專利名稱：掩模、帶光反射膜的基板、光反射膜的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及掩模、帶光反射膜的基板、光反射膜的制造方法和光學顯示裝置以及電子裝置。更詳細而言，本發(fā)明涉及用于制造干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的掩模、使用該掩模形成的帶光反射膜的基板、光反射膜的制造方法和具有干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的光學顯示裝置以及具有干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的電子裝置。
背景技術：
眾所周知，從實現(xiàn)薄型化和節(jié)能化等角度考慮，作為各種電子裝置的顯示裝置，正廣泛地使用液晶顯示裝置。這樣的液晶顯示裝置的結構一般是在將液晶封入一對玻璃基板等之間的狀態(tài)下使用密封材料將周圍貼合而成。并且，裝配了這樣的液晶顯示裝置的電子裝置采用為保護液晶顯示裝置使之免遭來自外部的沖擊等而在該液晶顯示裝置的觀察側(cè)(即，觀看顯示的觀察者一側(cè))設置保護板的結構。這樣的保護板通常是由具有光透過性的材料(例如，透明塑料等)構成的板狀構件。
但是，使這樣的保護板上的與液晶顯示裝置相向的面成為完全的平滑面是困難的，多數(shù)情況存在微細的凹凸。并且，將這樣的保護板配置到液晶顯示裝置上時，存在起因于表面的微細的凹凸致使顯示品質(zhì)將顯著地降低的問題。
顯示品質(zhì)降低的原因之一，是液晶顯示裝置中的觀察側(cè)的基板與保護板的間隔隨著在保護板的表面存在的凹凸而造成離散。即，來自液晶顯示裝置的出射光在透過保護板時與這樣的間隔的離散對應地發(fā)生干涉，其結果是，將產(chǎn)生干涉條紋。并且，據(jù)推測，由于發(fā)生的干涉條紋與顯示圖像相互重疊，從而將引起顯示品質(zhì)降低。
另外，如圖25所示，在特開平6-27481號公報中公開了反射型液晶顯示裝置180，如圖26所示，在特開平11-281972號公報中公開了反射透過兩用型500，它們分別設置了為減少干涉條紋的發(fā)生的、高度不同的多個凹凸結構404a、404b(504a、504b)，并在其上形成高分子樹脂膜405(505)，進而再在其上形成連續(xù)的波狀的反射電極409(509)。
另外，也公開了具有這樣的反射電極的液晶顯示裝置的制造工序，例如，圖27所示的工序。首先，如圖27(a)所示，在玻璃基板600的整個面上形成抗蝕劑膜602，然后，如圖27(b)所示的那樣，通過由直徑不同的多個圓構成的圖形604進行曝光。然后，如圖27(c)所示，進行顯影，形成高度不同的多個有角的凸部或凹部606a、606b，進而，如圖27(d)所示，進行加熱，使凸部或凹部的角部軟化，形成去掉角部的凸部或凹部608a、608b。并且，如圖27(e)所示，在將指定量的高分子樹脂620充填到這樣的凹凸結構的間隙610中形成具有波狀表面的連續(xù)層后，進而在高分子樹脂膜620上利用濺射法等層疊方法形成連續(xù)的波狀的反射電極624。
可是，在特開平6-27481號公報等所公開的反射型液晶顯示裝置或反射透過兩用型的液晶顯示裝置中，雖然打算使用將直徑不同的多個圓等規(guī)則排列或一部分不規(guī)則排列的掩模，利用紫外線曝光和顯影而形成高度不同的多個凹凸結構，但存在涂布厚度的離散等問題，要嚴密地調(diào)整高度以有效地防止光干涉是很困難的。另外，由于是在高度不同的多個凹凸結構上形成反射電極，所以，也發(fā)現(xiàn)容易發(fā)生斷線或短路等問題。此外，還發(fā)現(xiàn)公開了的帶光反射膜的基板的制造方法存在工序數(shù)多、管理項目多這樣的制造上的問題。
因此，特開平6-27481號公報等所公開的光反射膜不僅難以有效地防止發(fā)生干涉條紋，而且也難以穩(wěn)定而高效率地制造這樣的光反射膜。
因此，考慮了作成將光透過部或光不透過部隨機地排列的掩模，使用該掩模制造上述反射型液晶顯示裝置或反射透過兩用型的液晶顯示裝置，但是，盡管干涉條紋的發(fā)生減少了，這次卻發(fā)現(xiàn)畫面上出現(xiàn)不定形的斑點圖樣、顯示品質(zhì)顯著降低的新的問題。
因此，本發(fā)明的發(fā)明人銳意研究了以上的問題，結果發(fā)現(xiàn)通過在光反射膜的基體材料上隨機地設置多個凸部或凹部，同時使多個凸部或凹部進行特定排列，在應用于液晶顯示裝置等中時，可以得到抑制不定形的斑點圖樣出現(xiàn)并且干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜。
發(fā)明內(nèi)容
即，本發(fā)明的目的在于提供可以得到抑制不定形的斑點圖樣的出現(xiàn)并且干涉條紋的發(fā)生少的帶光反射膜的基板的掩模、從那樣的掩模得到的帶光反射膜的基板、那樣的光反射膜的制造方法和設置那樣的光反射膜的液晶顯示裝置以及具有那樣的光反射膜的電子裝置。
按照本發(fā)明，這是用于制造帶光反射膜的基板的掩模，可以提供以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模，解決上述問題。
即，由于使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列，所以，在制造帶光反射膜的基板時，可以發(fā)揮優(yōu)異的光散射效果，有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另一方面，通過將使用帶光反射膜的基板的液晶顯示裝置等的RGB點的指定點以上作為基本單位，可以顯著地降低這樣隨機地排列時發(fā)生的不定形的斑點圖樣。
控制光透過部或光不透過部的平面形狀的理由在于，對于構成光反射膜的基體材料的感光性樹脂，有照射了透過光透過部的光的部位發(fā)生光分解而可溶化于顯影劑的正型和照射了透過光透過部的光的部位感光而不溶化于顯影劑的負型。
另外，在構成本發(fā)明的掩模時，最好將以預先作成的RGB點3～12為一個單位的光透過部或光不透過部的隨機圖形分割或仍然隨機地排列，構成以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位的光透過部或光不透過部。
通過這樣構成，即便涉及光透過部或光不透過部的圖形的信息量比較少，也可以容易地并且在短時間內(nèi)設計大面積的掩模。
另外，在構成本發(fā)明的掩模時，最好將光透過部或光不透過部在橫一列方向或縱一列方向形成帶狀的隨機圖形，并使該帶狀的隨機圖形在多個列中重復。
通過這樣構成，可以容易并且在短時間內(nèi)設計根據(jù)少的信息量而在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。另外，由于使指定單位的隨機圖形在橫向或縱向重復，所以，可以再現(xiàn)性良好地得到在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。
另外，在構成本發(fā)明的掩模時，最好使光透過部或光不透過部的直徑為3～15μm范圍內(nèi)的值。
通過這樣構成，可以高效率地制造干涉條紋的發(fā)生少的帶光反射膜的基板。即，在制造帶光反射膜的基板時，如果是具有這樣的直徑的凸部或凹部，就可以使用曝光工藝正確地控制其平面形狀和配置圖形。因此，由于在所得到的帶光反射膜的基板上可以使光穩(wěn)定地發(fā)生散射，所以，可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的掩模時，最好使光透過部或光不透過部的直徑不同，設置多種光透過部或光不透過部。
通過這樣構成，可以更高效率地制造干涉條紋的發(fā)生少的帶光反射膜的基板。即，在制造帶光反射膜的基板時，由于存在直徑不同的多個凸部或凹部，多個凸部或凹部的排列就更加分散。因此，在所得到的帶光反射膜的基板上可以使光發(fā)生適當?shù)纳⑸洌?，可以更有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
這樣，在使光透過部或光并透過部的直徑不同時，最好使至少1個的直徑為大于5μm的值。反之，如果都是小于5μm的圓或多邊形，則在制造帶光反射膜的基板時，使光過度散射的情況就增多，從而帶光反射膜的基板的反射光量就顯著地降低。
另外，本發(fā)明的另一形態(tài)是包含基體材料和反射層的帶光反射膜的基板，其特征在于使在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
