變形補(bǔ)償在這種情況中，網(wǎng)格產(chǎn)生器產(chǎn)生從調(diào)制器像素的中心處采樣的變形矢量中導(dǎo)出的網(wǎng)格點(diǎn)位置的列表。樣本點(diǎn)位移器以及拐角增強(qiáng)重疊是完全透明的。
操作描述調(diào)制器像素以半個(gè)調(diào)制器像素的節(jié)距將等距網(wǎng)格的區(qū)域樣本定尺寸。區(qū)域樣本重疊。它們由圖像重采樣器使用。
變形場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生空間緩慢變化的矢量場(chǎng)。
網(wǎng)格產(chǎn)生器根據(jù)變形場(chǎng)產(chǎn)生帶有從情形(1)的等距網(wǎng)格偏離的網(wǎng)格位置的網(wǎng)格點(diǎn)列表。
不涉及偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器，也不涉及偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器。
樣本位移器傳播來自網(wǎng)格產(chǎn)生器的網(wǎng)格點(diǎn)列表而不進(jìn)行任何改動(dòng)，并且產(chǎn)生相同的重采樣點(diǎn)列表。
圖像重采樣器使用來自樣本點(diǎn)位移器的重采樣點(diǎn)列表來產(chǎn)生數(shù)據(jù)。重采樣點(diǎn)位于用于區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生的網(wǎng)格位置之間。圖像重采樣器使用內(nèi)插來產(chǎn)生區(qū)域樣本值用于重采樣點(diǎn)列表的點(diǎn)。
操縱結(jié)果描述使用原始樣本的位置中采樣的變形矢量從原始位置中計(jì)算新的重采樣點(diǎn)。簡(jiǎn)單通過將變形矢量與原始網(wǎng)格點(diǎn)坐標(biāo)相加導(dǎo)出新的重采樣點(diǎn)。重采樣點(diǎn)的數(shù)量不變化。
情形3-只尺寸偏移在這種情況中，網(wǎng)格產(chǎn)生器正在產(chǎn)生固定網(wǎng)格的樣本網(wǎng)格位置。通過根據(jù)調(diào)制器像素中心處所采樣的偏移幅度和偏移矢量來移動(dòng)每個(gè)網(wǎng)格位置，對(duì)該網(wǎng)格進(jìn)行操縱。
操作描述區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生器產(chǎn)生區(qū)域樣本的兩個(gè)流，一個(gè)用于圖像重采樣器，一個(gè)用于偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器。
變形場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生零矢量場(chǎng)。
網(wǎng)格產(chǎn)生器產(chǎn)生帶有與調(diào)制器像素中心點(diǎn)具有相等距離的網(wǎng)格位置的網(wǎng)格點(diǎn)列表。
偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生用于網(wǎng)格點(diǎn)列表中的每個(gè)點(diǎn)的偏移矢量。
偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器將偏移幅度提供給樣本位移器。
樣本點(diǎn)位移器以從與偏移幅度相乘的偏移矢量中導(dǎo)出的方向來改變網(wǎng)格點(diǎn)。
圖像重采樣器使用來自樣本點(diǎn)位移器的重采樣點(diǎn)列表來產(chǎn)生數(shù)據(jù)。重采樣點(diǎn)通常不與用于區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生的網(wǎng)格位置一致；相反地，使用內(nèi)插導(dǎo)出新的、之前不明確的樣本。
操縱結(jié)果描述從偏移矢量、偏移幅度和各向異性偏移函數(shù)中計(jì)算新的重采樣點(diǎn)。偏移矢量從區(qū)域樣本圖像中所產(chǎn)生的偏移矢量場(chǎng)中導(dǎo)出，并且表示與尺寸偏移的等效物對(duì)應(yīng)的重采樣點(diǎn)的方向移動(dòng)。偏移幅度從偏移幅度場(chǎng)中導(dǎo)出，并且表示移動(dòng)與尺寸偏移的等效物對(duì)應(yīng)的重采樣點(diǎn)的距離。
當(dāng)用等距網(wǎng)格投射時(shí)，導(dǎo)致的重采樣圖像像素集合將表示獨(dú)立特征的改變過的尺寸。
