專利名稱：像素位置特定方法、圖像偏移修正方法、及圖像形成裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是關于像素位置特定方法、圖像偏移的修正方法，及圖像的形成裝置。尤其是關于具備多個曝光頭的圖像形成裝置中，即使曝光頭之間的相對位置發(fā)生變化，也能以高精度特定曝光頭中相連像素位置的像素位置特定方法，可形成連接點不顯著的高質量圖像的圖像偏移修正方法，及利用圖像偏移修正方法修正曝光頭之間的圖像偏移的圖像形成裝置。
背景技術：
多年來，作為圖像記錄裝置的一方實例，提出了各種利用數(shù)字·微反射鏡·器件(DMD)等空間光調(diào)制的元件(SLM)，用依照圖像數(shù)據(jù)所調(diào)制的光束進行圖像曝光的曝光裝置(例如，Larry J.Hornbeck，Digital LightProcessing and MEMSreflecting the digital display needs of the networkedsociety，THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICALENGINEERING，Proceedings of SPIE Volume2783，8/1996，P.2-13和W.E.Nelson and Robit L Bnuva，Digital micromirror device imaging barfor hard copy，THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICALENGINEERING，Proceeding of SPIE Volume2413，4/1995，P.58-65)。這種DMD，例如，通過在SRAM的各個存儲單元上設置多個微小的微反射鏡構成，以儲畜在各存儲單元中的電荷產(chǎn)生的靜電力，改變微反射鏡的反射面角度。實際進行描繪時，在將圖像數(shù)據(jù)寫入各SRAM中的狀態(tài)下，重調(diào)各個微反射鏡，形成所定的角度，將光的反射方向作為此要求的方向。
作為曝光裝置的一方應用領域，例如，制造液晶顯示器等。
作為制造屏用的曝光裝置，有以擴展曝光范圍為目的，將具備DMD的曝光頭，沿著與輸送基板等感光材料方向成交叉方向，排列多個曝光頭的多頭曝光裝置。
多頭曝光裝置中，可將各個頭之間的相對位置，以高精度調(diào)整到在實用上連接點無問題的程度。
然而，近年來，隨著基板的集成度增高，進而要求更高的分辨率，所以與各曝光頭相對應的圖像相對位置，其偏移必須減小到允許值。
進而曝光頭存在的問題是，由于從光源到成像面，使用了許多光學部件和機械部件，各個部件隨著溫度變化而發(fā)生熱膨脹和熱收縮，同時，因長時間使用，隨時間變化的累積，上述圖像的各個圖像頭，在連接點部分產(chǎn)生的偏移或重疊會達到不容忽視的程度，并導致圖像質量的降低。
在和上述多頭曝光裝置同樣目的使用的多光束曝光裝置中，提出了利用Position-Sensing Device(PSD)或4分割檢測等位置檢測元件，檢測各光束的位置，修正由各光束形成的圖像間產(chǎn)生偏移的方法(例如，特開平10-31170號公報)。
然而，在多頭曝光裝置中，由于曝光頭的間距遠遠小于相鄰光束的間距，所以上述方法很難適用于多頭曝光裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是為解決上述問題而完成的，其目的是對上述多頭曝光裝置等的圖像形成裝置，提供一種由各曝光頭的曝光光束位置，可以特定與上述曝光光束相對應的像素位置的像素位置特定方法，并能使各曝光頭連接點部分的圖像偏移或重疊極小的圖像偏移修正方法，以及圖像形成裝置。
本發(fā)明的第1個方面是提供一種像素位置的特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點的像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，在上述曝光光束位置的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構，同時，將第1曝光頭連接點附近的第1連接像素打開，在上述光束位置檢測機構具備的受光面上，檢測XY坐標中的第1曝光光束位置，將第2曝光頭連接點附近的第2連接像素打開，同時，沿Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測上述受光面上XY坐標中的第2曝光光束位置，由上述光束位置檢測機構在Y軸方向上的移動量，第1曝光頭和上述第2曝光頭在上述受光面上的曝光光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置，以特定連接像素的位置。
上述光束檢測機構的受光面中的X軸和Y軸，分別相對于基準面的X軸和Y軸平行。
因為從上述曝光頭照射的曝光光束相互平行，相對上述基準面垂直，所以上述曝光頭中，在上述第1曝光光束的位置檢測步驟和上述第2曝光光束位置的檢測步驟中，檢測出的曝光光束位置，分別相當于第1連接像素和上述第2連接像素的位置。
這樣，在上述像素位置的特定方法中，在檢測第1曝光光束位置的步驟中，檢測出第1曝光頭的曝光光束，在檢測第2曝光光束位置的步驟中，沿著Y軸方向移動上述光束檢測機構，檢測出第2曝光頭的曝光光束。
因此，上述第1曝光光束位置檢測步驟中和第2曝光光束位置檢測步驟中的曝光光束在X軸方向上的位置之差，相當于第1連接像素和上述第2連接像素在X軸方向上的相對位置之差。
同樣，第1連接像素和上述第2連接像素在Y軸方向上的相對位置之差，是檢測上述第1曝光光束位置的步驟中和檢測第2曝光光束位置的步驟中的曝光光束在Y軸方向上的位置之差與檢測第2曝光光束位置步驟中上述光束檢測機構的移動量之和。
因此，只要測定第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光光束照射位置，就可以特定上述第1連接像素和上述第2連接像素的相對位置之差。
在此，對于修正上述第1曝光頭和上述第2曝光頭之間的偏移或重疊，只要充分判斷上述第1連接像素和上述第2連接像素的相對位置之差就可以。
因此，通過第1方面的像素位置特定方法，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素的相對位置之差，根據(jù)特定的相對位置之差，就可修正輸入給第1曝光頭和上述第2曝光頭的圖像數(shù)據(jù)，即使是第1曝光頭和上述第2曝光頭從初始位置就產(chǎn)生偏移的情況下，也可以防止上述偏移引起曝光頭連接點部分的圖像產(chǎn)生偏移的重疊。
本發(fā)明的第2個方面是提供一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素而形成的同時，相對于掃描方向傾斜配置的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點的像素位置，其特征在于，在上述曝光光束位置的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，能夠在基準面上移動的光束位置檢測機構，同時，依次打開位于上述第1曝光頭連接點附近的像素，沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，將在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構的受光面上的XY坐標中，將與射入最接近X＝0的位置中的曝光光束相對應的像素，特定為第1連接像素，將上述特定為第1連接像素的第1連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，并檢測上述第1曝光頭的曝光光束照射在上述受光面上的XY坐標的原點時，作為上述光束位置檢測機構在基準面上的位置的第1光束位置，依次打開位于上述第2曝光頭連接點附近的像素，在上述光束位置檢測機構受光面上的XY坐標中，將相對于射入最接近X＝0的位置中的曝光光束相對應的像素，特定為第2連接像素，將上述特定為第2連接像素的第2連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測出上述第2曝光頭的曝光光束照射在上述受光面上XY坐標的原點時，作為上述光束位置檢測機構在基準面上的位置的第2光束位置，根據(jù)上述第1光束位置和上述第2光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置。
根據(jù)第2方面的像素位置特定方法，在上述第1光束位置檢測步驟中，檢測出第1光束位置后，在Y軸方向上移動上述光束位置檢測機構，再檢測第2光束位置。因此，第1光束位置和第2光束位置處于相同的X坐標上。因此，第1光束位置和第2光束位置是分別與第1連接像素和上述第2連接像素相對應的曝光光束照射位置。因此，被特定的第1連接像素和上述第2連接像素也處于相同的X坐標上。這樣，如前所述，上述第1連接像素和上述第2連接像素，都存在于第1曝光頭和上述第2曝光頭的連接點部分內(nèi)。因此，通過將要特定的第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像，沿著X軸方向可形成無間斷點的圖像。而且，根據(jù)第1光束位置和第2光束位置之間的距離，即，第1連接像素和上述第2連接像素在Y軸方向上的距離和曝光頭的掃描方向，通過調(diào)節(jié)各曝光頭之間的曝光定位時，可沿著Y軸方向形成無偏移和無重疊的圖像。
本發(fā)明的第3個方面是提供一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，以形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，特定上述曝光頭的連接點處的像素位置，其特征在于，在上述曝光光束的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向和相對于Y軸方向正交的X軸方向，并在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構，同時，將第1曝光頭的連接點附近的第1連接像素打開，沿著X軸和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測曝光光束照射到上述光束位置檢測機構受光面中的原點(x＝0，y＝0)時，作為上述光束位置檢測機構在上述基準面上的位置的第1光束位置(X1，Y1)，打開在第2曝光頭連接點附近的第2連接像素，沿著X軸和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測曝光光束照射在上述光束位置檢測機構受光面中的原點時，作為上述光束位置檢測機構在上述基準面上的位置的第2光束位置(X2，Y2)，根據(jù)上述第1光束位置和第2光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置。
由曝光頭照射的曝光光束相互平行，對上述基準面呈垂直，所以上述第1光束位置和第2光束位置，分別位于上述第1連接像素和上述第2連接像素的基準面上。
上述像素位置的特定方法中，對于第1連接像素和上述第2連接像素的檢測，使用了可沿著X軸和Y軸方向移動的光束位置檢測機構。這樣，當來自第1連接像素的曝光光束照射到上述光束位置檢測機構的原點，將上述光束位置檢測機構的XY坐標上的位置作為第1光束位置，來自第2連接像素的曝光光束照射到上述光束位置檢測機構的原點時，將上述光束位置檢測機構的XY坐標上的位置作為第2光束位置。
光束位置檢測機構，因為可以特定的曝光光束位置范圍不是很寬，所以使用小型的檢測元件。
光束位置檢測機構可以是2維PSD、4分割光檢測器、2維CCD、和2維CMOS中的任何一種。
2維PSD、4分割光檢測器、2維CCD、和2維CMOS，都可以通過曝光頭以2維特定如打開、關閉的像素的那樣的點光位置，因此，在光束位置檢測機構中，以2維特定第1和第2連接像素的位置時，用單一的元件即可完成。
另外，也可以是根據(jù)上述第3方面中所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述曝光頭，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，由調(diào)制光源光的空間調(diào)制元件，選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
在根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，由調(diào)制光源光的空間調(diào)制元件，選擇性地將多個像素形成打開/關閉形態(tài)的曝光頭中，因為能以高精度特定連接像素的位置，所以不管是什么原因，使曝光頭偏離了最初位置的情況下，也可以防止曝光頭之間產(chǎn)生偏移或重疊。
