專(zhuān)利名稱：低反射玻璃及顯示器用保護(hù)板的制作方法
低反射玻璃及顯示器用保護(hù)板技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及低反射玻璃及顯示器用保護(hù)板。
背景技術(shù)：
表面的光反射受到抑制的低反射玻璃被用作為顯示器用保護(hù)板1太陽(yáng)能電池用保護(hù)玻璃1汽車(chē)用玻璃1鐵路車(chē)輛用玻璃1船舶用玻璃1建材用玻璃等。
作為該低反射玻璃，例如提出有以下的玻璃。
(1)在玻璃基板的表面貼上了樹(shù)脂制防反射膜的低反射玻璃(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
(2)在玻璃基板的表面通過(guò)濺射法形成有防反射膜的低反射玻璃(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)2—5)。
但是， (1)的低反射玻璃存在以下問(wèn)題。
(i)由于防反射膜為樹(shù)脂膜，因此表面耐擦傷性低。
(ii)由于防反射膜為樹(shù)脂膜，因此耐候性低。
(譏)由于必須貼附防反射膜，因此生產(chǎn)性低。[OO10] (iV)由于貼附的防反射膜為樹(shù)脂制，因此樹(shù)脂表面的平坦性有限，外觀不佳。[OO11] 對(duì)于(2)的低反射玻璃，雖然(1)的低反射玻璃的(i)一(iV)的問(wèn)題在某種程度上得到解決，但表面的耐擦傷性及生產(chǎn)性仍然不夠。[OO12] 此外，專(zhuān)利文獻(xiàn)5中記載了作為低折射率膜的材料采用Si(。O1(X為o．1—3， y為o．1—3)的技術(shù)方案。
但是，未記載將低折射率膜作為最表層的技術(shù)方案。
如果低折射率膜不是最表層，則存在防反射性能下降的問(wèn)題。[OO13] 專(zhuān)利文獻(xiàn)l日本專(zhuān)利特開(kāi)平09—314757號(hào)公報(bào)[OO14] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2日本專(zhuān)利特開(kāi)平09一156964號(hào)公報(bào)[OO15] 專(zhuān)利文獻(xiàn)3日本專(zhuān)利特開(kāi)平lo—087348號(hào)公報(bào)[OO16] 專(zhuān)利文獻(xiàn)4日本專(zhuān)利特開(kāi)2003—215304號(hào)公報(bào)[OO17] 專(zhuān)利文獻(xiàn)5日本專(zhuān)利特開(kāi)2003一121605號(hào)公報(bào)[OO18] 發(fā)明的揭示[OO19] 本發(fā)明提供耐擦傷性1耐候性1生產(chǎn)性1外觀良好的低反射玻璃及顯示器用保護(hù)板。
本發(fā)明的低反射玻璃包括玻璃基板和形成于該玻璃基板的表面的防反射膜，其特征在于，所述防反射膜從所述玻璃基板側(cè)開(kāi)始依次配置有中間層和最外層，所述最外層是含Si原子1C原子及O原子的層，且Si原子1C原子及O原子的合計(jì)lOO摩爾％中的C原子含量為o．5—3摩爾％，所述中間層為下述(a)層或(b)層，
(a)層波長(zhǎng)380—780nrn處的消光系數(shù)K1為05K．1<o．1且波長(zhǎng)550nrn處的折射率n1為2．o≤n1≤2．5的層，
(b)層波長(zhǎng)380一．780mn處的消光系數(shù)K，為o．1≤K，≤2．4且波長(zhǎng)380—780nrn處的折射率n為o．5≤n≤2．51滿足380mn印<q≤780nrn的波長(zhǎng)卜q處的消光系數(shù)K分別記為K2p、K2q時(shí)K2p<K2q，波長(zhǎng)P、q處的折射率112分別記為n2p、n2q時(shí)n2p > n2q的層。本發(fā)明的顯示器用保護(hù)板具備本發(fā)明的低反射玻璃。本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的特征在于，具備由本發(fā)明的低反射玻璃形 成的支承基體和設(shè)置在該支承基體的未形成有防反射膜的表面?zhèn)鹊膶?dǎo)電膜。