情形4-變形補(bǔ)償和尺寸偏移組合當(dāng)組合變形補(bǔ)償和尺寸偏移時(shí)，通過連接兩個(gè)矢量因素在調(diào)制器像素中心所采樣的變形矢量和由網(wǎng)格產(chǎn)生器所報(bào)告的位移網(wǎng)格點(diǎn)處所采樣的偏移矢量，來產(chǎn)生由樣本點(diǎn)位移器所產(chǎn)生的網(wǎng)格點(diǎn)列表。
操作描述區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生器產(chǎn)生區(qū)域樣本的兩個(gè)流，一個(gè)用于圖像重采樣器，而一個(gè)用于偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器。
變形場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生空間緩慢變化的矢量場(chǎng)。
網(wǎng)格產(chǎn)生器根據(jù)變形場(chǎng)產(chǎn)生帶有與情形(1)的等距網(wǎng)格偏離的網(wǎng)格位置的網(wǎng)格點(diǎn)列表。
偏移矢量場(chǎng)產(chǎn)生器產(chǎn)生用于網(wǎng)格點(diǎn)列表中的每個(gè)點(diǎn)的偏移矢量。
偏移幅度場(chǎng)產(chǎn)生器提供偏移幅度給樣本位移器。
樣本點(diǎn)位移器以從偏移矢量乘以偏移幅度中導(dǎo)出的方向來改變預(yù)先變形的網(wǎng)格點(diǎn)。
圖像重采樣器使用來自樣本點(diǎn)位移器的重采樣點(diǎn)列表來產(chǎn)生數(shù)據(jù)。重采樣點(diǎn)通常不與用于區(qū)域樣本圖像產(chǎn)生的網(wǎng)格位置一致；相反地，使用內(nèi)插導(dǎo)出新的、之前沒有明確的樣本。
操作結(jié)果描述使用從偏移矢量場(chǎng)、偏移幅度場(chǎng)和各向異性偏移函數(shù)中導(dǎo)出的位移矢量、和采樣的變形矢量的連接，從原始位置中計(jì)算新的重采樣點(diǎn)。
一些具體實(shí)施方式
可以將本發(fā)明實(shí)現(xiàn)為方法或者適于進(jìn)行該方法的器件?？梢詮男薷臄?shù)據(jù)路徑上的數(shù)據(jù)、使用修正的數(shù)據(jù)在掩模書寫器中準(zhǔn)備掩模、或者通過直接書寫或通過使用掩模、再使用修正的數(shù)據(jù)來形成半導(dǎo)體器件的部件的角度來認(rèn)識(shí)相同的方法。本發(fā)明還可以是諸如帶有邏輯以執(zhí)行計(jì)算機(jī)輔助重采樣和光柵化圖案的修正的媒體之類的制造物品。
一種實(shí)施方式是調(diào)節(jié)要由包括多個(gè)微元件的器件產(chǎn)生的強(qiáng)度值的方法。該強(qiáng)度值與矢量圖案數(shù)據(jù)中所表示的圖案對(duì)應(yīng)。該調(diào)節(jié)與要應(yīng)用于圖案的修正參數(shù)對(duì)應(yīng)。該方法包括將矢量圖案數(shù)據(jù)光柵化到映射到微元件的強(qiáng)度值。其還包括確定與修正參數(shù)對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)重采樣位移矢量。在實(shí)時(shí)中，其包括對(duì)偏移位置處的光柵化的強(qiáng)度值進(jìn)行重采樣。偏移位置對(duì)應(yīng)于應(yīng)用重采樣位移矢量作為位移。而且在實(shí)時(shí)中，使用重采樣強(qiáng)度值來控制微元件，并且將輻射投射到基底上的輻射感應(yīng)層。
本實(shí)施方式的子組合可以根據(jù)修正參數(shù)在光柵化的圖案數(shù)據(jù)上進(jìn)行操作，只應(yīng)用重采樣的實(shí)時(shí)方法步驟并且使用重采樣強(qiáng)度值。該子組合實(shí)施方式是兩步方法。
根據(jù)這些實(shí)施方式中任何一個(gè)的一個(gè)方面，微元件可以是微鏡，例如具有一或四百萬(wàn)微鏡、或者通常上百萬(wàn)微鏡的空間光調(diào)制器的部件?？梢詫?qiáng)度值一對(duì)一映射到微鏡，或者強(qiáng)度值的、大于一的全部數(shù)量可以映射到單個(gè)微鏡。
從其他角度來說，上面實(shí)施方式可以包括在直接寫過程中在基底上的器件的至少一部分中的圖案。替代地，它們可以包括在基底上對(duì)掩模制作圖案，并且使用該掩模在光刻過程中產(chǎn)生半導(dǎo)體基底上的器件的至少一部分。
可以使用各種修正參數(shù)。一種修正參數(shù)修正橫跨場(chǎng)或者由多個(gè)鏡元件所投射的圖像而映射的變形。例如，這些修正參數(shù)橫跨SLM的面(face)對(duì)變形進(jìn)行映射。另一種修正參數(shù)對(duì)圖案中所存在的特征進(jìn)行重定尺寸同時(shí)保留該特征的位置。通過應(yīng)用這些參數(shù)，三種特征可以都增長(zhǎng)(或者減少)，同時(shí)保留在它們的重心之間的距離。對(duì)修正參數(shù)重新定尺寸可以是各向同性或者各向異性的。
