專利名稱：地板塊及所述地板塊的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種地板塊，更具體地，涉及一種層壓地板塊，還 涉及一種用于制造這種地板塊的方法。而且，本發(fā)明也涉及包括這 些地纟反塊的地纟反覆層。具體地，本發(fā)明涉及一種旨在用于形成浮式地板覆層的類型的 地板塊，其中，該地板塊包括裝飾(優(yōu)選地為印刷裝飾)以及基于 合成材料的頂層，并且其中，地板塊的裝飾顯示出具有一個或多個木條(woodpart)的圖案。
背景技術(shù)：
才艮據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，已知有各種手段用于向這些地板塊的上表面提 供使得木頭或木條的仿制更為逼真的結(jié)構(gòu)。第一種手段是，在這些WO 01/96689可知。第二種手段是，在地板塊的邊緣上、或者在裝斜面可在地板塊的邊緣處^皮實施為例如傾斜邊緣，這/人WO 01/96688中可知。但是，例如，對于以逼真的方式實現(xiàn)顯示出多個木條的地板塊 而言，或者對于實現(xiàn)必須呈現(xiàn)仿古壓痕的地板塊而言，上述手^殳是 不充分的。甚至當將前述手段結(jié)合于其中時，迄今所知的顯示出多個木條 的地澤反塊確實仍然具有許多缺點。因此，例如，當用戶乂人遠處和/ 或在較為銳角的角度下觀察由這些地板塊組成的地板覆層時，不利 效果就會呈現(xiàn)出來。在這種情形下，用戶將完全不能或幾乎不能觀 察到裝飾， 一方面，當僅僅使用前述第一種手段時，用戶將不能觀 察到顯示出多個木條的地板塊，相反地，用戶將獲得其中呈現(xiàn)有木 質(zhì)結(jié)構(gòu)的完全平坦表面的壓痕，或者，另一方面，當應(yīng)用第二種手 段時，用戶將確實能夠觀察到地板塊顯示出多個木條，但是，用戶 將明顯地產(chǎn)生該壓痕是人造的印象，這是因為每個木條均以完全相 同的方式^皮仿制殺+面圍繞。發(fā)明內(nèi)容才艮據(jù)本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明涉及一種地板塊，在該地板塊 的上表面處具有一種結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)提供了用于以逼真的方式仿制所 謂的多層厚板或條狀鑲木地板、鑲木地板磚、仿古鑲木地板等的各 種新可4亍方案。為此目的，才艮據(jù)第一方面，本發(fā)明涉及一種地^反塊， 其中該地板塊包括裝飾、以及基于合成材料的頂層，并且該裝飾顯 示出每個地板塊具有多個木條的圖案，其特征在于，在地板塊的上 表面中存在一個或多個高度差，所述上表面在一個或多個木條的位置處示出了單獨總表面層面(level )。此處，在不考慮由于諸如仿制斜面的可能局部壓痕以及仿制木 質(zhì)結(jié)構(gòu)的壓痕所引起的高度差的情況下，通過"總表面層面"表示 地才反塊上表面的層面或者該上表面的一部分。通過"單獨總表面層 面"表示地板塊上表面在木條位置處示出了適于該木條的具有高度 差的總表面層面，和/或表示木條位置處的地板塊的上表面(換言之， 木條的總表面層面)被制成為使得至少相對于與之相鄰木條的總表 面層面形成高度差。另外明確的是，通過"單獨總表面層面"表示 表面的對應(yīng)于木條的一個或多個分,殳具有典型的自己的總表面專侖廓，如進一步解釋的，通過該"自己的總表面輪廓"表示將這些分 段中每個的表面制造成例如具有自己的傾斜度、自己的曲率、自己 的高度等。才艮據(jù)本發(fā)明的第 一方面，由于本發(fā)明通過i殳置單獨總表面層面 而實現(xiàn)了高度差，因此可實現(xiàn)由這些地板塊構(gòu)成的地板覆層呈現(xiàn)更 自然的壓痕。對于遠距離地觀察地板覆層中的這些地板塊的用戶而 言，由于前述高度差的存在而^f吏得木條被尤其顯現(xiàn)出來。優(yōu)選地， 在每個木條的位置處應(yīng)用這些單獨總表面層面。清楚地，在這種情 況下，可以分別獲得地板塊、地板覆層的最逼真的壓痕。這些單獨總表面層面可以以不同方式實現(xiàn)。優(yōu)選地，單獨總表面層面通過下述可^f亍方案中的至少一個^皮實現(xiàn)-其中，在相應(yīng)所示木條的位置處，相應(yīng)表面總體定位成比一 個或多個相鄰的所示木條的位置處的表面更高或更低；-其中，在相應(yīng)所示木條的位置處，相應(yīng)表面相對于地才反塊的總上表面至少部分;也傾殺牛；-其中，在相應(yīng)所示木條的位置處，相應(yīng)表面被制成具有曲率， 更具體i也，是凹面的或凸面的；-其中，在相應(yīng)所示木條的位置處，相應(yīng)表面沿著邊^(qū)彖或角落 的方向以傾斜的方式被制成為相對于相鄰表面更深。在諸如凹面或凸面部或者傾斜部分被應(yīng)用于上述可4亍方案中 的情況下，與反射或折射在鄰近這個部分的表面上相比，可以實現(xiàn) 入射光以另外方式(更具體地，在其它角度下)凈皮反射或折射在相 應(yīng)表面上。因此，甚至當裝飾不可見或幾乎不可見時，用戶也能夠乂人遠方爿尋這個部分辨i人為木條的一部分，并且總體上幾乎不能感覺 到地板覆層是人造的。應(yīng)該注意，存在于總的單獨表面層面中的傾斜部分還給出了仿 古鑲木地板的壓痕。才艮據(jù)重要優(yōu)選形式的實施例，上表面中的用以確定單獨總表面 層面的高度差形成為地板塊頂層中的壓痕。優(yōu)選地，這個重要優(yōu)選形式的實施例以及通常才艮據(jù)該第 一方面和/或下述方面的本發(fā)明應(yīng)用于"DPL"(直4妄壓力層壓)型的層壓 地4反塊。這些層壓地纟反塊包括具有頂層的基4反，頂層通過壓制處理 設(shè)置于基板上。此處，頂層包括浸入樹脂中的一個或多個承載薄片， 更具體地，是紙層。此處，盡管也不排除以另外的方式獲得裝飾， 但優(yōu)選地，裝飾被印刷于前述承載薄片中的一個上。優(yōu)選地，在所 述壓制處理期間，襯里層設(shè)置在基板的底側(cè)，所述層還包括浸入樹 脂中的承載薄片。