這樣，通過隨機地配置多個凸部或凹部的平面方向，可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，由于由多個凸部或凹部構成的隨機圖形以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位，所以，可以降低不定形的斑點圖樣的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的掩模時，最好使光透過部或光不透過部在橫一列方向或縱一列方向形成帶狀的隨機圖形，并使該帶狀的隨機圖形在多個列中重復。
通過這樣構成，可以容易地并且在短時間內(nèi)設計根據(jù)少的信息量而在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。另外，由于使指定單位的隨機圖形在橫向或縱向重復，所以，可以再現(xiàn)性良好地在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。
另外，在構成本發(fā)明的帶光反射膜的基板時，最好使多個凸部或凹部的直徑為3～15μm范圍內(nèi)的值。
通過這樣構成，可以使用曝光工藝正確地控制凸部或凹部的平面形狀和配置圖形，同時可以使光適度地發(fā)生散射，所以，可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的帶光反射膜的基板時，最好使多個凸部的高度或凹部的深度為0.1～10μm范圍內(nèi)的值。
通過這樣構成，可以使用曝光工藝正確地控制凸部或凹部的平面形狀和配置圖形。另外，在應用于液晶顯示裝置等中時，可以使光適當?shù)匕l(fā)生散射，所以，可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的帶光反射膜的基板時，最好使光透過部或光不透過部的直徑不同，設置多種光透過部或光不透過部。
通過這樣構成，在應用于液晶顯示裝置等中時，可以使多個凸部或凹部的配置更加分散，使光適當?shù)匕l(fā)生散射，所以，可以更有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的帶光反射膜的基板時，最好基體材料從下方開始順序包含第1基體材料和第2基體材料，在該第1基體材料上設置多個凸部或凹部，在作為連續(xù)層的第2基體材料上設置反射層。
通過這樣構成，經(jīng)過作為連續(xù)層的第2基體材料可以使反射層成為比較平滑的曲面，所以，在應用于液晶顯示裝置等中時，可以更有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，本發(fā)明的另一形態(tài)是包含基體材料和反射層的帶光反射膜的基板的制造方法，其特征在于包括使用以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模對所涂布的感光性樹脂利用曝光工藝形成具有隨機地排列的多個凸部或凹部的第1基體材料的工序、將感光性樹脂涂布到該第1基體材料的表面利用曝光工藝形成具有連續(xù)的多個凸部或凹部的第2基體材料的工序和在該第2基體材料料的表面形成反射層的工序。
如果這樣實施，則經(jīng)過由多個凸部或凹部構成的第1基體材料和作為其上的連續(xù)層的第2基體材料可以使反射層成為比較平滑的曲面。因此，制造容易，并且在應用于液晶顯示裝置等時，可以高效率地提供干涉條紋的發(fā)生少的帶光反射膜的基板。
另外，本發(fā)明的又一形態(tài)是具有夾在基板間的光學元件和設置在該光學元件的觀察側(cè)的相反一側(cè)的基板上的光反射膜的光學顯示裝置，其特征在于該光反射膜由基體材料和反射層構成，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
通過這樣構成，光反射膜適度地發(fā)生光散射，在光學顯示裝置中可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，由于由多個凸部或凹部構成的隨機圖形以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位，所以，可以減少不定形的斑點圖樣的發(fā)生。
另外，在構成本發(fā)明的光學顯示裝置時，最好在光學元件的觀察側(cè)的基板上設置光散射膜。
通過將光反射膜與光散射膜組合使用，可以有效地抑制不定形的斑點圖樣的出現(xiàn)。
另外，在構成本發(fā)明的光學顯示裝置時，最好在光學顯示裝置的觀察側(cè)設置保護板。
通過這樣構成，可以提高光學顯示裝置的機械強度，同時可以使光學顯示裝置的外表美觀。
另外，本發(fā)明的又一形態(tài)是包含具有光反射膜的光學顯示裝置的電子裝置，其特征在于光反射膜包含基體材料和反射層，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
通過這樣構成，光反射膜適度地發(fā)生光散射，在電子裝置中，可以抑制不定形的斑點圖樣的發(fā)生，同時可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，如果是具有這樣的光反射膜的電子裝置，則表面比較平坦，進而組合了光散射膜和保護板時，也可以使外形美觀。
圖1是用于說明本發(fā)明的掩模的平面圖。
圖2是用于說明以1個像素(RGB3點)為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模的平面圖。
圖3是用于說明以2個像素(RGB6點)為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模的平面圖。
圖4是用于說明以3個像素(RGB12點)為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模的平面圖。
圖5是用于說明以橫一列為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模的平面圖。
圖6是包含第1基板和第2基板的光反射膜的剖面圖。
圖7是由非對稱的實質(zhì)上為淚滴型的凸部構成的光反射膜的平面圖和剖面圖。
圖8是表示視覺的光量與觀察的角度的關系的圖。
圖9是具有開口部的光反射膜的剖面圖。
圖10是光反射膜的制造工序圖。
圖11是光反射膜的制造工序的流程圖。
圖12是用于說明與TFT元件電連接的光反射膜的剖面圖。
圖13是表示無源矩陣方式的液晶顯示裝置的結構的剖面圖。
圖14是表示另一的液晶顯示裝置的結構的剖面圖。
圖15是表示作為電子裝置的一例的個人計算機的結構的斜視圖。
圖16是表示作為電子裝置的一例的移動電話機的結構的斜視圖。
圖17是由實質(zhì)上為圓錐型的凹部構成的帶光反射膜的基板的平面圖和剖面圖。
圖18是由非對稱的實質(zhì)上為淚滴型的凹部構成的帶光反射膜的基板的平面圖和剖面圖。
圖19是由非對稱的實質(zhì)上為棱錐狀的凹部構成的帶光反射膜的基板的平面圖和剖面圖。
圖20是由實質(zhì)上水平剖面為曲率半徑小的拋物線、垂直剖面為曲率半徑比其大的拋物線的凹部構成的帶光反射膜的基板的平面圖和剖面圖。
圖21是由實質(zhì)上水平剖面為矩形、垂直方向為角錐狀的凹部構成的帶光反射膜的基板的平面圖和剖面圖。
圖22是TFD方式的液晶顯示裝置的分解圖。
圖23是TFD方式的液晶顯示裝置的局部剖面圖。
圖24是TFD方式的液晶顯示裝置的局部斜視圖。
圖25是表示現(xiàn)有的液晶顯示裝置的結構的剖面圖。
圖26是表示現(xiàn)有的液晶顯示裝置的另一結構的剖面圖。
圖27是現(xiàn)有的液晶顯示裝置的制造工序圖。
具體實施例方式
下面，參照
本發(fā)明的實施例。當然，以下所示的實施例是表示本發(fā)明的一種形態(tài)，對本發(fā)明并不作任何限定，而是在本發(fā)明的技術思想的范圍內(nèi)可以任意地變更。
實施例1.
實施例1是用于制造例如如圖1所示的帶光反射膜的基板的掩模10，其特征在于使光透過部或光不透過部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
所謂光透過部或光不透過部隨機地排列顯然意味著使光透過部或光不透過部無序地排列，而更正確地說，就是將掩模按每單位面積劃界將這些掩模重疊時，各個圖形完全不相同，或者即使有部分的重疊部位，也意味著完全不一致的狀態(tài)。
1.光透過部或光不透過部(1)形狀，最好使掩模的光透過部或光不透過部成為獨立的或一部分重疊的圓(包括橢圓。下同)和多邊形或其中的某一種平面形狀。