另外，本發(fā)明是一種圖像偏移的修正方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，以形成圖像的圖像形成裝置中，對各曝光頭之間的圖像偏移或重疊進行修正，其特征在于，通過第一方面所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和上述第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)上述特定了像素位置的第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以使上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
在上述圖像偏移的修正方法中，在特定像素位置的步驟中，只測定第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光光束照射位置，就能特定第1連接像素和上述第2連接像素的相對位置之差。
這樣，在修正圖像數(shù)據(jù)的步驟中，根據(jù)上述像素位置特定步驟中特定的第1連接像素和第2連接像素的相對位置之差，修正向第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以使上述第1連接像素和第2連接像素連接圖像。
因此，不管什么原因引起第1曝光頭和上述第2曝光頭從初始位置發(fā)生偏移時，都能防止上述偏移引起曝光頭連接點部分中產(chǎn)生圖像偏移或重疊。
另外，本發(fā)明是一種圖像偏移修正方法，其特征在于，通過上述第一方面所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的像素位置，根據(jù)上述特定了像素位置的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素而連接圖像，在上述圖像數(shù)據(jù)的修正中，對于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的偏移，根據(jù)上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的距離和上述曝光頭的掃描速度，通過設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光定時而進行去除，同時，對于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在X軸方向上的偏移，通過向第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中形成重合，加以去除。
將檢測出第1連接像素的光束檢測機構沿Y軸方向移動，檢測出第2像素后，上述第1連接像素和上述第2連接像素，在Y坐標上的位置不同，但在X坐標上的位置大致相等。
因此，向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，以使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中形成重合。同時，根據(jù)設定第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光定時，以使在Y軸方向上不產(chǎn)生偏移，可以使上述第1連接像素和上述第2像素形成無偏移或無重疊的圖像。
另外，本發(fā)明的圖像偏移修正方法，對于3個以上的曝光頭，也是通過上述像素位置特定方法，特定各個曝光頭中的連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)由上述像素位置特定方法特定的連接像素位置，修正向上述各曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以使上述連接像素連接圖像。
在具備多個曝光頭的圖像形成裝置中，通過在一方曝光頭和與上述一方曝光頭連接圖像的其他曝光頭之間，修正圖像的偏移或重疊，可在曝光頭之間形成無偏移和無重疊，質量優(yōu)良的圖像。
本發(fā)明的第4個方面是提供一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具備能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，由上述曝光頭按一定方向掃描圖像形成面進行曝光，以形成圖像的曝光機構，在上述曝光光束位置的測定中，通過能夠沿著與掃描方向平行的Y軸方向在基準面上移動的光束位置檢測機構，測定具備曝光機構的各個曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構，和根據(jù)上述光束位置檢測機構中的像素位置的檢測結果，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述光束位置檢測機構，是通過本發(fā)明第一方面所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的位置，上述曝光控制機構，是根據(jù)由上述像素位置特定機構特定的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
在上述圖像形成裝置中，通過本發(fā)明的像素位置特定方法，以特定第1連接像素和第2連接像素的相對位置關系，根據(jù)上述相對的位置關系，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，由第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
因此，不管什么理由引起的曝光頭位置發(fā)生偏移，都能自動地修正曝光頭之間的圖像偏移或重疊。為此，不會產(chǎn)生圖像偏移或重疊。
本發(fā)明的第4個方面中所述的圖像形成裝置，其中，上述像素位置特定機構，作為上述光束位置檢測機構，具備選自2維PSD、4分割光探測器、2維CCD、和2維CMOS中的像素位置檢測元件。
2維PSD、4分割光檢測器、2維CCD、和2維CMOS，都可以以2維，由上述曝光頭特定如打開、關閉像素的點光的位置。因此，在光束位置檢測機構中，由于以2維特定第1和第2連接像素的位置，所以用單一的元件即可完成。
另外，這些像素位置檢測元件，任何一方感度都高。為此，特定第1連接像素和第2連接像素的相對位置關系，修正曝光頭之間的圖像偏移或重疊時，減小上述曝光頭的光量，形成圖像時，能夠增大上述曝光頭的光量，等操作。
另外，本發(fā)明的第四方面所述的圖像形成裝置，其中，上述曝光頭具備根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，調(diào)制來自光源光的空間光調(diào)制元件，通過上述空間調(diào)制元件選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
進而，本發(fā)明的第四方面所述的圖像形成裝置，其中，上述空間調(diào)制元件具有相對于上述掃描方向呈傾斜配置的多個像素。
根據(jù)上述圖像形成裝置，在曝光頭之間不產(chǎn)生間隙地容易形成圖像。而且，可以很好地適用本發(fā)明的像素位置特定方法。
進而，本發(fā)明的第四方面所述的圖像形成裝置，其中，上述空間調(diào)制元件的像素是以2維配置而成的。
使用多個設置了以2維配置像素的空間調(diào)制元件的曝光頭，進行曝光的圖像形成裝置，雖然廣泛用于液晶顯示器等的制造中，但，上述圖像形成裝置中，仍需通過本發(fā)明的圖像偏移修正方法，修正曝光頭之間的圖像偏移。因此，即使使用多個曝光頭形成大面積圖像時，曝光頭之間也不會產(chǎn)生偏移或重疊。
本發(fā)明的第5個方面是提供一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點處像素位置，其特征在于，使用具有沿著相對于上述曝光裝置掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動形成的，相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，彼此交叉配置的至少1對狹縫部和測量透過上述狹縫部的曝光光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，測定上述曝光光束的位置，同時，將在第1曝光頭中的圖像連接點附近的第1連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)上述狹縫部的一方和另一方，使透過的曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部的位置，和上述狹縫部相互形成的角度，以特定上述第1連接像素的位置，將在第2曝光頭中的圖像連接點附近的第2連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)上述狹縫部的一方和另一方，使透過的曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部形成的角度，以特定第2連接像素的位置。
在上述像素位置特定方法中，相對于上述曝光頭的像素排列，以相對傾斜而相互交叉配置的狹縫部，至少形成1對的光束位置檢測機構，使其在Y軸方向上移動，檢測出第1連接像素和第2連接像素。
例如，上述光束位置檢測機構通過第1連接像素的下方時，透過上述1對狹縫部的一方時，曝光光束的光量達到峰值后，透過上述1對狹縫部的另一方時，曝光光束的光量也會達到峰值。
因此，根據(jù)上述一方狹縫部中曝光光束的透過光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，和上述另一方狹縫部中曝光光束的透過光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，與上述一方和另一方狹縫部形成的角度，可以特定上述第1連接像素的位置。這對于第2連接像素也是同樣。因此，作為上述光束位置檢測機構的位置，雖然可以采用上述光束位置檢測機構上的某個特定點的位置，但通常將上述狹縫部的交點位置作為基準。
進而，通常以與基準面成直角的方向由曝光頭照射曝光光束，點亮曝光頭的某個像素時，上述基準面上的曝光光束照射位置等于上述像素的位置。因此，在特定上述第1像素位置的步驟和特定第2像素位置的步驟中，可以將以上述光束位置檢測機構檢測出的曝光光束位置作為第1或第2連接像素的位置。
這樣，可以高精度特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置。因此，在不管什么理由引起第1曝光頭和第2曝光頭之間產(chǎn)生位置偏移的情況下，通過對特定的第1連接像素和第2連接像素的位置，控制曝光頭的曝光定時，可以除去曝光頭之間的圖像偏移或重疊。
另外，上述光量測定機構，因為很容易測定透過上述狹縫部的曝光光束量，所以用普通的受光元件就足夠。因此，沒有必要使用2維PSD或4分割檢測器等昂貴的位置檢測元件，檢測上述曝光光束的位置。由此，可以廉價構成光束位置檢測機構。
另外，在以往的技術欄中講述的多頭曝光裝置，通常具有載置想要曝光的基板并按一定方向移送的曝光臺架，上述曝光臺架依靠線性編碼器等，可以高精度檢測出移送方向，即Y軸方向上的位置。
因此，將上述光束位置檢測機構固定在上述曝光臺架的非曝光面上，一邊使上述曝光臺架沿移送方向輸送，一邊由上述線性編碼器進行位置檢測，也可以高精度檢測上述光束位置檢測機構的位置。由此，也能以高精度特定上述第1連接像素和第2連接像素的實際裝置。
大體上直接使用以往的多頭曝光裝置，就能以高精度進行特定上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置。
進而，沿Y軸方向即掃描方向，移動光束位置檢測機構，選擇第1連接像素和上述第2連接像素，特定位置。據(jù)此，作為第2連接像素，可以選擇與第1連接像素在X坐標上差異小的像素。
因此，只控制上述第1連接像素和第2連接像素的曝光定時，去除Y軸方向的偏移，就能消除第1曝光頭和上述第2曝光頭之間的圖像偏移。
另外，作為上述狹縫部，除狹縫部外還可使用衍射光柵。
對于上述光束位置檢測機構，使上述狹縫部向著X軸方向敞開，以V字型、X字型、或T字型配置。
