專利名稱：雙側發(fā)光裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種平板顯示器，并且更加特別地，涉及一種能夠防止圖像清晰度質量由于外部光而下降的雙側有機發(fā)光裝置。
背景技術：
諸如有機發(fā)光裝置、場發(fā)射顯示器(FED)等的平板顯示器受到由于外部光強度對比度明顯下降的影響。為了防止這種現(xiàn)象，例如，已經(jīng)采用了黑矩陣來阻擋外部光。無論是否使用這種黑矩陣，始終難以完全阻擋發(fā)射區(qū)上的外部光來形成黑色狀態(tài)。
同時，在美國專利No.5,596,246中公開了這樣一種使用圓偏振片來阻擋外部光的有機發(fā)光裝置。使用圓偏振片的傳統(tǒng)有機發(fā)光裝置設置有有機電致發(fā)光(EL)元件，該元件包括形成在絕緣襯底上的透明電極、有機發(fā)射層、以及反射電極。絕緣襯底使用密封劑(未示出)由外封襯底封裝，而包括線偏振片和λ/4補償片的圓偏振片設置在絕緣襯底的外表面上。
如上構造的傳統(tǒng)有機發(fā)光裝置設計為使得λ/4補償片的延遲軸與線偏振片的偏振軸之間的角度為45度。由此，外部光通過線偏振片而成為線偏振光，并且線偏振光通過λ/4補償片而成為圓偏振光。圓偏振光經(jīng)反射電極反射，并經(jīng)λ/4補償片成為線偏振光。該線偏振光經(jīng)線偏振片吸收和阻擋。上述傳統(tǒng)有機發(fā)光裝置的優(yōu)點在于其可以通過使用圓偏振片阻擋外部光來改善對比度，但其缺點在于其需要獨立的反射片來阻擋外部光。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的一個方面在于提供一種雙側有機發(fā)光裝置，能夠通過阻擋外部光改善對比度。
本發(fā)明的另一個方面在于提供一種雙側有機發(fā)光裝置，能夠阻擋反射外部光以及底部的透射光。
本發(fā)明的又一個方面在于提供一種雙側有機發(fā)光裝置，能夠提高圖像清晰度質量。
本發(fā)明的再一個方面在于提供一種雙側有機發(fā)光裝置，能夠通過在圖像觀察位置及其相對位置兩處阻擋外部光提高圖像清晰度質量。
為了實現(xiàn)這些和/或其它方面，提供一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振材料層，設置在上襯底的內表面和外表面中的至少一個之上；以及下部偏振材料層，設置在下襯底的內表面和外表面中的至少一個之上。
下部偏振材料層和上部偏振材料層為分別涂覆在下襯底和上襯底外表面上的涂層，或者為分別涂覆在下襯底和上襯底內表面上的涂層。上部偏振材料層為涂覆在上襯底內表面上的涂層，下部偏振材料層為涂覆在下襯底外表面上的涂層，以及或者，上部偏振材料層為涂覆在上襯底外表面上的涂層，下部偏振材料層為涂覆在下襯底內表面上的涂層。另外，下部偏振材料層和上部偏振材料層設置為使得其偏振軸彼此垂直，且每一個都是具有從約0.1μm至50.0μm厚度的涂層。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振片，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；以及下部偏振片，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上。
下部偏振片和上部偏振片為分別結合在下襯底和上襯底內表面上的偏振膜。上部偏振片可以為結合在上襯底內表面上的偏振膜，下部偏振片可以為結合在下襯底外表面上的偏振膜。另外，上部偏振片可以為結合在上襯底外表面上的偏振膜，下部偏振片可以為結合在下襯底內表面上的偏振膜?；蛘撸虏科衿蜕喜科衿瑸榉謩e結合在下襯底和上襯底外表面上的偏振膜。另外，下部偏振片和上部偏振片設置為使得其偏振軸彼此垂直，且每一個都是具有從約50μm至300μm厚度的偏振膜。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；下部偏振元件，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；上部補償片，設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間；以及下部補償片，設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間，其中下部補償片和上部補償片的每一個的延遲值等于λ/4，及下部補償片和上部補償片與下襯底和上襯底的每個角。
此處，設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片的延遲軸與下部偏振元件的偏振軸之間的交角與設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片的延遲軸與上部偏振元件的偏振軸之間的交角具有相反的方向。
下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，而上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。或者，下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，而上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間。
或者，下部偏振元件可以設置在下襯底的內表面上，下部補償片可以設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，而上部偏振元件可以設置在上襯底的內表面上，上部補償片可以設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間?；蛘?，下部偏振元件可以設置在下襯底的內表面上，下部補償片可以設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，而上部偏振元件可以設置在上襯底的外表面上，上部補償片可以設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
另外，下部補償片和上部補償片包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。當下部補償片和上部補償片的每一個的相位差延遲軸為λ/4且下部補償片和上部補償片的延遲軸與下部偏振元件和上部偏振元件的偏振軸之間的角度彼此相反時，入射在與從發(fā)射元件射出的光的觀察位置相對位置處且由其透射的外部光不再朝向觀察者透射，不僅對于上部偏振元件的偏振軸與下部補償片和上部補償片的相位差延遲軸之間的角度無關，且對于下部偏振元件的偏振軸與下部補償片和上部補償片的相位差延遲軸之間的角度無關。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面，提供一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；下部偏振元件，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；以及設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片和設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片，其中，下部補償片的相位差延遲軸與下部偏振元件的偏振軸之間的角與上部補償片的相位差延遲軸與上部偏振元件的偏振軸之間的角彼此相反，且其中由發(fā)射元件射出的光在觀察到從發(fā)射元件射出的光的位置處透射，而所有入射在該光的觀察位置和與該光觀察位置相對的位置處的外部光被阻擋，且發(fā)射元件內反射的外部光被阻擋。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面，提供一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；以及下部偏振元件，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上，其中，設置下部偏振元件和上部偏振元件，使得下部偏振元件和上部偏振元件的偏振軸彼此垂直，且其中由發(fā)射元件射出的光在觀察到從發(fā)射元件射出的光的位置處透射，所有入射在該光的觀察位置和與該光觀察位置相對的位置處的外部光被阻擋。