與重定尺寸相關(guān)，實(shí)時(shí)處理還可以包括在光柵化的強(qiáng)度值中定位特征拐角，和將拐角修正偏移應(yīng)用于拐角相鄰的強(qiáng)度值。拐角修正偏移可以與矢量域中的圖案中對(duì)特征重定尺寸然后再將它們光柵化的結(jié)果之間的差對(duì)應(yīng)，與將特征光柵化然后在光柵域中將它們重定尺寸相反。
其他修正參數(shù)可以包括圖案的幅度或者旋轉(zhuǎn)、或者位置的平移。在實(shí)時(shí)中，可以沿著相同的數(shù)據(jù)路徑應(yīng)用2、3或者更多修正類型的組合。
修正參數(shù)可以在空間中變化。例如，當(dāng)掩模是在掩模的中心具有比掩模的邊緣更多可用能量的器件中所孵化(hatch)的等離子體時(shí)，修正參數(shù)可以增加特征尺寸和掩模的邊緣。修正參數(shù)還可以隨時(shí)間變化。例如，在使用化學(xué)加速光刻膠的長(zhǎng)且復(fù)雜的掩模寫過程中，在寫的時(shí)間的結(jié)尾處所寫的掩模部分可能需要比在寫的時(shí)間的開始處所寫的掩模部分更強(qiáng)的曝光。
在這些實(shí)施方式的進(jìn)一步方面中，重采樣還包括使用從特定重采樣強(qiáng)度值附近的至少四乘四強(qiáng)度值的近鄰中來的數(shù)據(jù)，導(dǎo)出特定重采樣強(qiáng)度值。或者，重采樣特定重采樣強(qiáng)度值可以還包括對(duì)從特定重采樣強(qiáng)度值附近的四乘四強(qiáng)度值的鄰域關(guān)系中來的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，首先處理一行或者一列以導(dǎo)出中間重采樣強(qiáng)度值，然后處理中間重采樣強(qiáng)度值以產(chǎn)生特定重采樣強(qiáng)度值。任何重采樣過程可以包括從多個(gè)方法中對(duì)特定計(jì)算方法進(jìn)行條件選擇，以導(dǎo)出中間重采樣強(qiáng)度值。條件選擇應(yīng)該依賴于從其產(chǎn)生中間重采樣強(qiáng)度值的近鄰的行或列中的強(qiáng)度值?？梢詫⑾嗤瑮l件選擇應(yīng)用于一組中間重采樣強(qiáng)度值，并且用于產(chǎn)生特定重采樣的強(qiáng)度值。
在本上下文中，“實(shí)時(shí)”暗示著部分?jǐn)?shù)據(jù)路徑用于周期性地重新裝載多個(gè)微元件。在所權(quán)利要求的方法可以應(yīng)用于的一種環(huán)境中，微元件是SLM的微鏡，而每秒至少1000次地將圖案變化裝載到SLM。在更加先進(jìn)的實(shí)施形式中，每秒至少4000次地重新裝載圖案變化。
另一個(gè)實(shí)施方式是使用SLM修正圖案產(chǎn)生器中的變形的方法。該方法包括將與至少一個(gè)SLM相關(guān)的變形進(jìn)行映射，并且根據(jù)該變形映射來產(chǎn)生用于SLM的修正圖。該方法還包括使用修正圖將圖案從SLM投射到基底上，從而在投射到基底上的圖案內(nèi)消除變形。該實(shí)施方式的方面包括通過應(yīng)用修正圖，移動(dòng)圖案中至少一個(gè)特征的重心。一個(gè)替代方面是通過應(yīng)用修正圖對(duì)圖案中的至少一個(gè)特征進(jìn)行重定尺寸，而不移動(dòng)其重心。最好，將修正圖應(yīng)用于光柵化的數(shù)據(jù)，但是可以將其應(yīng)用于矢量圖案數(shù)據(jù)。
各種器件可以實(shí)施上述方法。一種器件是這樣的器件，其使用包括用于產(chǎn)生與至少一個(gè)SLM相關(guān)的映射變形的邏輯和資源的SLM在圖案產(chǎn)生器中修正變形，并且產(chǎn)生與變形圖對(duì)應(yīng)的SLM的修正圖，所述修正圖適于在將圖案從SLM投射到基底中使用。該器件可以是圖案產(chǎn)生器的一部分，該圖案產(chǎn)生器還包括耦合到邏輯和資源的SLM，以及可選地耦合SLM和基底的光路。根據(jù)本實(shí)施方式的這種變化，變形圖可以與基底上所接收的圖案與使用SLM試圖要產(chǎn)生的圖案之間的差對(duì)應(yīng)。
實(shí)施上述方法的另一種器件是使用根據(jù)上述方法所寫的掩模所產(chǎn)生的半導(dǎo)體器件。而另一種器件是通過根據(jù)上述方法進(jìn)行直接寫而產(chǎn)生的半導(dǎo)體器件。圖案產(chǎn)生器可以用于實(shí)施上述方法，特別是使用SLM和閃光(flashing)或者頻閃(strobe)部分相干激發(fā)物激光源的圖案產(chǎn)生器。
可以將上述方法應(yīng)用于通過橫跨基底掃描激光、電子或者粒子束來產(chǎn)生光柵化的圖像的控制器。