本發(fā)明的第6個方面是提供一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點處像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，使用具備相對于上述曝光頭的像素排列呈相對傾斜，使一方沿著與曝光裝置掃描方向平行的Y軸配置，另一方沿著相對于Y軸方向正交的X軸方向配置的至少1對狹縫部，和測量透過上述狹縫部曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位置，同時，依次打開在上述第1曝光頭的圖像連接點附近的像素，根據(jù)上述光束位置檢測機構中，透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，上述光束位置檢測機構中透過另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，和上述2個像素在Y坐標之差，特定第1連接像素的位置，依次打開在上述第2曝光頭的圖像連接點附近的像素，根據(jù)上述光束位置檢測機構中，透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，上述光束位置檢測機構中透過另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，和上述2個像素在Y坐標之差，特定第2連接像素的位置。
上述像素位置的特定方法中，光束位置檢測機構的狹縫部，一方沿Y軸方向配置，另一方沿X軸方向配置，同時，相對于曝光頭的像素排列形成為傾斜。
按行方向依次點亮第1曝光頭連接點附近的像素，檢測透過沿Y軸方向的狹縫部的曝光光束的量，當上述光量達到峰值時點亮像素，選定為第1連接像素。同樣，按列方向依次點亮上述第1連接像素附近的像素，測定沿X軸方向的透過狹縫部的曝光光量，當上述光量達到峰值時點亮的像素，選定為第1連接像素在Y軸方向上的位置輔助像素。
選定第1連接像素和輔助像素后，由輔助像素的Y坐標、和上述輔助像素與第1連接像素的Y坐標之差，特定第1連接像素的Y坐標。
根據(jù)需要，沿Y軸方向移動上述光束檢測機構，按行方向依次點亮第2曝光頭連接點附近的像素，根據(jù)和第1連接像素的情況同樣的順序，選定為特定第2連接像素和第1連接像素在Y軸方向上的位置的輔助像素，由上述輔助像素的Y坐標，和上述輔助像素與第2連接像素的Y坐標之差，特定第2連接像素的Y坐標。
本像素位置特定方法，在特定第1像素位置的步驟中和特定第2像素位置的步驟中，不移動上述光束位置檢測機構，就可以特定曝光光束的位置。
另外，上述光束位置檢測機構只沿Y軸方向移動。因此，第1連接像素和上述第2連接像素的X坐標是同一坐標。因此，根據(jù)第1連接像素和第2連接像素沿Y軸方向的距離和掃描速度，只控制第1和第2曝光頭的曝光定時，就可以消除第1曝光頭和第2曝光頭之間的圖像偏移或重疊。
本發(fā)明的第7個方面是提供一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點處像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，使用具有在基準面上沿著Y軸方向和X軸方向能夠移動地形成的，Y軸方向上為長的第1狹縫部和X軸方向上為長的第2狹縫部，和測量透過上述第1和第2狹縫部曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位置，同時，打開在第1曝光頭的圖像連接點附近的第1特定像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，特定上述第1連接像素的位置，打開在第2曝光頭的圖像連接點附近的第2特定像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，特定第2連接像素的位置。
在上述像素位置特定方法中，在特定上述第1和第2像素位置的步驟中，沿X軸方向移動上述光束位置檢測機構，探測上述第1狹縫部中的曝光光束。由此，求出上述第1連接像素和上述第2連接像素在X軸方向上的位置，沿Y軸方向移動光束位置檢測機構，探測第2狹縫部中的曝光光束，求出上述第1連接像素和上述第2連接像素在Y軸方向上的位置。
另外，上述第1連接像素和上述第2連接像素在X軸方向，或在Y軸方向上，即使分離的情況下，也可以準確特定兩者的實際位置。由此，通過控制第1和第2曝光頭，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像，并能去除圖像的偏移。
作為光束位置檢測機構，可以舉出，在多曝光頭的曝光臺架上的非曝光面上，具備可以高精度沿X軸方向移動的臺座，可由線性編碼器探頭檢測出臺座的位置，同時在上述臺座上設有上述第1狹縫部和第2狹縫部的光束檢測裝置等。
另外，本發(fā)明是一種圖像偏移的修正方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，修正各曝光頭之間圖像偏移或重疊的圖像偏移修正方法，其特征在于，通過本發(fā)明的第一方面所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭的圖像連接點附近的第1連接像素，和特定第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素的位置，根據(jù)上述特定了的像素位置的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
在上述圖像偏移的修正方法中，在特定像素位置的步驟中，特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置。
同樣，在修正圖像數(shù)據(jù)的步驟中，根據(jù)特定的第1連接像素和第2連接像素的位置之差，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
因此，不管什么原因引起第1曝光頭和上述第2曝光頭從該處的位置偏移了的情況下，也都能有效地去除上述偏移引起曝光頭連接點的圖像偏移或重疊。
另外，根據(jù)所述的圖像偏移修正方法，在上述圖像數(shù)據(jù)修正步驟中，關于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的圖像偏移，是通過根據(jù)上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的距離和上述曝光頭的掃描速度，設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光定時而進行去除，關于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在X軸方向上的圖像偏移，是通過向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中重合而進行去除。
向Y軸方向移動已檢測第1連接像素的光束位置檢測機構，檢測出第2像素。由此，上述第1連接像素和上述第2連接像素在Y坐標上的位置不同，但在X坐標上的位置大致相同。
因此，向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中重合，同時，設定第1曝光頭和第2曝光頭的曝光定時，以不產(chǎn)生Y軸方向偏移，從而可以使上述第1連接像素和上述第2連接像素不產(chǎn)生圖像偏移或重疊。
另外，根據(jù)所述的圖像偏移修正方法，即使對于3個以上的曝光頭，也是通過上述像素位置的特定方法，特定各個曝光頭的連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)由上述像素位置的特定方法特定的連接像素位置，修正向各個曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述連接像素連接圖像。
即使是具備多個曝光頭的圖像形成裝置中，通過在一方曝光頭，和與前一方曝光頭連接圖像的另一方曝光頭之間，通過上述圖像偏移修正方法修正圖像的偏移或重疊?？梢孕纬善毓忸^之間無偏移或重疊的優(yōu)質圖像。
本發(fā)明的第8個方面是提供一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具備選擇性地打開/關閉多個像素的機構，同時，具備按一定方向掃描圖像形成面進行曝光而形成圖像的多個曝光頭的曝光機構；作為檢測各曝光頭的曝光光束的位置的光束位置檢測機構，具有沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動地形成，并相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，彼此交叉地配置的至少1對狹縫部，和測定透過上述狹縫部的上述曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)由上述光束位置檢測機構檢測的曝光光束位置，特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，
上述像素位置特定機構，是在上述曝光機構中，打開在第1曝光頭中圖像連接點附近的第1連接像素，同時，沿Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述光束位置檢測機構所具備的上述狹縫部的一方和另一方曝光光束光量達到峰值時的光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部形成的角度，特定上述第1連接像素的位置，在上述曝光機構中，打開在第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素，同時沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述狹縫部的一方和另一方曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和狹縫部形成的角度，特定上述第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述光束位置檢測機構所特定的第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
上述圖像形成裝置中，通過本發(fā)明的像素位置特定方法，特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置，根據(jù)上述位置，修正向上述第1曝光光頭和第2曝光光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
因此，不管什么原因導致曝光頭的位置發(fā)生偏移時，也都能自動修正曝光頭之間產(chǎn)生的圖像偏移或重疊。由此，不會產(chǎn)生上述的圖像偏移或重疊。
本發(fā)明的第9個方面是一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具選擇性地打開/關閉多個像素的機構，具備按一定方向對圖像形成面進行掃描曝光而形成圖像的多個曝光頭，同時，上述曝光頭的像素相對于上述掃描方向呈傾斜排列的曝光機構；作為檢測各個曝光頭的曝光光束位置的光束位置檢測機構，具有相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，使一方沿著相對于上述曝光裝置的掃描方向平行的Y軸配置，而另一方沿著相對于Y軸方向正交的X軸方向配置的至少1對狹縫部和測定透過上述狹縫部的上述曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)上述由光束位置檢測機構檢測出的曝光光束位置，特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述像素位置特定機構，依次打開在上述第1曝光頭圖像連接點附近的像素，由在上述光束位置檢測機構中，使透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、上述光束位置檢測機構中，使透過上述另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、和上述2個像素的Y坐標之差，以特定第1連接像素的位置，依次打開在第2曝光頭的像素，由在上述光束位置檢測機構中，使透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、上述光束位置檢測機構中，使透過上述另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、和上述2個像素的Y坐標之差，以特定第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
在上述圖像形成裝置中，通過本發(fā)明的圖像位置特定方法，特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置。
因此，特定第1連接像素和上述第2連接像素的位置期間，不需要移動光束位置檢測機構，由此可以更簡化像素位置的特定操作。