通過(guò)本發(fā)明可獲得耐擦傷性、耐候性、生產(chǎn)性、外觀良好的低反射玻璃，可用 于顯示器用保護(hù)板等。附圖的簡(jiǎn)單說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的低反射玻璃的一例的剖視圖。圖2是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的一例的剖視圖。圖3是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的另一例的剖視圖。圖4是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的又一例的剖視圖。圖5是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的又另一例的剖視圖。圖6是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式1的剖視圖。圖7是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式2的剖視圖。圖8是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式3的剖視圖。圖9是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式4的剖視圖。圖10是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式5的剖視圖。圖11是表示本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板的實(shí)施方式6的剖視圖。圖12為實(shí)施例1、比較例1及比較例2的低反射玻璃的形成有防反射膜的表面的 單面反射率的分光曲線。圖13為實(shí)施例2、比較例3及比較例4的低反射玻璃的形成有防反射膜的表面的 單面反射率的分光曲線。圖14為實(shí)施例3、實(shí)施例4、比較例5及比較例6的低反射玻璃的形成有防反射 膜的表面的單面反射率的分光曲線。圖15為實(shí)施例15獲得的濺射靶的粉末X射線衍射圖。實(shí)施發(fā)明的最佳方式<低反射玻璃>圖1為表示本發(fā)明的低反射玻璃的一例的剖視圖。低反射玻璃10包括玻璃基板 12和形成于該玻璃基板12的表面的防反射膜14。(玻璃基板)作為玻璃基板12的材質(zhì)，可例舉鈉鈣玻璃、硼硅酸鹽玻璃、鋁硅酸鹽玻璃等。 另外，玻璃基板12可以是風(fēng)冷強(qiáng)化玻璃、化學(xué)強(qiáng)化玻璃等強(qiáng)化玻璃基板，也可以是未經(jīng) 強(qiáng)化的未加工(日文生板)玻璃基板。玻璃基板12的厚度較好為0.1 15mm，更好為1.0 5.0mm，特好為2.5 3.5mm。通過(guò)使玻璃基板的厚度達(dá)到0.1mm以上，進(jìn)一步達(dá)到1.0mm以上，可使玻璃基 板具備實(shí)用的剛性，較為理想。另外，通過(guò)使厚度達(dá)到15mm以下，進(jìn)一步達(dá)到5.0mm 以下，可實(shí)現(xiàn)實(shí)用的輕量化，較為理想。(防反射膜)
防反射膜14從玻璃基板12側(cè)開(kāi)始依次具備中間層16和最外層18。最外層18是位于離玻璃基板最遠(yuǎn)的位置的層，是位于最表面的層。另外，最外 層18是含Si原子、C原子及O原子的層。具體來(lái)講，優(yōu)選為以SiO2為主成分、其中含 C原子的層。在不破壞光學(xué)特性的范圍內(nèi)，最外層18可含有除Si原子、C原子及O原 子以外的其它元素。Si原子、C原子及O原子的合計(jì)100摩爾％中的C原子含量為0.5 3.0摩爾％， 較好為0.5 2.0摩爾％，更好為1.0 1.8摩爾％。C原子的濃度如果為0.5摩爾％以 上，則可獲得耐擦傷性良好、缺陷少、外觀良好的低反射玻璃。另外，由于可提高成膜 速度，所以還能夠獲得良好的生產(chǎn)性。C原子的含量如果為3摩爾％以下，則折射率低 于1.5，防反射效果好且耐擦傷性佳。雖然還未明確C原子以何種狀態(tài)被包含于最外層18 中，但目前認(rèn)為是與Si原子或O原子化學(xué)結(jié)合的狀態(tài)或C原子單獨(dú)存在于SiO2的晶格的 間隙的狀態(tài)等。