這種類型層壓地玲反塊的基壽反可以由例如，通過粘 合劑粘合在一起的碾得極細的木材制成，諸如紙板或纖維板。優(yōu)選 地，基板包括MDF或HDF (中密度板或高密度纖維板)。由于地4反塊的在一個或多個木條位置處的上表面示出了單獨 總表面層面而形成的前述高度差優(yōu)選處于0.1和0.3毫米之間。根據(jù)前述重要優(yōu)選形式的實施例，取決于壓痕的理想深度，所 述壓痕相對于層壓地板塊可(或可不)向上延伸于基板中。其中， 在壓痕向上延伸于基板中的情況下，不排除高度差大于0.3毫米。不依賴于地4反塊是否示出了前述重要優(yōu)選形式的實施例的特 征這個事實，而是，優(yōu)選地，與這些特征相結(jié)合，可在地板塊的上表面中實現(xiàn)局部壓痕。優(yōu)選地，這些壓痕將才艮據(jù)下述可4亍方案中的一個或多個而凈皮實施-顯示出木質(zhì)孩i孔的壓痕，其中，優(yōu)選地，這些壓痕對應(yīng)于前 述木條的木質(zhì)結(jié)構(gòu)；-顯示出木條之間的凹槽和/或間隙的壓痕；-顯示出木條之間的凹槽和/或間隙的壓痕，其中，這些壓痕的 寬度變化；-顯示出裂縫或裂口的壓痕； -顯示出^皮磨損部分的壓痕；-顯示出木質(zhì)微孔或其它局部不平坦的壓痕，但是，其中，這 些壓痕^皮局部省略并因此4皮斷開以4更仿制劃痕等。才艮據(jù)實施局部壓痕的另一個可行方案，木質(zhì)圖案可表現(xiàn)為一個 或多個4艮色木紋，并且在至少一個前述4艮色木紋的位置處，地4反塊 在其上表面處示出了壓痕，其中該壓痕的表面或者該壓痕的至少一 個壁包括多個刻面狀的較小表面。通過"包括刻面狀的較小表面" 表示壓痕的各個表面包括被清楚地描繪的較小表面，優(yōu)選地，這些 較小表面是平坦的或凹入的，但是，總體上形成各個壓痕的彎曲表 面。不排除前述刻面狀的較小表面具有單獨光澤度。顯然，用以組成壓痕的表面的刻面狀4交小表面的應(yīng)用，表示了 這樣一種發(fā)明思想，即不依賴于其是否與第 一方面的特征結(jié)合應(yīng)用 的這個事實。這些壓痕，更具體地說用于仿制4艮色木紋的壓痕還可 以應(yīng)用于包括合成材沖牛的頂層的其它地板塊，例如，通常應(yīng)用于 "DPL"型地板塊。通過應(yīng)用這種刻面狀的4交小表面而實現(xiàn)發(fā)生光折射和/或反射，這產(chǎn)生的光學效應(yīng)可比得上具有例如真實4艮色木紋 的光效應(yīng)。顯然，才艮據(jù)該思想，不排除刻面狀的較小表面除了應(yīng)用因jt匕，例如，當仿制i者如大理石的石頭類型時，可以4吏用這些壓痕。如上所述，地4反塊的上表面可具有壓痕，所述壓痕表示圖案中 示出的木條之間的凹槽和/或間隙，所述壓痕寬度變化。應(yīng)該注意， 所述分寬度變化的凹槽的應(yīng)用涉及本發(fā)明的獨立方面。因此，根據(jù) 其第二獨立方面，本發(fā)明涉及一種地板塊，其中，該地板塊包括裝 飾、以及基于合成材料的頂層或?qū)訅簩樱渲械匕鍓K的裝飾側(cè)示出 了表示多個木條的圖案，并且其中地板塊的上表面處還示出了對應(yīng) 于前述所示木條中兩個之間的過渡部的至少一個凹槽，其特征在 于，如在橫截面中所看到的，所述溝槽與實際的上表面相交的位置 沿著所述過渡部纟黃向變化。此處，優(yōu)選地，這涉及溝槽，該溝槽在 地板塊的實際的上側(cè)處的寬度根據(jù)溝槽的縱向方向變化。根據(jù)變中寬度同樣地可以變化或不變化。當顯示出該第二方面的特征的地板塊被包含進來以形成地板 覆層時，顯現(xiàn)出較小的人工壓痕。而且，這些溝槽可以給出仿古鑲 木地板的壓痕。因此，所述溝槽優(yōu)選地將仿制兩個木條之間的間隙。優(yōu)選地，所述過渡部以總體上專交深的顏色描繪在圖案中。因此， 即使是較淺的溝槽(例如，沒有向上延伸到層壓地板塊的基板中的 凹槽，或者換言之，專門4立于頂層中的凹槽)仍然會^皮感知為深凹應(yīng)該注意，前述凹槽可以具有單獨i殳置的裝飾覆層(covering), 其優(yōu)選地包括硬化物質(zhì)，該硬化物質(zhì)以非硬化狀態(tài)設(shè)置在凹槽中并 隨后4皮石更化。為此目的，可以4吏用例如乂人WO 2004/108436中4尋知的沖支術(shù)。顯然，i殳置在地板上表面中的其它局部壓痕也可以具有"i者 如硬化物質(zhì)的單獨裝飾覆層。通過提供單獨裝飾覆層，可以實現(xiàn)各 個凹槽或者諸如表示裂縫和/或裂口的壓痕等其它局部壓痕與裝飾 所表示的圖案形成進一步對比，和/或?qū)⒁愿宄姆绞匠霈F(xiàn)在地板 塊上表面中。前述凹槽可才艮據(jù)多種可行方案^皮實現(xiàn)。第一種可4于方案在于， 凹槽由壓痕形成，乂人而裝飾和頂層優(yōu)選;也通過該壓痕連續(xù)地延伸。 第二種可行方案在于，前述凹槽通過從地板塊的上表面去除材料部 分而形成。在這種情況下，這涉及一種層壓地^反塊，4艮據(jù)第二種可 4亍方案，例如，頂層和可能直接位于頂層下的基4反的一部分一皮去除。應(yīng)該注意，本發(fā)明還涉及一種制造具有第一和/或第二方面特征 的地板塊的方法，其中，第一方面所提到的高度差和/或第二方面中 提到的凹槽分別通過壓痕形成，其特征在于，地板塊(或是同樣的 地板塊，或是當?shù)匕鍓K仍舊是用于形成該地板塊的較大板材的一部 分時)通過壓制工藝制成，其中，在這個壓制工藝中，在地板塊上 表面中和較大板材中分別提供相應(yīng)的壓痕，其中使用了壓制板，為 了形成相應(yīng)的壓痕，所述壓制^反在其壓制側(cè)具有凸雕，其中用于形如通過銑削工藝)而^皮實現(xiàn)。該方法的實施使得可以以有效的和/或廉<介的和/或?qū)Νh(huán)境有利 的方式制造具有本發(fā)明第 一和/或第二方面特4正的地板塊。相比于通 過例如蝕刻的工藝，通過使用借助才幾械工具的才幾加工處理，可以更 高效地乂人壓制才反去除材料。對于具有本發(fā)明第 一和/或第二方面特4正 的地4反塊，必須乂人壓制4反去除大量的材并牛，以形成i殳置得4交^f氐的凸 雕部分。在壓制工藝期間，這些設(shè)置得較低的凸雕部分確定例如單 獨木條的總表面層面，而設(shè)置得較高的凸雕部分確定例如第二方面 中提及的凹槽。