本發(fā)明的第10個方面是一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具有選擇性地打開/關閉多個像素機構，同時具備按一定方向對圖像形成面進行掃描曝光而形成圖像的多個曝光頭的曝光機構；具有在基準面上沿Y軸方向和X軸方向能夠移動地形成的，Y軸方向上為長的第1狹縫部和X軸方向上為長的第2狹縫部，和測定透過上述第1和第2狹縫部的曝光光束的光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)上述由光束位置檢測機構檢測出的曝光光束位置，特定上述曝光頭像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，
上述像素位置特定機構，打開上述曝光機構中第1曝光頭的圖像連接點附近的第1連接像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的上述光束位置檢測機構的位置，特定上述第1連接像素的位置，打開上述曝光機構中第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的上述光束位置檢測機構的位置，特定上述第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述由光束位置檢測機構特定的上述第1連接像素和第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
上述的圖像形成裝置中，通過本發(fā)明的像素位置特定方法，特定第1連接像素和上述第2連接像素的實際位置。
因此，第1連接像素和第2連接像素，不僅是在Y軸方向上，即使在X軸方向上產(chǎn)生分離時，通過特定第1連接像素和第2連接像素的實際位置，根據(jù)該位置，控制第1曝光頭和第2曝光頭的曝光，仍可去除圖像的偏移或重疊。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第八方面所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述曝光頭中，選擇性地打開/關閉多個像素的機構，是根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，調(diào)制光源的光，以形成圖像的空間光調(diào)光調(diào)制元件。
進而，根據(jù)上述圖像形成裝置，其特征在于，上述空間光調(diào)制元件，是具備多個反射來自光源的光，同時可以采用2個位置中的任何一方的微小反射鏡，通過根據(jù)圖像數(shù)據(jù)，將上述反射鏡的位置切換到上述2個位置中的任何一方，并切換上述來自光源光的反射路徑，以形成像素的DMD。


圖1是表示本發(fā)明實施方式的曝光裝置立體圖。
圖2是表示具備本發(fā)明實施方式的曝光裝置的掃描器構成立體圖。
圖3是表示在感光材料上形成曝光完畢的區(qū)域平面圖和由各曝光頭形成曝光區(qū)排列的示意圖。
圖4是表示具備本發(fā)明實施方式曝光裝置的曝光頭簡要構成立體圖。
圖5是沿圖4所示曝光頭構成的光軸的掃描方向的剖面圖。
圖6是表示具備圖4所示曝光頭的DMD構成的局部放大圖。
圖7是圖6所示DMD工作原理的說明圖。
圖8是表示由具備本發(fā)明實施方式曝光裝置的曝光頭中的像素選擇連接像素，連接圖像的順序的平面圖。
圖9是表示一例按圖8所示順序連接圖像的平面圖。
圖10是表示本發(fā)明另一實施方式的曝光裝置的構成的立體圖。
圖11是表示由具備圖10所示曝光裝置的曝光頭中的像素選擇連接像素，連接圖像的順序的平面圖。
圖12是表示本發(fā)明又一實施方式的曝光裝置構成的立體圖。
圖13是表示具備圖12所示曝光裝置的面探測器及其周邊的詳細構成的放大平面圖。
圖14是表示用圖13的面探測器特定連接像素P1和P2位置的順序的簡要平面圖。
圖15是表示本發(fā)明又一實施方式曝光裝置的構成的立體圖。
圖16是表示圖15的曝光裝置中，通過一個曝光頭照射的一個圖像區(qū)域，和通過另一曝光頭照射，同時與前一圖像區(qū)域連接的圖像區(qū)域之間位置關系的平面圖。
圖17是表示前一圖像區(qū)域和另一圖像區(qū)域與設在曝光臺架上曝光裝置的狹縫部之間位置關系的平面圖。
圖18是表示通過上述狹縫部特定的一個曝光頭的連接像素與一個連接像素位置的順序的說明圖。
圖19是表示通過狹縫部特定上述另一曝光頭的像素中，與前一個圖像區(qū)域連接的像素位置的順序的說明圖。
圖20是表示從上述另一曝光頭的像素中，由圖19中順序特定了位置的像素中，選擇另一連接像素的順序的說明圖。
圖21是表示由上述一個連接像素和另一連接像素連接成一個圖像區(qū)域和另一圖像區(qū)域的狀態(tài)的平面圖。
圖22是本發(fā)明又一實施方式曝光裝置的構成的立體圖。
圖23是表示通過圖22的曝光裝置中，設在曝光臺架上的狹縫部，特定一個曝光頭中一連接像素位置的順序的說明圖。
圖24是表示連接像素P1和輔助像素P’1沿Y軸方向的位置之差的說明圖。
圖25是表示利用圖22的曝光裝置中相互平行的多個狹縫部，特定連接像素位置順序的說明圖。
圖26是表示本發(fā)明又一實施方式曝光裝置的構成立體圖。
圖27是表示具備圖26所示曝光裝置的光束檢測裝置構成的放大圖。
圖28是表示通過圖26所示曝光裝置中的光束位置檢測裝置，特定連接像素的XY坐標的順序的說明圖。
具體實施例方式
實施方式1對于包含在本發(fā)明的圖像形成裝置中的一例曝光裝置，其整體構成示于圖1。
實施方式1的曝光裝置，是所謂平板型的，如圖1所示，具備表面上吸附片狀感光材料150而保持平板狀的臺架152。臺架152的吸附保持感光材料150的側面，和感光材料150的曝光面，相當于本發(fā)明的圖像形成裝置中的圖像形成面。
上述曝光裝置備有由4個支座154支撐的厚板狀設置臺156，和設置臺156上面的2條導軌158。導軌158被設置在沿圖1中箭頭所示的臺架移動方向。臺架152的配置是其縱向向著臺架的移動方向。臺架152由導軌158能夠往復移動地支撐，由驅動裝置(未圖示)沿導軌158進行移動。
在設置臺156的中央部分，設有跨越臺架152的移動路徑，呈コ字狀的門架160。コ字狀的門架160的各端部固定在設置臺156的兩個側面上。在門架160的一方側面上設有掃描器162。而在另一側面上設有檢測感光材料150前端和后端的多個檢測傳感器164(例如，本實施方式中2個)。掃描器162和檢測傳感器164分別安裝在門架160上，并固定設置在臺架152的移動路徑上方。掃描器162和檢測傳感器164與控制它們的控制器100連接，如下述，利用曝光頭166曝光時，按規(guī)定的定時控制曝光。
在臺架152中的臺架移動方向的下流側的端部上，設有由輸送裝置182，沿相對于臺架移動方向或直角方向，即下述的X軸方向，移動的面探測器180。面探測器180是可以以2維特定曝光光束照射位置的探測器，相當于本發(fā)明像素位置特定方法、圖像偏移修正方法、和圖像形成裝置中的光束位置檢測機構。另外，臺架152的表面，相當于上述像素位置特定方法和圖像偏移修正方法中的基準面。作為面探測器180，具體可以使用PSD或四分割光檢測器等。而且，作為輸送裝置182也可以使用使用了圓頭螺栓或線狀導軌的帶狀驅動機構等，只要是線狀輸送裝置都可以使用。
掃描器162相當于本發(fā)明的圖像形成裝置中的曝光機構，如圖2和圖3B所示，備有以m行n列(例如本實施方式中2行5列)的大致呈矩陣狀排列的多個曝光頭166。
如圖2所示，由曝光頭166被曝光的曝光區(qū)域168，是短邊沿掃描方向的矩形狀，相對于掃描方向，以所定的傾斜角θ傾斜。這樣，伴隨著臺架152的移動，每個曝光頭166在感光材料150上形成曝光完畢的帶狀區(qū)域170。如圖1和圖2所示，掃描方向與臺架移動方向相反。
如圖3A和3B所示，曝光頭166，就以線狀排列而言，是在排列方向上，以所定間距(曝光區(qū)長邊的數(shù)倍，本實施方式中為1倍)錯開配置，使曝光完畢帶狀區(qū)域170，分別與鄰接的曝光完畢的區(qū)域170形成部分重疊。曝光頭166相當于本發(fā)明的圖像形成裝置中的SLM曝光頭。
如圖1所示，實施方式1的曝光裝置，還與控制臺架152移送和各曝光頭166中曝光等的控制器100相連接。控制器100相當于本發(fā)明的圖像形成裝置具備的曝光控制機構。
如圖5A和圖5B所示，各個曝光頭166A-166J，備有DMD 50，以作為依照圖像數(shù)據(jù)，按各像素每一個調(diào)制入射光束的SLM。該DMD 50與具備數(shù)據(jù)處理部和鏡驅動控制部的控制器(未圖示)相連接。由上述控制器的數(shù)據(jù)處理部，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，對各曝光頭166每一個，生成驅動控制DMD50的應控制的區(qū)域內(nèi)的各微反射鏡的控制信號。
另外，在反射鏡驅動控制部，根據(jù)圖像數(shù)據(jù)處理部生成的控制信號，控制按各曝光頭166每一個中DMD 50的各微反射鏡的反射面角度。而且，對反射面角度的控制如下述。
在DMD 50的光入射側，按以下順序配置有具備光纖射出端部(發(fā)光點)，沿著與曝光區(qū)域168的縱向相對應方向排列成一列的激光射出部的纖維陣列光源66；修正從纖維陣列光源66射出的激光，向DMD上進行聚光的透鏡系列67；使透過透鏡系列67的激光向DMD 50進行反射的反射鏡69。
透鏡系列67由以下透鏡構成，即，將由纖維陣列光源66射出的激光形成平行光的1對組合透鏡71，使平行化的激光光量分布形成均勻的，進行修正的1對組合透鏡73，和使修正光量分布的激光光向DMD進行聚光的聚光透鏡75。組合透鏡73備有相對于激光射出端的排列方向，接近透鏡光軸的部分，使光束擴展，而離開光軸的部分，使光束收縮，而且，相對于與該排列方向成正交的方向，使光源直接通過的功能，并對激光進行修正，形成均勻的光量分布。
在DMD 50的光反射側，配置有使DMD 50反射的激光在感光材料150的掃描面(被曝光面)56上成像的透鏡系列54、58。配置透鏡系列54和58，可使DMD 50與被曝光面56形成共軛關系。
本實施方式中，由纖維陣列光源66射出的激光，成形為均勻地照射DMD 50上的像素后，各個像素被設定為使由這些透鏡系列54、58放大約5倍。
如圖6所示，DMD 50是在SRAM單元(存儲單元)60上，由支柱支撐而配置微小反射鏡(微反射鏡)62的部件，將構成像素(圖像單元)的多個(例如，間距13.68μm，1024個×768個)微小反射鏡，以格子狀排列構成的反射鏡裝置。各個圖像單元中，設有最上部由支柱支撐的微反射鏡62，在微反射鏡62的表面上，蒸鍍有鋁等反射率高的材料。而且，微反射鏡62的反射率在90％以上。在微反射鏡62的正下面，通過含有鉸鏈和支架的支柱，配置著通常由半導體存儲器制造線制造的硅柵CMOS的SRAM單元60，全體構成為單塊集成體(一體型)。
向DMD 50的SRAM單元60中，寫入顯示微反射鏡62呈傾斜狀態(tài)(調(diào)制狀態(tài))的數(shù)字信號。進而，由SRAM單元60向微反射鏡62輸出數(shù)字信號時，由支柱支撐的微反射鏡62，將對角線作為中心，相對于配置DMD 50的基板側，以±α度(例如±10度)的范圍形成傾斜。在圖7A中，示出了作為打開狀態(tài)的微反射鏡62以±α度傾斜狀態(tài)。而圖7B中，示出了作為關閉狀態(tài)的微反射鏡62以-α度傾斜狀態(tài)。因此，如圖6、圖7A和7B所示，通過根據(jù)圖像信號，控制DMD 50的各圖像單元中的微反射鏡62傾斜度，射入DMD 50的光，向各個微反射鏡62傾斜的方向反射。
另外，各個微反射鏡62的打開/關閉控制，由與DMD 50連接的未圖示控制器進行。在由關閉態(tài)的微反射鏡62反射光束的方向上，配置有光吸收體(未圖示)。
如上述，在掃描器162中，如圖3A和3B所示，曝光頭166A-166J，第1行和第2行，在列方向上以所定間隔向右方向錯開配置。
因此，例如，位于最左側第1行的曝光區(qū)域168A，和位于曝光區(qū)域168A右側的曝光區(qū)域168C之間未曝光部分，由位于曝光區(qū)域168A右下方的曝光區(qū)域168B進行曝光。同樣，曝光區(qū)域168B，和與曝光區(qū)域168B鄰接的曝光區(qū)域168D之間未曝光的部分，由位于曝光區(qū)域168B右上方的曝光區(qū)域168C進行曝光。以下相同。這樣，在由曝光頭166A～166J在感光材料150的表面上形成一個連續(xù)的圖像時，有必要在與位于各個曝光區(qū)域右側的曝光區(qū)域之間連接圖像。以下將在曝光區(qū)域168A和曝光區(qū)域168B之間連接圖像的情況作為實例，利用圖8進行說明。以下將感光材料150的輸送方向作為Y軸方向，將與上述輸送方向成正交方向作為X軸方向。
首先，移動臺架152，使探測器180位于曝光區(qū)域168A，通過輸送裝置82移動探測器180。
接著，選擇作為通過由曝光頭166A的曝光光束在曝光區(qū)域168A形成的像素而在曝光區(qū)域168B形成的圖像連接的連接像素P1，并點亮。連接像素P1的個數(shù)，可以只一個，也可以2個以上。連接像素P1相當于本發(fā)明中的第1連接像素。