防反射膜14的最外層18優(yōu)選含有SiO2作為主成分。另外，本發(fā)明的最外層18 的SiO2可包含SiO2中的部分O原子缺失的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的最外層18中的Si原子和O原 子的含量以O(shè)原子未缺失的SiO2換算較好為97.0 99.5摩爾％，更好為98.0 99.5摩 爾％，進(jìn)一步更好為98.2 99.0摩爾％。SiO2含量如果為97.0摩爾％以上，則折射率 低于1.5，防反射效果好，因此優(yōu)選。SiO2含量如果為99.5摩爾％以下，則耐擦傷性和 生產(chǎn)性提高，因此優(yōu)選。最外層18中的C原子含量通過(guò)以下方法測(cè)定。首先，用四極型二次離子質(zhì)譜儀(SIMS)進(jìn)行測(cè)定。具體來(lái)講，制作相對(duì)于最 外層18的深度的Si原子、C原子、O原子及與最外層鄰接的層的成分以及基板成分的濃 度的SIMS深度分布圖(depth profile)，算出從深度4nm至該SIMS深度分布圖中顯現(xiàn)與最 外層鄰接的層的成分的分布的深度為止的C原子的離子強(qiáng)度的平均值(I1)。一次離子種 使用Cs+(銫陽(yáng)離子)。然后，根據(jù)下式(1)算出C原子含量。C 原子含量=(I/IJ XRSF (1)上式(1)中，將O原子含量已知的玻璃基板中的O原子強(qiáng)度作為基準(zhǔn)(Iref)(以 O原子強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)化)。此外，對(duì)于C原子含量已知的試樣(含量Z摩爾％ )，由用SIMS獲得的C原 子的離子強(qiáng)度(Iiz)和玻璃基板中的O原子的強(qiáng)度(Iref)通過(guò)下式(2)算出RSF。RFS = (Z/Iiz) XIref (2)首先，用常規(guī)的負(fù)檢測(cè)進(jìn)行測(cè)定，所得C原子含量在1摩爾％以下的試樣將此作 為C原子含量。所述負(fù)檢測(cè)中C原子含量超過(guò)時(shí)所得數(shù)據(jù)的可靠性低。因此，對(duì)于C原子 含量超過(guò)1摩爾％但在5摩爾％以下的試樣，除了采用正檢測(cè)以外通過(guò)與使用所述SIMS 的測(cè)定同樣的方法來(lái)測(cè)定C原子的離子強(qiáng)度，算出C原子含量。在基于使用所述SIMS的正檢測(cè)的測(cè)定中C原子含量超過(guò)5摩爾％時(shí)所得數(shù)據(jù)的 可靠性低，因此對(duì)于C原子含量超過(guò)5摩爾％的試樣，通過(guò)X射線光電子能譜(XPS)測(cè) 定C原子含量。
5
最外層18在波長(zhǎng)550nm處的折射率較好為1.45以上但低于1.5。最外層18的折 射率如果為1.45以上，則含有SiO2作為主成分時(shí)可形成為非多孔結(jié)構(gòu)的致密的SiO2膜， 能夠獲得足夠的強(qiáng)度，因此優(yōu)選。最外層18的折射率如果低于1.5，則防反射效果好。本發(fā)明的最外層18的折射率用分光橢偏儀(J.A.渥廉姆日本公司(J.A.Woollam Japan)制，裝置名VASE)以入射角70度的條件進(jìn)行測(cè)定。本發(fā)明的最外層18的物理膜厚(以下簡(jiǎn)稱為膜厚)較好為70 140nm，更好為 80 135nm。最外層18的膜厚如果在該范圍內(nèi)，則在可見(jiàn)光范圍的波長(zhǎng)380nm 780nm 處可通過(guò)干涉來(lái)減弱反射光，因此優(yōu)選。另外，本發(fā)明的防反射膜如前所述通過(guò)干涉減弱反射光，因此最外層18的優(yōu)選 膜厚因中間層16的材質(zhì)而異。中間層16為(a)層時(shí)，最外層18的膜厚較好為100 135nm，更好為110 130nm。另外，中間層16為(b)層時(shí)，最外層18的膜厚較好為 70 lOOnm，更好為75 95nm。最外層18的膜厚采用分光橢偏儀(J.A.渥廉姆日本公司制，裝置名VASE)以 入射角70度的條件進(jìn)行測(cè)定。