拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法。
【背景技術】
[0002]目前的藝術壁畫均以色彩差異的色彩壁畫或高低差異的浮雕藝術形式來表現(xiàn)的圖形藝術，不能在同一平面、同一色彩拋光磚墻面上表現(xiàn)圖形。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，可以在同一平面、同一色彩拋光磚墻面上表現(xiàn)圖形。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術方案是設計一種拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，應用于已完成拋光磚貼飾的墻面，該墻面為同一材質(zhì)、同一色系、同一平面的墻面，所述折光差暗花壁畫的制作方法包括如下步驟:對應暗花壁畫的設計圖形，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工，在墻面生成與暗花壁畫相對應的多個不同折光率的區(qū)域。
[0005]優(yōu)選的，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工時，將高折光率的區(qū)域用貼紙封閉保護，對開放區(qū)域采用噴砂加工，使開放區(qū)域表面的折光率降低，加工完成后撕去保護貼紙。
[0006]本發(fā)明的優(yōu)點和有益效果在于:提供一種拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，可以在同一平面、同一色彩拋光磚墻面上表現(xiàn)圖形，顯露的圖形由于光線照射角度的不同，圖形效果或清晰、或朦朧、或消失，形成一種若隱若現(xiàn)的暗花視效。
【具體實施方式】
[0007]下面結合實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。
[0008]本發(fā)明具體實施的技術方案是:
一種拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，應用于已完成拋光磚貼飾的墻面，該墻面為同一材質(zhì)、同一色系、同一平面的墻面，所述折光差暗花壁畫的制作方法包括如下步驟:對應暗花壁畫的設計圖形，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工，在墻面生成與暗花壁畫相對應的多個不同折光率的區(qū)域。
[0009]在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工時，將高折光率的區(qū)域用貼紙封閉保護，對開放區(qū)域采用噴砂加工，使開放區(qū)域表面的折光率降低，加工完成后撕去保護貼紙。
[0010]
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，應用于已完成拋光磚貼飾的墻面，該墻面為同一材質(zhì)、同一色系、同一平面的墻面，其特征在于，所述折光差暗花壁畫的制作方法包括如下步驟:對應暗花壁畫的設計圖形，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工，在墻面生成與暗花壁畫相對應的多個不同折光率的區(qū)域。2.根據(jù)權利要求1所述的拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，其特征在于，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工時，將高折光率的區(qū)域用貼紙封閉保護，對開放區(qū)域采用噴砂加工，使開放區(qū)域表面的折光率降低，加工完成后撕去保護貼紙。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，應用于已完成拋光磚貼飾的墻面，該墻面為同一材質(zhì)、同一色系、同一平面的墻面，所述折光差暗花壁畫的制作方法包括如下步驟：對應暗花壁畫的設計圖形，在墻面不同區(qū)域進行折光率差的加工，在墻面生成與暗花壁畫相對應的多個不同折光率的區(qū)域。本發(fā)明拋光磚墻面的折光差暗花壁畫的制作方法，可以在同一平面、同一色彩拋光磚墻面上表現(xiàn)圖形，顯露的圖形由于光線照射角度的不同，圖形效果或清晰、或朦朧、或消失，形成一種若隱若現(xiàn)的暗花視效。
【IPC分類】B44C5/04
【公開號】CN105291681
【申請?zhí)枴緾N201510576045
【發(fā)明人】費新江, 李姝
【申請人】蘇州水木清華設計營造有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年9月11日