并且，由探測器180檢測連接像素P1(檢測第1曝光光束位置)。將由探測器180檢測連接像素P1時的，連接像素P1在探測器180上的位置取為(X1，Y1)。
接著，在曝光頭166B中，選擇有可能與曝光區(qū)域168A連接的像素P，并點亮。移動臺架152，換句話說，沿著Y軸方向移動探測器180，直到檢測出上述像素中的任何1個(第2曝光光束位置檢測)。將在曝光區(qū)域168B中檢測上述像素時的臺架152移動量，即探測器180的移動量取為Y0。
由探測器180檢測的曝光頭166B的像素P中，將與連接像素P1之間在X軸方向上的距離最小的，選作連接像素P2。將連接P2在探測器180上的坐標取為(X2，Y2)。
如上所述，檢測出連接像素P1(X1，Y1)后，沿Y軸方向移動探測器180，檢測連接像素P2(X2，Y2)。即，檢測連接像素P1(X1，Y1)時，和檢測連接像素P2(X2，Y2)時，探測器180的X坐標是相同的。另外，如圖8所示，探測器上的X軸和Y軸，分別與X軸和Y軸平行。因此，連接像素P1和連接像素P2在X軸方向上的距離，由X坐標上的位置之差X2-X1給出。而X軸方向上的距離，是在Y坐標上的位置之差Y2-Y1上，加探測器180在Y軸方向上的移動距離Y0，即由Y2-Y1+Y0給出。
因此，控制器100，根據(jù)連接像素P1和連接像素P2之間的距離(X2-X1，Y2-Y1+Y0)和感光材料150的輸送速度，即臺架152的移動速度V，設定曝光頭166A和曝光頭166B的曝光定時，以將連接像素P1和連接像素P2之間的圖像偏移減到最小。向曝光頭166A和曝光頭166B輸入圖像數(shù)據(jù)。使以連接像素P1和連接像素P2形成重合圖像。根據(jù)需要，對于輸入的圖像數(shù)據(jù)，進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等的修正。
如前所述，設定曝光頭166A和曝光頭166B的曝光定時的時候，將感光材料150上形成的圖像示于圖9中。在圖9中，圖像169A是由曝光頭166A在感光材料150上形成的圖像，圖像169B是由曝光頭166B在感光材料150上形成的圖像。
如圖9所明確，將連接圖像169A和圖像169B的連接像素P1和連接像素P2，在X軸方向上的位置大致相等。而且通過修正曝光頭166A和曝光頭166B的曝光定時，連接像素P1和連接像素P2之間，在Y軸方向上不會產(chǎn)生偏移或重疊。因此，圖像169A和圖像169B，在連接點處，幾乎不產(chǎn)生偏移或重疊。
接著，由輸送裝置182驅動探測器180，移動到曝光頭166B和曝光頭166C的接縫處。以和曝光頭166A和曝光頭166B同樣的順序，特定分別在曝光頭166B和曝光頭166C中形成的圖像169B和圖像169C的連接像素。通過依次重復該順序，特定整個吸光裝置的曝光頭166卷的連接像素，對輸入到各曝光頭166中的圖像數(shù)據(jù)，進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等修正，使圖像在連接像素中重合。由此，在整個曝光區(qū)域內(nèi)形成無接縫偏移或重疊的圖像。
這樣，在實施方式1的曝光裝置中，即使受溫度變化引起各部件的熱膨脹或熱收縮，和因長期使用隨時間變化的累積，曝光頭166A～曝光頭166J相互間的位置發(fā)生變化時，也可以將由曝光頭166A～曝光頭166J形成的圖像169A～圖像169J連接點處的圖像偏移或重疊限制到最小限度。為此，即使制作大面積圖像時，也能得到無明顯接縫和偏移的優(yōu)質圖像。
因此，感光材料150為大面積時，也可以形成高質量的圖像，所以將上述曝光裝置用于制造大面積的印刷配線基板、TFT、液晶顯示裝置的彩色濾光片、和等離子體顯示屏時，仍能有效地防止因曝光頭166之間的圖像偏移而產(chǎn)生不合格產(chǎn)品。
實施方式2關于另一例包含在本發(fā)明的圖像形成裝置中的曝光裝置，圖10中示出了整體構成。關于與實施方式1相同的構成部分，省去重復說明。與實施方式1相同的符號，原則上是指相同的構成要件。
實施方式2的曝光裝置和實施方式1的曝光裝置同樣，是所謂的平板型的，如圖10所示，備有表面吸附保持片狀感光材料150的平板狀臺架152。
但是，沿著臺架移動方向，在臺架152中的下流側的端部，取代實施方式1的曝光裝置具備的探測器180，而配置有沿X軸方向，即與臺架移動方向成正交方向固定的，具有6個面探測器184a-184f的面探測器184。面探測器184也相當于本發(fā)明中的光束位置檢測機構。面探測器184與實施方式1中的面探測器180同樣。而且，面探測器184的檢測面上的X軸和Y軸分別平行于曝光裝置的X軸和Y軸。因此，曝光頭166的像素相對于面探測器184的X軸和Y軸呈傾斜而排列的。
以下對在曝光區(qū)域168A和曝光區(qū)域168B中選擇連接像素P1和連接像素P2的順序進行說明。
首先，移動臺架152，使面探測器184位于曝光區(qū)域168的下方。
接著，在曝光區(qū)域168A中依次點亮曝光頭166A的像素，如圖11A所示，用面探測器184a～184f中的任何一方檢測上述像素，以下為簡化起見，將用面探測器184a檢測上述像素的情況作為實例進行說明。
用面探測器184a檢測上述像素后，將上述像素中與面探測器184中X＝0的位置最接近的像素作為連接像素P1(a，b)。而(a，b)就是連接像素P1在XY平面上的位置。
接著移動臺架152，換句話說，就是在Y軸方向上移動面探測器184，使連接像素P1位于面探測器184a中Y＝0的線上，檢測此時的臺架152的移動量Y1。上述Y1相當于移動探測器184之前的連接像素P1的Y坐標b。因此，將連接像素P1的XY坐標特定為(a，Y1)。
設定連接像素P1的XY坐標后，和P1的情況同樣，依次點亮曝光頭166B的像素，將曝光區(qū)域168B中與探測器184a中X＝0的位置最接近的像素取為連接像素P2(c，d)。而(c，d)就是連接像素P2在XY平面上的位置。
接著，移動臺架152，使連接像素P2位于探測器184a的原點(o，o)上，檢測此時臺架152的移動量Y2。上述Y2相當于移動探測器184a之前連接像素P2的Y坐標d。因此，將連接像素P2的XY坐標特定為(c，Y2)。
因此，連接像素P1和連接像素P2是與同一方面探測器184a中X＝0的位置最接近的像素，所以X軸方向上的距離，即X軸方向上的距離幾乎為0。
因此，選定連接像素P1和連接像素P2，特定為XY坐標后，控制器100根據(jù)連接像素P1和連接像素P2之間在Y軸方向上的距離(Y2-Y1)和感光材料150的移送速度，即臺架152的移動速度V，設定曝光頭166A和曝光頭166B的曝光定時，在連接像素P1和連接像素P2的Y軸方向上使圖像重合。同時，向曝光頭166A和曝光頭166B輸入圖像數(shù)據(jù)，在X軸方向上，由連接像素P1和連接像素P2形成為同一圖像。
據(jù)此，如圖9所示，可以防止圖像169A和圖像169B之間產(chǎn)生偏移或重疊。
在實施方式2的曝光裝置中，將X軸方向上的位置實際相等的連接像素P1和P2選作連接像素，進行圖像數(shù)據(jù)變換，使圖像在連接像素P1和連接像素P2中重合一致。為此，與實施方式1的曝光裝置相比，可以形成圖像連接點處偏移或重疊極少的圖像。
接著，以同樣的順序，通過探測器184b特定由曝光頭166B和曝光頭166C分別形成的圖像169B和圖像169C的連接像素。通過依次重復該順序，特定曝光裝置所有曝光頭之間的連接像素，對向各曝光頭166輸入的圖像數(shù)據(jù)，修正圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等，使圖像在連接像素中形成重合。由此在整個曝光區(qū)域內(nèi)，可以形成連接點處無偏移或重疊的圖像。
因此，在將上述曝光裝置用于制造大面積印刷配線基板、TFT、液晶顯示裝置的彩色濾光片，和等離子體顯示屏的情況下，仍能有效地防止因曝光頭166之間的圖像偏移導致不合格產(chǎn)品的發(fā)生。
實施方式3對于本發(fā)明的圖像形成裝置中包含的又一例曝光裝置，其整體構成示于圖12中。對于和實施方式1同樣的構成部分，其說明省略，與實施方式1相同的符號，原則上是指同一構成要件。
實施方式3的曝光裝置與實施方式1的曝光裝置相同，是所謂的平板型的，如圖12所示，備有表面上吸附保持片狀感光材料150的平板狀臺架152。
但是，在臺架152中的沿臺架移動方向下流側的端部，設有由高精度移送裝置187能夠沿X軸方向移動的面探測器186，如圖13所示，在臺架152的下流側的端部，在整個寬度上設有沿X軸方向的溝185。面探測器186在溝185的內(nèi)側中滑動。在溝185中還設有檢測面探測器186在X軸方向上位置的線性編碼器188，并以夾持住線性編碼器188的形態(tài)設有2個移送面探測器186的輸送裝置187。作為輸送裝置187可以使用圓頭螺栓和直線電動機等。另外，作為輸送裝置187而使用圓頭螺栓時，如果對于圓頭螺栓的驅動使用脈沖電機，則可以根據(jù)脈沖電機輸送的脈沖個數(shù)和每個脈沖使面探測器186的移動距離，特定面探測器186的位置。因此，也就不需要線性編碼器188。
對于實施方式3的曝光裝置中特定連接像素位置的順序，參照圖14進行說明。
首先，在曝光頭166A的像素中，選擇要與曝光區(qū)域168B連接的像素，指定為連接像素P1，并點亮。連接像素P1可以是1個，也可以是2個以上。
接著，由輸送裝置187沿著X軸方向移動面探測器186，同時，移動臺架152，使面探測器186在Y軸方向上移動，在來自連接像素P1的曝光光束射入面探測器186的原點(0，0)時刻，停止面探測器186的移動。根據(jù)此時由線性編碼器188檢測出的面探測器186位置，和由臺架152的移動量求出的臺架152的位置，求出連接像素P1在XY面上的位置(X1，Y1)。
接著在曝光頭166B的像素中選擇要與曝光區(qū)域168A連接的像素，并將這些像素全部點亮。同樣，通過和已敘述的連接像素P1時同樣的順序，求出上述像素的XY坐標。而且，在上述像素中，將X坐標與連接像素P1的X坐標X1最接近的像素取為連接像素P2(X2，Y2)。
求出曝光區(qū)域168A的連接像素P1(X1，Y1)和曝光區(qū)域168B的連接像素P2(X2，Y2)后，控制器100根據(jù)連接像素P1和連接像素P2之間在Y軸方向上的距離(Y2-Y1)和感光材料150的移送速度，即臺架152的移動速度V，向曝光頭166A和曝光頭166B設定曝光定時，使連接像素P1和連接像素P2之間的偏移最小。另外，曝光頭166A和曝光頭166B中，根據(jù)需要，進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等的修正。由此，得到如圖9所示的圖像168A和圖像168B。
實施方式3的曝光頭中，不僅使面探測器186在Y軸方向上移動，而且在X軸方向上也移動，求出連接像素P1和連接像素P2的位置。
因此，連接像素P1和連接像素P2在X軸方向上的距離，即使很大的情況下，也可以特定連接像素P1和連接像素P2在XY面上的實際位置。同樣，根據(jù)上述實際位置，通過控制曝光頭166A和曝光頭166B的圖像信號輸入，可以防止在曝光頭166A和曝光頭166B之間形成圖像的偏移或重疊。
接著，由輸送裝置187將探測器180移動到曝光頭166B和曝光頭166C的連接點處，按照同樣的順序，特定由曝光頭166B和曝光頭166C分別形成圖像169B和圖像169C的連接像素。通過依次重復該順序，特定曝光裝置所有曝光頭166之間的連接像素，通過相對于向曝光頭166輸入的圖像數(shù)據(jù)實施圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等修正，使圖像在連接像素中重合，可以在整個曝光區(qū)域內(nèi)形成連接點處無偏移或重疊的圖像。
這樣，使用實施方式3的曝光裝置，即使使用多個曝光頭166進行大面積的感光材料150進行曝光的情況下，仍能在感光材料150上形成連續(xù)很大的圖像，并且曝光區(qū)域168之間無偏移和間隙，無重疊。
因此，將上述曝光裝置用于制造大面積印刷配線基板、TFT、液晶顯示裝置的彩色濾光片、和等離子體顯示屏時，仍能有效地防止因曝光頭166之間的圖像偏移而產(chǎn)生不合格產(chǎn)品。
如以上說明，根據(jù)本發(fā)明可提供一種在上述多頭曝光裝置中，由曝光頭進行曝光的曝光區(qū)域之間偏移極小，并能形成連續(xù)的大型圖像的圖像形成裝置和圖像偏移修正方法。
實施方式4關于本發(fā)明的圖像形成裝置中包含的又一例曝光裝置，整體構成示于圖15。對于和實施方式1同樣的構成部分，省略其說明，與實施方式1同樣的符號，原則上是指同一構成要件。
實施方式4的曝光裝置，和實施方式1同樣，是所謂的平板型的，如圖1所示，備有表面上吸附保持片狀感光材料150的平板狀曝光臺架152?？刂茠呙杵?62和檢測傳感器164的控制器省去圖示。
在實施方式4中，在曝光臺架152中沿著輸送方向(掃描方向)的上流側(以下有時只稱“上流側”)的端部，形成多個向著X軸方向敞開，以箭頭形狀形成的狹縫部120。