下部偏振元件和上部偏振元件每一個都為具有從約0.1μm至50.0μm厚度的偏振材料涂層，或者都是具有從約50μm至300μm厚度的偏振膜。下部偏振元件和上部偏振元件分別設置在下襯底和上襯底的內表面，以及下襯底和上襯底的外表面上中的任何一個之上，或者，下部偏振元件和上部偏振元件分別設置在上襯底的內表面上和下襯底的外表面上，或者分別設置在上襯底的外表面上和下襯底的內表面上。
本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點將部分地在下面的說明書中體現(xiàn)，部分地由說明書可顯見，或將通過掌握和實踐本發(fā)明而明確。


通過以下結合附圖對實施例進行的說明，將使本發(fā)明的這些和/或其它方面及優(yōu)點變得明顯且更加易于理解，附圖中圖1示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖2示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖3示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；
圖4示出根據(jù)本發(fā)明第四實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖5示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖6示出根據(jù)本發(fā)明第六實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖7示出根據(jù)本發(fā)明第七實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖8示出根據(jù)本發(fā)明第八實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖9A和9B為說明根據(jù)本發(fā)明第一實施例的雙側有機發(fā)光裝置中阻擋外部光的原理的視圖；圖10示出根據(jù)本發(fā)明第九實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構圖11示出根據(jù)本發(fā)明第十實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖12示出根據(jù)本發(fā)明第十一實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖13示出根據(jù)本發(fā)明第十二實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖14A和14B為說明根據(jù)本發(fā)明第九實施例的雙側有機發(fā)光裝置中阻擋外部光的原理的視圖；圖15示出根據(jù)本發(fā)明第十三實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖16示出根據(jù)本發(fā)明第十四實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖17示出根據(jù)本發(fā)明第十五實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖18示出根據(jù)本發(fā)明第十六實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；圖19示出根據(jù)本發(fā)明第十七實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構；以及圖20A和20B為說明根據(jù)本發(fā)明第十三實施例的雙側有機發(fā)光裝置中阻擋外部光的原理的視圖。
具體實施例方式
下面，將詳細介紹本發(fā)明的實施例，其示例在附圖中示出，附圖中，相同的附圖標記始終表示相同的元件。下面，將參照附圖介紹實施例，從而對本發(fā)明進行說明。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明第一實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖1，在作為下襯底110的絕緣襯底上形成陽極電極120。有機薄層130形成在陽極電極120上。陰極電極140形成在有機薄層130上。鈍化層150形成在陰極電極140上。作為上襯底的外封襯底160使用密封劑(未示出)與下襯底110結合并將其封裝。
下襯底110和上襯底160可以使用諸如玻璃襯底的透明襯底形成。陽極電極120為透明電極，其通過在下襯底110的內表面上沉積并構圖ITO(氧化銦錫)、IZO(氧化銦鋅)等的透明導電層而形成。有機薄層130包括空穴注入層(HIL)、空穴輸運層(HTL)、發(fā)射層、空穴阻擋層(HBL)、電子輸運層(ETL)、以及電子注入層(EIL)中的至少一個。陰極電極140也是透明電極，其通過沉積具有較低功函數(shù)的Ca、LiF等金屬層而形成。鈍化層150使用透明密封劑形成，使得其不僅可以確保薄露在空氣中的該有機發(fā)光裝置的壽命，還可以防止陰極電極140或陽極電極120的氧化。
下部偏振元件170A和上部偏振元件180A分別設置在下襯底110和上襯底160的外表面上。偏振元件170A和180A為分別涂覆在襯底110和160外表面上的偏振材料層。另外，偏振材料層通過以從約0.1μm至50.0μm的厚度涂覆可從OPTIVA INC.獲得的偏振溶液而形成。
此處，設置在下襯底110外表面上的下部偏振元件170A和設置在上襯底160外表面上的上部偏振元件180A的偏振軸優(yōu)選都彼此垂直。因此，下部偏振元件170A和上部偏振元件180A可以與下襯底110和上襯底160整體形成。
在第一實施例中，其上形成有電致發(fā)光(EL)元件100的下襯底110由上襯底160所封裝，隨后通過在下襯底110和上襯底160的外表面上涂覆偏振材料層170A和180A而形成下部偏振元件和上部偏振元件。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
或者，下部偏振元件和上部偏振元件可以通過在下襯底110和上襯底160的外表面上涂覆偏振材料層170A和180A而形成，隨后可以在下襯底110上形成EL元件100，最后可以用上襯底封裝下襯底。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明第二實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。與第一實施例類似，根據(jù)第二實施例的有機發(fā)光裝置具有其中偏振元件170B和180B分別形成在下襯底110和上襯底160的外表面上的結構。