通過至少部分地借助使用機械工具的機加工處理實現(xiàn)前述的凸雕，更具體地，實現(xiàn)前述的設(shè)置得較低的凸雕部分，避 免了這些部分必須^皮蝕刻掉，并且因此確4呆節(jié)約時間。同時，由于對環(huán)境不利的蝕刻劑的消肆C保持4交低，因此對環(huán)境石皮壞專交小。通過至少部分地借助機加工處理實現(xiàn)壓制板，還可以獲得如下 優(yōu)點，與完全蝕刻的壓制板相反，無需多步驟就能夠制造傾斜的和 /或彎曲的部分。當必須在大距離范圍內(nèi)實現(xiàn)極小的斜面時，這尤其 重要。對于蝕刻的壓制板而言，實際上這將需要具有極小蝕刻深度 的大量蝕刻循環(huán)，而只于于才幾加工處理而言，即Z使當殺+面在大J 巨離范 圍內(nèi)延伸時，也可以在不需多步驟或幾乎不需多步驟的情況下實現(xiàn) 任何斜面。為了非常精確地進行加工，更優(yōu)選地借助于銑刀(具體 地，借助于球面銑刀)進行機加工處理。但是，優(yōu)選地，當準備壓制板時，也可以將蝕刻工藝與借助機 械工具的機加工處理相結(jié)合使用。即，通過蝕刻工藝可在壓制側(cè)設(shè) 置輔助凸起，所述凸起用于在壓制工藝期間在地才反塊的上表面處提 供所述局部壓痕，所述壓痕例如用于仿制木質(zhì)纟效孔或其它木質(zhì)結(jié)構(gòu)。單獨地或以組合的方式根據(jù)本發(fā)明的第 一和第二方面，本發(fā)明 在兩個重要優(yōu)選形式的實施例中具體示出了本發(fā)明的優(yōu)點。在本發(fā)明的第 一和/或第二方面的第 一重要優(yōu)選形式的實施例 中，前述圖案顯示出了所謂的多層厚板。在那種情況下，前述顯示 的木條在地板塊的上表面上延伸，其中它們的縱向方向基本上4皮此平行。在本發(fā)明的第 一 和/或第二方面的第二重要優(yōu)選形式的實施例 中，前述圖案顯示出了所謂的鑲木地板磚，其中，所述顯示出的木 條以其纟從向方向沿著至少兩個不同方向在;也沖反塊的上表面上延伸。優(yōu)選;也，這涉及以凡爾賽石爭或豐交小凡爾賽石爭命名而4f知的鑲木地4反 磚。4旦是，不排除圖案顯示出其它鑲木地玲反石爭，_渚如以巴士底(Bastide)石爭、尚蒂{尹(Chantilly )石爭、喻蒙凈爭(Chaumont)石爭、 蒙^荅龍貝(Montalembert )石爭、南臺(Nantails )石爭、或蘇比其斤(Soubise ) 磚命名而得知的鑲木地板磚；也不排除其它包括木條圖像的想象圖案。當圖案涉及鑲木地板磚時，優(yōu)選地，本發(fā)明優(yōu)選涉及尺寸大于 35 x 35厘米的地4反塊，更好地涉及尺寸近似為60 x 60厘米的地3反 塊。優(yōu)選地，具有本發(fā)明第一或第二方面特征的地4反塊的厚度在5 毫米和20毫米之間，更優(yōu)選地在7毫米和15毫米之間。當然，不 排除地板塊具有其它尺寸。清楚地，本發(fā)明還涉及一種地板覆層，其包括示出第一和/或第 二方面特征的地板塊。才艮據(jù)本發(fā)明的偏離變型，第 一和/或第二方面的特征還可以以類 似的方式應(yīng)用于具有顯示出多個石磚而非木條的裝飾的地^反塊。才艮據(jù)本發(fā)明的第三方面，其涉及一種由包括裝飾以及基于合成 材料的頂層的地板塊構(gòu)成的這種類型的地板覆層，其中這些地板塊 至少在兩個相對邊緣處設(shè)有允許在前述邊緣處將這些地板塊中的 兩個4皮此連接的才幾械連接部，從而在連接狀態(tài)下，可實現(xiàn)沿 K平方 向以及沿垂直方向的鎖定，其特征在于，在地板覆層的上表面中存 在一個或多個高度差，因為該上表面在一塊或多塊地板塊的位置處 示出了單獨總表面層面。該第三方面具有與第一方面相同的主要發(fā) 明思想，但是，不同于第一方面，該第三方面不要求在同一個地板 塊的表面中示出不同的單獨總表面層面，但是，要求在有相互關(guān)系 的不同地斥反塊之間示出不同的單獨總表面層面。對于具有4青確地顯示出 一個木條或厚4反的裝飾的地才反塊，該第三方面尤其有用，以佳:得所述單獨總表面層面基本上在一個地4反塊 的表面上延伸。第三方面還可用于由如下所述地板塊構(gòu)成的地寺反覆層，該地4反 塊的裝飾精確地顯示出一個石磚，以使得所述單獨總表面層面基本 上在一個地板塊的表面上延伸。以這種方式，實現(xiàn)在地板覆層中有木條，更具體地，地板覆層 中有厚板、或仿制的磚，地板覆層的總表面層面是單獨的因此偏離由地板覆層上側(cè)所確定的理論總表面，例如，其中，仿制木條或仿 制磚示出了相對于前述理論總平面定位得較高或較低和/或總體上 傾斜和/或總體上彎曲的總表面。根據(jù)第三方面，單獨總表面層面因此優(yōu)選地根據(jù)下述可行方案 中的至少一個實J見-其中，在相應(yīng)地板塊的位置處，表面總體上定位成基本比一 個或多個相鄰地板塊更高或更低，和/或定位成基本比地板覆層的表 面的平均高度更高或更低；-其中，在相應(yīng)地玲反塊的高度處，總表面相對于總平面至少部 分地傾殺+，地^反覆層才艮據(jù)該總平面延伸；-其中，在相應(yīng)地板塊的高度處，總表面^皮制成彎曲的，更具 體;也，纟皮制成凹面的或凸面的；-其中，在相應(yīng)地才反塊的位置處，沿邊皇彖或角落的方向以傾釗_ 的方式將所述表面制造得更深。而且根據(jù)第三方面，優(yōu)選地，由于地板塊根據(jù)想要的表面層面 而凈皮不同；也壓印，因》匕形成不同的單獨總表面層面。第 一方面的所有/人屬特;江還可以用作第三方面的乂人屬特4正，因 為這并不意p未著矛盾。顯然，本發(fā)明還涉及地板塊組，其特征在于，該地板塊組包括 在連接狀態(tài)下形成根據(jù)前述第三方面的地板覆層的地板塊。根據(jù)第四方面，本發(fā)明涉及一種由包括印刷的裝飾以及基于合 成材料的頂層的多個地板塊構(gòu)成的這種類型的地板覆層，其中，這 些地玲反塊至少在兩個相對邊緣處i殳有容許在前述邊纟彖處將這些地 板塊中的兩個彼此連接的機械連接部，其中，在連接狀態(tài)下實現(xiàn)垂 直以及水平鎖定，并且其特;f正在于，地板覆層至少包4舌具有鑲木地 板磚形式圖案的主地板塊以及具有邊緣修整圖案的邊緣修整塊。由 于使用了可機械互鎖的地板塊，因此對于主地板塊以及對于邊緣修 整塊而言，可以以簡單的方式實施環(huán)繞主地寺反塊的邊緣^修整，而不 用任何特殊的4眚施。應(yīng)該注意，前述連4妻裝置至少考慮到了主地4反 塊的相互連接，也考慮到了邊緣修整塊的相互連接，然而更好地， 還考慮到主地板塊與邊緣修整塊的相互連接。該第四方面的進一步 特征將從下述詳細描述中變得更加清楚。附圖i兌明為了更好地示出本發(fā)明的特征，下文中，作為沒有任何限定特 4正的實例，參考附圖描述多個優(yōu)選的實施例形式，附圖中