本發(fā)明的低反射玻璃10通過(guò)組合最外層18和中間層16來(lái)發(fā)揮防反射效果。本發(fā)明的中間層16為下述(a)層或(b)層。中間層16的形成位置為玻璃基板 和最外層之間。(a)層波長(zhǎng)380 780nm處的消光系數(shù)K1為O^K1 < 0.1且波長(zhǎng)550nm處的折 射率Ii1為2.0<ηι<2.5的層。(b)層波長(zhǎng)380 780nm處的消光系數(shù)K2為0.1《K2《2.4且波長(zhǎng)380 780nm 處的折射率n2為0.5邊2《2.5、滿足380nm郊< q<780nm的波長(zhǎng)p、q處的消光系數(shù)K2分 別記為K2p、K2q時(shí)K2p<K2q，波長(zhǎng)ρ、q處的折射率屯分別記為n2p、n2q時(shí)n2p > n2q的層。(a)層的波長(zhǎng)550nm處的折射率更好為2.2 2.5，進(jìn)一步更好為2.3 2.5。艮口， (a)層是具備高折射率材料的高折射率層。另外，(a)層的波長(zhǎng)380 780nm處的消光系數(shù)K1更好為O 0.05。本發(fā)明的中間層16的折射率和消光系數(shù)采用分光橢偏儀(J.A.渥廉姆日本公司 制，裝置名VASE)以入射角70度的條件進(jìn)行測(cè)定。本發(fā)明的中間層16為(a)層時(shí)，由于消光系數(shù)K1在所述范圍內(nèi)，所以在(a)層 幾乎沒(méi)有可見(jiàn)光的吸收，因而可提高本發(fā)明的低反射玻璃的透射率。另外，由于折射率 1^在2.0以上，所以可降低本發(fā)明的低反射玻璃的反射率。其理由是本發(fā)明的低反射玻 璃中的最外層18是含有Si原子和O原子的層，因此其為低折射率層。另外，作為比該 最外層18更靠基板側(cè)配置的中間層采用折射率2.0以上的(a)層，因此可通過(guò)光的干涉減 弱反射光，能夠降低本發(fā)明的低反射玻璃的反射率。這里，本發(fā)明的低反射玻璃的反射 率是指波長(zhǎng)480 780nm處的光在形成有防反射膜14的表面的單面的光反射率。此外， 關(guān)于(a)層的折射率的上限，由于目前實(shí)際使用的材料中還沒(méi)有折射率超過(guò)2.5的材料， 因此其上限為2.5。本發(fā)明的光反射率是通過(guò)以下方法求得的反射率按照J(rèn)ISR31061999測(cè)定光譜 反射率，利用附表1的加權(quán)系數(shù)計(jì)算加權(quán)平均值而求得；該值較好為0.1 3%，更好為0.1 1%。作為可用于(a)層的材料，可例舉含有Ti原子和O原子作為主成分、Ti原子和 O原子的比例為T(mén)iOy(y = 1.9 2.0)(消光系數(shù)0以上低于0.1，折射率2.2 2.5)的 材料(以下記為T(mén)iOy)，含有Nb原子和O原子作為主成分、Nb原子和O原子的比例為 NbOz (z =1 3)(消光系數(shù)O以上低于0.1，折射率2.25)的材料(以下記為NbOz), 含有Si原子和N原子作為主成分、Si原子和N原子的比例為SiNt (t = 1.2 1.4)(消光 系數(shù)O以上低于0.1，折射率2.0 2.2)的材料(以下記為SiNt),含有Ta原子和O原 子作為主成分、Ta原子和O原子的比例為T(mén)aOu Cu=I 3)(消光系數(shù)O以上低于0.1， 折射率2 2.3)的材料(以下記為T(mén)aOu)，含有&原子和O原子作為主成分、&原子 和O原子的比例為ZrOv(ν = 1.9 2.0)(消光系數(shù)O以上低于0.1，折射率2 2.3) 的材料(以下記為ZrOv)等。這里，主成分是指相對(duì)于(a)層的全部原子的摩爾數(shù)，該元素的量(例如，TiOy 時(shí)為T(mén)i原子和O原子的合計(jì)摩爾數(shù))為90摩爾％以上，更好為95摩爾％以上，進(jìn)一步 更好為98摩爾％以上，最好為99摩爾％以上。作為本發(fā)明的(a)層的材料，從折射率高、可充分降低本發(fā)明的低反射玻璃的反 射率的角度考慮，較好為T(mén)iOy、NbOz,更好為T(mén)iOy。