此處，下部偏振元件170B和上部偏振元件180B分別結合在襯底110和160的外表面上。每個偏振片170B和180B都通過在下襯底110和上襯底160的各個外表面上結合厚度在約50至300μm之間的偏振膜而形成。在此情況下，結合在下襯底110外表面上的下部偏振元件170B和結合在上襯底160外表面上的上部偏振元件180B優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式結合。
在第二實施例中，其上形成有發(fā)射元件100的下襯底110由上襯底160所封裝，隨后通過在下襯底110和上襯底160的外表面上結合下部偏振膜170B和上部偏振膜180B而形成下部偏振元件和上部偏振元件。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
或者，下部偏振元件和上部偏振元件可以通過在下襯底110和上襯底160的外表面上結合下部偏振膜170B和上部偏振膜180B而形成，隨后可以在下襯底110上形成EL元件100，最后可以用上襯底160封裝下襯底100。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明第三實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。根據(jù)第三實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件270A設置在下襯底210的外表面上而上部偏振元件280A設置在上襯底260的內表面上的結構。
參照圖3，如在第一實施例中，下襯底210的內表面設置有發(fā)射元件200，其包括作為下電極的陽極電極220、有機薄層230和作為上電極的陰極電極240。鈍化層250形成在陰極電極240上。上襯底260使用密封劑(未示出)與下襯底210結合并將其封裝。
偏振元件270A和280A分別設置在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上。偏振元件270A和280A為分別涂覆在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上的偏振材料層。另外，偏振材料層通過以從約0.1μm至50.0μm的厚度涂覆可從OPTIVA INC.獲得的偏振溶液而形成。
此處，設置在下襯底210外表面上的下部偏振元件270A和設置在上襯底260內表面上的上部偏振元件280A優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式形成。因此，其偏振軸彼此垂直的下部偏振元件270A和上部偏振元件280A可以與下襯底210和上襯底260整體形成。
在第三實施例中，在下襯底210上形成發(fā)射元件200，隨后通過在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上涂覆偏振材料層270A和280A而形成下部偏振元件和上部偏振元件。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
或者，下部偏振元件和上部偏振元件通過在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上涂覆偏振材料層270A和280A而形成，隨后可以在下襯底210上形成發(fā)射元件200，最后可以用上襯底260封裝下襯底210。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明第四實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。與第三實施例類似，根據(jù)第四實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件270B設置在下襯底210的外表面上而上部偏振元件280B設置在上襯底260的內表面上的結構。
此處，下部偏振元件270B和上部偏振元件280B為偏振片，一個偏振元件270B結合在下襯底210的外表面上而另一個偏振元件280B結合在上襯底260的內表面上。偏振片270B和280B通過在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上結合厚度約50至300μm之間的偏振膜而形成。在此情況下，結合在下襯底210外表面上的下部偏振元件270B和結合在上襯底260內表面上的上部偏振元件280B優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式結合。
在第四實施例中，在下襯底210上形成發(fā)射元件200，隨后通過在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上結合下部偏振膜270B和上部偏振膜280B形成下部偏振元件和上部偏振元件。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
或者，下部偏振元件和上部偏振元件可以通過在下襯底210的外表面上和上襯底260的內表面上結合下部偏振膜270B和上部偏振膜280B形成，隨后可以在下襯底210上形成發(fā)射元件200，最后可以用上襯底260封裝下襯底210。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第五實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。根據(jù)第五實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件370A設置在下襯底310的內表面上而上部偏振元件380A設置在上襯底360的外表面上的結構。
參照圖5，如在第一實施例中，下襯底310的內表面設置有發(fā)射元件300，其包括作為下電極的陽極電極320、有機薄層330和作為上電極的陰極電極340。鈍化層350形成在陰極電極340上。上襯底360使用密封劑(未示出)與下襯底310結合并將其封裝。
偏振元件370A和380A分別設置在下襯底310的內表面上和上襯底360的外表面上。偏振元件370A和380A為分別涂覆在下襯底310的內表面上和上襯底360的外表面上的偏振材料層。另外，偏振材料層通過以從約0.1μm至50.0μm的厚度涂覆可從OPTIVA INC.獲得的偏振溶液而形成。
此處，設置在下襯底310內表面上的下部偏振元件370A和設置在上襯底360外表面上的上部偏振元件380A優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式形成。因此，其偏振軸彼此垂直的下部偏振元件370A和上部偏振元件380A可以與下襯底310和上襯底360整體形成。
在第五實施例中，通過在下襯底310的內表面上和上襯底360的外表面上涂覆偏振材料層形成下部偏振元件370A和上部偏振元件380A，隨后在偏振材料層370A上形成發(fā)射元件300，并以其外表面上設置有偏振材料層380A的上襯底360封裝。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明第六實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。與第五實施例類似，根據(jù)第六實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件370B設置在下襯底310的內表面上而上部偏振元件380B設置在上襯底360的外表面上的結構。