其理由在于，通過使光透過部或光不透過部的平面形狀這樣地成為圓或多邊形，在為了制造光反射膜而實施曝光工藝時，可以使樹脂的凹凸配置變得復雜。另外，由于圓或多邊形是基本圖形，所以，掩模本身的制造也很容易。作為理想的多邊形，可舉出四邊形、五邊形、六邊形、八邊形等。
(2)直徑和間隔另外，最好使掩模中的光透過部或光不透過部的直徑為3～15μ范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果光透過部或光不透過部的直徑小于3μm，則在制造光反射膜時即使使用曝光工藝，也往往難以正確地控制凸部或凹部的平面形狀和配置圖形。另外，如果光透過部或光不透過部的直徑小于3μm，掩模本身的制造也往往變得困難。
另一方面，如果光透過部或光不透過部的直徑超過15μm，在所得到的光反射膜中，難以使光適度地發(fā)生散射，散射特性降低，成為暗的反射。
因此，最好使掩模的光透過部或光不透過部的直徑為5～13μm范圍內(nèi)的值，而采用6～12μm范圍內(nèi)的值則更好。
另外，最好使掩模中的光透過部或光不透過部的至少1個的直徑為5μm以上的值。即，在有直徑不同的光透過部或光不透過部時，至少使1個光透過部或光不透過部中的直徑為大于5μm的值，在直徑不同的其他光透過部或光不透過部中，其直徑可以是小于5μm的值。
其理由在于，如果這樣的光透過部或光不透過部的平面形狀都是小于5μm的圓或多邊形，則在所得到的光反射膜中，使光過度散射的情況將增多，成為暗的反射。但是，如果光透過部或光不透過部的直徑太大，則光的散射效果往往降低，從而將發(fā)生干涉條紋。
另外，在獨立地配置掩模中的光透過部或光不透過部時，最好使其間隔(間距)為3.5～30μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的光透過部或光不透過部的間隔為小于3.5μm的值，則光透過部或光不透過部的獨立性往往降低。另一方面，如果這樣的光透過部或光不透過部的間隔超過30μm，則光透過部或光不透過部的隨機配置性往往降低。
因此，最好使掩模中的光透過部或光不透過部的間隔(間距)為5～20μm范圍內(nèi)的值，使掩模中的光透過部或光不透過部的間隔(間距)為7～15μm范圍內(nèi)的值則更好。
這樣的光透過部或光不透過部的間隔是相鄰的光透過部或光不透過部的中心到中心的距離，是10個部位以上的平均值。
另外，使掩模的光透過部或光不透過部相互重疊時，被設定比上述數(shù)值小的值。
(3)種類另外，最好使掩模中的光透過部或光不透過部的直徑不同，設置2～10種光透過部或光不透過部。
其理由在于，這樣，通過存在直徑不同的光透過部或光不透過部，可以更有效地制造干涉條紋發(fā)生少的光反射膜。即，在使用這樣的掩模制造光反射膜時，所得到的凸部或凹部的排列更分散，可以使光適當?shù)匕l(fā)生散射。因此，將這樣的光反射膜應用于液晶顯示裝置等中時，可以更有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
作為由掩模中的直徑不同的光透過部或光不透過部構成的圖形的組合，可以舉出下述例子1)7.5μm的六邊形圖形和9μm的六邊形圖形的組合；2)5μm的六邊形圖形、7.5μm的六邊形圖形和9μm的六邊形圖形的組合；3)4.5μm正方形圖形、5μm的正方形圖形、7.5μm的六邊形圖形、9μm的六邊形圖形和11μm的六邊形圖形的組合。
(4)面積比率另外，最好使掩模的光透過部或光不透過部的面積比率相對于整個面積為10～60％范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的面積比率為小于10％的值，在制造光反射膜時，多個凸部或凹部的占有面積往往將減小，平坦部增加，從而光散射效果將顯著地降低。另一方面，這樣的面積比率超過60％時，平坦部也往往增加，從而光散射效果將顯著地降低。
因此，最好使掩模的光透過部或光不透過部的面積比率相對于整個面積為15～50％范圍內(nèi)的值，而采用20～40％范圍的值則更好。
作為構成基體材料的感光性樹脂，使用正型時，照射了透過光透過部的光的部位將發(fā)生光分解，可溶化于顯影劑，所以，掩模的光不透過部的面積比率將成為問題；使用負型時，照射了透過光透過部的光的部位將發(fā)生光固化，不溶化于顯影劑，所以，掩模的光透過部的面積比率將成為問題。
2.隨機排列(1)隨機排列1在實施例1中，如圖1所示，其特征在于以RGB點100～2,000或整個畫面為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列。
其理由在于，如果這樣的一個單位中的RGB點的數(shù)目小于100點，則在形成光反射膜并將其應用于液晶顯示裝置等中時，在視覺上將多半顯著地出現(xiàn)不定形的斑點圖樣。另外，在一個單位中的RGB點的數(shù)目小于100點時，干涉條紋的抑制也往往是不充分的。
但是，如果這樣的一個單位中的RGB點的數(shù)目超過2,000個，則隨機圖形的信息量將過度增多，從而往往難于作成掩模。因此，最好以RGB點300～1,500個為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列，而以RGB點500～1,200個為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列則更好。
這里，參照下述表1說明一個單位中的RGB點的數(shù)目與掩模的光透過部或光不透過部的配置性、將由其得到的光反射膜應用于液晶顯示裝置時的干涉條紋的發(fā)生和在同樣的條件下斑點圖樣的視覺性的關系。
即，表1在左欄中將一個單位中的RGB點的數(shù)目采用1～11664個，是在其中將光透過部或光不透過部分為隨機配置的情況和規(guī)則配置的情況相對地評價液晶顯示裝置干涉條紋的發(fā)生和斑點圖樣的視覺性的結果。
由該結果可知，在使一個單位中的RGB點的數(shù)目比較多的條件下，例如在192～11664個中，通過將光透過部或光不透過部隨機配置，可以相對地抑制干涉條紋的發(fā)生，同時可以降低斑點圖樣的視覺性。
另外，在一個單位中RGB點的數(shù)目比較少的條件下，例如在1～48個中，將光透過部或光不透過部隨機排列時，可知對干涉條紋的發(fā)生的抑制效果將稍許降低，另一方面，斑點圖樣在視覺上將顯著地感到。
另一方面，將光透過部或光不透過部規(guī)則地配置時，可知不限于一個單位中的RGB點的數(shù)目，盡管在視覺上看不到斑點圖樣，但干涉條紋的發(fā)生卻很顯著。
因此，為了在可以抑制干涉條紋發(fā)生的同時也降低斑點圖樣的視覺性，可以說以例如RGB點100～2,000個為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列是有效的。
表1表1
評價 干涉條紋/斑點圖樣+視覺上幾乎感不到的水平++ 視覺上稍稍感到的水平+++ 視覺上明顯感到的水平++++ 視覺上顯著感到的水平(2)隨機排列2另外，在構成本發(fā)明的掩模時，如圖2～圖4所示，最好將以預先作成的RGB點3～12個為一個單位的光透過部或光不透過部的隨機圖形分割或者仍然隨機地排列，構成以RGB點100～2000個或整個畫面為一個單位的光透過部或光不透過部。
通過這樣構成，可以減少關于光透過部或光不透過部的圖形的信息量，同時通過使RGB點3～12個的隨機圖形重復，可以容易并且在短時間內(nèi)設計大面積的掩模。
將以圖2～圖4所示的RGB點3～12個為一個單位的光透過部或光不透過部的隨機圖形分割時，可以適當?shù)剡M行分割，或者使用隨機函數(shù)等在去掉隨意的條件的條件下進行分割。
(3)隨機排列3另外，在構成本發(fā)明的掩模時，如圖5所示，最好將光透過部或光不透過部244在橫一列方向或縱一列方向形成帶狀的隨機圖形，使該帶狀的隨機圖形在多個列中重復。
通過這樣構成，通過在橫一列的方向或縱一列的方向的某一部位構成1個帶狀的隨機圖形通過將其適當?shù)刂貜?，可以有效地防止因光反射膜引起的干涉條紋的發(fā)生。另外，通過這樣構成，可以容易并且在短時間內(nèi)設計利用少的信息量而在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。例如，將17英寸的LCD面板用的掩模在橫向均等地分割為1/n(n是2～1000范圍內(nèi)的自然數(shù))，在其中的橫一列方向的掩模中如果用隨機函數(shù)來分配光透過部或光并透過部，使其重復n次，就可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，這樣，通過使指定單位的隨機圖形在橫向或縱向重復，就可以得到再現(xiàn)性良好的在總體上具有優(yōu)異的反射特性的隨機圖形。
實施例2.