本發(fā)明的(b)層是波長(zhǎng)380 78011111處的消光系數(shù)尺2為0.1《^2《2.4且波長(zhǎng)380 780nm處的折射率n2為0.5邊2《2.5、滿足380nm鄰< q<780nm的波長(zhǎng)p、q處的消光系數(shù) 尺2分別記為K2p、K2q時(shí)K2p<K2q，波長(zhǎng)P、q處的折射率112分別記為n2p、n2q時(shí)n2p > n2q的層。即，(b)層是具有光吸收材料的光吸收層。本發(fā)明的中間層16為(b)層時(shí)，由于消光系數(shù)K2和折射率Ii2在所述范圍內(nèi)且 滿足所述關(guān)系，所以可降低本發(fā)明的低反射玻璃的反射率。這是因?yàn)槔煤琒i原子和 O原子的最外層18與具備所述消光系數(shù)及折射率的(b)層的組合可通過(guò)光的干涉減弱反 射光，能夠降低本發(fā)明的低反射玻璃的反射率。另外，由于(b)層具備吸收可見(jiàn)光的特 性，因此能夠更多地吸收反射光，其結(jié)果是，能夠進(jìn)一步降低外部光的反射率?；谝?上理由，將本發(fā)明的低反射玻璃用作為顯示器用保護(hù)板時(shí)可獲得圖像的高視覺(jué)辨認(rèn)度。作為用于本發(fā)明的(b)層的滿足所述消光系數(shù)K2和折射率Ii2的材料，優(yōu)選含有 Ti原子和N原子作為主成分、Ti原子和N原子的比例為T(mén)iNxOc = 0.5 1.0)(消光系數(shù) 0.9 2.2，折射率1.5 2.5)的材料。與最外層18的SiO2組合形成具備防反射性能的 膜時(shí)，由于TiNx所具備的消光系數(shù)和折射率為最佳值，所以作為(b)層材料，TiNx為優(yōu) 選材料。這里，主成分是指相對(duì)于(b)層的全部原子的摩爾數(shù)，該元素的量(例如，TiNx 時(shí)為T(mén)i原子和N原子的合計(jì)摩爾數(shù))為90摩爾％以上，更好為95摩爾％以上，進(jìn)一步 更好為98摩爾％以上，最好為99摩爾％以上。(b)層除Ti原子和N原子以外還可含有 O原子。中間層16的膜厚因中間層16的材質(zhì)和防反射膜整體的構(gòu)成而異。例如，(a)層的膜厚較好為10 65nm，更好為10 30nm，進(jìn)一步更好為10 20nm。 (a)層的膜厚如果在該范圍內(nèi)，則本發(fā)明的低反射玻璃能夠在可見(jiàn)光范圍的波長(zhǎng) 380 780nm處通過(guò)干涉減弱反射光，因此優(yōu)選。如果是更好的范圍或進(jìn)一步更好的范圍，則可以降低一般成膜速度慢的高折射率材料層的厚度，因此能夠縮短本發(fā)明的防 反射膜整體的成膜時(shí)間，其結(jié)果是，能夠以高生產(chǎn)性制造本發(fā)明的低反射玻璃，因此優(yōu) 選。(b)層的膜厚較好為5 25nm，更好為5 12nm，進(jìn)一步更好為7 12nm。 (b)層的膜厚如果在該范圍內(nèi)，則本發(fā)明的低反射玻璃能夠在可見(jiàn)光范圍的波長(zhǎng)380 780nm處通過(guò)干涉減弱反射光，因此優(yōu)選。本發(fā)明低反射玻璃中，作為中間層16采用作為高折射率層的(a)層或作為光吸 收層的(b)層，通過(guò)將其與低折射率的最外層18組合，可起到良好的防反射效果。另 外，由于作為最外層18的材料采用含Si原子、O原子及C原子且以特定比例含有C原子 的材料，因此可以使最外層18成為折射率低且較硬的層。其結(jié)果是，本發(fā)明的低反射玻 璃可同時(shí)實(shí)現(xiàn)良好的防反射性和良好的耐擦傷性。本發(fā)明的低反射玻璃還可根據(jù)需要含有其它層。作為其它層，可例舉作為中 折射率層的波長(zhǎng)550nm處的折射率為1.5以上但低于2.0的層、作為低折射率層的波長(zhǎng) 550nm處的折射率為1.45以上但低于1.5的層等。作為用于中折射率層的折射率1.5以上但低于2.0的材料，可例舉SiO(消光系 數(shù)0 0.5，折射率1.7 1.97)、AlOs(S = 1 2)(消光系數(shù)0 0.1，折射率 1.5 1.7)、Y2O3 (消光系數(shù):0 0.1，折射率1.87)、La2O3 (消光系數(shù)O 0.1，折 射率1.85)等。