狹縫部120是由位于上流側的狹縫部120a和位于下流側的狹縫部120b構成。狹縫部120a和狹縫部120b相互交叉，相對于Y軸，狹縫部120a具有135度的角度，狹縫部120b具有45度的角度。
在狹縫部120的下方，形成檢測從曝光頭166發(fā)出光的探測器(未圖示)。
狹縫部120和上述探測器與曝光臺架152一起沿Y軸方向移動。而且，狹縫部120和上述探測器相當于本發(fā)明中的光束位置檢測機構。
狹縫部120a和狹縫部120b，在本實施方式中，相對于掃描方向，以45度的角度形成。但是，狹縫部120a和狹縫部120b，相對于曝光頭166的像素排列形成傾斜，同時，相對于掃描方向，即臺架移動方向形成傾斜，相對于掃描方向的角度，并不限定為上述角度。也可以使用衍射光柵取代狹縫部120。
和實施方式1同樣，掃描器162中，位于第1行最左側的圖像區(qū)域168A，和位于圖像區(qū)域168A右側的圖像區(qū)域168C之間不能曝光的部分，由位于第2行最左側的圖像區(qū)域168B進行曝光。由此，與圖像區(qū)域168A連接的圖像區(qū)域是圖像區(qū)域168B。在圖16中示出了圖像區(qū)域168A和圖像區(qū)域168B的位置關系。在圖16以后中，將掃描方向取為X軸，將曝光頭166的排列方向取為Y軸。
如圖16所示，圖像區(qū)域168A和圖像區(qū)域168B，在曝光頭166A的像素連接像素P1和曝光頭166B的像素連接像素P2中進行連接。連接像素P1和連接像素P2分別是本發(fā)明中第1連接像素和上述第2連接像素的實例。
以下對選擇連接像素P1和連接像素P2，特定實際位置的順序進行說明。
首先，移動曝光臺架152，使狹縫部120位于掃描器162的下方，將曝光頭166A的像素中，與曝光頭166B的像素重合的像素，選作連接像素P1，并點亮。
接著，如圖17和圖18所示，慢慢移動曝光臺架152，使狹縫部120沿Y軸方向移動，位于圖像區(qū)域168A內(nèi)。將此時的狹縫部120a和狹縫部120b的交點取為(X0，Y0)。因此，如上所述，狹縫部120a相對Y軸成135度的角度，狹縫部120b相對Y軸成45度的角度。而且，圖1 8以后中，將從Y軸，以反時針方向進行旋轉的方向取為正的角。
接著，如圖18所示，移動曝光臺架152，使狹縫部120沿Y軸移動到圖18中的右方。這樣如圖18中雙點劃線所示，來自連接像素P1的光通過左側的狹縫部120a，在由探測器檢測出時，停止移動曝光臺架152。將此時狹縫部120a和狹縫部120b的交點取為(X0，Y11)。
再次移動曝光臺架152，使狹縫部120沿Y軸移動到圖18中的左方。這樣，如圖18中雙點劃線所示，來自連接像素P1的光通過右側的狹縫部120b，由探測器檢測出的時刻，停止移動曝光臺架152。將此時狹縫部120a和狹縫部120b的交點取為(X0，Y12)。
因此，將連接像素P1的坐標取為(X1，Y1)時，以X1＝X0+(Y11-Y12)/2表示，以Y1＝(Y11+Y12)/2表示。
求出連接像素P1的坐標后，熄滅連接像素P1，將曝光頭166B的像素中，應與圖像區(qū)域168A連接的所有像素中，位置最接近的連接像素P1的像素，選作連接像素P2，并進行點亮。
而且，只沿Y軸移動曝光臺架152，使狹縫部120位于圖像區(qū)域168B中。將此時的狹縫部120a和狹縫部120b的交點坐標取為(X0，Y0+Y)。
同樣，如圖19所示，移動曝光臺架152，使狹縫部120沿Y軸移動到圖19中的右方。如圖19中雙點劃線所示，來自連接像素P2的光通過左側的狹縫部120a，由探測器檢測出的時刻，停止移動曝光臺架152。將此時狹縫部120a和狹縫部120b的交點取為(X0，Y21)。
再次移動曝光臺架152，使狹縫部120沿Y軸移動到圖19中的左方。同樣，和圖19中雙點劃線所示，來自連接像素P2的光，通過右側的狹縫部120b，由探測器檢測出的時刻，停止移動曝光臺架152。將此時狹縫部120a和狹縫部120b的交點取為(X0，Y22)。
因此，將連接像素P2的坐標取為(X2，Y2)時，以X2＝X0+(Y21-Y22)/2表示，Y2＝(Y21+Y22)/2表示。
對于如此求出的連接像素P2(X2，Y2)，如圖20所示，求出與連接像素P1的X坐標之差ΔX＝X2-X1。而且，將上述像素P2中，X坐標之差ΔX最小的像素選作連接像素P2(X2，Y2)。
連接像素P1和連接像素P2，在X軸方向上的偏移極小。因此，通過修正曝光定時，去除Y軸方向的偏移，通過控制向曝光頭166A和曝光頭166B輸入的圖像數(shù)據(jù)，使之對于X軸方向圖像重合，如圖21所示，可以除去連接像素P1和連接像素P2之間的圖像偏移或重疊。
在曝光頭166A中指定多個連接像素P1，對于該多個連接像素P1分別按上述順序特定實際的XY坐標(X1，Y1)，同時，對于上述各個連接像素P1，從曝光頭166B的像素中指定連接像素P2，只要特定實際的XY坐標(X2，Y2)，則進一步減少曝光頭166A和曝光頭166B之間的圖像偏移或重疊。
在實施方式4的曝光裝置中，移動曝光臺架，由探測器檢測透過狹縫部120a和狹縫部120b的曝光光束的光量。據(jù)此，可以從曝光頭166A和曝光頭166B的像素中選出連接像素P1和連接像素P2，同時特定其實際位置。
因此，在選擇連接像素P1和連接像素P2，并特定其位置時，不需要昂貴的大型附加設備。
進而，曝光頭166A和曝光頭166B之間的相對位置關系，不管什么原因引起偏差時，根據(jù)有關連接像素P1和連接像素P2的實際位置信息，通過控制向曝光頭166A和曝光頭166B中輸入的圖像數(shù)據(jù)，可以高精度修正曝光頭166A和曝光頭166B之間的圖像偏移或重疊。
以上對通過使用狹縫部120a和狹縫部120b，以特定曝光頭166A和曝光頭166B的連接像素，形成無偏移或重疊的圖像的方法作了敘述。通過依次重復同樣的順序，特定曝光裝置100的所有曝光頭166之間的連接像素，對向上述曝光頭166輸入的圖像數(shù)據(jù)可以進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等修正，使圖像在上述連接像素中重合，并在整個曝光區(qū)域內(nèi)可以形成連接點處偏移極少的圖像。
實施方式5關于本發(fā)明的圖像形成裝置中包含的另一例曝光裝置，整體構成示于圖22中。另外，對于和實施方式1同樣的構成部分，省去其說明。與實施方式1相同的符號，原則上是指同一構成要件。進而省去了控制掃描器162和檢測傳感器164的控制器的圖示。
如圖22所示，實施方式5的曝光裝置中，在曝光臺架152中的上流側端部，設有由平行于Y軸的狹縫部130a和平行于X軸的狹縫部130b而成的狹縫部130。狹縫部130a和狹縫部130b以T字形設置。在狹縫部130a和狹縫部130b的下方，設有檢測透過狹縫部130a和狹縫部130b的曝光光束的探測器。
以下對實施方式5的曝光裝置中，從曝光頭166A的像素中選定連接像素P1，并特定位置的順序進行說明。
首先，移動曝光臺架152，使狹縫部130位于圖像區(qū)域168A和圖像區(qū)域168B的連接點附近。
在狹縫部130位于曝光頭166A和曝光頭166B的下方后，使曝光臺架152停止在上述位置上。并且，如圖23所示，沿著曝光頭166A的某個行方向(橫方向)依次點亮像素。同樣，沿曝光頭166A的某列方向(縱方向)，從下方向上方依次點亮像素。
如圖23所示，點亮像素P1(a，n)時，探測器檢測出狹縫部130a的光量峰值，點亮像素P’1(m，b)時，探測器檢測出狹縫部130b的光量峰值時，將曝光頭166A的像素P1選作連接像素P2，將像素P’1選作輔助像素。連接像素P1(a，n)和輔助像素P’1(m，b)的(a，n)和(m，b)，分別表示連接像素P1和輔助像素P’1的X坐標和Y坐標。
因此，如圖24所示，連接像素P1(a，n)和輔助像素P’1(m，b)在Y軸方向上的位置差ΔY1，以下式給出。
ΔY1＝b-n接著，將曝光臺架152只移動距離Ys，從左方向右方依次點亮曝光頭168B的某行像素，同樣地，沿著X軸方向，從下方向上方依次點亮某列的像素。
這時，點亮像素P2(c，n’)時，探測器檢測出狹縫部130a的光量峰值，點亮像素P’2(m’，d)時，探測器檢測出狹縫部130b的光量峰值時，將上述像素P2(c，n’)選作連接像素，將像素P’2選作輔助像素。
連接像素P2(c，n’)和輔助像素P’2(m’，b)在Y軸方向上的位置差ΔY2，以下式給出。
ΔY2＝(d-n’)檢測連接像素P1(a，n)時，和檢測連接像素P2(c，n’)時，狹縫部130在X軸方向上完全不移動，因此，連接像素P1(a，n)和連接像素P2(c，n’)的X坐標是一致的。而Y軸方向的距離，以下式給出。
Ys+ΔY2-ΔY1＝Ys+d-n’-(b-n)因此，通過進行在連接像素P1(a，n)和連接像素P2(c，n’)之間，根據(jù)上述Y軸方向的距離修正點亮定時，可以除去曝光頭166A和曝光頭166B之間的偏移或重疊。
以上對利用狹縫部130a和狹縫部130b每一方選定連接像素P1(a，n)和連接像素P2(c，n’)，特定位置的實例作了敘述。另外，如圖25所示，使狹縫部130a和狹縫部130b與沿著曝光頭166A和曝光頭166B的像素的X軸方向和Y軸方向的間距一致而設定多個，以增加透光量。由此可以提高像素的檢測精度，并更高精度的圖像連接成為可能。
在實施方式5的曝光裝置中，連接像素P2與連接像素P1的X坐標是相同的。因此，若控制向曝光頭166A和曝光頭166B輸入的圖像數(shù)據(jù)，就X軸方向輸入相同的圖像數(shù)據(jù)，則完全去除曝光頭166A和曝光頭166B之間的圖像偏移。即使Y軸方向上產(chǎn)生圖像偏移，通過調(diào)整點亮定時，也能消除連接像素P1和連接像素P2之間的偏移。
因此，比實施方式4的曝光裝置，獲得更高精度的圖像連接成為可能。
另外，在選擇好連接像素P1和連接像素P2的期間，就停止移動曝光臺架。因此，與實施方式4的曝光裝置比較，在連接圖像的選定和位置特定時可以進一步減少移動曝光臺152的頻率。
以上對通過使用狹縫部130a和狹縫部130b特定曝光頭166A和曝光頭166B的連接像素，形成無偏移或重疊圖像的方法作了講述。通過依次重復同樣的順序，特定曝光裝置所有曝光頭166間的連接像素，對輸入上述曝光頭166的圖像數(shù)據(jù)進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等的修正，以使圖像在上述連接像素中重合，所以在整個曝光區(qū)域內(nèi)形成連接點處極少偏移的圖像。
實施方式6本發(fā)明的圖像形成裝置中包含的又一例曝光裝置，整體構成示于圖26中。另外，對于和實施方式1相同的構成部分省去說明。與實施方式1相同的符號，原則上是指同一構成要件。進而，省去了控制掃描器162和檢測傳感器164的控制器的圖示。
如圖26所示，在實施方式6的曝光裝置中，在曝光臺架152的上流側端部，設有與本發(fā)明光束位置檢測機構相對應的光束位置檢測裝置140。
光束位置檢測裝置140的詳細情況示于圖27。
如圖26和圖27所示，光束位置檢測裝置140，在曝光臺架152的上流側端部，沿X軸方向設置的溝148的內(nèi)部滑動的臺座142，和沿臺座142的移動方向，被設置在溝148的中央部分。另外，備有檢測臺座142的X軸方向上位置的線性編碼器144、和在溝148內(nèi)側，移動臺座142的一對圓頭螺栓146。在臺座142上相互平行地設有2條線性導軌(未圖示)。而且，圓頭螺栓146由電機(未圖示)進行旋轉，使臺座142移動。
臺座142，形成有上表面，使之位于與曝光臺架152的曝光面同一方面上。在臺座142的上表面上，沿X軸方向設有狹縫部140a，沿Y軸方向設有狹縫部140b。狹縫部140a和狹縫部140b相互正交。在狹縫部140a和狹縫部140b的下方，設有探測器(未圖示)，以檢測透過狹縫部140a和140b的透光光束。
以下，在上述曝光裝置中，從曝光頭166A和曝光頭166B的像素中，選擇特定像素P1和特定像素P2，并特定其實際位置。
首先，移動曝光臺架152，沿Y軸方向移動光束位置檢測裝置140。另外，使光束位置檢測裝置140的臺座142沿溝148移動，并使臺座142位于圖像區(qū)域168A和圖像區(qū)域168B的連接點部分。
接著，在曝光頭166A的像素中，選擇要與圖像區(qū)域168B連接的像素，作為連接像素P1。
這樣，如圖28所示，稍微移動曝光臺架152，沿Y軸方向移動臺座142。來自連接像素P1的曝光光束透過狹縫部140a的光量達到峰值時，停止移動曝光頭152，由曝光臺架151上設置的線性編碼器144檢測曝光臺架152在Y軸方向上的位置。這樣，將上述Y軸方向上的位置作為連接像素P1的Y坐標Y1。
接著由圓頭螺栓146沿X軸方向移動臺座142，當曝光光束透過狹縫部140b的光量達到峰值后，由線性編碼器144檢測出此時臺座142在X軸方向上的位置，這樣將上述X軸方向上的位置作為連接像素P1的X坐標X1。
特定連接像素P1的位置后，熄滅連接像素P1，代之點亮曝光頭166B的像素中要與圖像區(qū)域168A連接的像素P2，通過光束位置檢測裝置140，按同樣的順序，求出像素P2的XY坐標(X2，Y2)。
