本發(fā)明的示例性實施方式的一個或多個方面涉及顯示裝置。

背景技術：

向用戶提供圖像的電子裝置(如電視機(“TV”)、數碼相機、膝上型計算機、導航裝置和移動電話)包括用于顯示圖像的顯示裝置。顯示裝置包括用于生成圖像的顯示面板以顯示圖像，以及位于顯示面板頂部的窗以保護顯示面板。

在顯示面板上生成的圖像可傳輸通過窗以被用戶觀看。窗包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，其中圖像在顯示區(qū)域上顯示，并且非顯示區(qū)域位于顯示區(qū)域周圍(例如，圍繞顯示區(qū)域)。窗的非顯示區(qū)域可通過使用打印層設計為各種顏色。然而，到達打印層的光可能通過反射(例如，全反射)而被散射，從而導致漏光。

在背景部分中公開的上述信息僅用于加深對發(fā)明的背景的理解，因此其可包括不構成現有技術的信息。

技術實現要素：

本發(fā)明的示例性實施方式的一個或多個方面涉及顯示裝置，該顯示裝置能夠減少或防止由反射(例如，全反射)引起的漏光。

根據本發(fā)明的示例性實施方式，顯示裝置包括：配置成顯示圖像的顯示面板；覆蓋顯示面板并且包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域的窗；以及位于顯示面板與窗之間的粘合層，其中圖像傳輸通過顯示區(qū)域，并且非顯示區(qū)域圍繞顯示區(qū)域，窗包括：與顯示面板相對的窗基部、位于窗基部下方的打印層和位于窗基部與打印層之間的光路徑改變層，光路徑改變層包括光學結構和涂覆光學結構的樹脂。

光學結構可具有比樹脂的折射率低0.01或低更多的折射率。

光學結構可包括選自SiO₂、聚(甲基丙烯酸甲酯)(“PMMA”)、四氟乙烯(“TFE”)、氟化乙烯丙烯共聚物(“FEP”)、空心玻璃珠狀物和氣凝膠中的至少一個。

光學結構可包括珠形、透鏡形、棱柱形、梯形和橢圓形之一。

顯示裝置還可包括位于窗基部與打印層之間的基膜。

光路徑改變層可位于基膜與打印層之間。

光路徑改變層可包括基膜。

光學結構可對應于位于基膜上的圖案層。

圖案層具有低折射率，并且基膜具有高折射率。

圖案層位于基膜的表面上且位于基膜與窗基部之間，并且圖案層具有低折射率，以及顯示裝置還可包括：光學透明粘合(“OCA”)層，OCA層位于圖案層上并具有高折射率。

圖案層可具有透鏡形和棱柱形之一。

顯示裝置還可包括位于窗基部與打印層之間的光學透明粘合(“OCA”)層。

光路徑改變層可包括OCA層。

光學結構可位于OCA層中。

顯示裝置還可包括位于窗的一側處的光吸收構件。

打印層可位于非顯示區(qū)域處并且可接觸粘合層。

打印層可包括第一裝飾打印層、第二裝飾打印層和光屏蔽打印層。

第一裝飾打印層可包括珠光顏料并且可具有透明顏色。

第二裝飾打印層可以是白色打印層。

光屏蔽打印層可以是黑色打印層并且可接觸粘合層。

上文僅為說明性的而并不旨在以任何方式進行限制。除了以上描述的說明性的方面、實施方式和特征之外，本發(fā)明的其他方面、實施方式和特征將通過參照附圖及以下詳細的描述變得清楚。

附圖說明

通過結合附圖的以下詳細描述，將更清楚地理解本發(fā)明的以上及其它特征和方面，在附圖中：

圖1是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的分解立體圖；

圖2是示出圖1的窗的立體圖；

圖3是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的剖視圖；

圖4是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的包括光學結構的光路徑改變層的模擬圖；

圖5是示出在不具有光路徑改變層的顯示裝置中反射光的路徑的剖視圖；

圖6是圖5中示出的區(qū)域“B”的放大圖；

圖7是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置中反射光的路徑的剖視圖；

圖8是圖7中示出的區(qū)域“C”的放大圖；

圖9是示出顯示面板的位于圖1的區(qū)域“A”處的像素的平面圖；

圖10是沿圖9的線I-I′取得的剖視圖；

圖11是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的剖視圖；

圖12是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的示意性剖視圖；

圖13是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的光路模擬結果的圖；

圖14示出對基于根據本發(fā)明的示例性實施方式的光學結構的折射率而減少的漏光量進行比較的圖；

圖15是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的光路模擬結果的圖；以及

圖16示出對基于根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的光學結構的折射率而減少的漏光量進行比較的圖。

具體實施方式

在下文中，將參照附圖更加詳細地描述示例性實施方式，在附圖中，相同的附圖標記表示相同的元件。然而，本發(fā)明可以以各種不同的形式實施，并且不應被理解為僅限于本文中所闡述的實施方式。相反地，提供這些實施方式作為示例以使本公開是全面且完整的，并且將本發(fā)明的方面和特征充分地傳達給本領域的技術人員。因此，對于本領域普通技術人員完整地理解本發(fā)明的方面和特征而言不必要的工序、元件和技術可能沒有進行描述。除非另作說明，否則在所有的附圖和文字描述中，相同的附圖標記指代相同的元件，并因此，可能不對其進行重復描述。

在附圖中，為了清晰起見，可能放大了元件、層和區(qū)域的相對尺寸。為便于說明，本文中可使用空間上相對的術語諸如“在……之下”、“在……下方”、“下部”、“在……下”、“在……上方”、“上部”等來描述如附圖中所示的一個元件或特征與另外的元件或特征的關系。應理解，除了附圖中所示的定向以外，空間上相對的術語旨在包括裝置在使用或操作中的不同定向。例如，如果附圖中的裝置被翻轉，描述為在其它元件或特征“下方”或“之下”或“下”的元件或特征則將定向為在其它元件或特征“上方”。因此，示例性術語“在……下方”和“在……下”可以包括上方和下方的定向。裝置可以以其它方式定向(例如，旋轉90度或者處于其它定向)，并應相應地理解本文中所使用的空間上相對的描述語。