圖1示出根據(jù)本發(fā)明的地板塊；圖2示出才艮據(jù)圖1中的線n-n的截面圖；圖3放大地示出了根據(jù)圖i中的線ni-m的截面圖；圖4至圖7示出了圖3中所描繪的部分的變型；圖8放大地示出了圖1中以F8表示的部分的實施例的可能形式；圖9以截面圖示出了本發(fā)明實施例的可能形式的另一細節(jié)；圖IO力文大地示出了圖2中F10表示的部分的變型；圖11和圖12示出了根據(jù)本發(fā)明的另一地板塊，其中圖12示 出了根據(jù)圖中11中的線Xn-XD的截面圖；圖13示出了用于制造根據(jù)本發(fā)明的地板塊的方法；圖14和圖15示出了#4居本發(fā)明的地4反塊的又一變型；圖16示意性地示出了才艮據(jù)本發(fā)明的前述第三方面制造的地壽反 覆層的實施例的形式；圖17至圖19放大地示出了圖16中F17表示的部分，但是， 示出了三種變型；圖20至圖30涉及本發(fā)明的第四方面。
具體實施方式
圖1和2示出了尤其具有本發(fā)明第一方面特征的地才反塊1。地 板塊1包括顯示出具有多個木條3的圖案的裝飾2。在圖l的實例 中，圖案顯示出所謂的《裏木地才反石爭。此處，木條3的縱向方向在多 個方向延伸。更具體地，所表示的圖案涉及所謂的"小凡爾賽石爭"。此處，術(shù)語"小凡爾賽磚，，涉及所顯示出的木條3的布置，所述布 置被稱為小凡爾賽磚。圖2示出了地板塊1在其邊緣4A-4B和5A-5B處設(shè)有所稱的 連接裝置6A-6B,該連接裝置使得可在地板塊1的邊緣4A-4B和 5A-5B處將這些地板塊1中的多個連接起來以形成例如所謂的浮式 地4反覆層。所示的連4妄裝置6A-6B允許在這些地才反塊1中的兩塊之 間沿水平方向Dl實現(xiàn)連接，這垂直于各個邊緣4A-4B或5A-5B并 且位于地板塊1的平面內(nèi)，并且允許沿垂直方向D2實現(xiàn)連接，這 垂直于地4反塊1的平面。例力口，從國際專利申i青WO 97/47834或 WO 01/98603中得知相似的連接裝置。應(yīng)該注意，本發(fā)明涉及能以 任何方式構(gòu)成地板覆層的地板塊1;但是，優(yōu)選地，利用能夠?qū)崿F(xiàn) 無膠連接的連接裝置6A-6B，諸如所示的連接裝置6A-6B或者前述 國際專利申請的連接裝置。圖3示出了才艮據(jù)圖i中所示的線m-m的截面圖。該截面圖清晰地示出了地板塊1涉及層壓地板塊，該層壓地才反塊具有通過壓制處 理設(shè)置在基板7上的頂層8。在所示實例中，頂層8包括浸入合成 材料或浸入樹脂9中的兩層承栽薄片10。 一方面，這涉及所謂的裝 飾層11,或換言之，涉及浸入樹脂9中的紙層10,在紙層10上印 有裝飾2，以及另一方面，這涉及所謂的覆蓋層12，或換言之，涉 及浸入樹脂9中的透明紙層10，裝飾2由該紙層覆蓋。此處，優(yōu)選 地，前述的透明紙層10和/或該層10浸于其中的樹脂9還包括具有 高抗磨損的物質(zhì)，諸如金剛砂顆粒。如圖2所示，優(yōu)選地，襯里層 13設(shè)置在基板7的底側(cè)處。該襯里層通常還包括浸入在樹脂9中的 承載薄片10。圖3清楚地示出了地玲反塊1的上表面14內(nèi)存在多個層面15， 其中，上表面14在木條3的位置處示出單獨總表面層面16。根據(jù)本發(fā)明，通過"總表面層面"16來表示地板塊1的上表面 14的層面15或地板塊1 一部分的層面15，沒有考慮局部壓痕17， 諸如所示的間隙18和才莫仿木質(zhì)結(jié)構(gòu)的壓痕19。
單獨總表面層面16在圖3中實現(xiàn)，其中，地板塊1的位于木 條3 ^f立置處的上表面14相^"于^f立于相鄰木條3 ^f立置處的上表面14 偏離或不同。該偏離在于，在各個木條3的位置處，上表面14或 換言之在圖3中央示出的木條3的總表面層面16總體上定位得低 于相鄰木條3位置處的總表面層面，或者換言之，定位得分別低于 圖3中左手側(cè)和右手側(cè)示出的木條3的表面層面16。
在圖4的變型中，實現(xiàn)了單獨總表面層面16,尤其地，其中， 在多個木條3位置處的上表面14相對于地^反塊1的總上表面14部 分地傾斜。更具體地，這涉及中央木條3的總表面層面16以及圖 中右手側(cè)示出的總表面層面。
在圖5和圖6的實例中實現(xiàn)了單獨總體表面層面16，尤其地， 其中，上表面14在木條3的位置處形成為凹面的。在這種情況下， 這涉及示出于中央位置處的木條3的總表面層面16。此外，圖5實 例中示出于中央位置處的木條3的表面層面16還設(shè)置得低于相鄰 木條3的表面層面16。
在圖7中，示出了用于實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明第一方面的地板塊1的 另一種可4亍方案。此處，以相同的方式(在這種情況下，通過4吏每 個木條3的總表面層面16為凹面的)而使每個木條3的總表面層 面16各不相同。在地板塊1的上表面14中存在根據(jù)本發(fā)明的高度 差，此處，高度差本身具體分別出現(xiàn)在每個木條3的總表面層面16 中。
22如圖1以及圖3至圖7所示，局部壓痕17也實現(xiàn)于地才反塊1 的上部表面14中。其中，所示出的地板塊1包括表示木質(zhì)微孔 或木質(zhì)結(jié)構(gòu)的壓痕19、表示木條3之間的凹槽和/或間隙的壓痕18、 以及表示裂縫和/或裂口的壓痕20。而且，如圖3至圖7中所示， 可以設(shè)置有具有偏離光澤度的區(qū)域21。