雖然通過參照上面詳細(xì)描述的例子和優(yōu)選實(shí)施方式公開了本發(fā)明，但是應(yīng)該理解這些例子僅僅是說明的目的而不進(jìn)行任何限定。在所描述的實(shí)施方式中暗含了計(jì)算機(jī)輔助處理。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解只要修改和組合在所附權(quán)利要求的范圍和本發(fā)明的精神之內(nèi)，可以容易地進(jìn)行修改和組合。
權(quán)利要求
1.一種用于調(diào)節(jié)要由包括多個(gè)微元件的器件產(chǎn)生的強(qiáng)度值的方法，所述強(qiáng)度值與矢量圖案數(shù)據(jù)所表示的圖案對(duì)應(yīng)，而所述調(diào)節(jié)與要被應(yīng)用于圖案的修正參數(shù)對(duì)應(yīng)，所述方法包括將矢量圖案數(shù)據(jù)光柵化為被映射到微元件的強(qiáng)度值；確定與修正參數(shù)對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)重采樣位移矢量；和實(shí)時(shí)地，將偏移位置處的光柵化的強(qiáng)度值重采樣，該偏移位置對(duì)應(yīng)于應(yīng)用重采樣位移矢量，和使用重采樣的強(qiáng)度值來控制微元件并且將投影輻射到基底上的輻射敏感層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述微元件是微鏡，而且將強(qiáng)度值一對(duì)一地映射到微鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述微元件是微鏡，而且將強(qiáng)度值大于一的總數(shù)量映射到單個(gè)微鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在直接寫過程中在基底上繪制器件的至少一部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在基底上圖案繪制掩模，以及在光刻過程中使用該掩模在半導(dǎo)體基底上產(chǎn)生器件的至少一部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修正參數(shù)對(duì)橫跨由多個(gè)微元件所投射的場(chǎng)而映射的變形進(jìn)行修正。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修正參數(shù)包括對(duì)圖案中存在的特征重定尺寸，同時(shí)保持特征的位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中特征重定尺寸修正參數(shù)是各向異性的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中實(shí)時(shí)處理還包括在光柵化的強(qiáng)度值中定位特征拐角；和將拐角修正偏移應(yīng)用于拐角相鄰強(qiáng)度值。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中拐角修正偏移與對(duì)矢量域中矢量圖案數(shù)據(jù)中的特征重定尺寸然后將該特征光柵化的結(jié)果之間的差對(duì)應(yīng)，與將特征光柵化然后在光柵域中將該特征重定尺寸相反。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修正參數(shù)平移圖案的位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修正參數(shù)旋轉(zhuǎn)圖案。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中修正參數(shù)放大圖案。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中重采樣還包括使用從圍繞特定重采樣的強(qiáng)度值的至少4乘4個(gè)強(qiáng)度值的近鄰來的數(shù)據(jù)，導(dǎo)出特定重采樣強(qiáng)度值。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中重采樣特定重采樣強(qiáng)度值還包括對(duì)至少?gòu)奶囟ㄖ夭蓸拥膹?qiáng)度值附近的4乘4個(gè)強(qiáng)度值的近鄰來的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，首先處理一行或者一列以導(dǎo)出中間重采樣強(qiáng)度值，然后處理該中間重采樣強(qiáng)度值以產(chǎn)生特定重采樣的強(qiáng)度值。