專利名稱：圖案反射光學結構的制作方法
背景技術：
1.技術領域
本發(fā)明通常涉及一種表面浮雕裝置。特別的，本發(fā)明涉及與圖案反射結構相關的裝置，如全息圖或衍射光柵。
2.背景技術
衍射圖、浮雕和相關領域的全息圖因其美觀實用而得到了廣泛應用。一般來說，衍射光柵本質上是由材料中的許多線或槽構成的重復結構，以形成凹凸結構。如果衍射光柵在反射面每毫米的成百上千的線的范圍內有隔開的槽，則可在可見光譜區(qū)內得到期望的光學效果。裝飾效果就是由衍射光柵得到的一種彩虹視覺效果。在二維全息圖的構建中采用衍射光柵技術，觀察者視覺上將產(chǎn)生三維圖形的幻覺。通過使用交叉激光束，基于聚合物折射率的不同也可生成三維全息圖，所述交叉激光束包括一束參考光束和一束物光束。這樣的全息圖被稱為體積全息圖或3D全息圖。而且，在各種目標物上使用全息圖形以防止偽造也得到了廣泛應用。目前，表面浮雕全息圖也有多種應用，應用范圍包括應用于禮物的裝飾性包裝、銀行票據(jù)和信用卡等防偽文檔。二維全息圖通常是利用在塑料表面形成的衍射圖形。在某些情況下，浮雕于這種表面的全息圖形無需進一步處理即肉眼可見；然而，為得到最好的光學效果，通常需要加一層反射膜，典型的是在浮雕表面加一層薄金屬(如鋁)。反射層可以明顯提高衍射圖案浮雕的可視性。即使被封裝在硬質塑料中，各種第一級衍射結構都存在一個明顯缺陷，所述第一級衍射結構包括全息圖和光柵圖。當使用漫射光源(如普通的室內燈光或陰天的日光)來照射全息圖時，所有的衍射級都將會擴展、重疊，從而使得衍射色彩丟失，全息圖中包含的很多視覺信息也不會被顯示。在這樣的觀測條件下，浮雕表面通常只能看見銀色反射，并且所有這些圖案看起來像銀色或至多是淡而柔和的色彩。因此，為了看見圖案，一般要求使用直接高光照射全息圖。這意味著為了得到最好的觀測效果，照射光必須按與觀測角度相同的角度入射。由于防偽全息圖已得到廣泛的應用，因此造假者也非?？释麖椭菩庞每?、銀行票據(jù)及類似物上經(jīng)常使用的全息圖。因此，防偽全息圖要真正安全，必須克服的困難是防止這樣的全息圖很容易被偽造。一步和兩步光學復制、直接機械復制和甚至重組已在互聯(lián)網(wǎng)上得到廣泛的討論。人們已經(jīng)采用各種方法來阻止這些措施，但在反措施中，沒有發(fā)現(xiàn)任何一種對策單獨采用時具有有效的威懾。防偽全息圖的另一個問題是對于大多數(shù)人來說，辨認和記住用于驗證目的的全息圖所生成的各種圖像是困難的。由于其特征的復雜性和裝飾性衍射包裝的混亂，一般人最終辨認防偽全息圖的能力大打折扣。因此，大多數(shù)人習慣于確認這種安全圖案的存在與否而不是驗證其圖像的真實性。這為低級的偽造品和真正的防偽全息圖的商業(yè)全息圖替代品的使用提供了可趁之機。為了打擊偽造者，全息圖公司已借助于更復雜的圖像，如當防偽圖案旋轉時，可以生成多種圖案。這些增強圖案可為觀眾提供高水平的“flash”或美的吸引力。不幸的是，這種增加的復雜性并不能相應地增加安全性，因為這種復雜的圖案很難被理解，即使可能的話，回憶起這些圖案也是一件很困難的事。因此，開發(fā)在各種光線條件下可增強觀測性能的改進的防偽產(chǎn)品具有明顯的優(yōu)勢，并且所述防偽產(chǎn)品能夠應用到各種防偽應用中以使偽造更加困難。
發(fā)明摘要本發(fā)明涉及一種可顯示表面浮雕圖案的效果的光學結構，所述表面浮雕圖案如全息圖或衍射光柵，所述表面浮雕圖案帶有文字數(shù)字符號、條形碼或圖解或繪畫圖案和在所述圖案周圍的輔助光學效果。特別的是本發(fā)明中的光學結構包含了帶表面浮雕圖案的光透射基片，所述表面浮雕圖案位于所述光透射基片上，以提供全息圖或其它表面浮雕結構。反射材料圖案層被應用在所述表面浮雕圖案的部分區(qū)域，以形成圖案或結構，如文字數(shù)字符號、條形碼或圖解或繪畫圖案。所述反射材料圖案層的應用可使所述表面浮雕圖案的其他部分不被反射體遮蓋，或者稱之為“暴露”。光學活性涂層被應用于所述反射材料圖案層和表面浮雕圖案的暴露部分，以使暴露于所述光學活性涂層的表面浮雕圖案部分顯示期望的光學效果。在一些具體結構中，所述光學活性涂層可以是變色薄膜或包含變色薄片。可選的，所述光學活性涂層的材料的折射率應與所述光透射基片的折射率匹配，這樣就具有光學消除所述暴露部分的表面浮雕圖案的效果。本發(fā)明的這些及其其它特征將在下面的描述和權利要求書中詳細闡述，也可以通過實施上述描述而得到進一步了解。