如圖6所示，實施例2作為一例表示使用了負型的感光性樹脂的情況，是包含基體材料77和反射層72的帶光反射膜的基板70，其特征在于以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使在該基體材料77上形成的多個凸部76在平面方向隨機地排列。
1.基體材料如圖6所示，作為基體材料的結構，從下方起依次包含第1基體材料76和第2基體材料79，最好該第1基體材料76由獨立的或一部分重疊的多個凸部構成，第2基體材料是連續(xù)層。
通過這樣構成，可以使經(jīng)過作為連續(xù)層的第2基體材料79在其上形成的反射層72成為平坦部少的比較平滑的曲面，所以，在應用于液晶顯示裝置等中時，可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。另外，在基體材料包含第1基體材料和第2基體材料時，在基體材料上形成的多個凸部或凹部這樣的情況通常是指構成第1基體材料的多個凸部或凹部。
下面，作為合適的例子，以如圖6所示的那樣從下方起基體材料77由第1基體材料76和第2基體材料79構成的情況為例進行說明。
(1)第1基體材料最好使第1基體材料上的多個凸部的高度或凹部的深度為0.5～5μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度小于0.5μm，就往往難以經(jīng)過第2基體材料設置具有適當?shù)那娴姆瓷鋵?。另一方面，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度超過5μm，反射層的凹凸往往將增大，從而將使光過度地散射，或者容易發(fā)生斷線。
因此，最好使第1基體材料的凸部的高度或凹部的深度為0.8～4μm范圍內(nèi)的值，而采用1～3μm范圍內(nèi)的值則更好。
(2)第2基體材料最好使第2基體材料上的連續(xù)的凸部的高度或凹部的深度為0.1～3μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度小于0.1μm，就往往難以在其上設置具有適當?shù)那娴姆瓷鋵印Ａ硪环矫?，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度超過3μm，在其上形成的反射層的凹凸就增大，從而將使光過度地散射，或者容易發(fā)生斷線。
因此，最好使第2基體材料上的凸部的高度或凹部的深度為0.1～2μm范圍內(nèi)的值，而采用0.3～2μm范圍內(nèi)的值則更好。
(3)多個凸部或凹部①隨機排列1以RGB點100～2000個或整個畫面為一個單位使在基體材料表面形成的多個凸部或凹部特別是構成第1基體材料的多個凸部或凹部在平面方向隨機地排列。
其理由在于，如果多個凸部或凹部全部規(guī)則地排列，應用于液晶顯示裝置等中時將發(fā)生干涉條紋，從而圖像品質(zhì)將顯著降低。另外，使多個凸部或凹部按RGB點的指定單位在平面方向隨機地排列時，RGB點單位小于100點時，應用于液晶顯示裝置等中時將會明顯地看到不定形的斑點圖樣。
因此，最好以RGB點300～1,500個為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列，以RGB點500～1,200為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列則更好。
另外，最好使這樣的多個凸部的高度或凹部的深度實質(zhì)上相等。其理由在于，如特開平6-27481號公報和特開平11-281972號公報所述的那樣，反之，如果使多個凸部的高度或凹部的深度不同，則制造變得困難，同時不能穩(wěn)定地抑制干涉條紋的發(fā)生。
②凸部或凹部的平面形狀另外，關于在基體材料上形成的多個凸部或凹部的平面形狀，最好采用獨立的或一部分重疊的圓和多邊形或其中的某一種平面形狀。
其理由在于，通過采用獨立的或一部分重疊的圓和多邊形或其中的某一種平面形狀，可以使用曝光工藝正確地控制多個凸部或凹部的平面形狀和配置圖形。另外，只要是這樣的平面形狀的凸部或凹部，就可以使光發(fā)生散射，從而可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
另外，作為凸部或凹部的平面形狀的適當例子，可舉出圖7(a)所示的偏移的橢圓形(液滴形狀)及圖7(b)所示的偏移的四邊形(棱錐型)，或者作為凹部的平面形狀的適當例子，可舉出圖17～圖21所示的橢圓的圓頂形狀或長圓的圓頂形狀等。
其理由在于，通過使多個凸部或凹部的平面形狀采用這樣的非對稱的平面形狀，如圖8所示，在與高度方向的斜面相結合地維持指定的光散射性而提高光指向性。在圖8中，單點點劃線a表示在圖7(a)所示的偏移的橢圓形的情況下視覺接收的光量，實線b表示在無偏移的均等的圓形情況下視覺接收的光量。因此，通過采用這樣的非對稱的平面形狀，從恒定方向觀看時，在例如角度為+15°的位置進入眼中的光量增多，從而在該位置可以看到明亮的圖像。
③凸部或凹部的直徑另外，關于在基體材料上形成的多個凸部或凹部，最好使該凸部或凹部的直徑為3～15μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，只要是具有這樣范圍的直徑的多個凸部或凹部，就可以使用曝光工藝正確地控制平面形狀或配置圖形，同時，可以使光發(fā)生適度的散射，從而可以有效地防止干涉條紋的發(fā)生。另外，只要是具有這樣范圍的直徑的多個凸部或凹部，就可以減少觀察到不定形的斑點圖樣的情況。
因此，最好使多個凸部或凹部的直徑為5～13μm范圍內(nèi)的值，而采用6～12μm范圍內(nèi)的值則更好。
另外，最好使多個凸部或凹部的直徑不同，設置例如2～10種凸部或凹部。通過這樣構成，可以得到由1種凸部或凹部所不能得到的復雜的光反射，從而可以使光更分散地進行散射。因此，通過設置直徑不同的多個凸部或凹部，可以更有效地防止干涉條紋的發(fā)生。
④凸部的高度或凹部的深度另外，關于在基體材料上形成的多個凸部或凹部，最好使該凸部的高度或凹部的深度為0.1～10μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度為小于0.μm的值，即使使用曝光工藝凹凸也往往會減小，從而散射特性將降低。另一方面，如果這樣的凸部的高度或凹部的深度超過10μm，反射層的凹凸往往增大，從而使光發(fā)生過度散射，或者容易發(fā)生斷線。
因此，最好使凸部的高度或凹部的深度為0.2～3μm范圍內(nèi)的值，而采用0.3～2μm范圍內(nèi)的值則更好。
(4)開口部在光反射膜中，最好設置用于使光部分地通過的開口部。通過這樣構成，可以應用于反射透過兩用型的液晶顯示裝置等中。
即，如圖9所示，通過在光反射膜100的一部分設置開口部102，可以利用光反射膜100有效地反射來自外部的光，同時對于從內(nèi)部發(fā)出的光也可以通過開口部102有效地向外部射出。
開口部的大小不特別限制，最好根據(jù)光反射膜的用途等而決定，例如，設光反射膜的整個面積為100％時，最好采用5～80％范圍內(nèi)的值，采用10～70％范圍內(nèi)的值更好，而采用20～60％范圍內(nèi)的值則更好。
2.反射層(1)厚度最好使光反射膜上的反射層的厚度為0.05～5μm范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的反射層的厚度為小于0.05μm的值，則反射效果往往顯著地降低。另一方面，如果這樣的反射層的厚度超過5μm，則所得到的光反射膜的柔性往往會降低，制造時間將過度延長。
因此，最好使這樣的反射層的厚度為0.07～1μm范圍內(nèi)的值，而采用0.1～0.3μm范圍內(nèi)的值則更好。
(2)種類另外，對反射層的構成材料不加特別限制，最好是例如鋁(Al)、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、鉻(Cr)、鉭(Ta)和鎳(Ni)等導電性和光反射性優(yōu)異的金屬材料。
另外，在上述反射層上，最好使用氧化銦錫(ITO)或氧化銦或者氧化錫等透明導電材料。
但是，使用這樣的金屬材料和透明導電材料時，在有向液晶中溶入的情況下，最好在由該金屬材料等構成的反射膜的表面設置電絕緣膜，或與金屬材料等一起濺射電絕緣物。
(3)基底層另外，在第2基板上形成反射層時，為了提高緊密粘附力，同時使反射層成為平緩的曲面，最好設置厚度0.01～2μm的基底層。
作為這樣的基底層的構成材料，可舉出硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑、鋁偶聯(lián)劑、鋁—鎂合金、鋁—硅烷合金、鋁—銅合金、鋁—錳合金、鋁—金合金等的僅僅一種或兩種以上的組合。
(4)鏡面反射率另外，最好使反射層上的鏡面反射率為5～50％范圍內(nèi)的值。
其理由在于，如果這樣的鏡面反射率為小于5％的值，在應用于液晶顯示裝置等中時，所得到的顯示圖像的亮度往往顯著降低。另一方面，如果這樣的鏡面反射率超過50％，則散射性往往降低，有背景映入或外部光過度地發(fā)生鏡面反射。
因此，最好使反射層上的鏡面反射率為10～40％范圍內(nèi)的值，而采用15～30％范圍內(nèi)的值則更好。
3.與其他構件的組合最好將上述光反射膜與其他構件組合，例如，如圖13和圖14所示的那樣，與濾色片150、遮光層151、覆蓋層157、多個透明電極154和取向膜等組合。
通過這樣組合，可以有效地提供干涉條紋發(fā)生少的彩色液晶顯示裝置等的構件。例如，通過將由例如RGB(紅、綠、藍)3色的色要素構成的條形排列、鑲嵌排列、或三角形排列等的濾色片150組合起來，很容易實現(xiàn)彩色化，進而，通過與遮光層151組合，可以得到對比度優(yōu)異的圖像。另外，光反射膜也可以作為反射電極使用，但是，通過設置另一電極例如透明電極154，既可以防止光吸收，又可以排除由多個凸部或凹部構成的反射膜的影響。
此外，也可以利用由YMC(黃、深紅、深藍)組成的3色元構成濾色片，其光透過性優(yōu)異，作為反射型液晶顯示裝置使用時，可以得到更明亮的顯示。
實施例3.