作為用于低折射率層的折射率1.45以上但低于1.5的材料，可例舉SiO2(折射 率1.46)、MgF2 (折射率1.38)等。本發(fā)明的低反射玻璃可以只包含1層中間層，也可包含2層以上的中間層。包含 2層以上的中間層時(shí)，各中間層可以是由不同材料形成的層，也可以是全部由相同材料形 成的層。另外，各中間層的厚度可完全相同也可各不相同。關(guān)于其它層，低反射玻璃中可以只包含1層，也可包含2層以上。此外，本發(fā)明的防反射膜還可包含實(shí)質(zhì)上不具備光學(xué)性能的阻擋層等。阻擋層 是指以即使在成膜后經(jīng)歷強(qiáng)化工序和彎曲工序等高溫處理工序也不會(huì)對(duì)(a)層和(b)層造 成損傷為目的而設(shè)置于(a)層或(b)層的表面的層。為使其實(shí)質(zhì)上不具備光學(xué)性能，阻 擋層的膜厚優(yōu)選為0.1 lOnm。阻擋層的材質(zhì)可例舉SiN、Ti、Cr等。圖2是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的一例的剖視圖。低反射玻璃 IOa包括玻璃基板12和形成于該玻璃基板12的表面的防反射膜14a，防反射膜14a是從玻 璃基板12側(cè)開(kāi)始依次層疊有(a)層16a、最外層18的膜。S卩，玻璃基板12/(a)層16a/ 最外層18的結(jié)構(gòu)的低反射玻璃10a。圖3是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的另一例的剖視圖。低反射玻 璃IOb包括玻璃基板12和形成于該玻璃基板12的表面的防反射膜14b，防反射膜14b是 從玻璃基板12側(cè)開(kāi)始依次層疊有(a)層16b、最外層18的膜。S卩，玻璃基板12/(a)層 16b/最外層18的結(jié)構(gòu)的低反射玻璃10b。圖4是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的又一例的剖視圖。低反射玻 璃IOc包括玻璃基板12和形成于該玻璃基板12的表面的防反射膜14c，防反射膜14c是 從玻璃基板12側(cè)開(kāi)始依次層疊有中折射率層17、(a)層16a、最外層18的膜。S卩，玻璃基板12/中折射率層17/(a)層16a/最外層18的結(jié)構(gòu)的低反射玻璃10c。圖5是表示本發(fā)明的低反射玻璃的優(yōu)選實(shí)施方式的又另一例的剖視圖。低反射 玻璃IOd包括玻璃基板12和形成于該玻璃基板12的表面的防反射膜14d，防反射膜14d 是從玻璃基板12側(cè)開(kāi)始依次按照(a)層16a、低折射率層19的順序交替層疊了(2m+l)次 (m為1以上的整數(shù))且距離玻璃基板12最遠(yuǎn)的(a)層16a的表面具備最外層18的膜。 即，玻璃基板12/[(a)層16a/低折射率層19]m/(a)層16a/最外層18的結(jié)構(gòu)的低反射玻 璃 IOdo這種情況下，m值在將本發(fā)明的低反射玻璃用作為顯示器用保護(hù)板時(shí)從生產(chǎn)性 和成本的角度考慮，優(yōu)選1或2。只要是本發(fā)明的低反射玻璃10的形成有防反射膜14的表面的單面的光反射率低 于玻璃基板12表面的反射率的構(gòu)成，防反射膜14的材質(zhì)和膜厚等的組合可以是任意的 構(gòu)成。對(duì)于波長(zhǎng)480 780nm處的光，本發(fā)明的低反射玻璃10的形成有防反射膜14的 表面的單面的光反射率平均較好為0 2.0%，更好為0.1 1.5%，進(jìn)一步更好為0.5 0.9%。(低反射玻璃的制造方法)通過(guò)在玻璃基板12上形成中間層16后形成最外層18，藉此制造低反射玻璃 10。根據(jù)需要在形成中間層16之前或之后形成其它層或阻擋層。作為中間層16及最外層18的形成方法，可例舉濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍 法、化學(xué)氣相沉積法等，從品質(zhì)、特性的穩(wěn)定性良好的角度及能夠以良好的生產(chǎn)性在大 面積的玻璃基板表面均一地形成中間層16和最外層18的角度考慮，優(yōu)選濺射法。作為濺射法，可例舉DC濺射法、脈沖濺射法、AC濺射法等。