應理解，雖然“第一”、“第二”、“第三”等術語可在本文中用來描述各種元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，但這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不應受這些術語限制。這些術語用于將一個元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一元件、部件、區(qū)域、層或部分區(qū)別開。因此，在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，以下描述的第一元件、第一部件、第一區(qū)域、第一層或第一部分可被稱為第二元件、第二部件、第二區(qū)域、第二層或第二部分。

應理解，當元件或層被稱為位于另一元件或層“上”、“連接至”或“耦合至”另一元件或層時，其可以直接位于另一元件或層上、直接連接至或直接耦合至另一元件或層，或者可存在插入的元件或層。此外，還應理解，當元件或層被稱為在兩個元件或層“之間”時，其可以是在兩個元件或層之間僅有的元件或層，或者也可以存在一個或多個插入的元件或層。

本文中所使用的術語用于描述具體實施方式的目的，并非旨在限制本發(fā)明。如文中所使用，除非上下文清楚地另外指示，否則單數形式“一個(a)”和“一個(an)”也旨在包括復數形式。還應理解，在本說明書中使用時，術語“包括(comprises)”、“包括(comprising)”、“包括(includes)”和“包括(including)”說明存在所述的特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件，但不排除存在或附加一個或多個其它特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或它們的組。如本文中所使用，術語“或”表示“和/或”，并且術語“和/或”包括所列相關項中的一個或多個的任意及所有組合。當諸如“……中的至少一個”的表述位于一列元件之后時，其修飾整列元件，而不是修飾該列中的單個元件。

如本文中所使用，術語“基本上”、“大約”和類似的術語用作近似的術語而不是用作程度的術語，并且其旨在說明本領域普通技術人員能夠認識到的、所測量或計算的值的固有差異。此外，當描述本發(fā)明的實施方式時使用“可”來表示“本發(fā)明的一個或多個實施方式”。如本文中所使用，術語“使用(use)”、“使用(using)”和“使用了(used)”可以被認為分別與術語“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“利用了(utilized)”是同義的。另外，術語“示例性”旨在表示示例或例示。

在下文中，為方便起見，將根據本發(fā)明的一個或多個實施方式的顯示裝置的示例性實施方式描述為有機發(fā)光二極管(“OLED”)顯示裝置。然而，顯示裝置并不限于此，并且本發(fā)明的方面和特征可應用至液晶顯示(“LCD”)裝置、等離子顯示面板(“PDP”)裝置、場發(fā)射顯示(“FED”)裝置和/或類似物。

此外，在附圖中，根據本發(fā)明的一個或多個示例性實施方式的顯示裝置示出為具有2Tr-1Cap(例如，兩個晶體管-一個電容器)結構的有源矩陣有機發(fā)光二極管(“AMOLED”)顯示裝置，在該結構中一個像素包括兩個薄膜晶體管(“TFT”)和一個電容器。然而，本發(fā)明并不限于此。因此，在根據一個或多個示例性實施方式的OLED顯示裝置中，TFT的數量、電容器的數量和導線的數量是不受限制的。如本文中所使用，術語“像素”表示用于顯示圖像的最小單位，并且OLED顯示裝置通過多個像素顯示圖像。

除非另外限定，否則在本文中使用的所有術語(包括技術術語和科學術語)具有與本領域技術人員通常所理解的含義相同的含義。還應理解，如在通常使用的字典中定義的那些術語應解釋為具有與其在相關技術領域的背景中的含義一致的含義，并且不應以理想化或過于正式的含義進行解釋，除非在本說明書中明確地定義。

在下文中，將參照圖1、圖2和圖3對根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置100進行描述。

圖1是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置100的分解立體圖。

參照圖1，顯示裝置100包括：具有像素區(qū)域PX和非像素區(qū)域NPX的顯示面板200、配置成容納(例如，接收或包圍)顯示面板200的殼610、位于顯示面板200與殼610之間的沖擊吸收片620、包括顯示區(qū)域DA和非顯示區(qū)域NDA的窗300、以及位于顯示面板200與窗300之間的粘合層500。窗300位于顯示面板200的頂部(例如，位于顯示面板200上方或者覆蓋顯示面板200)。

非像素區(qū)域NPX可圍繞像素區(qū)域PX，并且非顯示區(qū)域NDA可圍繞顯示區(qū)域DA。顯示面板200的像素區(qū)域PX對應于窗300的顯示區(qū)域DA，并且顯示面板200的非像素區(qū)域NPX對應于窗300的非顯示區(qū)域NDA。為便于說明，在圖1中殼610、顯示面板200、窗300和粘合層500示出為彼此分離。

顯示面板200的像素區(qū)域PX可以是生成圖像以進行顯示的區(qū)域。顯示面板200的非像素區(qū)域NPX可以是不生成圖像的區(qū)域。在顯示面板200上生成的圖像傳輸通過窗300以被用戶觀看。

顯示面板200不限于特定類型(或種類)的顯示面板。例如，顯示面板200可包括自發(fā)射型顯示面板(如，OLED顯示面板)或者非自發(fā)射型顯示面板(如，LCD面板和/或電泳顯示(“EPD”)面板)。稍后將在下文中參照圖10提供顯示面板200的詳細描述。