實施例3是包含基體材料和反射層的光反射膜的制造方法，其特征在于包括使用以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的掩模對所涂布的感光性樹脂利用曝光工藝形成具有在平面方向隨機地排列的多個凸部或凹部的第1基體材料的工序、將感光性樹脂涂布到該第1基體材料的表面利用曝光工藝形成具有連續(xù)的多個凸部或凹部的第2基體材料的工序和在該第2基體材料料的表面形成反射層的工序。
下面，適當參照圖10和圖11，以在第1基體材料的表面形成凹部的情況為例具體說明光反射膜(帶光反射膜的基板)的制造方法。圖10是將光反射膜的制造工序圖解化的圖，圖11是其流程圖。
1.形成第1基體材料料的工序最好利用在實施例1中說明過的掩模對感光性樹脂通過曝光工藝形成在平面方向隨機地排列的多個凸部或凹部。
即，經(jīng)過使光透過部或光不透過部成為獨立的或一部分重疊的圓和多邊形或其中的某一種平面形狀并且在平面方向隨機地排列的掩模，由例如正型感光性樹脂構成與在平面方向隨機地排列的多個凸部或凹部。
(1)感光性樹脂對構成第1基體材料的感光性樹脂的種類不加特別限制，可舉出例如丙烯酸類樹脂、環(huán)氧類樹脂、硅酮類樹脂、苯酚類樹脂、氧雜環(huán)丁烷類樹脂等僅僅一種或兩種以上的組合。另外，為了能夠高精度地成為指定的圓形或多邊形，也可以在感光性樹脂中添加二氧化硅粒子、氧化鈦、氧化鋯、氧化鋁等無機充填物。
如上所述，作為構成第1基體材料的感光性樹脂，有照射了透過光透過部的光的部位發(fā)生光分解而可溶化于顯影劑的正型和照射了透過光透過部的光的部位發(fā)生固化而不溶化于顯影劑的負型，不論哪一種都可以使用得很好。
(2)曝光工藝如圖10(a)和圖11的工序P31所示，在形成第1基體材料112時，最好使用轉(zhuǎn)涂機等將構成第1基體材料的感光性樹脂均勻地涂布到支撐部114上，形成第1層110。這時，作為轉(zhuǎn)涂機的工藝條件，最好是例如600～2000rpm的轉(zhuǎn)數(shù)，進行5～20秒。
其次，如圖11的工序P32所示，為了提高分辨率，最好對第1層110進行預烘處理。這時，使用例如加熱板，采用80～120℃、1～10分鐘的加熱條件。
然后，如圖10(b)和圖11的工序P33所示，最好使用實施例1的掩模119利用曝光工藝形成由在平面方向隨機地排列的獨立的或一部分重疊的多個凸部或凹部構成的第1基體材料112。即，最好將實施例1的掩模119放置到由均勻地涂布的感光性樹脂構成的第1層110上后用i射線等進行曝光。這時，最好使i射線等的曝光量為例如50～300mJ/cm2范圍內(nèi)的值。
其次，如圖10(c)和圖11的工序P34所示，通過利用顯影液進行例如正顯影，可以形成由在平面方向隨機地排列的獨立的或一部分重疊的多個凸部或凹部構成的第1基體材料112。
在形成第2基體材料113之前，如圖11的工序P35所示，作為一例，在以曝光量300mJ/cm2對整個面進行后曝光之后，最好通過按220℃、50分鐘的條件加熱，進行后烘焙，使第1基體材料112更強固。
2.形成第2基體材料的工序形成第2基體材料的工序是通過樹脂涂布等在第1基體材料上即在平面方向隨機地排列的多個凹部上形成作為連續(xù)層的第2基體材料的工序。
(1)感光性樹脂對構成第2基體材料的感光性樹脂的種類不加特別限制，可舉出例如丙烯酸類樹脂、環(huán)氧類樹脂、硅酮類樹脂、苯酚類樹脂等。
另外，為了提高第1基體材料與第2基體材料間的緊密粘附力，構成第2基體材料的感光性樹脂最好與構成第1基體材料的感光性樹脂為同一種樹脂。
另外，為了提高第1基體材料與第2基體材料間的緊密粘附力，最好預先對第1基體材料的表面進行硅烷偶聯(lián)劑等處理。
(2)曝光工序如圖10(d)和圖11的工序P37～P40所示，在形成第2基體材料113時，在涂布構成第2基體材料113的感光性樹脂之后，最好在面板顯示區(qū)域周邊的裝配區(qū)域，用i射線等進行曝光，除去樹脂層。這時，與對第1基體材料112進行曝光一樣，最好使i射線等的曝光量為例如50～300mJ/cm2范圍內(nèi)的值。
此外，如圖11的工序P41～P42所示，在形成第2基體材料113之后，作為一例，在以曝光量為300mJ/cm2對整個面進行后曝光之后，最好通過按220℃、50分鐘的條件加熱，進行后烘焙，分別使第1基體材料112和第2基體材料113更加強固。
3.形成反射層的工序如圖10(e)和圖11的工序P43～P44所示，形成反射層的工序是在第2基體材料113的表面形成具有平滑的曲面的反射層116以使光發(fā)生適度的散射的工序。
(1)反射層材料作為反射層材料，如在實施例2中說明過的那樣，最好采用鋁(Al)和銀(Ag)等光反射性優(yōu)異的金屬材料。
(2)形成方法最好應用濺射等方法形成反射層。另外，可以用光刻等方法除去所希望的部位以外的反射層材料。
另外，由于在第2基體材料的表面形成了凹凸，所以，有時反射層材料不以均勻的厚度層疊，這時，最好采用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)法或旋轉(zhuǎn)濺射法。
此外，最好在形成反射層的同時，使該反射層與TFT(薄膜晶體管)或MIM(金屬-絕緣體-金屬)等的端子進行電連接。
實施例4.
實施例4是作為有源元件使用2端子型的有源元件TFD(薄膜二極管)的有源矩陣方式的液晶顯示裝置，其特征在于具有夾在基板間的液晶元件和設置在與該液晶元件的觀察側(cè)相反一側(cè)的基板上的帶光反射膜的基板，該帶光反射膜的基板由基體材料和反射層構成，以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使在該基體材料上形成的多個凸部或凹部隨機地排列。
下面，參照圖22～圖24具體進行說明，以可以有選擇地進行使用外部光的反射顯示方式和使用照明裝置的透過顯示方式的半透過反射型液晶裝置為例進行說明。
首先，在本實施例中，如圖22所示，液晶裝置230也是通過用密封材料(圖中未示出)將第1基板231a與第2基板231b貼合在一起并將液晶封入由第1基板231a、第2基板231b和密封材料所包圍的間隙即盒隙內(nèi)而形成的。在一方的基板231b的表面最好用例如COG(芯片鍵合在玻璃上)方式直接安裝液晶驅(qū)動用IC(圖中未示出)。
并且，在圖22中，放大表示了構成液晶裝置230的顯示區(qū)域的多個顯示點中的幾個剖面結構，圖23表示1個顯示點部分的剖面結構。
這里，如圖22所示，在由第2基板231b的密封材料所包圍的內(nèi)部區(qū)域中，多個像素電極在行方向XX和列方向YY以點陣狀的排列而形成。另外，在由第1基板231a的密封材料所包圍的內(nèi)部區(qū)域上形成條狀電極，該條狀電極與第2基板231b側(cè)的多個像素電極相向而配置。
另外，由第1基板231a上的條狀電極和第2基板231b上的1個像素電極將液晶夾在中間的部分形成1個顯示點，多個該顯示點在由密封材料包圍的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)通過排列成點陣狀而形成顯示區(qū)域。另外，液晶驅(qū)動用IC通過有選擇地將掃描信號和數(shù)據(jù)信號加到多個顯示點內(nèi)的對置電極間，對每個顯示點控制液晶的取向。即，通過液晶的取向控制來調(diào)制通過該液晶的光，從而在顯示區(qū)域內(nèi)顯示文字、數(shù)字等圖像。
另外，在圖23中，第1基板231a具有由玻璃、塑料等形成的基體材料236a、在該基體材料236a的內(nèi)側(cè)表面形成的光反射膜231、在該光反射膜231上形成的濾色片242和在該濾色片242上形成的透明的條狀電極243。在該條狀電極243上形成取向膜241a。對該取向膜241a進行作為取向處理的摩擦處理。條狀電極243由例如ITO(氧化銦錫)等透明導電材料形成。
另外，與第1基板231a相向的第2基板231b具有由玻璃、塑料等形成的基體材料236b、在該基體材料236b的內(nèi)側(cè)表面形成的具有開關元件功能的作為有源元件的TFD(薄膜二極管)247和與該TFD247連接的像素電極239。在TFD247和像素電極239上形成取向膜241b。對該取向膜241b進行作為取向處理的摩擦處理。像素電極239由例如ITO(氧化銦錫)等透明導電材料形成。
另外，屬于第1基板231a的濾色片242在與第2基板231b側(cè)的像素電極239相向的位置上，最好具有R(紅)、G(綠)、B(藍)或Y(黃)、M(深紅)、C(深藍)等各色的某一種濾色元件242a，而在與像素電極239不相向的位置上最好具有黑掩模242b。
另外，如圖23所示，第1基板231a與第2基板231b間的間隔即盒隙由分散在某一方的基板的表面上的球狀襯墊304維持其尺寸，將液晶封入到該盒隙內(nèi)。
這里，如圖23所示，TFD247由第1金屬層244、在該第1金屬層244的表面形成的絕緣層246和在該絕緣層246上形成的第2金屬層248構成。這樣，TFD247就由第1金屬層/絕緣層/第2金屬層構成的層疊結構即所謂的MIM(金屬-絕緣體-金屬)結構所構成。
另外，第1金屬層244由例如鉭單質(zhì)、鉭合金等形成。作為第1金屬層244，使用鉭合金時，在主成分的鉭中，添加例如鎢、鉻、鉬、錸、釔、鑭、鏑等在元素周期表中屬于第6～第8族的元素。