為進一步澄清本發(fā)明上述的和其它的優(yōu)點與特征，下面將根據(jù)附圖中的具體實施例對本發(fā)明進行更詳細描述。必須指出的是，所述附圖只描述了本發(fā)明的特殊具體結構，但并不限于此。本發(fā)明的附加特征和細節(jié)通過附圖所描述和解釋，其中
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個具體實施例的光學結構的示意圖2是根據(jù)本發(fā)明另一個具體實施例的光學結構的示意圖3是根據(jù)本發(fā)明又一個具體實施例的光學結構的示意圖； 圖4是根據(jù)本發(fā)明再一個具體實施例的光學結構的示意圖5也是根據(jù)本發(fā)明另一個具體實施例的光學結構示的意圖6是根據(jù)本發(fā)明又一個具體實施例的光學結構的示意圖；和
圖7A和7B是根據(jù)本發(fā)明另一個具體實施例的防偽物品的示意圖。

發(fā)明內容
本發(fā)明直接涉一種光學結構，所述光學結構包括表面浮雕圖案的，所述表面浮雕圖案能夠提供光學效果，如全息圖；還包括位于所述表面浮雕圖案下面的圖案反射結構，以及位于所述圖案層和未被所述圖案層覆蓋的表面浮雕圖案部分下的光學活性涂層。最終的光學結構可顯示唯一的光學效果。
以示意圖的形式闡述了本發(fā)明的各個要素，其中相同的結構使用相同的參考標志。
圖1描述了光學結構20，包括光透射層22，所述光透射層22在其內表面或下表面含有表面浮雕圖案24。
使用圖案反射層26是為了支承表面浮雕圖案。如圖所示，圖案反射層可以直接應用于表面浮雕圖案上，或在表面浮雕圖案和圖案反射層之間可以有一個或多個透射層。
使用“圖案”反射層概念意味著，在表面浮雕圖案24上應用反射層可得到期望的“圖案”或設計。不局限于實施例，圖案反射層可以以文字、數(shù)字、條形碼和/或圖解或繪畫圖案的形式出現(xiàn)。
光透射層22更適宜使用可直接在其表面形成浮雕結構的材料制成。適用于層22的材料包括塑料，如聚氯乙稀、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯和PET型G。
表面浮雕圖案24可以采用各種形式，包括衍射光柵、全息圖(如二維和三維全息圖)、角反射器、零級衍射圖案、疊柵圖(moirépattern)或其它光干涉圖案，和上述各種方式如全息圖/光柵圖或其它干涉圖案的組合，所述衍射光柵、全息圖或其它光干涉圖包括基于尺寸約為0.1μm至約10μm微結構圖，優(yōu)選尺寸約為0.1μm至約1μm。比如，Kinegram裝置有二維、微機生成的圖像(可從瑞士的OVD Kinegram公司購買)，其中的各個圖案元素就是用光衍射微結構填充而成的。這些微結構為典型尺寸小于1μm的非常細小的表面調制結構。除了傳統(tǒng)的全息圖外，本發(fā)明適用于任何可以在樹脂層內浮雕出圖案的浮雕結構。這包括衍射表面、“蛾眼(moth-eye)”型結構、有多角度視覺的全息結構，其中每個所述視覺都有一個不同的全息特征或圖像，或者包括來自鎳主導裝置的高分辨率浮雕，其中原始薄片是使用高分辨激光刻蝕而成的。
用于制造表面浮雕圖案24的方法是該領域的技術人員所熟知的。例如，層22表面可以用人們熟知的方法浮雕制成，如在高壓下將它與熱的鎳浮雕薄片緊緊壓在一起即可。其它方法包括光刻法和塑料基片緊靠圖案表面的壓模法。