殼610配置成容納(例如，接收或包圍)顯示面板200。例如，圖1將殼610示出為單個整體式構件，該構件提供用于容納(例如，接收或包圍)顯示面板200的空間。然而，在另一示例性實施方式中，殼610可具有以下結構，其中兩個或更多個構件彼此耦合以形成殼610。

除了顯示面板200之外，殼610還可容納(例如，接收或包圍)電路板，該電路板上安裝有驅動元件，并且必要時還可容納電源，如電池。

沖擊吸收片620位于顯示面板200與殼610之間，并且配置成吸收可能施加至顯示面板200的沖擊。因此，沖擊吸收片620可防止或基本上防止外部沖擊直接施加至顯示面板200。然而，本發(fā)明并不限于此，并且在一些實施方式中，可省略沖擊吸收片620。

窗300布置在顯示面板200的其上顯示圖像的一側。窗300與殼610耦合以與殼610一同形成顯示裝置100的外部。

偏光器400可位于顯示面板200上。例如，偏光器400可位于顯示面板200與粘合層500之間。偏光器400可變換從顯示面板200照射的光的光軸。

偏光器400可布置在顯示面板200上，以覆蓋顯示面板200的至少一部分。在另一示例性實施方式中，偏光器400可形成為具有與顯示面板200的尺寸相同的或基本上相同的尺寸，以覆蓋顯示面板200的整個表面或基本上整個表面。偏光器400可具有單層結構，或者可具有包括偏光膜和相位差膜的多層結構。

另外，在一些實施方式中，顯示裝置100還可包括觸摸屏面板。觸摸屏面板可布置在顯示面板200上。例如，觸摸屏面板可布置在顯示面板200與偏光器400之間，或者可位于偏光器400上。根據從觸摸屏面板提供的輸入信號，顯示面板200可向用戶提供與輸入信號對應的圖像。

在下文中，將參照圖2和圖3對窗300進行更加詳細的描述。

圖2是示出圖1的窗300的立體圖。圖3是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的剖視圖。在圖3中，省略了殼610和沖擊吸收片620。

窗300布置在顯示面板200上方(例如，位于其頂部)以保護顯示面板200免受外部的刮擦。

窗300的上表面包括顯示區(qū)域DA和圍繞顯示區(qū)域DA的非顯示區(qū)域NDA。顯示區(qū)域DA可包括顯示待提供給觀察者的圖像的區(qū)域。非顯示區(qū)域NDA可包括不顯示圖像的區(qū)域。非顯示區(qū)域NDA可打印成黑色。然而，非顯示區(qū)域NDA的顏色并不限于此，并且除了黑色之外，非顯示區(qū)域NDA可打印成各種適當的顏色。例如，非顯示區(qū)域NDA可打印成白色。

窗300可包括窗基部310、基膜330、位于窗基部310與基膜330之間的光學透明粘合(“OCA”)層320、打印層340、以及位于基膜330與打印層340之間的光路徑改變層350。

窗基部310布置成與顯示面板200相對。窗基部310的平面區(qū)域以與窗300的包括顯示區(qū)域DA和非顯示區(qū)域NDA的平面區(qū)域對應的方式包括顯示區(qū)域DA和圍繞顯示區(qū)域DA的非顯示區(qū)域NDA。

窗基部310可由光傳輸透明膜形成。因此，在顯示面板200的像素區(qū)域PX處生成的圖像可傳輸通過顯示區(qū)域DA處的窗基部310，以提供至用戶。

另外，窗基部310可包括具有抗沖擊性的塑料或玻璃(或可由具有抗沖擊性的塑料或玻璃形成)。窗基部310可具有帶圓形拐角的四邊形平面形狀。在示例性實施方式中，圖2中所示的窗基部310具有以下形狀，其中邊緣(例如，右邊緣)311是彎曲的。然而，窗基部310的形狀并不限于此。例如，在一些示例性實施方式中，窗基部310可具有各種適當的形狀，如：包括彎曲拐角和/或一個或多個彎曲邊緣(例如，彎曲的左邊緣)的圓形。

雖然未示出，窗基部310上可布置有硬涂覆層和/或保護層。在這種情況下，硬涂覆層可使用能夠增強窗基部310的表面硬度的任何適當的涂覆合成物。例如，可使用不需要高溫處理的可紫外線(“UV”)固化涂覆合成物。

硬涂覆層可包括丙烯酸基單體或者無機化合物(或可由丙烯酸基單體或者無機化合物形成)。硬涂覆層可增強窗基部310的表面硬度和/或耐化學性。

硬涂覆層上可布置有保護層。保護層可包括功能涂覆層，例如：耐指紋(“AF”)涂覆層、抗反射(“AR”)涂覆層和/或防眩光(“AG”)涂覆層。

打印層340位于窗基部310的下表面的與顯示面板200相鄰的部分上，并且位于非顯示區(qū)域NDA中。換句話說，非顯示區(qū)域NDA對應于打印層340所在的區(qū)域，并且顯示區(qū)域DA對應于沒有打印層340的區(qū)域(例如，打印層340不位于顯示區(qū)域DA處)。

參照圖3，基膜330可位于窗基部310下方。OCA層320可位于(例如，插置在)窗基部310與基膜330之間。

基膜330可包括透明膜，如聚對苯二甲酸乙二醇酯(“PET”)。然而，在不受限于其類型(例如，種類)的情況下，基膜330可包括任何適當的光傳輸透明膜。

基膜330可包括位于其表面上的打印層340，并且光路徑改變層350可位于基膜330與打印層340之間。

在下文中，將參照圖4對光路徑改變層350進行更加詳細的描述。

圖4是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的打印層340和光路徑改變層350的剖視圖。

光路徑改變層350布置在窗基部310和打印層340之間以改變光的路徑。更詳細地，光路徑改變層350改變可能引起漏光的反射(例如，全反射)光的路徑，從而防止或基本上防止反射(例如，全反射)光到達打印層340。