另外，第1金屬層244與行布線249的第1層249a一體地形成。該行布線249將像素電極239夾在中間并被形成為條狀，起作為用于向像素電極239供給掃描信號的掃描線或用于向像素電極239供給數(shù)據(jù)信號的數(shù)據(jù)線的作用。
另外，絕緣層246由利用例如陽極氧化法通過將第1金屬層244的表面氧化而形成的氧化鉭(Ta2O5)構成。將第1金屬層244進行陽極氧化時，行布線249的第1層249a的表面也同時被氧化，同樣形成由氧化鉭構成的第2層249b。
另外，第2金屬層248由例如Cr等導電材料形成。像素電極239在基體材料236b的表面形成，其一部分與第2金屬層248的前端重疊。在基體材料236b的表面，在形成第1金屬層244和行布線的第1層249a之前，有時利用氧化鉭等形成基底層。這是為了使第1金屬層244不致在第2金屬層248淀積后通過熱處理而從基底上剝離，以及雜質(zhì)不會擴散到第1金屬層244中的緣故。
并且，在第1基板231a上所形成的光反射膜231由例如鋁等光反射性的金屬形成，在與屬于第2基板231b的各像素電極239對應的位置即與各顯示點對應的位置上形成光透過用的開口241。另外，在光反射膜231的液晶側(cè)表面，最好以例如圖7和圖17～圖21所示的長圓形形成圓頂形狀的谷部或山部80、84、180、190、200、210、220。即，這樣的谷部或山部80、84、180、190、200、210、220最好以作為行布線的延長方向的X軸線方向為長軸、以與之成直角的Y軸線方向為短軸進行排列。另外，谷部或山部80、84、180、190、200、210、220的長軸方向X被設定為與沿基體材料的XX方向延伸的端邊平行，短軸方向Y被設定為與沿基體材料的YY方向延伸的端邊平行。
實施例4的液晶顯示裝置230按以上方式構成，所以，該液晶顯示裝置230在進行反射型顯示時，在圖23中，從觀察者側(cè)即第2基板231b側(cè)進入液晶顯示裝置230的內(nèi)部的外部光通過液晶到達光反射膜231，由該反射膜231反射后再次供給液晶(參見圖23的箭頭F1)。液晶由加到像素電極239與條狀對置電極243之間的電壓即由掃描信號和數(shù)據(jù)信號按每個顯示點控制其取向，這樣，供給液晶的反射光按每個顯示點進行調(diào)制，以此在觀察者側(cè)顯示文字、數(shù)字等圖像。
另一方面，液晶顯示裝置230在進行透過型顯示時，配置在第1基板231a的外側(cè)的照明裝置(圖中未示出)即所謂的背光源發(fā)光，該發(fā)光在通過偏振片233a、延遲片232a、基體材料236a、光反射膜231的開口241、濾色片242、電極243和取向膜241a之后，供給液晶(參見圖23的箭頭F2)。此后，與反射型顯示時一樣，進行顯示。
并且，在實施例4中，由于以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使多個凸部或凹部在帶光反射膜的基板的基體材料上在平面方向隨機地排列，所以，可以減少干涉條紋的發(fā)生。
另外，在實施例4中，如上所述，使多個凸部或凹部中的沿X軸線的立體形狀和沿Y軸線的立體形狀互不相同時，可以在將向恒定的視角方向的反射光量抑制得很低的基礎上，增大向另外的特定的視角方向的反射光量。其結果是，觀察者在使用光反射膜進行的反射型顯示時可以將在液晶顯示裝置的顯示區(qū)域內(nèi)顯示的圖像作為對特定的視角方向非常明亮的顯示進行觀察。
實施例5.
實施例5是一種具有夾在基板間的液晶元件和設置在與該液晶元件的觀察側(cè)相反一側(cè)的基板上的光反射膜的液晶顯示裝置的液晶顯示裝置，其特征在于該光反射膜由基體材料和反射層構成，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
下面，適當參照圖13等具體說明實施例5中的無源矩陣方式的反射型液晶顯示裝置。在以下所示的各圖中，使各層或各部件在圖面上采用可以識別的大小，所以，對各層或各部件采用的比例尺往往不同。
1.結構如圖13所示，液晶顯示裝置140是通過密封材料158將互相相向的第1基板141和第2基板142貼合在一起并將液晶144封入兩基板間而構成的。此外，在該液晶顯示裝置141的觀察側(cè)，設置了具有光透過性的保護板145。該保護板145是用于保護該液晶顯示裝置140使之免遭來自外部的沖擊等的板狀構件，設置在例如安裝液晶顯示裝置140的電子裝置的框體上。另外，保護板145與液晶顯示裝置140中的第1基板141(觀察側(cè)的基板)的基板面接近地被設置。在本實施例中，設想為使由塑料構成的保護板145與第1基板141的結構要素中最靠近觀察側(cè)的偏振片146的表面接觸。這樣，利用塑料構成保護板145時，有成形容易、可以廉價地制造的優(yōu)點，而缺點是在其表面容易形成微細的凹凸。
另一方面，液晶顯示裝置140的第1基板141和第2基板142是玻璃、石英、塑料等具有光透過性的板狀構件。其中，在位于觀察側(cè)的第1基板141的內(nèi)側(cè)(液晶144側(cè))表面形成在指定的方向延伸的多個透明電極143。各透明電極143是由ITO(氧化銦錫)等透明導電材料形成的帶狀的電極。此外，形成這些透明電極143的第1基板141的表面由取向膜(圖示省略)所覆蓋。該取向膜是聚酰亞胺等有機薄膜，進行了用于規(guī)定未加電壓時的液晶144的取向方向的摩擦處理。
2.光散射膜在第1基板141的外側(cè)(液晶144的相反一側(cè))，設置了使入射光在指定方向偏振的偏振片146和介于第1基板141與偏振片146之間的散射層147。散射層147是用于使透過該散射層147的光發(fā)生散射的層，具有用于將偏振片146粘結到第1基板141上的粘結劑148a和分散到該粘結劑148a中的大量的微粒148b。作為該散射層147，可以使用將由二氧化硅構成的微粒148b分散到例如丙烯酸類或環(huán)氧類等粘結劑148a中而成的散射層。并且，粘結劑148a的折射率與微粒148b的折射率不同，入射到該散射層147上的光在粘結劑148a與微粒148b的邊界處發(fā)生折射。其結果是，可以使入射到散射層147上的光以適當散射的狀態(tài)出射。
此外，實施例5中的散射層147選擇分散在粘結劑148a中的微粒148b的數(shù)目和兩者的折射率等，以使其霾值H在10～60％的范圍內(nèi)。這里，所謂霾值H，是表示入射到某一構件上的入射光在透過該構件時發(fā)生散射的程度的值，由下式定義霾值H＝(Td/Tt)×100％其中，Tt是全部光線透過率(％)，Td是散射光透過率(％)。全部光線透過率Tt是表示向作為霾值H的測定對象的試料入射的入射光量中透過該試料的光量的比例的值。另一方面，散射光透過率Td是表示對試料從指定方向照射光時透過該試料的光量中向上述指定方向以外的方向出射的光量(即散射光量)的比例的值。即，設從試料出射的出射光量中向與入射光平行的方向出射的出射光量的比例為平行光透過率Tp(％)，則上述散射光透過率Td就由上述全部光線透過率Tt與平行光透過率Tp之差(Td＝Tt-Tp)表示。由以上所述可知，如果霾值H高，散射的程度就大(即散射光量在透過光量中所占的比例就大)，反之，如果霾值H低，則散射的程度就小(即可以減小散射光量在透過光量中所占的比例)。對于上述霾值H，在.JIS(日本工業(yè)標準)K6714-1977中有詳細的描述。
3.反射層(光反射膜)另一方面，在第2基板142的內(nèi)側(cè)(液晶144一側(cè))表面形成了反射層149。該反射層149是用于將從觀察側(cè)入射的光向液晶顯示裝置140反射的層，由例如鋁或銀這樣的具有光反射性的金屬形成。
這里，如圖13所示，第2基板142的內(nèi)側(cè)表面中由反射層149所覆蓋的區(qū)域是形成了大量的微細的突起和洼坑的粗糙面。更具體而言，是包含基體材料和反射層的光反射膜，是使在該基體材料的表面形成的多個凸部的高度或凹部的深度實質(zhì)上相等，同時使該多個凸部或凹部的平面形狀成為獨立的或一部分重疊的圓和多邊形或其中的某一種平面形狀并且使多個凸部或凹部在平面方向隨機地排列的反射層149。
因此，反射層149的表面成為反映了第2基板142表面的突起和洼坑的粗糙面。即，反射層149具有用于使該表面上的反射光適度地發(fā)生散射而實現(xiàn)寬的視角的散射結構。更具體而言，反射層149是在由多個凸部或凹部構成的基體材料上形成的、并且使在基體材料上形成的多個凸部的高度或凹部的深度實質(zhì)上相等、同時使該多個凸部或凹部的平面形狀成為獨立的或一部分重疊的圓和多邊形或其中的某一種平面形狀、并且使多個凸部或凹部在平面方向隨機地排列的結構。
4.其他結構此外，在覆蓋第2基板142的反射層149的面上，形成了濾色片150、遮光層151、用于使由濾色片150和遮光層151形成的凹凸平坦化的覆蓋層157、多個透明電極154和取向膜(圖示省略)。
各透明電極154是在與第1基板141上的透明電極143的延伸方向交叉的方向(圖13中紙面的左右方向)延伸的帶狀的電極，與透明電極143一樣，由ITO等透明導電材料形成。
在這樣的結構中，液晶144的取向方向隨加到透明電極143與透明電極154間的電壓而變化。即，透明電極143與透明電極154交叉的區(qū)域具有像素(子像素)的功能。濾色片150是與這些像素分別對應地設置的樹脂層，利用染料或顏料著色為R、G、B中的某一種。