此處，下部偏振元件370B和上部偏振元件380B為偏振片，一個偏振元件370B結合在下襯底310的內表面上而另一個偏振元件380B結合在上襯底360的外表面上。偏振片370B和380B通過在下襯底310的內表面上和上襯底360的外表面上結合厚度在約50至300μm之間的偏振膜而形成。在此情況下，結合在下襯底310內表面上的下部偏振元件370B和結合在上襯底360外表面上的上部偏振元件380B優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式結合。
在第六實施例中，通過在下襯底310的內表面上和上襯底360的外表面上結合下部偏振膜370B和上部偏振膜380B形成下部偏振元件和上部偏振元件，隨后在下部偏振膜370B上形成發(fā)射元件300，最后以上襯底360封裝下襯底310。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明第七實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。根據(jù)第七實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件470A和上部偏振元件480A分別設置在下襯底410和上襯底460的內表面上的結構。
參照圖7，如在第一實施例中，下襯底410的內表面設置有發(fā)射元件400，其包括作為下電極的陽極電極420、有機薄層430和作為上電極的陰極電極440。鈍化層450形成在陰極電極440上。上襯底460使用密封劑(未示出)與下襯底410結合并將其封裝。
偏振元件470A和480A分別設置在下襯底410和上襯底460的內表面上。偏振元件470A和480A為分別涂覆在下襯底410和上襯底460的內表面上的偏振材料層。另外，偏振材料層通過以從約0.1μm至50.0μm的厚度涂覆可從OPTIVA INC.獲得的偏振溶液而形成。
此處，設置在下襯底410內表面上的下部偏振元件470A和設置在上襯底460內表面上的上部偏振元件480A優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式形成。因此，其偏振軸彼此垂直的下部偏振元件470A和上部偏振元件480A可以與下襯底410和上襯底460整體形成。
在第七實施例中，通過在下襯底410和上襯底460的內表面上涂覆偏振材料層形成下部偏振元件470A和上部偏振元件480A，隨后在下部偏振材料層470A上形成發(fā)射元件400，并以上襯底460封裝。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
圖8示出了根據(jù)本發(fā)明第八實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。與第七實施例類似，根據(jù)第八實施例的有機發(fā)光裝置具有其中下部偏振元件470B和上部偏振元件480B分別設置在下襯底410和上襯底460的內表面上的結構。
此處，下部偏振元件470B和上部偏振元件480B為偏振片，分別結合在下襯底410和上襯底460的內表面上。偏振片470B和480B通過在下襯底410和上襯底460的各個內表面上結合厚度在約50至300μm之間的偏振膜而形成。在此情況下，結合在下襯底410內表面上的下部偏振元件470B和結合在上襯底460內表面上的上部偏振元件480B優(yōu)選按照使其偏振軸彼此垂直的方式結合。
在第八實施例中，通過在下襯底410和上襯底460的內表面上結合下部偏振膜470B和上部偏振膜480B形成下部偏振元件和上部偏振元件，隨后在下部偏振元件470B上形成發(fā)射元件400，并以上襯底封裝。由此，可以制得該有機發(fā)光裝置。
下面，將參照圖9A和9B說明根據(jù)本發(fā)明第一實施例的雙側有機發(fā)光裝置中阻擋外部光的原理。
如圖9A所示，當觀察者190在作為上襯底的外封襯底160一側觀察時，從EL層130射出的內部光191經(jīng)上部偏振元件180A線偏振，沿箭頭方向192行進，使得觀察者190看見經(jīng)上襯底160的光。線偏振的內部光沿著與偏振元件180A的偏振軸相同的方向振動。
同時，從觀察者190入射至外封襯底160的外部光195經(jīng)上部偏振元件180A線偏振，沿箭頭方向196行進。經(jīng)上部偏振元件180A線偏振的內部透射光由EL元件100的層狀結構反射，并且反射的外部光沿著不同的方向線偏振，與經(jīng)外封襯底160入射的光的入射角交叉90度，由此無法透射。
另外，對于在與觀察者190相對的位置入射的另一外部光，即，入射在絕緣襯底110上并經(jīng)其透射的透射外部光，經(jīng)下部偏振元件170A線偏振。此處，下部偏振元件170A和上部偏振元件180A的偏振軸設置為彼此垂直，使得已經(jīng)線偏振的透射外部光無法通過上部偏振元件180A。換言之，對于透射外部光，當其已經(jīng)線偏振時，其偏振軸垂直于其已入射在絕緣襯底110上時的偏振軸。結果，阻擋了在與觀察者190相對的位置處通過下襯底110的透射外部光，而不會透過上部偏振元件180A射出。
如圖9B所示，當觀察者190在作為下襯底的絕緣襯底110一側觀察時，從EL層130射出的內部光191經(jīng)下部偏振元件170A線偏振，沿箭頭方向192行進，使得觀察者190看見經(jīng)下襯底110的光。線偏振的內部光沿著與下部偏振元件170A的偏振軸相同的方向振動。
同時，從觀察者190入射至絕緣襯底110的外部光195經(jīng)下部偏振元件170A線偏振，沿箭頭方向196行進。經(jīng)下部偏振元件170A線偏振的內部透射光由EL元件100的層狀結構反射，并且反射的外部光沿著不同的方向線偏振，與經(jīng)絕緣襯底110入射的光的入射角交叉90度，由此無法透射。
另外，對于在與觀察者190相對的位置入射的另一外部光，即，入射在外封襯底160上并經(jīng)其透射的透射外部光，經(jīng)上部偏振元件180A線偏振。此處，下部偏振元件170A和上部偏振元件180A的偏振軸設置為彼此垂直，使得已經(jīng)線偏振的透射外部光無法通過下部偏振元件170A。換言之，對于透射外部光，當其已經(jīng)線偏振時，其偏振軸垂直于其已入射在外封襯底160上時的偏振軸。結果，阻擋了在與觀察者190相對的位置處通過外封襯底160的透射外部光，而不會透過下部偏振元件170A射出。
此處，反射的外部光表示入射在外封襯底160上朝向絕緣襯底110行進并經(jīng)內部發(fā)射元件100反射再次朝向外封襯底160行進的光、或者是入射在絕緣襯底110上朝向外封襯底160行進并經(jīng)內部發(fā)射元件100反射再次朝向絕緣襯底110行進的光。另外，透射的外部光表示經(jīng)外封襯底160入射朝向絕緣襯底110行進的光、或者經(jīng)絕緣襯底110入射朝向外封襯底160行進的光。
如上所述，觀察者190無論是在下襯底還是在上襯底一側觀察，僅允許從發(fā)射層120射出的光通過下襯底110或上襯底160，而不允許反射或透射的外部光通過下襯底110或上襯底160，由此將其消除。因此，可以實現(xiàn)其中防止了對比度由于外部光而下降的雙側發(fā)光結構。