光路徑改變層350基于菲涅爾反射改變光的路徑。如本文中所使用，術語“菲涅爾反射”指的是當光穿過具有不同折射率的材料之間的界面時發(fā)生的反射。因此，光路徑改變層350可具有可以基于菲涅爾反射調整光的路徑的各種適當的配置。

光路徑改變層350可包括混合有樹脂353的光學結構351以打印在基膜330上，其中樹脂353具有高折射率，并且光學結構351具有低折射率。然而，光路徑改變層350并不限于此。例如，在另一示例性實施方式中，光路徑改變層350可包括形成在基膜330的表面上的光學結構的圖案和形成在(例如，打印或涂覆在)該圖案上的具有低折射率的樹脂，和/或可以以光學結構插入基膜330和/或OCA層320中的方式形成。

雖然在圖4中光學結構351示出為具有珠形，但是光學結構351的形狀并不限于此，并且在一些實施方式中，光學結構351可具有透鏡形、棱柱形、梯形和/或橢圓形。光學結構351可包括選自SiO₂、聚(甲基丙烯酸甲酯)(“PMMA”)、四氟乙烯(“TFE”)、氟化乙烯丙烯共聚物(“FEP”)、空心玻璃珠狀物和氣凝膠中的至少一個(或可由選自SiO₂、聚(甲基丙烯酸甲酯)(“PMMA”)、四氟乙烯(“TFE”)、氟化乙烯丙烯共聚物(“FEP”)、空心玻璃珠狀物和氣凝膠中的至少一個形成)。

參照圖4，光路徑改變層350可包括具有低折射率n_低的光學結構351和具有高折射率n_高的樹脂353。光學結構351可具有在約1.3至約1.6范圍內的折射率，并且涂覆光學結構351的樹脂353可具有在約1.6至約3.0范圍內的折射率。更具體地，光學結構351可具有比樹脂353的折射率低0.01或低更多的折射率。

如上所述，光的路徑基于菲涅爾反射在具有不同折射率的光學結構351與樹脂353之間改變。換句話說，光路徑改變層350改變光的路徑，以防止或基本上防止可能引起漏光的反射(例如，全反射)光到達打印層340。

根據一些示例性實施方式，如圖3中所示，還可包括光吸收構件380。

光吸收構件380可布置在窗300的側表面處，并且可吸收通過光路徑改變層350改變了路徑的光以消除光。在這種情況下，未被光吸收構件380吸收的光可再次經過反射(例如，全反射)以被偏光器400吸收。因此，光吸收構件380可減少(例如，顯著減少)漏光。

如圖3所示，光吸收構件380可分別布置在窗基部310、OCA層320和基膜330的側表面處。然而，光吸收構件380的位置并不限于此。例如，在另一示例性實施方式中，光吸收構件380可分別延伸至光路徑改變層350和/或打印層340的側表面上，或者可被省略。

光吸收構件380可包括基樹脂、光吸收材料、UV固化加速劑等。

基樹脂是可與光吸收材料和/或UV固化加速劑結合以形成光吸收構件380的基部。雖然基樹脂可由丙烯酸基聚合物形成，但是用于形成基樹脂的材料并不限于此。由丙烯酸基聚合物形成的基樹脂可通過將UV光照射至包括丙烯酸單體、丙烯酸低聚物和/或光引發(fā)劑的合成物上從而在合成物中進行反應而形成。

光吸收材料是用于防止或減少漏光的材料。換句話說，光吸收材料可以是用于執(zhí)行光吸收構件380的主要功能的材料。光吸收材料包括有色顆粒。有色顆?？砂ê谏w粒，如炭黑。然而，有色顆粒的顏色并不限于此，并且在一些實施方式中，有色顆粒可包括具有可提供光吸收效果的各種適當顏色的顆粒，由于用作有色顆粒的炭黑吸收可見光范圍中的光，因此可通過使用炭黑作為光吸收材料來獲得優(yōu)異的防止或減少漏光的效果。

UV固化加速劑包括用于允許相對容易地執(zhí)行基樹脂的UV固化的材料。由于光吸收構件380可包括UV固化加速劑，因此即使光吸收構件380可包括黑色顆粒，仍可以相對容易地執(zhí)行基樹脂的固化過程。

以下，將參照圖5至圖8進一步提供對反射(例如，全反射)光的改變的路徑和漏光減少效果的描述，其中反射(例如，全反射)光的改變的路徑和漏光減少效果是由于包括在根據一個或多個示例性實施方式的顯示裝置中的光路徑改變層350和光吸收構件380而導致的。

打印層340可在非顯示區(qū)域NDA處位于基膜330的表面的一部分上。打印層340可防止或基本上防止用于驅動顯示面板200的驅動器和/或容納(例如，接收)顯示面板200的容納部分的向外可見性。

打印層340可包括具有顏色(例如，預定顏色)的有機材料(或可由具有顏色(例如，預定顏色)的有機材料形成)。因此，位于窗基部310的非顯示區(qū)域NDA處的打印層340的顏色可向用戶顯示。

打印層340可包括各種適當的顏色，例如，黑色或白色。在打印層340為黑色的情況下，打印層340可具有黑色矩陣。在打印層340為白色的情況下，打印層340可具有有機絕緣材料，如白色樹脂。在另一示例性實施方式中，打印層340可包括不透明無機絕緣材料(如，CrOx或MoOx)或不透明有機絕緣材料(如，黑色樹脂)(或可由不透明無機絕緣材料(如，CrOx或MoOx)或不透明有機絕緣材料(如，黑色樹脂)形成)。因此，打印層340可阻擋顯示面板200中的光，防止或基本上防止顯示面板200的內部結構的可見性，并且確定窗300的顏色。