顯然，以上^f昔助于圖3至圖7描述的所有可4亍方案可4壬意;也組 合于同一個地板塊中。當然，為了實現(xiàn)本發(fā)明的第一方面，其它形 式的實施例也是可行的。應(yīng)該注意，圖3至圖7僅是示意性的視圖。 既然如此，實際上就尺寸來i兌，所采用的高度差和局部壓痕的寬度 優(yōu)選地是鑲木地板磚等的尺寸。
圖8示出了局部壓痕17的另一個實例。因此，例力口，圖8中 示出的地板塊1包括壓痕18-18A，該壓痕18-18A表示木條3之間 的凹槽和/或間隙，其中壓痕18A的寬度變化。而且，為了仿制劃 痕等，仿制木質(zhì)孩t孔的局部壓痕19在以虛線表示的區(qū)域22的位置 處4皮局部省略或斷開。因此，并不4非除這個區(qū)i或22還示出了局部 壓痕17，該局部壓痕用于仿制由于磨損而4皮去除的材料部分。
顯然，圖8中示出的地4反塊1還示出了本發(fā)明第二方面的特4正。 為此目的，地一反塊1在其上表面處還具有至少一個凹槽18A,所述 凹槽對應(yīng)于所示木條3中的兩個木條之間的過渡部。在4黃截面^L圖 中可看到，所述凹槽18A與實際上表面14相交的位置沿著相應(yīng)的 兩個相鄰木條3之間的理論過渡部而橫向變化。此處，在地板塊1 的實際上側(cè)處沿其縱向方向，所示凹槽18A的寬度變化，并且仿制 兩個木條3之間的不失見則間隙。
應(yīng)該注意，圖8的實例包4舌恒定寬度的凹槽18、以及寬度變化 的凹槽18A。進一步，應(yīng)該注意，除了地^反塊1的上表面14中的 實際凹槽18或18A之夕卜，還可能觀察到只在圖案中顯示出的凹槽。將實際凹槽18-18A與僅在圖案中顯示出的光學凹槽結(jié)合起來，可 以極大地降低制造根據(jù)本發(fā)明的地板塊的復雜性，同時仍可獲得逼 真的結(jié)果。
應(yīng)該注意，優(yōu)選地，凹槽18-18A以深色示出。代替專門地在 圖案中描癥會出示出物，這些深色凹槽18-18A還可以通過在凹槽 18-18A中提供獨立的裝飾覆層來實現(xiàn)(例如，通過在這些凹槽中涂 敷深色涂料、油墨等并使其在這些凹槽中硬化而實現(xiàn))。
圖9以截面示出了局部壓痕17，其具有由多個刻面狀的較小表 面24組成的表面23。優(yōu)選地，當?shù)匕鍓K1的圖案顯示出一個或多 個銀色木紋時，應(yīng)用這種壓痕17。圖9中示出的局部壓痕17由刻 面狀的4交小表面24組成，然后，優(yōu)選地i殳置在前述顯示出的4艮色 木鄉(xiāng)丈中的一個的^f立置處。
可能地，這些較小表面24中的某些或其某些區(qū)域可以被制成 為具有不同的光澤度。在圖9中，這些部分以標號21表示，在這 種情況下，所述部分包括較粗糙的表面結(jié)構(gòu)，因此感覺上更不光滑。
根據(jù)本發(fā)明的變型，如圖10中所示的，在根據(jù)本發(fā)明的地板 塊l的至少兩個側(cè)部(優(yōu)選;也，所有相對側(cè)部4A-4B-5A-5B )的上 邊纟彖25處，可以以例如傾斜邊27的形式來纟是供斜面26，在這種情 況下，斜面可向上延伸到相應(yīng)層狀地板塊1的基板7中。優(yōu)選地， 所獲得的表面28覆蓋有裝飾層29，該裝飾層可以通過任意方式獲 得，例如通過應(yīng)用涂料、清漆、轉(zhuǎn)印、借助數(shù)字打印機的印刷等等 獲得。層壓地纟反塊1的上邊纟彖25處的切除材料部分或香斗面26例如 從WO 01/96688中得知。
在該斜面26被應(yīng)用于具有顯示出鑲木地板磚的圖案的層壓地 板塊l的情況下，可獲得如下特殊效果，即，盡管地板塊l顯示出由幾個木條3組成的整體，^f旦是該地板塊仍然以可清楚地辨i人為單 獨鑲木地板磚的形式存在于地板覆層中。
圖11示出了具有顯示出所謂多層厚板(在這種情況下，為三 條厚板)圖案的地板塊l。此處，在地板塊1的上表面14上，所示 木條3以三行形式延伸，它們的縱向方向基本^皮此平^f于。在圖12 中，可以非常清楚地看出，地才反塊l尤其示出了本發(fā)明第一方面的 特征。而且，上表面14包括V狀仿制斜面或仿制的傾斜邊緣30形 式的局部壓痕17。清楚地，4艮據(jù)變型，本發(fā)明還可應(yīng)用于所謂多層 厚板，該多層厚板的裝飾顯示出兩行或多于三行的厚板。
如上所述，可通過壓制工藝制造本發(fā)明的地才反塊1 (或為同樣 的地板塊或當它們?nèi)孕纬捎糜谛纬勺罱K地板塊1的較大板材31的 一部分時)。然后，可以在前述壓制工藝過程中作為頂層8中的壓 痕而形成上表面14中的不同層面15，才艮據(jù)本發(fā)明的第一方面，該 不同層面15確定了單獨總表面層面16。而且，本發(fā)明第二方面中 所述的溝沖曹18A可以通過壓痕17形成，該壓痕17在前述壓制工藝 期間已i殳置在頂層8中。
圖13示出了方法的實例，其中，在壓制工藝中準備層壓材料 的較大板材31,地板塊1可由該較大板材形成。此處，前述的襯里 層13、基板7、裝飾層11以及可能的覆蓋層12設(shè)置在下部壓制板 32與上部壓制板33之間，之后，它們在增加的壓力和溫度下被組 合成前述的4交大的纟反材31。
在所描述的方法中，^吏用上壓制^反33，在該上壓制板的壓制側(cè) 34處i殳置有凸雕35,以Y更在上表面14中或4交大4反材31的頂層8 中實現(xiàn)各個壓痕，更具體地，實現(xiàn)用于形成單獨表面層面16和/或 第二方面中提到的凹槽18A。優(yōu)選地，至少部分地借助于積4戒工具 通過機加工處理(諸如銑肖'J力口工)實現(xiàn)所述壓制板33。因此，例如，在第一步驟中，可通過這種才幾加工處理制造用以
形成上述壓痕的凸雕35A，從而，在該第一步驟中獲得以虛線36 表示的凸雕35A。緊接著，在第二步驟中，可以使用諸如化學或電 化學蝕刻處理的二次處理，因此優(yōu)選地，通過該二次處理至少形成 用以形成局部壓痕17的凸雕35B，并且獲得最終壓制側(cè)34。
圖14示出了根據(jù)本發(fā)明的小凡爾賽磚，其還包括對釘子37或 銷的仿制。優(yōu)選地，這些4丁子或銷至少顯示在圖案中?？赡艿兀?這些仿制物37的位置處，地板塊1的上表面34可另外設(shè)置有局部 壓痕17或具有偏離光澤度的區(qū)域21。