上面，已經(jīng)參照圖9A和9B結合第一實施例的雙側有機發(fā)光裝置介紹了阻擋外部光的原理，但其不限于此。因此，如在第一至八實施例中，對于下部偏振元件設置在下襯底的內外表面中的任意一個上而上部偏振元件設置在上襯底的內外表面中的任意一個上，使得下部偏振元件的偏振軸垂直于上部偏振元件的偏振軸的情況，可以實現(xiàn)上述阻擋外部光的效果。另外，根據(jù)本發(fā)明第一至八實施例的阻擋外部光原理可以應用于包括其它發(fā)射元件的顯示裝置。
圖10示出了根據(jù)本發(fā)明第九實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖10，諸如玻璃襯底的透明下絕緣襯底510上形成有作為陽極電極的下電極520。有機薄層530和作為陰極電極的上電極540形成在下電極520上。下電極520起陽極電極的作用，其形成為包括ITO(氧化銦錫)、IZO(氧化銦鋅)等的透明導電層的透明電極。有機薄層530包括從空穴注入層(HIL)、空穴輸運層(HTL)、發(fā)射層、空穴阻擋層(HBL)、電子輸運層(ETL)、以及電子注入層(EIL)中選取的至少一個。上電極540起陰極電極的作用，其通過具有較低功函數(shù)的Ca、LiF等金屬層形成。按此方式，下電極520、有機薄層530和上電極540構成了EL元件500。
諸如玻璃襯底的透明外封襯底560使用密封劑(未示出)結合在下襯底510上，并將其封裝。下部圓偏振片570和上部圓偏振片580分別設置在下襯底510和外封襯底560的外表面上。下部圓偏振片570包括下部線偏振片575和下部補償片571。下部補償片571由λ/4補償片形成。類似地，上部圓偏振片580包括上部線偏振片585和上部補償片581。上部補償片581由λ/4補償片形成。
在具有上述構造的雙側有機發(fā)光裝置中，當下部補償片571和上部補償片581中每個的相位差延遲值表示為x時，相位差延遲值x滿足以下等式。
nλ/2≤x≤(n+1)λ/2，其中n為整數(shù)。
由此，本發(fā)明的雙側有機發(fā)光裝置可以阻擋外部光，無論觀察者的觀察方向如何。另外，當外部光在發(fā)射元件500的內部反射時，可以阻擋反射的外部光。因此，本發(fā)明的雙側有機發(fā)光裝置具有很高的對比度。
下面，將參照圖14A和14B說明根據(jù)本發(fā)明第九實施例的雙側有機發(fā)光裝置中阻擋外部光的原理。
首先，對于觀察者590在外封襯底560一側觀察的情況，從發(fā)射層530射出的內部光經(jīng)上部圓偏振元件580看見。從觀察者590入射至外封襯底560的外部光595經(jīng)線偏振片585和補償片581圓偏振，沿箭頭方向596行進。
按此方式，經(jīng)上部圓偏振片580圓偏振的外部光由EL元件500的層狀結構反射，并沿不同的方向圓偏振。此處，左旋圓偏振光轉變?yōu)橛倚龍A偏振光。然后，右旋圓偏振光通過上部補償片581轉變?yōu)榫€偏振光。此處，由上部補償片581轉變的線偏振光與經(jīng)外封襯底560初始入射的光的入射角交叉90度，因此無法透射。
同時，對于在與觀察者590相對的位置入射的另一外部光，即，入射在絕緣襯底510上并經(jīng)其透射的透射外部光，若下部補償片571和上部補償片581中的每一個都具有λ/4的相位差延遲軸，并且若上部補償片581的相位差延遲軸與上部偏振片585的偏振軸之間的交角與下部補償片571的相位差延遲軸與下部偏振片575的偏振軸之間的交角相反，通過絕緣襯底510的透射外部光無法透射至觀察者590，無論上部偏振片585與下部補償片571和上部補償片581之間及下部偏振片575與下部補償片571和上部補償片581之間的角度如何。
例如，如圖14A所示，當上部圓偏振片580的線偏振片585和下部圓偏振片570的線偏振片575設置為使得其偏振軸彼此平行時，入射在絕緣襯底510上并經(jīng)其透射的透射外部光596經(jīng)構成下部圓偏振片570的線偏振片575和補償片571圓偏振，隨后朝向外封襯底560行進。
在此情況下，因為下部補償片571和上部補償片581的相位差延遲軸彼此相等，因此透射外部光沿相同方向以λ/4相移兩次(即，相移λ/2)，并且轉變?yōu)榫€偏振光。對于透射外部光，其線偏振后的偏振軸垂直于其線偏振前(即，當其入射在絕緣襯底510上時)的偏振軸。結果，阻擋了在與觀察者590相對位置處通過絕緣襯底510的透射外部光，而不會通過上部圓偏振片580射出。
如圖14B所示，即使當上部圓偏振片580的線偏振片585和下部圓偏振片570的線偏振片575設置為使得其偏振軸彼此垂直時，經(jīng)外封襯底560入射并經(jīng)EL元件500反射的外部光(即，反射外部光)根據(jù)與圖14A所示相同的原理而被阻擋。
另外，入射在絕緣襯底510一側上并通過絕緣襯底510的外部光(即，透射外部光)經(jīng)構成下部圓偏振片570的線偏振片575和補償片571圓偏振，隨后朝向外封襯底560行進。在此情況下，因為下部補償片571和上部補償片581的相位差延遲軸彼此垂直，因此透射的入射光沿與其通過絕緣襯底510時相同的方向線偏振，外封襯底一側上的上部線偏振片585垂直于下部線偏振片575，使得阻擋了通過絕緣襯底510的透射外部光，而未經(jīng)上部圓偏振片580朝向觀察者590射出。
此處，反射外部光表示入射在外封襯底560上朝向絕緣襯底510行進并經(jīng)內部EL元件500反射再次朝向外封襯底560行進的光、或者是入射在絕緣襯底510上朝向外封襯底560行進并經(jīng)內部EL元件500反射再次朝向絕緣襯底510行進的光。另外，透射外部光表示經(jīng)外封襯底560入射朝向絕緣襯底510行進的光、或者經(jīng)絕緣襯底510入射朝向外封襯底560行進的光。
結果，僅從發(fā)射層530射出的光591為觀察者590所見，而阻擋了入射在外封襯底一側上的外部光。因此，盡管從發(fā)射層530沿著相對的兩個方向射出光，絕緣襯底一側的背景未被投射，使得觀察者590僅可以識別從發(fā)射層530射出的光。這有益于改善圖像清晰度質量。
因此，在本發(fā)明的雙側有機發(fā)光裝置中，考慮從與觀察者590相對的方向入射的透射外部光，優(yōu)選下部補償片571和上部補償片581的延遲軸與下部線偏振片575和上部線偏振片585的偏振軸之間的交角成為在下襯底和上襯底處彼此相對的轉角。
圖11示出了根據(jù)本發(fā)明第十實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖11，第十實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第九實施例的類似，除去補償片。具體而言，在第一實施例中，補償片由一個λ/4補償片構成，而在第十實施例中由多個補償膜構成，每個補償膜都具有相位差延遲軸，并起到λ/4補償片的作用。
在根據(jù)第十實施例的雙側有機發(fā)光裝置中，下絕緣襯底610上形成有下電極620。有機薄層630和上電極640形成在下電極620上。外封襯底660使用密封劑結合在下襯底610上，并將其封裝。下部圓偏振片670和上部圓偏振片680分別設置在下襯底610和外封襯底660的外表面上。下部圓偏振片670包括下部線偏振片675A和下部補償片671A。下部補償片671A使用λ/4補償片形成。類似地，上部圓偏振片680包括上部線偏振片685A和上部補償片681A。上部補償片681A使用多個補償膜682至684，使其起λ/4補償片的作用。此處，補償膜682至684其相位差延遲軸彼此相同或不同。