在某一方法中，光學結構20可利用浮雕熱塑性薄膜而制成，即先加熱軟化薄膜的表面，然后將薄膜通過浮雕滾筒，使得軟化表面呈現(xiàn)衍射光柵或全息圖。通過該方法，可有效地制造出無限長的帶衍射光柵或全息圖的薄片。另外一種制造光學結構20的方法是將一卷覆蓋有可用紫外線(UV)固化的聚合物(如PMMA)的塑料膜通過一套可透射紫外線的滾筒，其中滾筒可將圖案引入UV固化的聚合物。當聚合物通過可透射UV滾筒時，將被UV光固化。
一旦光透射層和附屬的表面浮雕結構制備好后，應將反射材料沉積在期望的圖案上，以得到圖案反射層26。雖然可以使用別的反射或甚至是部分反射/部分透射材料，但是目前優(yōu)先用作圖案反射層的材料是金屬，如鋁、銀、鎳、銀-鈀、銀-銅合金、銅、金和類似物。雖然我們知道為得到期望的效果，該層可以是部分透射的，但是為改善附屬表面浮雕圖案的光學特性，該層首選的應該是實質上不透明的。當反射層實質上不透明時，金屬層的典型厚度約為50～100nm。
目前，首選將圖案反射層應用于期望的圖案/結構中有兩種方法。一種方法是使用標準的光刻技術，其中圖案是通過掩模法利用紫外線固化在金屬層上形成一層光刻膠，然后用堿溶液(如氫氧化鈉)去除光刻膠。另一種方法是在真空卷繞鍍膜機中，通過在浮雕表面使用非浸濕型油的照相凹版印刷圖案順序制得金屬層圖像，其中圖案金屬層是在沉積過程中制備完成的。當金屬沉積在浮雕表面上時，通過油蒸發(fā)而生成圖案。在沒有油的地方，金屬將沉積并粘附在樹脂層或基片表面上。在有油的地方，由于存在沉積金屬冷凝熱，油將蒸發(fā)，浮雕結構(如全息圖)將保留在沒有金屬層的區(qū)域，即可得到非金屬浮雕結構。
雖然這兩種制備圖案反射層的方法是目前首選的，但是將會意識到，了解此處所講的期望的結構的該領域的普通技術人員可以識別制備圖案反射層的替代方法。
圖2描述了與圖1相似的結構，但是為制備光學結構30，在光透射層22上增加光透射基片32。當用于制備光透射層22的材料為軟性材料時，這個具體結構是非常有用的，因為基片32可為光學結構提供物理保護和/或剛性。另外，光透射層22的內表面有制備好的表面浮雕圖案，并與圖案反射層相連。
目前，首選使用適用于模壓的可熱塑的材料來制備光透射基片32，其中包括塑料，如聚酯；聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)，如PET型G；聚碳酸酯，丙烯酸樹酯，如聚丙烯酸樹酯(包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA))；聚氯乙烯；聚偏二氯乙烯；聚苯乙烯；纖維素雙乙酸酯和纖維素三醋酸酯及其混合物或共聚物和類似物。在一個優(yōu)選實施例中，光透射基片32實質上由透明材料如聚碳酸酯制成?；?2適宜厚度約為3μm～100μm，優(yōu)選厚度約為12μm～25μm。雖然基片32是作為一個單層來描述的，但它可以由多層基片材料制成。
圖3描述了與圖1相似的光學結構，但是圖案反射層26和表面浮雕圖案24的暴露部分下有附加層42。層42可以用來保護圖案反射層26和表面浮雕圖案24，也可為光學結構40增加光學特性。例如，層42可以是有顏色的、光透射和/或不透明的。層42可以是單層，也可以是多層結構。當層42為圖1中的結構增加光學特性時，在這里它指的是“光學活性”涂層。
圖4為使用光活性涂層的例子，其中描述了包含一個含表面浮雕圖案24和圖案反射層26的光透射層22的光學結構50。光學活性多層光學涂層58可用一層薄膜光學堆制作，其用于圖案反射層和表面浮雕圖案的暴露區(qū)。
在圖4中，多層光學涂層58包括部分吸收/部分透射層52，下文將稱之為“吸收”層，光學介電層54和反射層56。根據(jù)美國專利5,135,812，在這里通過參考將其全部內容結合入本發(fā)明中，這些層將為光學結構50增加變色特性，這意味著色彩將由于視角不同而改變。