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中重采樣還包括從多個(gè)方法中條件選擇特定的計(jì)算方法，以導(dǎo)出中間重采樣強(qiáng)度值，該條件選擇依賴于近鄰的行或列中的強(qiáng)度值。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中實(shí)時(shí)步驟以每秒至少1000個(gè)圖案變化的速率用圖案變化重新裝載多個(gè)微元件。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中實(shí)時(shí)步驟以每秒至少4000個(gè)圖案變化的速率用圖案變化的重新裝載多個(gè)微元件。
19.一種使用SLM在圖案產(chǎn)生器中修正變形的方法，包括-映射與至少一個(gè)SLM相關(guān)的變形；-產(chǎn)生關(guān)于與變形圖對(duì)應(yīng)的SLM的修正圖；-使用修正圖將圖案從SLM投射到基底上，以消除在被投射到基底上的圖案內(nèi)的變形。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中使用修正圖包括在投射到基底上的圖案中移動(dòng)至少一個(gè)特征的重心。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中在將圖案投射到基底上之前在對(duì)圖案光柵化中使用修正圖。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中在投射步驟中使用修正圖以調(diào)節(jié)沿著包括SLM表面和基底的光路的元件。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中在對(duì)圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行光柵化之前將修正圖應(yīng)用于圖案數(shù)據(jù)。
24.一種圖案產(chǎn)生器器件，包括用于實(shí)施根據(jù)權(quán)利要求1-23中任何一項(xiàng)所述的方法的邏輯和資源。
25.一種使用SLM在圖案產(chǎn)生器中修正變形的器件，包括資源和邏輯用于-產(chǎn)生與至少一個(gè)SLM相關(guān)的變形的圖；和-產(chǎn)生用于與變形圖對(duì)應(yīng)的SLM的修正圖，所述變形圖在將圖案從SLM投射到基底時(shí)使用。
26.一種包括權(quán)利要求25所述的器件的圖案產(chǎn)生器，還包括-耦合到資源和邏輯的SLM；-用于支持基底的機(jī)臺(tái)；-可選擇地耦合SLM和基底的光路。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的圖案產(chǎn)生器，其中邏輯和資源控制SLM。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的圖案產(chǎn)生器，還包括-光柵化器，耦合到資源和邏輯以及到SLM；-其中資源和邏輯在光柵化期間應(yīng)用修正圖。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的圖案產(chǎn)生器，其中將資源和邏輯作為光路的控制元件耦合到光路。
30.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述修正參數(shù)在空間上變化。
31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述修正參數(shù)在時(shí)間上變化。
全文摘要
本發(fā)明涉及工件的生產(chǎn)和精確繪圖，包括用于光刻的光掩模的制造和在諸如半導(dǎo)體基底之類的其他基底上的直接寫操作。具體地說，其涉及對(duì)圖案數(shù)據(jù)應(yīng)用修正，諸如SLM曝光戳域中的變形修正。其可以用于在基底上生產(chǎn)器件?；蛘撸梢詫⒈景l(fā)明實(shí)施為實(shí)施所公開的方法的器件或者包括適用于實(shí)施所公開的方法的程序的制造物品，特別是是存儲(chǔ)器易失性存儲(chǔ)器或者非易失存儲(chǔ)器。
文檔編號(hào)G02B26/02GK1902523SQ200480040291
公開日2007年1月24日 申請(qǐng)日期2004年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月12日
發(fā)明者托布喬恩·桑德斯特羅姆, 馬丁·奧爾森, 馬茨·羅斯林 申請(qǐng)人:麥克羅尼克激光系統(tǒng)公司