圖12示出根據(jù)本發(fā)明第十一實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖12，第十一實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第九實施例的類似，除去下部圓偏振片670的補償片671B。具體而言，在第九實施例中，補償片671B由一個λ/4補償膜構成，而在第十一實施例中，由多個補償膜672至674構成，每個補償膜都具有相位差延遲軸，并起到λ/4補償片的作用。
圖13示出根據(jù)本發(fā)明第十二實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖13，第十二實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第九實施例的類似，除去下部圓偏振片670和上部圓偏振片680各自的補償片671C和681C。具體而言，在第九實施例中，補償片671C和681C每個都由一個λ/4補償膜構成，而在第十二實施例中，由多個補償膜672至674及682至684構成，每個補償膜都具有相位差延遲軸，并起到λ/4補償片的作用。
在圖11至13所示的根據(jù)第十至十二實施例的雙側有機發(fā)光裝置中，如第九實施例，當下部補償片671和上部補償片681的每個相位差延遲值表示為x時，每個相位差延遲值x滿足以下等式nλ/2≤x≤(n+1)λ/2，其中n為整數(shù)。
由此，如第九實施例，透射外部光和反射外部光都可基于圖14A和14B所示的原理阻擋，使得可以改善圖像清晰度質量。
圖15示出根據(jù)本發(fā)明第十三實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖15，第十三實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第九實施例的類似，但通過僅在外封襯底一側設置圓偏振片，其可以應用于期望改善外封襯底一側的光阻擋勝于下襯底一側的情況。
在根據(jù)第十三實施例的雙側有機發(fā)光裝置中，下絕緣襯底710上形成有下電極720。有機薄層730和上電極740形成在下電極720上。外封襯底760使用密封劑結合在下襯底710上，并將其封裝。上部圓偏振片780設置在外封襯底760的外表面上，且下部線偏振片776設置在下襯底710的外表面上。圓偏振片780包括線偏振片785和補償片781。補償片781使用λ/4補償片形成。
在圖15所示的第十三實施例中，如圖20A和20B所示，其可以實現(xiàn)不僅阻擋僅入射在觀察者790(即，在外封襯底一側)位置處的外部光還可阻擋此外部光的反射光的效果。
圖16示出根據(jù)本發(fā)明第十四實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖16，第十四實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第十三實施例的類似，但其區(qū)別在于通過僅在下襯底一側設置圓偏振片，其應用于期望改善下襯底一側的光阻擋效果勝于外封襯底一側的情況。下部圓偏振片770構造為線偏振片775和補償片771。補償片771使用λ/4補償片形成。因此，對于觀察者790在下襯底710一側觀察的情況，其可以獲得不僅阻擋僅入射在下襯底710一側的外部光還可阻擋此外部光的反射光的效果。
圖17示出根據(jù)本發(fā)明第十五實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖17，第十五實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第十三實施例的類似，除去上部圓偏振片880的補償片881B由多個補償膜882至884構成，每個補償膜都具有相位差延遲軸。
圖18示出根據(jù)本發(fā)明第十六實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖18，第十六實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第十四實施例的類似，除去下部圓偏振片870的補償片871構造為多個補償膜872至874，每個補償膜都具有相位差延遲軸。
圖19示出根據(jù)本發(fā)明第十七實施例的雙側有機發(fā)光裝置的截面結構。
參照圖19，第十七實施例的雙側有機發(fā)光裝置與第九實施例的類似。然而，對于構成圓偏振片970和980的偏振片971和981以及補償片975和985形成為與第一或第二實施例類似的膜或涂層的情況，圓偏振片970和980分別設置在下襯底910和外封襯底960的內表面上?；蛘?，在構成圓偏振片970和980的偏振片971和981以及補償片975和985之中，偏振片971和981可以分別設置在下襯底910和外封襯底960的外表面上，而補償片975和985分別設置在下襯底910和外封襯底960的內表面上。
另外，或者下部線偏振片971和上部線偏振片981中的任何一個可以形成在下襯底910和外封襯底960中任何一個的內表面上，而另一個偏振片可形成在另一個襯底的外表面上。另外，下部補償片和上部補償片可設置在襯底的內外表面與發(fā)射層之間。
考慮其中包括線偏振片和λ/4補償片的圓偏振片結合在下襯底和上襯底一側的表面上由此來阻擋透射外部光和反射外部光的雙側有機發(fā)光裝置，介紹了本發(fā)明的第九至十七實施例。然而，此原理對于其它發(fā)射元件也適用。另外，可以在發(fā)射元件的陰極電極上額外形成鈍化層。
由前述可見，根據(jù)本發(fā)明，通過在雙側有機發(fā)光裝置的相對兩側上結合偏振片來阻擋外部光，可以實現(xiàn)具有高對比度的雙側有機發(fā)光裝置。另外，對于用于折疊型雙側顯示裝置的情況，結合在玻璃襯底兩表面上的偏振片不僅可以阻擋外部光，還可以起到保護下和上絕緣襯底的作用，例如抗震。
盡管已示出并介紹了本發(fā)明的幾個實施例，本領域技術人員應理解，可以在不脫離本發(fā)明的原理和精神的基礎上對此實施例進行改動，本發(fā)明的范圍由所附權利要求及其等效物限定。
權利要求
1.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振材料層，設置在上襯底的內表面和外表面中的至少一個之上；以及下部偏振材料層，設置在下襯底的內表面和外表面中的至少一個之上。
2.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振材料層和上部偏振材料層為分別涂覆在下襯底和上襯底外表面上的涂層，并且設置為使得下部偏振材料層和上部偏振材料層的偏振軸彼此垂直。
3.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振材料層和上部偏振材料層為分別涂覆在下襯底和上襯底內表面上的涂層，并且設置為使得下部偏振材料層和上部偏振材料層的偏振軸彼此垂直。
4.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振材料層為涂覆在上襯底內表面上的涂層，下部偏振材料層為涂覆在下襯底外表面上的涂層，并且設置下部偏振材料層和上部偏振材料層使得下部偏振材料層和上部偏振材料層的偏振軸彼此垂直。
5.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振材料層為涂覆在上襯底外表面上的涂層，下部偏振材料層為涂覆在下襯底內表面上的涂層，并且設置下部偏振材料層和上部偏振材料層使得下部偏振材料層和上部偏振材料層的偏振軸彼此垂直。