打印層340可通過將打印合成物打印在基膜330上而形成在基膜330上，并且基膜330可與窗基部310結合。然而，在基膜330上形成打印層340的方式和基膜330結合至窗基部310的表面的方式并不限于此，并且可包括在相關領域中已知的各種適當的方式。

打印層340可具有單層結構。但是打印層340的結構并不限于此，并且打印層340可具有多層結構，多層結構包括具有相同或基本上相同的厚度或具有不同厚度的多個層。

參照圖3，打印層340包括多個打印層341、342和343。打印層341、342和343包括在非顯示區(qū)域NDA處布置在基膜330的表面的一部分上的第一裝飾打印層341、第二裝飾打印層342和光屏蔽打印層343。

第一裝飾打印層341可具有透明顏色，并且可包括具有閃光特性的珠光顏料。換句話說，第一裝飾打印層341可提供對用戶可見的閃光效果。在另一示例性實施方式中，第一裝飾打印層341可包括表現各種紋理的顏料。

第二裝飾打印層342可以是白色打印層。然而，第二裝飾打印層342的顏色并不限于此，并且第二裝飾打印層342可具有除了白色之外的不同顏色，或者可具有各種不同顏色中的一個或多個。雖然在示例性實施方式中第二裝飾打印層342示出為單層，但是第二裝飾打印層342可包括具有相同顏色或不同顏色的多個層，以提供相對明顯的顏色。

光屏蔽打印層343可以是黑色打印層。黑色光屏蔽打印層343可具有比第一裝飾打印層341和第二裝飾打印層342的光屏蔽比高的光屏蔽比。

雖然在圖3中舉例示出了包括第一裝飾打印層341、第二裝飾打印層342和光屏蔽打印層343的三個打印層，但是打印層的數量并不限于此。在另一示例性實施方式中，多于三個的打印層可在非顯示區(qū)域NDA處布置在基膜330的表面的一部分上。

在一些實施方式中，打印層340可接觸位于顯示面板200與窗300之間的粘合層500。例如，在窗基部310可具有包括彎曲拐角的環(huán)形時，打印層340可接觸粘合層500。

粘合層500位于偏光器400與窗300之間，并且可將顯示面板200耦合至窗300。

為防止或基本上防止粘合層500降低從顯示面板200發(fā)射的光的亮度，粘合層500可具有透明特性。粘合層500可包括具有粘合特性的透明聚合物樹脂(或可由具有粘合特性的透明聚合物樹脂形成)，并且可以是可光固化的或可熱固化的。例如，粘合層500可包括可通過光照射而固化的可光固化樹脂(或可由可通過光照射而固化的可光固化樹脂形成)。

在下文中，將參照圖5至圖8對根據示例性實施方式的漏光減少效應進行更加詳細的描述。

圖5是示出在不具有光路徑改變層的顯示裝置中的反射(例如，全反射)光的路徑的剖視圖。圖6是圖5中示出的區(qū)域“B”的放大圖。圖7是示出在根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置中的反射(例如，全反射)光的路徑的剖視圖。圖8是圖7中示出的區(qū)域“C”的放大圖。

在圖5和圖7中省略了殼610和沖擊吸收片620。圖6舉例示出包括第一裝飾打印層34-1、第二裝飾打印層34-2和光屏蔽打印層34-3的打印層34，其中第一裝飾打印層34-1包括單個層，第二裝飾打印層34-2包括具有相同或基本上相同的厚度的四個層，以及光屏蔽打印層34-3包括具有相同或基本上相同的厚度的兩個層。圖8舉例示出了包括第一裝飾打印層341、第二裝飾打印層342和光屏蔽打印層343的打印層340，其中第一裝飾打印層341包括單個層，第二裝飾打印層342包括具有相同或基本上相同的厚度的四個層，并且光屏蔽打印層343包括具有相同或基本上相同的厚度的兩個層。然而，打印層34和340的結構并不限于此，并且打印層34和340可具有單層結構或者包括具有不同厚度的多個層的多層結構。

圖5和圖6所示的顯示裝置的窗30包括窗基部310和位于窗基部310下方的打印層34。更詳細地，窗基部310、OCA層320、基膜330和打印層34順序地布置。

參照圖5，由OLED 210產生并在窗基部310的對應于最外側光學界面的表面處反射(例如，全反射)的光可分為三種光。例如，這三種光可包括具有大入射角θ并且由偏光器400吸收的光a、基于菲涅爾反射在各層處分離以到達打印層34的光b，以及具有小入射角θ′(例如，在約5度(°)至約10°范圍內)并且在經過一次反射(例如，第一次全反射)之后到達打印層34的光c。

在三種光a、b和c中，光c引起可在顯示裝置中觀察到的漏光。由OLED 210產生并且到達窗基部310的表面的反射(例如，全反射)光c被窗基部310反射以到達打印層34。到達打印層34的光c在打印層34處分散且耗散，并且可在窗30的非顯示區(qū)域NDA處作為漏光L被觀察到。

作為對比，圖7和圖8所示的根據示例性實施方式的顯示裝置的窗300包括窗基部310、OCA層320、基膜330、打印層340、位于基膜330與打印層340之間的光路徑改變層350、以及位于窗300的側表面處的光吸收構件380。

因此，當與圖5和圖6所示的顯示裝置比較時，根據示例性實施方式的顯示裝置還包括光路徑改變層350和光吸收構件380。

位于窗基部310與打印層340之間的光路徑改變層350可改變光的路徑。布置在窗300的側表面處的光吸收構件380可吸收通過光路徑改變層350改變了路徑的光，以消除光。

參照圖8，光路徑改變層350可包括具有低折射率的光學結構351和具有高折射率的樹脂353。光的路徑在具有不同折射率的光學結構351與樹脂353之間基于菲涅爾反射而改變。換句話說，光路徑改變層350改變光的路徑，以防止或基本上防止可引起漏光的反射(例如，全反射)光到達打印層340。