另外，遮光層151是用于將各像素的間隙部分遮光的網(wǎng)格狀的層，由例如分散了碳黑的黑色樹脂材料等形成。
5.工作利用以上說明過的結構實現(xiàn)反射型顯示。即，太陽光或室內(nèi)照明光等外光透過保護板145入射到液晶顯示裝置140上，在反射層149的表面反射。
該反射光透過液晶144和第1基板141，在散射層147中發(fā)生適度的散射后透過偏振片146，向液晶顯示裝置140的觀察側(cè)出射。并且，來自液晶顯示裝置140的出射光透過保護板145，為觀察者所觀看。
這里，如上所述，作為保護板145的材料，使用塑料時，使其表面成為完全的平面是困難的，容易形成多個微細的凹凸。這樣，將形成了微細的凹凸的保護板145靠近液晶顯示裝置140的第1基板141配置時，來自該液晶顯示裝置140的出射光在透過保護板145時將發(fā)生干涉，其結果是，與該凹凸對應的干涉條紋與顯示圖像重疊，可招致顯示品質(zhì)降低。
但是，如上述實施例所示，本發(fā)明人的試驗結果利用散射層147使通過液晶144到達保護板145的光發(fā)生散射時，可以實現(xiàn)高品質(zhì)的顯示。
另外，在圖13所示的液晶顯示裝置的結構中，從抑制干涉條紋的發(fā)生的角度考慮，希望散射層147的霾值H高，即，希望散射的程度高。但是，如果使該霾值H太高時(例如大于70％)，從液晶顯示裝置140到達保護板145的光將過度散射，從而顯示圖像的對比度將降低，即，將發(fā)生顯示圖像模糊的新的問題。另一方面，如果散射層147的霾值H太低，例如小于10％時，將容易看到起因于凹凸的斑點。
本發(fā)明人的試驗結果發(fā)現(xiàn)，將散射層147的霾值H設定為10％～40％范圍內(nèi)的值時，可以避免顯示圖像的對比度顯著降低，并且又可以有效地抑制起因于保護板145的表面的凹凸的顯示品質(zhì)降低，從而可以確保良好的顯示品質(zhì)。
因此，最好將散射層147的霾值H設定為該范圍內(nèi)的值，特別是最好設定為20％附近的值。
如實施例5所示，使用將微粒148b分散到粘結劑148a中的散射層147時，通過調(diào)節(jié)例如微粒148b的添加量(數(shù)量)，可以任意選定霾值H。
即，如果增加分散到粘結劑148a中的微粒148b的添加量，則向該散射層147入射的入射光將引起散射，所以，可以提高該散射層147的霾值H，反之，如果減少微粒的添加量，就可以降低散射層147的霾值H。
另外，按照實施例5，具有可以在很寬的范圍內(nèi)容易地選定從液晶顯示裝置140出射的光的散射程度的優(yōu)點。即，在不具有上述散射層147的液晶顯示裝置中，為了調(diào)節(jié)從液晶顯示裝置140出射的光的散射程度，必須調(diào)節(jié)反射層149的表面的形狀例如凸部的高度或凹部的深度或者相鄰的凸部(或凹部)間的距離等。
但是，考慮到在第2基板142上形成所希望的凹凸的制造技術上的問題等，要使反射層149的表面正確地成為所希望的形狀未必是很容易的。此外，僅通過調(diào)節(jié)反射層149表面的形狀所能調(diào)節(jié)從液晶顯示裝置140出射的光的散射程度的幅度將限定在非常窄的范圍內(nèi)。
與此相對照，按照本實施例，即使不大幅度地變更反射層149的表面的形狀，通過變更散射層147的霾值H，例如通過適當?shù)卣{(diào)節(jié)分散到粘結劑148a中的微粒148b的添加量等，就具有可以在很寬的范圍內(nèi)容易地調(diào)節(jié)從液晶顯示裝置140出射的光的散射的程度的優(yōu)點。
實施例6.
實施例6是是具有夾在基板間的液晶元件和設置在與該液晶元件的觀察側(cè)相反一側(cè)的基板上的光反射膜的無源矩陣方式的半透過反射型液晶顯示裝置，其特征在于該光反射膜由基體材料和反射層構成，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
因此，下面，參照圖14具體說明實施例6的無源矩陣方式的半透過反射型液晶顯示裝置。在圖14所示的結構要素中，對于與上述圖13所示的結構要素相同的部分標以相同的符號，并省略其說明。
1.基本結構如圖14所示，在實施例6中，在液晶顯示裝置160的背面?zhèn)?觀察側(cè)的相反一側(cè))配置了背光源單元153。該背光源單元153具有起光源作用的多個LED15(在圖14中僅圖示了1個LED15)、將入射到側(cè)端面上的來自LED15的光向液晶顯示裝置160中的第2基板142的整個面上導引的導光板152、將由該導光板152導引的光向液晶顯示裝置160均勻地漫射的漫射板155和將從導光板152向與液晶顯示裝置160相反一側(cè)出射的光對液晶顯示裝置160側(cè)反射的反射板156。
這里，LED15不是總在點亮，而是在外光幾乎不存在的環(huán)境中使用時根據(jù)用戶的指示或來自傳感器的檢測信號點亮。
此外，在實施例6的液晶顯示裝置160中，在反射層149中與各像素的中央部附近對應的區(qū)域形成開口部159。另外，在第2基板142的外側(cè)(液晶144的相反一側(cè))粘貼著另外的一對偏振片，但在圖14中省略了該偏振片。
2.工作按照這樣構成的液晶顯示裝置160，除了在上述實施例5中所示的反射型顯示外，還可以實現(xiàn)透過型顯示。即，從背光源單元153向液晶顯示裝置160照射的光通過反射層149的開口部159。該光透過液晶144和第1基板141，在散射層147中發(fā)生散射后，透過偏振片146向液晶顯示裝置160的觀察側(cè)出射。并且，利用該出射光透過保護板145向觀察側(cè)出射，實現(xiàn)透過型顯示。
因此，在本實施例中，與上述實施例5一樣，即使靠近液晶顯示裝置160設置在表面形成了微細的凹凸的保護板145，也可以抑制由該凹凸引起的顯示品質(zhì)的降低。
實施例7.
實施例7是具有夾在基板間的液晶元件和設置在與該液晶元件的觀察側(cè)相反一側(cè)的基板上的光反射膜的液晶顯示裝置的變例，該光反射膜由基體材料和反射層構成，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
(1)變例1在上述各實施例中，采用將散射層147設置在第1基板141與偏振片146之間的結構，但是，散射層147的位置不限于此。例如，將用于補償干涉色的延遲片設置在偏振片146與第1基板141之間時，可以將散射層147插入到該延遲片與第1基板141之間，或者，也可以將散射層147插入到延遲片與偏振片146之間?？傊?，相對于液晶144，只要將散射層147設置在保護板145側(cè)即可。
另外，在上述各實施例中，使用了結構為將大量的微粒148b分散到粘結劑148a中的散射層147，但是，散射層147的結構不限于此，只要是可以使入射光發(fā)生散射的層即可，可以是任何結構。不過，在使用包含粘結劑148a的散射層147時，可以利用該粘結劑148a將夾持該散射層147的構件例如上述各實施例中的第1基板141與偏振片146彼此之間粘結起來，所以，與使用不包含粘結劑148a的散射層147的情況相比，具有可以降低制造成本和簡化制造工序的優(yōu)點。
(2)變例2在上述實施例5中，例示的是反射型液晶顯示裝置，在實施例6中例示的是半透過反射型液晶顯示裝置，但是，也可以將本發(fā)明應用于不具有反射層149而僅進行透過型顯示的透過型液晶顯示裝置。即，在透過型液晶顯示裝置中，可以采用除了圖14所示的半透過反射型液晶顯示裝置中的反射層149的結構。
另外，在上述實施例4中，采用了利用具有開口部159的反射層149實現(xiàn)反射型顯示和透過型顯示兩者的結構，但是，對于使用使照射的光中的一部分透過而使另一部分反射的所謂的半反射鏡來取代這樣的反射層149的半透過反射型液晶顯示裝置，也可以應用本發(fā)明。
(3)變例3在上述各實施例中，例示了作為保護板145使用塑料的板狀構件的情況。由于在這樣的保護板145的表面容易形成凹凸，所以，通過應用本發(fā)明，可以獲得特別顯著的效果。但是，保護板145的材料不限于此，也可以使用其他各種各樣的材料的板狀構件作為保護板145。
(4)變例4在上述各實施例中，例示的是將本發(fā)明應用于無源矩陣方式的液晶顯示裝置中的情況，但是，也可以將本發(fā)明應用于使用以TFD(薄膜二極管)為代表的二端子型開關元件或以TFT(薄膜晶體管)為代表的三端子型開關元件的有源矩陣方式的液晶顯示裝置。另外，在上述各實施例中，例示了在第2基板142上形成濾色片150和遮光層151的情況，但是，對于在第1基板141上形成這些要素的結構的液晶顯示裝置或不具備濾色片150或遮光層151的液晶顯示裝置，當然也可以應用本發(fā)明。這樣，只要是靠近觀察側(cè)設置保護板145的結構的液晶顯示裝置160，不論其他要素的形態(tài)如何，都可以應用本發(fā)明。
(5)變例5在上述實施例4中，例示了作為有源元件使用2端子型的有源元件TFD的有源矩陣方式的液晶顯示裝置，但是，如圖13所示，也可以是作為有源元件使用3端子型的有源元件TFT的有源矩陣方式的液晶顯示裝置。這時，如圖13所示，最好將TFT元件設置在遮光區(qū)域。
實施例8.