圖15示出了根據(jù)本發(fā)明的地板塊的另一變型，其中，前述圖 案，除顯示出木條3之外，還顯示出i者如大理石或其它石材的其它 材料。清楚地，在那種情況下，前述間隙或凹槽18-18A還可位于 地板塊1的前述木條3與所顯示的石質(zhì)表面38之間。
圖16示意性地示出了滿足本發(fā)明的前述第三方面的地才反覆層 39的實例。地板覆層39由包括裝飾2以及基于合成材料的頂層8 的地4反塊1構(gòu)成，其中，在這些地^反塊的至少兩個相對邊纟彖處(在 這種情況下，在所有四個邊纟彖處)i殳置有連4妾裝置6A-6B,更具體 地i兌，i殳置有才幾械連4妄部，其允許在所述邊纟彖處將這些地板塊1中 的兩個4皮此連4妾，乂人而在連接狀態(tài)下，獲纟尋沿7K平方向Dl以及沿 垂直方向D2的鎖定。在圖16的實例中，類似于圖2，這些連4妄件 包括舌狀物40和凹槽41，其i殳置有沿水平方向起鎖定作用的鎖定 件42和43。當然，其它形式的機械連接部也是可行的。根據(jù)第三 方面，地板覆層的上表面中存在一個或多個高度差，因為在一個或 多個地才反塊的位置處，該上表面示出了單獨總表面層面。換言之, 這意味著，在地板覆層中存在有這樣的地板塊，所述地板塊的總表 面層面是相互不同的并且偏離地^反覆層的理論總平面。在圖16中，針對用1A至1D分別表示的地^反塊示出了不同的 可行方案。地板塊1A和1B示出了單獨表面層面，其中它們的上側(cè) 位于不同的高度上，并且分別定位成比地板覆層上表面的平均高度 G更低、更高。地板塊1C的表面是不同的，總的看來它是傾斜的。 地板塊1D的表面是不同的，總的看來它是彎曲的。
根據(jù)圖16,地板塊1A至1D僅具有每個地板塊精確顯示出一 個木條或厚板的裝飾2。因此清楚地，才艮據(jù)本發(fā)明的第三方面，可 以制造厚板地板的非常逼真的仿制。
還應(yīng)該清楚，通過獲得以適當方式壓制的板材的各個地板塊1A 至1D，優(yōu)選地可在它們的上表面處以簡單的方式形成各個表面層 面。在地板塊必須體現(xiàn)為其單獨表面必須具有偏離高度和/或必須是 傾斜的情況下，不排除提供用于獲得這些地板塊的這樣的板材，在 所述板材的底側(cè)具有適當壓痕，以使得由板材制成的地板塊在被鋸 成一定尺寸之后并且在其上形成連4妻裝置之后，當^皮;改置在平坦的 基面上時，在其上側(cè)示出不同的表面層面。清楚地，關(guān)于層壓地4反 塊，具體地是DPL型層壓地4反塊，可以在普通壓制過程中諸如通過 使用適合輪廓的壓制板實現(xiàn)這些壓痕。
如圖17至圖19所示，邊^(qū)彖處的可能高度差可借助于傾斜邊鄉(xiāng)彖 44等^皮掩飾或變平。圖17和圖18示出了兩個實施例，其中，這些 傾斜邊緣i殳有單獨覆層45，而圖19示出了一個實施例，其中上側(cè) 的頂層8每次在每個相應(yīng)傾斜邊緣44上連續(xù)。
應(yīng)該注意，4艮據(jù)第一方面及第三方面的具體形式的實施例，通 過使得緊鄰邊緣的每個表面在高度上增加或下降以便總是在相同 層面下終止于邊緣本身處，地^反塊1靠近其邊緣附近還可^皮制成為 使得在不使用傾斜邊緣的情況下每次表面在相同的高度下彼此鄰接。然后，單獨總表面在邊緣區(qū)域之間延伸，而邊緣區(qū)域自身處于 相同高度下。
圖20至30涉及才艮據(jù)本發(fā)明第四方面實現(xiàn)的地板覆層39。此處， 圖20、 22、 24、 25和26的每個以平面圖的方式示出了用于非矩形 房間的完整地板覆層39，以便于示出本發(fā)明的第四方面的可行方案。
如圖20的實例中所示的，這涉及由包括印刷裝飾2以及基于 合成材料的頂層的地板塊1構(gòu)成的這種類型的地板覆層39，其中，
地板塊1中的兩個彼此連接的連接裝置6A-6B (更具體地為，機械 連才妄部)，其中，在連接狀態(tài)下，可實現(xiàn)垂直以及水平鎖定，并且 其特;f正在于，地4反覆層至少包4舌具有鑲木地板；,形式圖案的主地4反 塊(具體地，以1E表示)，以及具有邊緣修整圖案的邊緣修整塊(具 體;也，以1F表示)。
根據(jù)圖20和21，邊緣修整塊1F包括具有方格狀圖案的方形地 才反塊，因此，這些方格平^f亍于地板塊的4黃向邊^(qū)彖延伸。
如所示的，優(yōu)選地，主地板塊1E以及邊緣修整塊1F是方形的 并且具有相同尺寸。而且，優(yōu)選地，所有的地板塊(即，1E及1F)， 在所有四個邊纟彖處具有連^妻裝置6A-6B,連4妄裝置6A-6B 4十對這兩 種地板塊沿著周向以相似方式設(shè)置。這使得所有的地板塊通過已知 安裝方法纟皮逐4于互鎖。
圖22示出了一種變型，其中，在角落處使用如圖21中所示的 邊緣終止輪廓1F，該邊緣終止輪廓被鋸成一定尺寸的，而在角落之 間使用小的條狀邊緣修整塊46。圖23示出了圖22的一部分F23的視圖，針對一個變型而言，其中專門使用了小的條狀邊緣修整塊
46。顯然，圖24示出了又一變型。
圖25示出了前述地板塊1E和1F如何能夠在斜砌圖案中使用。
圖26示出了具有邊*彖<爹整塊1G的地4反覆層，如圖27至圖30 中可看到的，其表面被對角地分成兩部分，其中，第一部分47具 有以相似于鑲木地板磚方式制成的圖案，而第二部分48具有邊緣 修整圖案。除此之外，還使用了如上所述的地板塊1F。為了能夠總 是在所有側(cè)部提供連4妄，要求四個不同的邊^(qū)^奮整塊1G，該四個 邊纟彖^修整塊具有以圖27至30中所述方式分別沿著圓周i殳置的輔助 連接裝置6A-6B，所述輔助連接裝置以圖27至圖30中所示的方式 分別沿著圓周設(shè)置。
顯然，本發(fā)明還涉及邊緣修整塊本身。當然，邊緣修整圖案可 具有任何外觀，但是，其當然的確不同于鑲木地板磚表示的圖案。 通過〗吏用這些邊桑彖〗奮整塊，排除了顯示出鑲木地板石爭的地才反塊必須 被鋸掉，因為如果鋸的話一個或多個鑲木地板磚圖案將不得不被切 開，所以以這種方式避免了干護G效應(yīng)。優(yōu)選地，如此選擇邊續(xù)J夢整 圖案以使得其具有更自然的外觀，并且在邊緣處對其所進行的切割 幾乎不會產(chǎn)生干擾?？赡艿?，邊緣修整塊可顯示出所謂的絨面地毯。