中間層16為(a)層(TiOy)時(shí)，利用濺射法的中間層16的形成例如如下進(jìn)行。在濺射裝置的腔內(nèi)導(dǎo)入Ar及O2的混合氣體的同時(shí)用Ti金屬靶進(jìn)行DC磁控濺 射，在玻璃基板12上形成(a)層。中間層16為(b)層(TiNx)時(shí)，通過(guò)濺射法形成中間層16例如如下進(jìn)行。在濺射裝置的腔內(nèi)導(dǎo)入Ar及N2的混合氣體的同時(shí)用Ti金屬靶進(jìn)行DC磁控濺 射，在玻璃基板12上形成(b)層。利用濺射法的最外層18的形成例如如下進(jìn)行。在濺射裝置的腔內(nèi)導(dǎo)入含CO2的氣體的同時(shí)用以Si為主成分的靶進(jìn)行AC磁控 濺射，在中間層16上形成最外層18。作為含CO2的氣體，可例舉單獨(dú)的CO2氣體或Ar 及CO2的混合氣體。如果用含CO2的氣體通過(guò)濺射法來(lái)形成本發(fā)明的最外層18，則可加快成膜速 度，因此可獲得良好的生產(chǎn)性，所以優(yōu)選?；旌蠚怏w中的Ar氣體和CO2氣體的流量比(Ar/C02)的最佳值因?yàn)R射時(shí)的 功率密度的大小而異。實(shí)用的功率密度下，所述流量比(體積比)(Ar/C02)較好為 (0/10) < (Ar/C02)<(3/7),更好為(1/9) < (Ar/C02) < (3/7),進(jìn)一步更好為(2/8) < (Ar/ CO2) < (3/7) 0 (Ar/C02)值如果在該范圍內(nèi)，則可使膜中的C原子含量適度，因此優(yōu)選。另外，存在所述Ar和CO2的混合氣體中的CO2比例越小膜中的C原子含量越多 的傾向。
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此外，利用濺射法的最外層18的形成也可如下進(jìn)行。在濺射裝置的腔內(nèi)導(dǎo)入Ar氣體的同時(shí)用SiC靶進(jìn)行AC磁控濺射，在中間層16 上形成最外層18。通過(guò)濺射法形成了本發(fā)明的最外層18的情況下，成膜后最外層18暴露在空氣中 的狀態(tài)下，存在最外層18的耐擦傷性隨著時(shí)間的推移而提高的傾向。其理由雖然還不 明確，目前認(rèn)為是空氣中的雜質(zhì)微量附著于最外層18的表面而使得滑動(dòng)性提高，進(jìn)而耐 擦傷性提高的緣故。但是，這對(duì)于作為光學(xué)特性的可見(jiàn)光透射和反射特性幾乎無(wú)影響。 即，成膜后所述光學(xué)特性幾乎不會(huì)隨著時(shí)間的推移而變化。本發(fā)明的低反射玻璃10例如用于顯示器用保護(hù)板時(shí)，在通過(guò)濺射法形成最外層 18后有時(shí)會(huì)馬上將最外層18保存于實(shí)質(zhì)上與空氣隔絕的狀態(tài)。與空氣隔絕的狀態(tài)可例 舉例如介以微小的珠粒重疊多片低反射玻璃10的狀態(tài)。實(shí)質(zhì)上與空氣隔絕的狀態(tài)下，最 外層18的耐擦傷性在成膜后幾乎不會(huì)隨著時(shí)間的推移而提高。在其后工序?qū)ο襁@樣與空 氣隔絕的低反射玻璃10進(jìn)行處理時(shí)，最外層18基本上以剛成膜的狀態(tài)進(jìn)行其后工序的處 理。因此，所述其后工序的處理中，為了不對(duì)最外層18造成損傷，其剛成膜時(shí)的耐擦傷 性良好至關(guān)重要。另外，將本發(fā)明的低反射玻璃10用作為顯示器用保護(hù)板時(shí)，將低反射 玻璃10組裝入顯示器后，由于一直暴露于空氣中，因此成膜后經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后的耐擦傷 性高也非常重要。對(duì)于以上所述的低反射玻璃10，由于最外層18是包含Si原子、C原子及O原子 的層且Si原子、C原子及O原子的合計(jì)100摩爾％中的C原子含量為0.5 3摩爾％， 因此防反射效果好且表面的耐擦傷性良好，生產(chǎn)性高。另外，對(duì)于以上所述的本發(fā)明的低反射玻璃10，與貼附有防反射膜的現(xiàn)有的低 反射玻璃相比，其耐候性、生產(chǎn)性和外觀更佳。<顯示器用保護(hù)板>本發(fā)明的顯示器用保護(hù)板具備本發(fā)明的低反射玻璃。