將求出坐標的像素P2的XY坐標(X2，Y2)與連接像素P1的XY坐標(X1，Y1)比較，將最接近連接像素P1的像素P2選作連接像素P2(X2，Y2)。
這樣特定了連接像素P1和連接像素P2的實際位置后，根據(jù)上述位置，控制向曝光頭166A和曝光頭166B輸入的圖像數(shù)據(jù)，由連接像素P1和連接像素P2連接圖像。
根據(jù)實施方式6的曝光裝置，在很短的時間內(nèi)，由光束位置檢測裝置140求出連接像素P1和連接像素P2的準確的XY坐標。據(jù)此，作為連接像素P1和連接像素P2，在選擇X坐標不一定就是相同的時，仍能準確地連接圖像。
以上對使用光束位置檢測裝置140，特定曝光頭166A和曝光頭166B的連接像素，形成無偏移或重疊圖像的方法作了講述。通過依次重復同樣的順序，特定曝光裝置100的所有曝光頭166之間的連接像素，并對向上述曝光頭166輸入的圖像數(shù)據(jù)，進行圖像數(shù)據(jù)偏移、圖像旋轉、倍率變換等的修正，可以使圖像在上述連接像素中形成重合，并可以在整個曝光區(qū)域內(nèi)形成連接點處極少偏移的圖像。
正如以上說明，根據(jù)本發(fā)明，在上述多頭曝光裝置中，提供了一種由各個曝光頭形成圖像之間極少偏移的曝光裝置，和利用上述曝光裝置進行曝光，可以修正圖像偏移的方法。
權利要求
1.一種像素位置的特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點的像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，在上述曝光光束位置的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構，同時，將第1曝光頭連接點附近的第1連接像素打開，在上述光束位置檢測機構具備的受光面上，檢測XY坐標中的第1曝光光束位置，將第2曝光頭連接點附近的第2連接像素打開，同時，沿Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測上述受光面上XY坐標中的第2曝光光束位置，由上述光束位置檢測機構在Y軸方向上的移動量，和第1曝光頭和上述第2曝光頭在上述受光面上的曝光光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置，以特定連接像素的位置。
2.根據(jù)權利要求1所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述光束位置檢測機構是為2維PSD、4分割光探測器、2維CCD、和2維CMOS中的任何一種像素位置檢測元件。
3.根據(jù)權利要求1所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述曝光頭，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，由調(diào)制光源光的空間調(diào)制元件，選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
4.一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素而形成的同時，相對于掃描方向傾斜配置的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點的像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，在上述曝光光束位置的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，能夠在基準面上移動的光束位置檢測機構，同時，依次打開位于上述第1曝光頭連接點附近的像素，沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，將在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構的受光面上的XY坐標中，將與射入最接近X＝0的位置中的曝光光束相對應的像素，特定為第1連接像素，將上述被特定為第1連接像素的第1連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，并檢測上述第1曝光頭的曝光光束照射在上述受光面上的XY坐標的原點時，作為上述光束位置檢測機構在基準面上的位置的第1光束位置，依次打開位于上述第2曝光頭連接點附近的像素，在上述光束位置檢測機構受光面上的XY坐標中，將相對于射入最接近X＝0的位置中的曝光光束相對應的像素，特定為第2連接像素，將上述特定為第2連接像素的第2連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測出上述第2曝光頭的曝光光束照射在上述受光面上XY坐標的原點時，作為上述光束位置檢測機構在基準面上的位置的第2光束位置，根據(jù)上述第1光束位置和上述第2光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置。
5.根據(jù)權利要求4所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述光束位置檢測機構是為2維PSD、4分割光探測器、2維CCD、和2維CMOS中的任何一種像素位置檢測元件。
6.根據(jù)權利要求4所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述曝光頭，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，由調(diào)制光源光的空間調(diào)制元件，選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
7.一種像素位置特定方法，是在將選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，特定上述曝光頭的連接點處的像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，在上述曝光光束的測定中，使用沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向和與Y軸方向正交的X軸方向，在基準面上能夠移動的光束位置檢測機構，同時，將第1曝光頭的連接點附近的第1連接像素打開，沿著X軸和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測曝光光束照射到上述光束位置檢測機構受光面中的原點(x＝0，y＝0)時，作為上述光束位置檢測機構在上述基準面上的位置的第1光束位置(X1，Y1)，打開在第2曝光頭連接點附近的第2連接像素，沿著X軸和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測曝光光束照射在上述光束位置檢測機構受光面中的原點時，作為上述光束位置檢測機構在上述基準面上的位置的第2光束位置(X2，Y2)，根據(jù)上述第1光束位置和第2光束位置，特定上述第1連接像素和上述第2連接像素在上述基準面上的位置。
8.根據(jù)權利要求7所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述光束位置檢測機構是為2維PSD、4分割光探測器、2維CCD、和2維CMOS中的任何一種像素位置檢測元件。
9.根據(jù)權利要求7所述的像素位置特定方法，其特征在于，上述曝光頭，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，由調(diào)制光源光的空間調(diào)制元件，選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
10.一種圖像偏移的修正方法，是在將選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，對各曝光頭之間的圖像偏移或重疊進行修正的圖像偏移修正方法，其特征在于，通過權利要求1所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和上述第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)上述特定了像素位置的第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以使上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
11.根據(jù)權利要求10所述的圖像偏移修正方法，通過權利要求1所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和上述第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的像素位置，根據(jù)上述特定了像素位置的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像，在上述圖像數(shù)據(jù)的修正中，其特征在于，對于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的偏移，根據(jù)上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的距離和上述曝光頭的掃描速度，通過設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光定時，進行去除，同時，對于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在X軸方向上的偏移，通過向第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中形成重合，加以去除。
12.根據(jù)權利要求10所述的圖像偏移修正方法，其特征在于，對于3個以上的曝光頭，也是通過上述像素位置特定方法，特定各個曝光頭中的連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)由上述像素位置特定方法特定的連接像素位置，修正向上述各曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，以使上述連接像素連接圖像。
13.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具備能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，由上述曝光頭按一定方向掃描圖像形成面進行曝光，以形成圖像的曝光機構，在上述曝光光束位置的測定中，通過能夠沿著與掃描方向平行的Y軸方向在基準面上移動的光束位置檢測機構，測定具備曝光機構的各個曝光頭的曝光光束位置，特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構，和根據(jù)上述光束位置檢測機構中的像素位置檢測結果，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述光束位置檢測機構，是通過權利要求1所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭連接點附近的第1連接像素和第2曝光頭連接點附近的第2連接像素在上述基準面上的位置，上述曝光控制機構，是根據(jù)由上述像素位置特定機構特定的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
14.根據(jù)權利要求13所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述像素位置特定機構，作為上述光束位置檢測機構，具備選自2維PSD、4分割光探測器、2維CCD、和2維CMOS中的像素位置檢測元件。
15.根據(jù)權利要求13所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述曝光頭具備根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，調(diào)制來自光源光的空間光調(diào)制元件，通過上述空間調(diào)制元件選擇性地對多個像素進行打開/關閉。
16.根據(jù)權利要求15所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述空間調(diào)制元件具有相對于上述掃描方向呈傾斜配置的多個像素。
17.根據(jù)權利要求16所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述空間調(diào)制元件的像素是以2維配置而成的。