優(yōu)選地，4艮據(jù)第四方面的"鑲木地板磚圖案"是顯示出由框架 (其中布置有木條)形式的木條構(gòu)成的地板磚的圖案，諸如凡爾賽 磚圖案。
顯然，本發(fā)明不局限于具有由兩層(更具體地i兌，裝飾層11 和覆蓋層12)構(gòu)成的頂層的層壓地4反塊。因此，例如，也可以4吏用 具有只包括一層的頂層的層壓地板塊，例如，在金剛砂顆粒結(jié)合于 裝飾層中并且因此不使用單獨覆層的情況下。而且，對于裝飾直接印刷在基板上并且作為頂層的清漆等已經(jīng)設(shè)置在裝飾上的地板塊 來說，本發(fā)明的技術(shù)也是可行的，然后在地板塊中，例如，形成相 應(yīng)的壓痕。地板塊上表面中的所有變形和壓痕不是必須受限于合成 材料層的厚度，這意味著變形還可以繼續(xù)向上延續(xù)進入基底層，諸
如進入基板7中。
本發(fā)明決不局限于作為實例描述且在圖中示出的實施例的形 式，相反地，在不超出本發(fā)明范圍的情況下，這些地板塊、地板覆 層、以及用于制造地板塊的方法可以根據(jù)各種變型實現(xiàn)。顯然，所 有的前述方面(每個方面以其方式以及以4壬4可相互組合的方式)可 以應(yīng)用于實際產(chǎn)品中，后者并不因為這種組合而意p木著任何矛盾的 特性。
權(quán)利要求
1.-地板塊，所述地板塊(1)包括裝飾(2)、以及基于合成材料(9)的頂層(8)，并且其中，所述裝飾(2)顯示出每個地板塊(1)具有多個木條(3)的圖案，其特征在于，在所述地板塊(1)的上表面(14)中存在有一個或多個高度差，所述上表面(14)在一個或多個所述木條(3)的位置處示出了單獨總表面層面(16)。
2. -根據(jù)權(quán)利要求1所述的地板塊，其特征在于，在每個木條(3 ) 的4立置處，應(yīng)用單獨總表面層面(16)。
3. -根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的地板塊，其特征在于，所述單獨 總表面層面(16)通過下述可行方案中的至少一個被實現(xiàn)-其中，在相應(yīng)所示木條(3)的位置處，相應(yīng)表面整體 定位成比一個或多個相鄰的所示木條(3)的位置處的表面更 高或更4氐；-其中，在相應(yīng)所示木條(3)的4立置處，相應(yīng)表面相》十 于所述地^反塊(1 )的總上表面(14)至少部分地傾殺牛；-其中，在相應(yīng)所示木條(3)的位置處，相應(yīng)表面^皮制 成具有曲率，更具體;l也，是凹面的或凸面的；-其中，在相應(yīng)所示木條(3)的位置處，相應(yīng)表面沿著 邊纟彖或角落的方向^皮制成為以傾名+的方式相對于相鄰表面更深。
4. -才艮據(jù)前述斥又利要求中〗壬一項所述的地;板塊，其特征在于，在 所述地^反塊的上表面(14)中，才艮據(jù)下述可4亍方案中的一個或 多個還形成有局部壓痕(17 ):-顯示出木質(zhì)孩i孔的壓痕(19),其中，優(yōu)選地，這些壓 痕對應(yīng)于前述木條(3)的木質(zhì)結(jié)構(gòu)；-顯示出所述木條之間的凹槽和/或間隙的壓痕(18);-顯示出所述木條之間的凹槽和/或間隙的壓痕(18A)， 其中，這些壓痕的寬度是變化的；-顯示出裂縫或裂口的壓痕(20);-顯示出#皮磨損部分的壓痕；-顯示出木質(zhì)微孔或其它局部不平坦的壓痕(19),但是， 其中，這些壓痕^皮局部忽略并因此^皮斷開以^更仿制劃痕等。
5. -根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的地板塊，其特征在于，所 述圖案顯示出所謂的多層厚板，或者換言之，前述所示的木條(3 )在所述地板塊(1 )的上表面(14)上延伸，其中木條的 纟從向方向基本4皮》b平4亍。
6. -根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的地板塊，其特征在于，所 述圖案顯示出所謂的4裏木地^U爭，其中，前述所示的木條(3) 以其纟從向方向沿著至少兩個不同方向的方式在所述;也才反塊(1 ) 的上表面(14)上延伸。
7. -根據(jù)權(quán)利要求6所述的地板塊，其特征在于，所述圖案顯示 出凡爾賽力爭。
8. -根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的地板塊，其特征在于，所 述木質(zhì)圖案顯示出 一個或多個4艮色木紋，并且所述地板塊在其上表面(14)處于至少一個前述4艮色木紋的位置處示出了壓痕 (17),其中，這個壓痕(17)的表面(23)包括多個刻面狀 的較小表面(24)。
9. -根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的地板塊，其特征在于，所 述上表面(14)中的確定所述單獨總表面層面(16)的高度差 形成為所述頂層(8)中的壓痕。
10. -地板塊，這個地板塊(1)包括裝飾(2)、以及基于合成材 料(9)的頂層(8)或?qū)訅簩樱渲?，所述地板塊(1)的裝 飾側(cè)示出了顯示出多個木條(3 )的圖案，并且其中，所述地 板塊(1 )在其上表面(14)還示出了與前述所示木條(3)中 的兩個木條之間的過渡部相對應(yīng)的至少一個凹槽(18A),其 特4i在于，沿截面看，所述凹槽(18A)與實際上表面(14) 相交的位置沿所述過渡部在4黃向上變。
11. -根據(jù)權(quán)利要求10所述的地板塊，其特征在于，所述過渡部 以總體上較深的顏色被描繪于圖案中。
12. -才艮據(jù)權(quán)利要求10或11中任一項所述的地板塊，其特征在于， 所述圖案顯示出所謂的多層厚板，或者換言之，所述示出的木 條(3)在所述裝飾側(cè)上延伸，其中木條的縱向方向基本上彼 jt匕平4亍。
13. -根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的地板塊，其特征在于， 所述圖案顯示出所謂的鑲木地板磚，其中，所述示出的木制3 ) 以其纟從向方向沿至少兩個不同方向在所述裝飾側(cè)上延伸。