已發(fā)現(xiàn)這種結構具有有用的光學性質。在圖案反射層遮蓋表面浮雕圖案的部分，可產(chǎn)生如圖1的結構中所觀察到的光學效果。然而，在沒有反射層的表面浮雕圖案部分多層光學涂層將產(chǎn)生唯一的光學效果。例如，在圖案鋁反射層位于顯示全息圖的表面浮雕圖案下的情況，將可以看到一系列標準的全息色彩，所述全息色彩為典型的彩虹色，其中色彩隨傾角的增大由藍向紅變化。在多層光學涂層58直接應用于表面浮雕圖案的區(qū)域，全息圖可顯示不同的視覺色彩，這是由于涂層58將生成可以修正全息圖的衍射/干涉效果的特殊色彩。
吸收層52的適宜厚度約為30-300埃，優(yōu)選厚度約為50-100埃。吸收層可由半透明的材料制成，如灰色金屬，包括鉻、鎳、鈦、釩、鈷和鈀，也可以是其它金屬，如鐵、鎢、鉬、鈮、鋁及類似物。也可以使用上述金屬的各種組合物和合金，如鎳鉻鐵合金(Ni-Cr-Fe)或鎳鉻合金。吸收層52也可以使用其它吸收材料，包括金屬化合物，如金屬低氧化合物、金屬硫化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬磷化物、金屬硒化物、金屬硅化物及其組合物，也可以是碳、鍺、氧化鐵、混合于介電層的金屬和類似物。
光學介電層54是在吸收層18上通過傳統(tǒng)沉積工藝形成，如使用電子束或耐熱的PVD、化學氣相沉積(CVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、直流(DC)反應濺射、射頻(RF)濺射或類似工藝。形成有效光學厚度的介電層可使光學結構50獲得變色特性。典型地，該層的光學厚度以四分之一波長光學厚度(QWOT)為單位來表示，即是滿足QWOT條件時的期望波長。介電層54的光學厚度范圍約為在大約400nm設計波長時的2個QWOT，到在大約700nm設計波長時的9個QWOT，最優(yōu)范圍為在大約400-700nm設計波長時的2-6個QWOT，所述光學厚度取決于所期望的色移。適合制備介電層54的材料包括具有高折射率系數(shù)的材料(定義為折射率大于1.65的材料)，也包括折射率系數(shù)低的材料(定義為折射率等于少于1.65的材料)。
適用于介電層54的高折射率材料包括硫化鋅(ZnS)、氧化鋅(ZnO)、二氧化鋯(ZrO2)、二氧化鈦(TiO2)、碳(C)、氧化銦(In2O3)、氧化銦錫(ITO)、五氧化二鉭(Ta2O5)、氧化鈰(CeO2)、氧化釔(Y2O3)、氧化銪(Eu2O3)、氧化鐵，如四氧化三鐵(Fe3O4)和氧化鐵(Fe2O3)，氮化鉿(HfN)、碳化鉿(HfC)、氧化鉿(HfO2)、氧化鑭(La2O3)、氧化鎂(MgO)、氧化釹(Nd2O3)、氧化鐠(Pr6O11)、氧化釤(Sm2O3)、氧化銻(Sb2O3)、碳化硅(SiC)、氮化硅(Si3N4)、氧化硅(SiO)、三氧化硒(Se2O3)、氧化錫(SnO2)、三氧化鎢(WO3)及其組合物和類似物。適用于介電層54的低折射率材料包括氧化硅(SiO2)、氧化鋁(Al2O3)、氟化物如氟化鎂(MgF2)、氟化鋁(AlF3)、氟化鈰(CeF3)、氟化鑭(LaF3)、氟化鋁鈉(如Na3AlF6或Na5Al3F14)、氟化釹(NdF3)、氟化釤(SmF3)、氟化鋇(BaF2)、氟化鈣(CaF2)、氟化鋰(LiF)及其組合物，或其它任何折射率大約等于或低于1.65的低折射率材料。例如，可用作低折射率材料的有機單體或聚合體，包括二烯或烯烴，如丙烯酸酯(例如，甲基丙烯酸酯)；全氟烯烴；聚四氟乙烯(Teflon)；氟化乙烯丙稀(FEP)及其組合物與類似物。
反射層56可在介電層54上通過傳統(tǒng)沉積工藝形成，如PVD、濺射或類似工藝。反射層56的適宜厚度約為300-1000埃，優(yōu)選厚度約為500-1000埃。根據(jù)期望的色彩效果，反射層56最適宜用不透明的高折射率金屬制備而成，例如鋁、銀、銅、金、鉑、鈮、錫及其組合物和合金，以及類似物。也可以使用其它金屬，例如鉻、鎳、鈦、釩、鈷和鈀、或鈷-鎳合金，其它金屬也可象其他反射材料一樣用于制備合適厚度的反射層56。