參照圖7，光路徑改變層350改變由OLED 210產生并且從窗基部310的表面反射的反射(例如，全反射)光c′的路徑，以防止或基本上防止光c′到達打印層340。具有改變的路徑的光c′被光吸收構件380吸收并被消除。因此，減少或防止了窗300的非顯示區(qū)域NDA處的漏光。

另外，未被光吸收構件380吸收的光d可再次經過反射(例如，全反射)并且可由偏光器400吸收。因此，光吸收構件380可顯著地減少漏光。

如上所述，根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置還包括光路徑改變層350和光吸收構件380，因此可引起漏光的反射(例如，全反射)光可能不會到達打印層340。因此，根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置可減少或防止漏光。

在下文中，將參照圖9和圖10對顯示面板200(參照圖1)的像素進行描述。

圖9是示出顯示面板200的位于圖1的區(qū)域“A”處的像素的示意性平面圖。圖10是沿圖9的線I-I′取得的剖視圖。

參照圖9和圖10，根據示例性實施方式的顯示裝置100示出為具有2Tr-1Cap(即，兩個晶體管-一個電容器)結構的AMOLED顯示裝置。顯示區(qū)域DA(參照圖1)中的每個像素包括兩個TFT(例如，開關TFT 10和驅動TFT 20)和電容器(例如，電容器80)。

然而，本發(fā)明并不限于此，并且在一些實施方式中，每個像素可包括任意適當數量的晶體管和電容器。因此，顯示裝置100可具有各種結構，例如一個像素中包括有三個或更多個TFT和兩個或更多個電容器的結構，并且還可包括附加的導線。如本文中所使用，術語“像素”表示用于顯示圖像的最小單位，并且顯示區(qū)域可利用多個像素顯示圖像。

顯示裝置100包括第一襯底101。開關TFT 10、驅動TFT 20、電容器80和OLED 210分別形成在第一襯底101上的多個像素中。在一個方向上延伸的柵線路151以及與柵線路151相交且絕緣的數據線路171和公共電力線路172也形成在第一襯底101上。

像素可位于柵線路151、數據線路171與公共電力線路172的相交區(qū)處。然而，像素的位置并不限于此。

OLED 210可包括第一電極211、位于第一電極211上的有機發(fā)光層212、以及位于有機發(fā)光層212上的第二電極213。第一電極211可以是正電極(例如，陽電極)，例如空穴注入電極。第二電極213可以是負電極(例如，陰電極)，例如電子注入電極。然而，第一電極211和第二電極213的類型(種類)并不限于此，并且基于顯示裝置100的驅動機制，第一電極211可以是陰電極并且第二電極213可以是陽電極。

注入有機發(fā)光層212中的空穴和電子彼此結合以形成激子。OLED210通過在激子從激發(fā)態(tài)落至基態(tài)時生成的能量而發(fā)射光。

電容器80包括一對存儲電極。例如，電容器80可包括第一存儲電極158和第二存儲電極178，以及位于兩者之間的絕緣層160。絕緣層160可以是介電材料。電容器80的電容可由存儲在電容器80中的電荷量以及從第一存儲電極158至第二存儲電極178的電壓等級來確定。

開關TFT 10包括開關半導體層131、開關柵電極152、開關源電極173和開關漏電極174。驅動TFT 20包括驅動半導體層132、驅動柵電極155、驅動源電極176和驅動漏電極177。

開關TFT 10可用作開關元件，該開關元件用于選擇像素以發(fā)射光。開關柵電極152連接至柵線路151。開關源電極173連接至數據線路171。開關漏電極174與開關源電極173相間隔，并且連接至第一存儲電極158。

對于由開關TFT 10選擇的相應像素，驅動TFT 20將驅動電力施加至第一電極211，其中該驅動電力用于使OLED 210的有機發(fā)光層212發(fā)光。驅動柵電極155連接至第一存儲電極158，其中第一存儲電極158與開關漏電極174連接。驅動源電極176和第二存儲電極178連接至公共電力線路172。驅動漏電極177通過漏接觸孔181與OLED210的第一電極211連接。

通過施加至柵線路151的柵電壓操作開關TFT 10，以將施加至數據線路171的數據電壓傳輸至驅動TFT 20。

具有與公共電壓的等級和數據電壓的等級之間的差值相等或基本上相等的等級的電壓存儲在電容器80中，其中該公共電壓是從公共電力線路172施加至驅動TFT 20的電壓，以及該數據電壓是從開關TFT10傳輸的電壓。具有與存儲在電容器80中的電壓的等級對應的等級的電流通過驅動TFT 20流到OLED 210，以使OLED 210能夠發(fā)射光。

在下文中，將參照圖9和圖10對根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置100的配置進行更詳細的描述。

在本示例性實施方式中，第一襯底101可包括由玻璃、石英、陶瓷、塑料等形成的絕緣襯底。然而，用于形成第一襯底101的材料并不限于此，并且第一襯底101可包括由不銹鋼等形成的金屬襯底。

緩沖層120位于第一襯底101上。緩沖層120防止或基本上防止不純元件滲透到第一襯底101中，并且使第一襯底101的表面平坦化。但是緩沖層120不是一定需要的，因此可基于第一襯底101的類型(種類)、工藝條件和/或類似物而省略。

驅動半導體層132位于緩沖層120上。驅動半導體層132可包括未摻雜雜質的溝道區(qū)135，以及形成在溝道區(qū)135的各側面處并且摻雜雜質(如，p型雜質)的源區(qū)136和漏區(qū)137。