14. -根據(jù)權(quán)利要求13所述的地板塊，其特征在于，所述圖案顯 示出凡爾賽磚。
15. -根據(jù)權(quán)利要求IO至14中任一項所述的地板塊，其特征在于， 所述地板塊(1)的實際上側(cè)處的凹槽(18A)的寬度根據(jù)所 述凹槽(18A)的纟從向方向變4匕。
16. -根據(jù)權(quán)利要求10至15中任一項所述的地板塊，其特征在于， 所述凹槽(18A )仿制兩個木條之間的間隙。
17. -根據(jù)權(quán)利要求IO至16中任一項所述的地板塊，其特征在于， 前述凹槽(18A) i殳置有單獨應(yīng)用的裝飾覆層。
18. -根據(jù)權(quán)利要求17中所述的地板塊，其特征在于，單獨設(shè)置 的裝飾覆層包括已經(jīng)以非石更化形式設(shè)置在所述凹槽(18A)中 的;更<匕物質(zhì)。
19. -根據(jù)權(quán)利要求IO至18中任一項所述的地板塊，其特征在于， 前述凹槽(18A)由壓痕形成。
20. -制造根據(jù)權(quán)利要求9或19所述的地板塊的方法，其特征在 于，所述地板塊通過壓制工藝制成，所述地板塊或是同樣的地 板塊，或是當?shù)匕鍓K仍舊是用于形成所述地板塊的較大板材(31 )的一部分時的地才反塊，其中，在這個壓制工藝中，在地 板塊(1)的上表面(14)中、所述較大板(31)中分別形成 相應(yīng)的壓痕，更具體地，分別形成權(quán)利要求9或19中所述的 壓痕，其中使用了壓制板，為了施加所述壓痕，所述壓制板在 其壓制側(cè)具有凸雕(35 )，其中，用于形成所述壓痕的凸雕(35A )至少部分地借助于枳4成工具通過才幾加工處理而#皮實 現(xiàn)。
21. -地板覆層，這種類型的地板覆層由包括裝飾(2)以及基于 合成材料的頂層(8 )的地板塊(1 )構(gòu)成，其中，這些地板塊(1 )至少在兩個相對邊纟彖處i殳有容i午在前述邊纟彖處將這些地 板塊(1)中的兩個地板塊相互連接的機械連接部，使得在連 4妄狀態(tài)下獲得沿水平方向(Dl)以及沿垂直方向(D2)的鎖 定，其特征在于，在所述地板覆層的上表面中存在一個或多個 高度差，這是因為所述上表面在一個或多個所述地板塊(1) 的位置處示出了單獨總表面層面。
22. -根據(jù)權(quán)利要求21所述的地板覆層，其特征在于，所述地板 覆層基本上包括地4反塊，所述地玲反塊的裝飾姊青確地顯示出 一個 木條或厚板，以使所述單獨總表面層面基本上在一個地板塊的 表面上延伸。
23. -根據(jù)權(quán)利要求21所述的地板覆層，其特征在于，所述地板 覆層基本上包括地板塊，所述地板塊的裝飾精確地顯示出 一個 石質(zhì)石t，以-使所述單獨總表面層面基本上在一個地才反塊的表面 上延伸。
24. -根據(jù)權(quán)利要求21至23中任一項所述的地板覆層，其特征在 于，所述單獨總表面層面(16)通過下述可行方案中的至少一 個來實現(xiàn)-其中，在相應(yīng)地斧反塊(1A， 1B)的位置處，所述表面 整體定位成基本比一個或多個相鄰地4反塊(1A， 1B )的表面 更高或更低，和/或定位成比地板覆層(39)的表面的平均高 度(G)更高或更低；-其中，在相應(yīng)地^反塊(1C)的4立置處，總表面相對于 總平面至少部分地傾斜，所述地^反覆層(39 ) 4艮據(jù)所述總平面 延伸；-其中，在相應(yīng)地4反塊(1D)的位置處，所述總表面祐L 制成為彎曲的，更具體地，是凹面的或凸面的；-其中，在相應(yīng)地^反塊的位置處，沿邊血彖或角落的方向以傾存+的方式所述表面#:制造纟尋更;果。
25. -根據(jù)權(quán)利要求21至24中任一項所述的地板覆層，其特征在 于，形成有各種單獨總表面層面，其中所述地板塊根據(jù)理想的 表面層面的功能而^皮不同地壓印。
26. -地板塊組，其特征在于，所述地板塊組包括地板塊，在連接 狀態(tài)下，所述地板塊形成根據(jù)權(quán)利要求21至25中任一項所述 的地板覆層。
27. -地板覆層，這種類型的地板覆層由包括印刷裝飾(2)以及 基于合成材料的頂層(8 )的多個地板塊(1 )構(gòu)成，其中，這 些地板塊至少在兩個相對邊纟彖處i殳有允許在前述邊纟彖處將所 述地板塊中的兩個地板塊彼此連接的機械連接部，其中，在連 4^l犬態(tài)下獲4尋沿水平方向(Dl)以及沿垂直方向(D2)的鎖 定，其特征在于，地板覆層(39)至少由具有鑲木地板磚形式 圖案的主地板塊(1E)以及具有邊緯J務(wù)整圖案的邊^(qū)^修整塊(1F、 1G、 46)構(gòu)成。
28. -根據(jù)權(quán)利要求27所述的地板覆層，其特征在于，所述地板 覆層包括由具有方格狀圖案的方形地板塊構(gòu)成的邊緣修整塊(1F),所述方才各狀圖案的方格平行于所述地板塊的橫向邊緣 延伸。
29. -根據(jù)權(quán)利要求27所述的地板覆層，其特征在于，所述地板 覆層包括邊緣修整塊(1G)，所述邊緣修整塊的表面被對角地 分成兩部分，其中，第一部分(47)具有^皮制造成與鑲木地才反 石t相似的圖案，而第二部分(48)具有邊纟彖》務(wù)整圖案。
30.-地4反塊，其特4正在于，所述地4反塊凈皮實現(xiàn)為邊*彖<奮整塊，以 便形成根據(jù)權(quán)利要求27至30中任一項所述的地板覆層。
全文摘要
本發(fā)明提供了地板塊，所述地板塊(1)包括裝飾(2)、以及基于合成材料(9)的頂層(8)，并且其中裝飾(2)顯示出每個地板塊(1)具有多個木條(3)的圖案，其特征在于，在地板塊(1)的上表面(14)中存在有一個或多個高度差，所述上表面(14)在一個或多個所述木條(3)的位置處示出了單獨總表面層面(16)。
文檔編號B44C1/24GK101300141SQ200680041277
公開日2008年11月5日 申請日期2006年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月23日
發(fā)明者伯納德·蒂爾斯 申請人:地板材料工業(yè)有限公司