6.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振材料層和上部偏振材料層分別設置在下襯底和上襯底的內表面和外表面中的一些之上，使得下部偏振材料層和上部偏振材料層的偏振軸彼此垂直。
7.如權利要求1所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振材料層和上部偏振材料層每一個都是具有從約0.1μm至50.0μm厚度的涂層。
8.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振片，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；以及下部偏振片，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上。
9.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振片和上部偏振片為分別結合在下襯底和上襯底內表面上的偏振膜，并且設置為使得下部偏振片和上部偏振片的偏振軸彼此垂直。
10.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振片為結合在上襯底內表面上的偏振膜，下部偏振片為結合在下襯底外表面上的偏振膜，并且設置下部偏振片和上部偏振片使得下部偏振片和上部偏振片的偏振軸彼此垂直。
11.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振片為結合在上襯底外表面上的偏振膜，下部偏振片為結合在下襯底內表面上的偏振膜，并且設置下部偏振片和上部偏振片使得下部偏振片和上部偏振片的偏振軸彼此垂直。
12.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振片和上部偏振片為分別結合在下襯底和上襯底外表面上的偏振膜，并設置為使得下部偏振片和上部偏振片的偏振軸彼此垂直。
13.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振片和上部偏振片每一個都是具有從約50μm至300μm厚度的偏振膜。
14.如權利要求8所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振片和上部偏振片的偏振軸設置為彼此垂直。
15.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；下部偏振元件，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；上部補償片，設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間；以及下部補償片，設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間，其中，當每個補償片的相位差延遲值由x表示時，相位差延遲值x滿足以下等式nλ/2≤x≤(n+1)λ/2，其中n為整數(shù)。
16.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片的相位差延遲軸與下部偏振元件的偏振軸之間的交角與設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片的相位差延遲軸與上部偏振元件的偏振軸之間的交角相反。
17.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
18.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間。
19.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間。
20.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
21.如權利要求17所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部補償片和上部補償片包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。
22.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相等的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此平行的偏振軸。
23.如權利要求15所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相反的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此垂直的偏振軸。
24.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；下部偏振元件，設置在下襯底的內表面和外表面中的任何一個之上；以及補償片，設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間和下部偏振元件與發(fā)射元件之間中的至少一處，其中，發(fā)射元件朝向下襯底和上襯底兩者發(fā)光。
25.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片與下部偏振元件之間的轉角與設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片與上部偏振元件之間的轉角相反。
26.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片與下部偏振元件之間的相位差與設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片與上部偏振元件之間的相位差之和為nλ/2，其中n為除零(0)以外的整數(shù)。
27.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中當每個補償片的相位差延遲值由x表示時，相位差延遲值x滿足以下等式nλ/2≤x≤(n+1)λ/2，其中n為整數(shù)。
28.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括至少一個補償膜。
29.如權利要求28所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括一具有相同延遲軸的補償膜。
30.如權利要求28所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括具有不同的相位差延遲軸的多個補償膜。
31.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間的上部補償片。
32.如權利要求31所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間。
33.如權利要求31所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
34.如權利要求31所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部補償片包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。