實施例8是包括具有光反射膜的液晶顯示裝置的電子裝置，其特征在于光反射膜包含基體材料和反射層，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位在平面方向隨機地排列。
(1)移動型計算機首先，說明將本發(fā)明的液晶顯示裝置應用于移動型的個人計算機(所謂的筆記本型個人計算機)的顯示部的例子。圖15是表示該個人計算機的結構的斜視圖。如該圖所示，個人計算機161具有包括鍵盤162的主機部163和使用本發(fā)明的液晶顯示裝置(圖示省略)的顯示部164。顯示部164是將本發(fā)明的液晶顯示裝置160收容到與窗口部165對應地設置了塑料的保護板145的框體166中而構成。更詳細而言，就是液晶顯示裝置160被收容到框體166中，使得其觀察側(cè)的基板面靠近保護板145。在這樣的個人計算機161中，即使在外光不充分的狀況下，也應確保顯示的可視性，所以，最好如上述實施例7所示的那樣，使用在背面?zhèn)染哂斜彻庠磫卧?53的半透過反射型液晶顯示裝置。
(2)移動電話機下面，說明將本發(fā)明的液晶顯示裝置應用于移動電話機的顯示部的例子。圖16是表示該移動電話機的結構的斜視圖。如該圖所示，移動電話機170除了多個操作按鈕171外，還具有受話口172、送話口173和使用本發(fā)明的液晶顯示裝置(圖示省略)的顯示部174。在該移動電話機170中，本發(fā)明的液晶顯示裝置被收容到與窗口部174b對應地設置了塑料的保護板175的框體176中。在移動電話機170中，與上述個人計算機一樣，液晶顯示裝置被收容到框體176中，使得其觀察側(cè)的基板面靠近保護板175。
作為可以應用本發(fā)明的液晶顯示裝置的電子裝置，除了圖15所示的個人計算機和圖16所示的移動電話機外，還可舉出液晶電視機、取景器型和監(jiān)視器直視型錄像機、汽車導行裝置、傳呼機、電子記事簿、計算器、文字處理器、工作站、電視電話機、POS終端、具有觸摸屏的裝置等。
如上所述，按照本發(fā)明的液晶顯示裝置，將表面具有微細的凹凸的保護板靠近該液晶顯示裝置的基板面設置時，也可以抑制由該凹凸引起的顯示品質(zhì)的降低。因此，通過不影響顯示品質(zhì)而將保護板靠近液晶顯示裝置設置，可以實現(xiàn)電子裝置的薄型化乃至小型化。
如上所述，按照本發(fā)明的掩模和由其得到的光反射膜，由于分別以指定數(shù)目以上的RGB點數(shù)為一個單位形成隨機圖形，所以，應用于液晶顯示裝置等中時，既可以抑制不定形的斑點圖樣的視覺，又可以有效地抑制干涉條紋的發(fā)生。另外，按照本發(fā)明的掩模，使用很少的信息量即可，所以，不用說小型的液晶顯示裝置等，即使是大型的液晶顯示裝置等，也可以容易而迅速地設計可以得到干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的掩模。
另外，按照設置本發(fā)明的光反射膜的液晶顯示裝置和具有光反射膜的電子裝置，可以抑制不定形的斑點圖樣的視覺性，減少干涉條紋的發(fā)生少，同時設計和制造也容易。
此外，按照設置本發(fā)明的光反射膜的液晶顯示裝置和具有光反射膜的電子裝置，將表面具有微細的凹凸的保護板靠近而設置時，也可以抑制由該凹凸引起的顯示品質(zhì)的降低。
權利要求
1.一種用于制造帶光反射膜的基板的掩模，其特征在于以100～2,000個點或整個畫面為1個單位使光透過部或光不透過部沿平面方向隨機地排列。
2.如權利要求1所述的掩模，其特征在于將預先作成的以RGB點3～12個為1個單位的光透過部或光不透過部的隨機圖形分割或者仍然隨機地排列，構成以上述100～2,000個點或整個畫面為1個單位的光透過部或光不透過部。
3.如權利要求1或2所述的掩模，其特征在于將上述光透過部或光不透過部沿橫的1行方向或縱的1列方向形成帶狀的隨機圖形，并使該帶狀的隨機圖形在多個行或多個列中重復。
4.如權利要求1～3的任一項所述的掩模，其特征在于上述光透過部或光不透過部的直徑采用3～15μm范圍內(nèi)的值。
5.如權利要求1～4的任一項所述的掩膜，其特征在于使上述光透過部或光不透過部的直徑不同，設置多個種類的光透過部或光不透過部。
6.一種包含基體材料和反射層的帶光反射膜的基板，其特征在于將在該基體材料的表面形成的多個凸部或凹部以100～2,000個點或整個畫面為1個單位沿平面方向隨機地排列。
7.如權利要求6所述的帶光反射膜的基板，其特征在于使上述多個凸部或凹部沿橫的1行方向或縱的1列方向排列，形成帶狀的隨機圖形，并使該帶狀的隨機圖形在多個行或多個列中重復。
8.如權利要求6或7所述的帶光反射膜的基板，其特征在于上述多個凸部或凹部的直徑采用3～15μm范圍內(nèi)的值。
9.如權利要求6～8的任一項所述的帶光反射膜的基板，其特征在于使上述多個凸部或凹部的直徑不同，設置多個種類的凸部或凹部。
10.如權利要求6～9的任一項所述的帶光反射膜的基板，其特征在于上述基體材料從下方開始依次包含第1基體材料和第2基體材料，該第1基體材料由多個凸部或凹部構成，第2基體材料由連續(xù)的多個凸部或凹部構成。
11.一種包含基體材料和反射層的光反射膜的制造方法，其特征在于包括使用以100～2,000個點或整個畫面為1個單位使光透過部或光不透過部沿平面方向隨機地排列的掩模，對涂布的感光樹脂通過曝光工藝形成具有多個凸部或凹部的第1基體材料的工序、將感光樹脂涂布到該第1基體材料的表面，通過曝光工藝形成具有連續(xù)的多個凸部或凹部的第2基體材料的工序和在該第2基體材料的表面形成反射層的工序。
12.一種具有夾在基板間的光學元件和設置在與該光學元件的觀察側(cè)相反一側(cè)的基板上的光反射膜的光學顯示裝置，其特征在于該光反射膜由基體材料和反射層構成，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以100～2,000個點或整個畫面為1個單位沿平面方向隨機地排列。
13.如權利要求12所述的光學顯示裝置，其特征在于在上述光學元件的觀察側(cè)的基板上設置光散射膜。
14.如權利要求12或13所述的光學顯示裝置，其特征在于在光學顯示裝置的觀察側(cè)設置保護板。
15.一種包含具有光反射膜的光學顯示裝置的電子裝置，其特征在于上述光反射膜包含基體材料和反射層，在該基體材料上形成的多個凸部或凹部以100～2,000個點或整個畫面為1個單位沿平面方向隨機地排列。
全文摘要
本發(fā)明的課題是，提供用于制造干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的掩模、使用該掩模的光反射膜、光反射膜的制造方法、具有干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的光學顯示裝置和具有干涉條紋的發(fā)生少的光反射膜的電子裝置。使用以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使光透過部或光不透過部在平面方向隨機地排列的用于制造帶光反射膜的基板的掩模，作成以RGB點100～2,000個或整個畫面為一個單位使該多個凸部或凹部在平面方向隨機地排列的帶光反射膜的基板。
文檔編號G03F1/52GK1450392SQ0311035
公開日2003年10月22日 申請日期2003年4月9日 優(yōu)先權日2002年4月10日
發(fā)明者大竹俊裕, 松尾睦, 露木正 申請人:精工愛普生株式會社