圖5示意性描述了光學結構中的另一個實施例。圖5顯示了光學結構60，所述光學結構60具有在透射層22上形成的表面浮雕圖案24和位于表面浮雕圖案下的圖案反射層26。一種包含懸浮薄片64的透射物質被應用在圖案反射層和光學浮雕圖案暴露部分下，當透射物質硬化或固化后，形成包含懸浮薄片64的透射層62。為得到期望的光學效果，使用的特殊薄片不必像圖示那樣平整，可以是任何期望的顏料或顆粒物，或是以不同間隔定位。然而，當所述薄片縱橫比高而且平整，以至于它們與層22平行時，將產(chǎn)生最強烈的變色效果。用于連接圖5的具體結構的合適變色薄片與美國專利編號5,135,812描述的形式相同，此處通過參考將其結合入本發(fā)明中。
除了因表面浮雕圖案24和圖案反射層26組合而觀察到的變色效果，層62中的懸浮變色薄片將導致另外的變色效果。因使用懸浮薄片而非圖4中的連續(xù)結構增加了額外的光學效果，這將取決于如薄片64加到透射層62的分量、薄片64的尺寸和縱橫比、薄片64的光學特征和薄片的其它特征這樣一些因素。
圖6描述了與圖5中光學結構60相似的光學結構70，區(qū)別在于圖6的具體結構中使用了一種其折射率與透射層22折射率相匹配的材料來制備透射層72。這種匹配可以有效地“去掉”層22和72之間的光學邊界，如圖6中點線所示。換句話說，表面浮雕圖案24與圖案反射體26的組合可得到前面討論的光學效果，但在圖案24上使用折射率匹配材料72將不會顯示與表面浮雕圖案相關的光學效果。因此，在圖6的具體結構中，在表面浮雕圖案中沒有被圖案反射層26覆蓋的部分可觀察到的唯一光學效果是由懸浮在材料72上的薄片64所引起的。
可以理解，折射率匹配層也可用于與圖3具體結構的相關結構，其結果是將在應用圖案反射體26的表面浮雕圖案24的區(qū)域中觀察到光學效果，但在沒有反射體遮蓋的表面浮雕圖案區(qū)域將不會觀察到這種表面浮雕效果。
也可以理解，通過選擇上面描述的各種特征的組合，可以得到多種效果。例如，可以只在層22的部分區(qū)域加上表面浮雕圖案24，也可以在整個表面上加上表面浮雕圖案。不同類型的表面浮雕圖案可用于透射層22的不同位置。為獲得不同的光學效果，可以使用不同的材料以使圖案反射體26各個部分各不相同。可以使用多種類型的薄片64，而不是單一組分和結構的薄片；或者可以在光學結構某一區(qū)域使用一種類型的薄片，而在另一區(qū)域使用不同類型的薄片。為提供期望的光學效果，可將各種類型的多層膜大量使用于表面浮雕圖案24和圖案反射體26的組合中。例如，薄膜光學膜堆可以包括其它光學涂層，如所有的電介質系統(tǒng)，其中，不僅可以觀察到光學偏移效果，而且可觀察到紅外信號，且可用作一種隱形防偽特性。
圖7A和7B描述了利用本發(fā)明特征的熱印金屬薄片的結構。熱印圖案在保護安全文檔中特別有用，如貨幣、支票、簽證、護照、證書、身份證和類似物。熱印圖案在需要商標保護領域也非常有用，如醫(yī)藥品、化妝品、電子產(chǎn)品、軟件、服裝或其它具備被偽造特性的產(chǎn)品。在后一種情況中，熱印圖案可以粘貼在包裝盒、容器或產(chǎn)品本身上。
圖7A描述了一種本發(fā)明所述的熱印圖案80的結構。舉一個例子來說明，如圖3所示的光學結構40可以夾在載片82與熱釋放層84和熱活性膠86之間，其中光學結構40一側是熱釋放層84，另一側是熱活性膠86。圖7A描述了應用于安全文檔88的熱印裝置80。圖7B描述了使用該結構的結果，由于高分辨的浮雕技術和光學活性涂層技術同時具備以使圖案具有與真實圖案相同的光學特征，所述結構不僅提供視覺感染力，而且不易被仿造，所述高分辨的浮雕技術如全息技術、圖案結構。
本發(fā)明也可以在不偏離其本質或內在特性的情況下采用其它特殊的方式進行具體闡述。可僅像圖示的一樣從各個方面來考察描述的具體結構，但不限于此。因此，本發(fā)明的范圍不是前面描述的范圍而是下面的權利要求的范圍。所有與權利要求的等價內涵和范圍內的改變都屬于本發(fā)明的范圍。
權利要求