18.一種像素位置的特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，特定上述曝光頭連接點處像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，使用具有沿著相對于上述曝光裝置掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動形成的，相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，彼此交叉配置的至少1對狹縫部和測量透過上述狹縫部的曝光光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，測定上述曝光光束的位置，同時，將在第1曝光頭中的圖像連接點附近的第1連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)上述狹縫部的一方和另一方，使透過的曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部的位置，和上述狹縫部相互形成的角度，以特定上述第1連接像素的位置，將在第2曝光頭中的圖像連接點附近的第2連接像素打開，沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)上述狹縫部的一方和另一方，使透過的曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部形成的角度，以特定第2連接像素的位置，
19.一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，以特定上述曝光頭連接點處像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，使用具備相對于上述曝光頭的像素排列，呈相對傾斜，使一方沿著與曝光裝置掃描方向平行的Y軸配置，另一方沿著相對于Y軸方向正交的X軸方向配置的至少1對狹縫部，和測量透過上述狹縫部曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位置，同時，依次打開在上述第1曝光頭的圖像連接點附近的像素，根據(jù)上述光束位置檢測機構中，透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，上述光束位置檢測機構中，透過另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，和上述2個像素在Y坐標之差，特定第1連接像素的位置，依次打開在上述第2曝光頭的圖像連接點附近的像素，根據(jù)上述光束位置檢測機構中，透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，上述光束位置檢測機構中，透過另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置，和上述2個像素在Y坐標之差，特定第2連接像素的位置。
20.一種像素位置特定方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，測定各曝光頭的曝光光束位置，特定上述曝光頭連接點處像素位置的像素位置特定方法，其特征在于，使用具有在基準面上沿著Y軸方向和X軸方向可移動形成的，Y軸方向上為長的第1狹縫部和X軸方向上為長的第2狹縫部，和測量透過上述第1和第2狹縫部曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構，以測定上述曝光光束的位置，同時，打開在第1曝光頭的圖像連接點附近的第1特定像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，以特定上述第1連接像素的位置，打開在第2曝光頭的圖像連接點附近的第2特定像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時上述光束位置檢測機構的位置，以特定第2連接像素的位置。
21.一種圖像偏移的修正方法，其在將能夠選擇性地打開/關閉多個像素的多個曝光頭，按一定方向進行掃描，形成圖像的圖像形成裝置中，修正各曝光頭之間圖像偏移或重疊的圖像偏移修正方法，其特征在于，通過權利要求1所述的像素位置特定方法，特定第1曝光頭的圖像連接點附近的第1連接像素，和特定第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素的位置，根據(jù)上述特定了的像素位置的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
22.根據(jù)權利要求21所述的圖像偏移修正方法，其特征在于，在上述圖像數(shù)據(jù)修正步驟中，關于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的圖像偏移，是通過根據(jù)上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在Y軸方向上的距離和上述曝光頭的掃描速度，設定上述第1曝光頭和上述第2曝光頭的曝光定時而進行去除，關于上述第1連接像素和上述第2連接像素之間在X軸方向上的圖像偏移，是通過向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入圖像數(shù)據(jù)，使圖像數(shù)據(jù)在上述第1連接像素和上述第2連接像素中重合而進行去除。
23.根據(jù)權利要求21所述的圖像偏移修正方法，其特征在于，即使對于3個以上的曝光頭，也是通過上述像素位置的特定方法，特定各個曝光頭的連接像素在上述基準面上的位置，根據(jù)由上述像素位置的特定方法特定的連接像素位置，修正向各個曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述連接像素連接圖像。
24.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具備選擇性地打開/關閉多個像素的機構，同時，具備按一定方向掃描圖像形成面進行曝光而形成圖像的多個曝光頭的曝光機構；作為檢測各曝光頭的曝光光束位置的光束位置檢測機構，具有沿著相對于上述掃描方向平行的Y軸方向，在基準面上能夠移動地形成，并相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，彼此交叉地配置的至少1對狹縫部，和測定透過上述狹縫部的上述曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)由上述光束位置檢測機構檢測的曝光光束位置，特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述像素位置特定機構，是在上述曝光機構中，打開在第1曝光頭中圖像連接點附近的第1連接像素，同時，沿Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述光束位置檢測機構所具備的上述狹縫部的一方和另一方曝光光束光量達到峰值時的光束位置檢測機構的位置和上述狹縫部形成的角度，特定上述第1連接像素的位置，在上述曝光機構中，打開在第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素，同時沿著Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述狹縫部的一方和另一方曝光光束光量達到峰值時，上述光束位置檢測機構的位置和狹縫部形成的角度，特定上述第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述光束位置檢測機構所特定的第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
25.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具選擇性地打開/關閉多個像素的機構，具備按一定方向對圖像形成面進行掃描曝光，形成圖像的多個曝光頭，同時，上述曝光頭的像素相對于上述掃描方向呈傾斜排列的曝光機構；作為檢測各個曝光頭的曝光光束位置的光束位置檢測機構，具有相對于上述曝光頭的像素排列相對傾斜，使一方沿著與上述曝光裝置的掃描方向平行的Y軸配置，而另一方沿著相對于Y軸方向正交的X軸方向配置的至少1對狹縫部和測定透過上述狹縫部的上述曝光光束光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)上述由光束位置檢測機構檢測的曝光光束位置，特定上述曝光頭的像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述像素位置特定機構，依次打開在上述第1曝光頭圖像連接點附近的像素，由在上述光束位置檢測機構中，使透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、上述光束位置檢測機構中，使透過上述另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、和上述2個像素的Y坐標之差，以特定第1連接像素的位置，依次打開在第2曝光頭的像素，由上述光束位置檢測機構中，使透過上述一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、上述光束位置檢測機構中，使透過上述另一方狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的像素位置、和上述2個像素的Y坐標之差，以特定第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
26.一種圖像形成裝置，其特征在于，具備具有選擇性地打開/關閉多個像素的機構，同時具備按一定方向對圖像形成面進行掃描曝光而形成圖像的多個曝光頭的曝光機構；具有在基準面上沿Y軸方向和X軸方向能夠移動地形成的，Y軸方向上為長的第1狹縫部和X軸方向上為長的第2狹縫部，和測定透過上述第1和第2狹縫部的曝光光束的光量的光量測定機構的光束位置檢測機構；根據(jù)上述由光束位置檢測機構檢測出的曝光光束位置，特定上述曝光頭像素位置的像素位置特定機構；和根據(jù)上述由像素位置特定機構特定的像素位置，控制上述曝光頭的曝光控制機構，其中，上述像素位置特定機構，打開上述曝光機構中第1曝光頭的圖像連接點附近的第1連接像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的上述光束位置檢測機構的位置，特定上述第1連接像素的位置，打開上述曝光機構中第2曝光頭的圖像連接點附近的第2連接像素，沿著X軸方向和Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，根據(jù)透過上述第1狹縫部和第2狹縫部的曝光光束光量達到峰值時的上述光束位置檢測機構的位置，特定上述第2連接像素的位置，上述曝光控制機構，根據(jù)上述由光束位置檢測機構特定的上述第1連接像素和上述第2連接像素的位置，修正向上述第1曝光頭和上述第2曝光頭中輸入的圖像數(shù)據(jù)，使以上述第1連接像素和上述第2連接像素連接圖像。
27.根據(jù)權利要求24所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述曝光頭中，選擇性地打開/關閉多個像素的機構，是根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，調(diào)制光源的光，以形成圖像的空間光調(diào)光調(diào)制元件。
28.根據(jù)權利要求27所述的圖像形成裝置，其特征在于，上述空間光調(diào)制元件，具備多個反射來自光源的光，同時可以采用2個位置中的任何一方的微小反射鏡，通過根據(jù)圖像數(shù)據(jù)，將上述反射鏡的位置切換到上述2個位置中的任何一方，并切換上述來自光源光的反射路徑，以形成像素的DMD。
全文摘要
提供像素位置特定方法，圖像偏移修正方法，以及圖像形成裝置。第1曝光頭連接點附近的第1連接像素打開，沿Y軸方向移動光束位置檢測機構，在受光面上檢測XY坐標中的第1曝光光束位置，將第2曝光頭連接點附近的第2連接像素打開，沿Y軸方向移動上述光束位置檢測機構，檢測上述受光面上的曝光光束的XY坐標位置，由上述光束位置檢測機構在Y軸方向上的移動量，和在上述受光面上的第1曝光頭和上述第2曝光頭曝光光束位置，特定上述第1和第2特定像素的位置。在多頭曝光裝置中減小由各曝光頭形成的圖像之間的偏移。
文檔編號G03F7/20GK1573414SQ200410048578
公開日2005年2月2日 申請日期2004年6月8日 優(yōu)先權日2003年6月10日
發(fā)明者高田倫久 申請人:富士膠片株式會社