35.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間的下部補償片。
36.如權利要求35所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間。
37.如權利要求35所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間。
38.如權利要求35所述的雙側發(fā)光裝置，其中上部補償片包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。
39.如權利要求24所述的雙側發(fā)光裝置，其中補償片包括上部補償片，設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間；以及下部補償片，設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間。
40.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相等的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此平行的偏振軸。
41.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相反的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此垂直的偏振軸。
42.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
43.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的內表面之間。
44.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的內表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
45.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的內表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
46.如權利要求39所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部補償片和上部補償片中的每一個都包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。
47.如權利要求46所述的雙側發(fā)光裝置，其中當下部補償片和上部補償片中的每一個的相位差延遲值都由x表示時，相位差延遲值x滿足以下等式nλ/2≤x≤(n+1)λ/2，其中n為整數(shù)。
48.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面或外表面中的任何一個之上；下部偏振元件，設置在下襯底的內表面或外表面中的任何一個之上；上部補償片，設置在上部偏振元件與發(fā)射元件之間；以及下部補償片，設置在下部偏振元件與發(fā)射元件之間，其中，在觀察到從發(fā)射元件射出的光的位置處，透射由發(fā)射元件射出的光，而阻擋所有入射在觀察位置和與觀察位置相對的位置處的外部光，且阻擋發(fā)射元件內反射的外部光。
49.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相等的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此平行的偏振軸。
50.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中，當下部補償片和上部補償片具有彼此相反的相位差延遲軸時，下部偏振元件和上部偏振元件具有彼此垂直的偏振軸。
51.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的外表面上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底的外表面之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的外表面上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底的外表面之間。
52.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件設置在下襯底的內表面和外表面中的任意一個之上，下部補償片設置在下部偏振元件與下襯底之間，以及上部偏振元件設置在上襯底的內表面和外表面中的任意一個之上，上部補償片設置在上部偏振元件與上襯底之間。
53.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部補償片和上部補償片包括至少一個具有預定相位差延遲軸的補償膜。
54.如權利要求48所述的雙側發(fā)光裝置，其中當下部偏振元件與下部補償片之間的角為nπ/4，且上部偏振元件與上部補償片之間的角為-nπ/4時，該些補償片具有λ/4的相位差延遲值。
55.一種雙側發(fā)光裝置，包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振元件，設置在上襯底的內表面或外表面中的任何一個之上；以及下部偏振元件，設置在下襯底的內表面或外表面中的任何一個之上，其中，設置下部偏振元件和上部偏振元件，使得下部偏振元件和上部偏振元件的偏振軸彼此垂直，以及在觀察位置處，透射由發(fā)射元件射出的光，且阻擋所有入射在觀察位置和與觀察位置相對的位置處的外部光，在該觀察位置處光從發(fā)射元件射出。
56.如權利要求55所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件和上部偏振元件每一個都為具有從約0.1μm至50.0μm厚度的偏振材料涂層。
57.如權利要求55所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件和上部偏振元件每一個都是具有從約50μm至300μm厚度的偏振膜。
58.如權利要求55所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件和上部偏振元件分別設置在下襯底和上襯底的內表面上，或者分別設置在下襯底和上襯底的外表面上。
59.如權利要求55所述的雙側發(fā)光裝置，其中下部偏振元件和上部偏振元件分別設置在上襯底的內表面上和下襯底的外表面上，或者分別設置在上襯底的外表面上和下襯底的內表面上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種雙側發(fā)光裝置，該裝置包括下襯底和上襯底；發(fā)射元件，形成在上襯底的內表面與下襯底的內表面之間并發(fā)射預定的光；上部偏振材料層，設置在上襯底的內表面和外表面中的至少一個之上；以及下部偏振材料層，設置在下襯底的內表面和外表面中的至少一個之上。
文檔編號G02F1/1335GK1575073SQ200410045798
公開日2005年2月2日 申請日期2004年5月27日 優(yōu)先權日2003年5月28日
發(fā)明者樸鎮(zhèn)宇, 鄭昊均, 金仙花, 金秉熙 申請人:三星Sdi株式會社