柵絕緣層140位于驅動半導體層132上。驅動柵電極155、柵線路151(參照圖9)和第一存儲電極158形成在柵絕緣層140上。驅動柵電極155與驅動半導體層132的至少一部分(例如，溝道區(qū)135)重疊。在驅動半導體層132的形成期間，當在驅動半導體層132的源區(qū)136和漏區(qū)137中摻雜雜質時，驅動柵電極155防止或基本上防止雜質摻雜在溝道區(qū)135中。

絕緣層160位于柵絕緣層140上，并且覆蓋驅動柵電極155。絕緣層160可包括絕緣中間層。柵絕緣層140和絕緣層160包括接觸孔，其中驅動半導體層132的源區(qū)136和漏區(qū)137分別通過上述接觸孔暴露。

驅動源電極176、驅動漏電極177、數據線路171、公共電力線路172和第二存儲電極178在顯示區(qū)域DA處位于絕緣層160上。驅動源電極176和驅動漏電極177分別通過接觸孔連接至驅動半導體層132的源區(qū)136和漏區(qū)137。

鈍化層180形成在絕緣層160上以覆蓋驅動源電極176、驅動漏電極177等。鈍化層180可包括諸如聚丙烯酸、聚酰亞胺和/或類似物的有機材料(或可由諸如聚丙烯酸、聚酰亞胺和/或類似物的有機材料形成)。鈍化層180可以是平坦化層。

漏接觸孔181形成在鈍化層180中，并且驅動漏電極177通過漏接觸孔181被暴露。第一電極211位于鈍化層180上，并且通過鈍化層180的漏接觸孔181與驅動漏電極177連接。

像素限定層190位于鈍化層180上以覆蓋第一電極211的一部分?？?99形成在像素限定層190中，并且第一電極211通過孔199被暴露。換句話說，第一電極211與像素限定層190的孔199對應。

有機發(fā)光層212在像素限定層190的孔199內位于第一電極211上，并且第二電極213位于像素限定層190和有機發(fā)光層212上。

第一電極211和第二電極213中的一個可包括透明傳導材料(或可由透明傳導材料形成)，并且其中另一個可包括透射反射式傳導材料或者反射式傳導材料(或可由透射反射式傳導材料或者反射式傳導材料形成)。基于用于形成第一電極211和第二電極213的材料的類型，顯示裝置100可以是頂部發(fā)射型顯示裝置、底部發(fā)射型顯示裝置或兩側(例如，雙)發(fā)射型顯示裝置之一。

有機發(fā)光層212可具有多層式結構，其中該多層式結構包括發(fā)光層、空穴注入層(“HIL”)、空穴傳輸層(“HTL”)、電子傳輸層(“ETL”)和/或電子注入層(“EIL”)中的一個或多個。

第二電極213上還可包括蓋層230。蓋層230可保護OLED 210，并且可幫助從有機發(fā)光層212生成的光有效地向外部發(fā)射。

根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置100還可包括位于蓋層230上的薄膜封裝層250。

薄膜封裝層250可包括無機層251、253和255中的一個或多個，以及有機層252和254中的一個或多個。薄膜封裝層250可具有其中無機層251、253和255和有機層252和254交替堆疊的結構。無機層251可以是最下側的層。換句話說，在無機層251、253和255以及有機層252和254中，無機層251可最靠近OLED 210。然而，本發(fā)明并不限于此，并且在一些實施方式中，有機層可以是最下側的層(例如，在無機層和有機層中，可以最靠近OLED 210)。另外，雖然在圖10中薄膜封裝層250示出為包括三個無機層251、253和255和兩個有機層252和254，但是本發(fā)明并不限于此。

薄膜封裝層250可具有小于或等于約10微米(μm)的厚度。因此，顯示裝置100可具有相對薄的總厚度。

在薄膜封裝層250布置在OLED 210上的情況下，薄膜封裝層250上可不設置附加的襯底(例如，可省略)。在這種情況下，可增強顯示面板200的柔性特性。

圖11是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的剖視圖。

除了光路徑改變層的結構和基膜的結構之外，根據另一示例性實施方式的顯示裝置具有與圖3的顯示裝置相同或基本上相同的配置。因此，本文中將對與圖3的顯示裝置的配置不同的、根據圖11的實施方式的顯示裝置的配置進行更加詳細的描述，并且兩者之間相同或基本上相同的配置使用相同的附圖標記示出。

參照圖11，根據本發(fā)明的示例性實施方式的光路徑改變層350′包括基膜330′，以及位于基膜330′的表面上并且具有低折射率的圖案層354。

圖案352形成在基膜330′的下表面上，并且具有低折射率的樹脂位于(例如，打印在)圖案352上以形成具有低折射率的圖案層354。基膜330′具有高折射率，并且圖案352可以是具有透鏡形和棱柱形之一的三維(“3D”)圖案。

當與圖3的顯示裝置的光路徑改變層350作比較時，可以理解，具有低折射率的圖案層354對應于光學結構351(參照圖4)，并且具有高折射率的基膜330′對應于涂覆光學結構351的樹脂353(參照圖4)。換句話說，圖案層354可具有相比于基膜330′的折射率低約0.01或更多的折射率。

因此，由于圖案層354與基膜330′的折射率之間的差異，根據本發(fā)明的示例性實施方式的光路徑改變層350′可基于菲涅爾反射改變光的路徑，從而減少漏光。

然而，本發(fā)明并不限于此，并且在另一示例性實施方式中，圖案層354可位于基膜330′的上表面上。在這種情況下，具有高折射率的OCA層可位于圖案層354上，并且由于圖案層354與OCA層的折射率之間的差異，光的路徑可基于菲涅爾反射而改變，從而減少漏光。

圖12是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的示意性剖視圖。

除了光路徑改變層的結構和OCA層的結構之外，根據圖12的示例性實施方式的顯示裝置具有與圖3的顯示裝置的配置相同或基本上相同的配置。因此兩者之間相同或基本上相同的配置使用相同的附圖標記示出，并且將省略對其重復的描述。