1.一種光學結構，包括光透射基片，所述光透射基片包含第一表面和相對的第二表面，其中所述第二表面包括形成于其上的表面浮雕圖案；反射材料圖案層，所述反射材料圖案層被運用于所述光透射基片的所述表面浮雕圖案部分區(qū)域，以使所述表面浮雕圖案部分區(qū)域被所述反射材料覆蓋，所述表面浮雕圖案其他部分被暴露；和光學活性涂層，所述光學活性涂層位于所述表面浮雕圖案的反射材料圖案層和暴露部分下。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所示光學活性涂層有變色光學特性。
3.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述光學活性涂層為薄膜光學膜堆。
4.根據(jù)權利要求3所述的光學結構，其特征在于所述薄膜光學膜堆包括部分吸收/部分透射層；介電層；和反射層。
5.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述光學活性涂層包含可給所述表面浮雕圖案的暴露部分增加期望的光學效果的薄片。
6.根據(jù)權利要求5所述的光學結構，其特征在于所述薄片為薄膜光學膜堆，所述薄膜光學膜堆包括部分吸收/部分透射層；介電層；和反射層。
7.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述的光學活性涂層的折射率實質上與所述光透射基片的折射率匹配，以使在所述表面浮雕圖案暴露部分將不顯示所述表面浮雕圖案的光學效果。
8.根據(jù)權利要求5所述的光學結構，其特征在于所述光學活性層的折射率實質上與所述光透射基片的折射率匹配，以使在所述表面浮雕圖案暴露部分將不顯示所述表面浮雕圖案的光學效果。
9.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述反射材料圖案層是不透明的。
10.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述反射材料圖案層被使用以形成繪畫圖案。
11.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述反射材料圖案被使用以形成文字數(shù)字符號。
12.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述反射材料圖案層被使用以形成圖解圖案。
13.根據(jù)權利要求1所述的光學結構，其特征在于所述表面浮雕圖案從包括衍射光柵圖案、全息案、角反射器、零級衍射圖案、疊柵圖(moiré pattem)及其組合的組中選擇。
14.一種光學結構，包括光透射基片，所述光透射基片包含第一表面和相對的第二表面，其中所述第二表面包括形成于其上的表面浮雕圖案；反射材料圖案層，所述反射材料圖案層被運用于所述光透射基片的所述表面浮雕圖案部分區(qū)域，以使所述表面浮雕圖案部分區(qū)域被所述反射材料覆蓋，所述表面浮雕圖案其他部分被暴露；和在所述表面浮雕圖案的圖案層和暴露部分下的涂層，所述涂層的折射率實質上與所述光透射基片的折射率匹配，以使所述表面浮雕圖案的光學效果將不在所述表面浮雕圖案暴露部分顯示。
全文摘要
一種包含光透射基片的光學結構，其中，將表面浮雕圖案施加到所述光透射基片上，如全息圖。反射材料圖案層被應用在表面浮雕圖案部分上，以形成文字數(shù)字符號、條形碼或圖解或繪畫圖案。為使表面浮雕圖案的暴露部分產(chǎn)生期望的光學效果，在反射材料圖案層和表面浮雕圖案暴露部分上使用了光學活性涂層。在一些具體結構中，光學活性涂層為變色薄膜或包含變色片。任選地，光學活性涂層材料的折射率可與光透射基片的折射率顯著匹配，以使未被反射材料覆蓋的表面浮雕圖案區(qū)部分不顯示表面浮雕圖案的光學效果。
文檔編號B44F1/04GK1849566SQ200480025803
公開日2006年10月18日 申請日期2004年9月16日 優(yōu)先權日2003年9月18日
發(fā)明者羅杰·W.·菲利浦, 弗拉基米爾·P.·洛夏 申請人:Jds尤尼弗思公司