參照圖12，根據本發(fā)明的示例性實施方式的光路徑改變層350″包括光學結構351和涂覆光學結構351的OCA層320′。

圖12舉例將光學結構351示出為具有珠形。然而，在另一示例性實施方式中，光學結構351可具有透鏡形、棱柱形、梯形和/或橢圓形之一。OCA層320′具有高折射率，并且光學結構351可具有比OCA層320′的折射率低0.01或低更多的折射率。

根據圖12的示例性實施方式的光路徑改變層350″可在具有不同折射率的光學結構351與OCA層320′之間基于菲涅爾反射改變光的路徑。光路徑改變層350″可防止或基本上防止具有改變的路徑的光到達打印層340，從而減少漏光。

在下文中，將參照圖13和圖14對根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的漏光減少效果進行更加詳細的描述。

如上文中參照圖3所述，根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的光路徑改變層350包括具有低折射率的光學結構351，以及涂覆光學結構351并且具有高折射率的樹脂353。

圖13是示出根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的光路的模擬結果的圖。模擬是在包括珠狀物(例如，光學結構351)和樹脂353的光路徑改變層350中進行，其中珠狀物具有1.40的折射率和2μm的直徑，并且樹脂353具有1.57的折射率。

從圖13可證實入射到光路徑改變層350上的光的路徑由于珠狀物(即，光學結構351)與樹脂353的折射率之間的差異而改變。因此，可理解光路徑改變層350改變光的路徑以防止或基本上防止光到達打印層340，從而減少漏光。

圖14示出了對基于根據示例性實施方式的顯示裝置的珠狀物(即，光學結構351)(參照圖13)的折射率而減少的漏光量進行了比較的圖。模擬是在不具有光路徑改變層(LPCL)的顯示裝置以及包括光路徑改變層350(參照圖13)的顯示裝置上進行，其中光路徑改變層350包括分別具有1.45、1.40、1.35和1.30的折射率的珠狀物(例如，光學結構351)。

當不具有LPCL的顯示裝置的漏光率設置為約100％，并且包括在光路徑改變層350中的珠狀物的折射率分別為1.45、1.40、1.35和1.30時，可從圖14的圖表證實珠狀物分別具有70.0％、60.6％、56.7％和54.2％的漏光率。換句話說，當珠狀物的折射率分別為1.45、1.40、1.35和1.30時，相比于不具有LPCL的顯示裝置的漏光率，珠狀物的漏光率分別減小30.0％、39.4％、43.4％和45.8％。

就這一點而言，可基于模擬結果證實，相比于不具有LPCL的顯示裝置，在根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置中漏光率(％)減小達45.8％。

在下文中，將參照圖15和圖16對根據另一示例性實施方式的顯示裝置的漏光減少效果進行更加詳細的描述。

如上文中參照圖11所述，根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置的光路徑改變層350′包括位于基膜330′的表面上并且具有低折射率的圖案層354。

基膜330′具有高折射率，并且圖案352可以是具有透鏡形和棱柱形之一的3D圖案。

圖15是示出根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的光路的模擬結果的圖。根據示例性實施方式的顯示裝置的光路徑改變層350′包括基膜330′和圖案層354，其中基膜330′有1.57的折射率，并且圖案層354具有1.40的折射率并且具有棱柱圖案352，其中棱柱圖案352位于基膜330′的下表面上并且具有約4μm的寬度和約90°的頂角。

可從圖15證實入射到光路徑改變層350′上的光的路徑由于圖案層354的折射率與基膜330′的折射率之間的差異而改變。因此，可理解光路徑改變層350′改變光的路徑以防止或基本上防止光到達打印層340，從而減少漏光。

圖16示出對基于根據本發(fā)明的另一示例性實施方式的顯示裝置的棱柱圖案352(參照圖11)的折射率而減少的漏光量進行了比較的圖。模擬是在不具有光路徑改變層(LPCL)的顯示裝置和包括光路徑改變層350′(參照圖11)的顯示裝置上進行的，其中光路徑改變層350′包括分別具有1.45、1.40、1.35和1.30的折射率的棱柱圖案352(在圖16中也稱作“棱柱”)。

當不具有LPCL的顯示裝置的漏光率設置為約100％，并且包括在光路徑改變層350′中的棱柱的折射率分別為1.45、1.40、1.35和1.30時，可從圖16的圖證實，棱柱分別具有72.2％、67.9％、59.46％和53.6％的漏光率。換句話說，當棱柱的折射率分別為1.45、1.40、1.35和1.30時，相比于不具有LPCL的顯示裝置的漏光率，棱柱的漏光率分別減小27.8％、32.1％、40.6％和46.4％。

就這一點而言，可根據模擬結果證實，相比于不具有LPCL的顯示裝置，在根據本發(fā)明的示例性實施方式的顯示裝置中漏光率(％)減小達46.4％。

如上所述，根據本發(fā)明的一個或多個示例性實施方式，光路徑改變層設置在窗上以減少由于反射(例如，全反射)而到達打印層的光。

因此，根據本發(fā)明的一個或多個示例性實施方式的顯示裝置可減少漏光。

通過上文，應理解本文中出于說明性的目的描述了本發(fā)明的各實施方式，并且在不脫離本發(fā)明的精神與范圍的情況下，可進行各種修改。應理解，以上描述的實施方式的各種特征可以以任何適當的方式進行混合與匹配以形成與本發(fā)明的精神與范圍一致的其它實施方式，除非有相反的具體描述。因此，本文中公開的各實施方式并非旨在限制如所附權利要求書及其等同技術方案所限定的本發(fā)明的精神和范圍。