另外，根據(jù)所安裝的顯示 器種類(lèi)的不同，該顯示器還可包括必需的具有其它功能的膜。<等離子體顯示器用保護(hù)板>本發(fā)明的等離子體顯示器用保護(hù)板(以下記為保護(hù)板)具備由本發(fā)明的低反射玻 璃形成的支承基體和設(shè)置在該支承基體的未形成有防反射膜的表面?zhèn)鹊膶?dǎo)電膜。導(dǎo)電膜 可直接形成于該支承基體表面，也可將樹(shù)脂膜表面層疊有導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性膜貼合在該支 承基體表面。本發(fā)明的保護(hù)板還可包括具備近紅外線屏蔽功能的膜、具備色調(diào)修正功能 的膜等。(實(shí)施方式1)圖6所示為實(shí)施方式1的保護(hù)板。保護(hù)板20包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)著色粘合劑層22被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜24、形成 于導(dǎo)電性膜24的表面的保護(hù)樹(shù)脂層26。著色粘合劑層22是由兼具近紅外線屏蔽功能、色調(diào)修正功能和紫外線屏蔽功能 的粘合劑形成的層。作為粘合劑，可例舉市售的粘合劑?？衫e例如丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、 環(huán)氧樹(shù)脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烴、苯乙烯-丁二烯共聚物類(lèi)橡膠、丁基橡膠、有機(jī)硅樹(shù)脂等粘合劑。粘合劑中摻入了 近紅外線吸收劑、著色劑及紫外線吸收劑。導(dǎo)電性膜24是在樹(shù)脂膜28上形成有由銅構(gòu)成的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層30的層(導(dǎo)電性 膜)，具備電磁波屏蔽性能。通常通過(guò)在樹(shù)脂膜28上貼合銅箔后加工成網(wǎng)眼狀而制得。 作為樹(shù)脂膜28，可例舉聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(以下記為PET)膜等。在導(dǎo)電性膜24的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層30側(cè)表面以規(guī)定厚度涂布光固化性樹(shù)脂或熱固化 性樹(shù)脂后使其固化而形成保護(hù)樹(shù)脂層26。作為樹(shù)脂，可例舉丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚 氨酯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂等。(實(shí)施方式2)圖7所示為實(shí)施方式2的保護(hù)板。保護(hù)板32包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)透明粘合劑層34被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜24、通過(guò) 著色粘合劑層36被貼合于導(dǎo)電性膜24的表面的樹(shù)脂膜38。對(duì)于實(shí)施方式2中與實(shí)施方式1同樣的構(gòu)成標(biāo)記與圖6同樣的符號(hào)并省略對(duì)其的 說(shuō)明。透明粘合劑層34可具備紫外線屏蔽功能。作為粘合劑，可例舉市售的粘合劑， 優(yōu)選使用丙烯酸類(lèi)粘合劑、有機(jī)硅類(lèi)粘合劑、丁二烯類(lèi)粘合劑、聚氨酯類(lèi)粘合劑等。粘 合劑中可摻入紫外線吸收劑。著色粘合劑層36是由兼具近紅外線屏蔽功能和色調(diào)修正功能的粘合劑形成的 層。透明粘合劑層34不具備紫外線屏蔽功能時(shí)，著色粘合劑層36還具備紫外線屏蔽功 能。作為粘合劑，可例舉市售的粘合劑，優(yōu)選使用丙烯酸類(lèi)粘合劑、有機(jī)硅類(lèi)粘合劑、 丁二烯類(lèi)粘合劑、聚氨酯類(lèi)粘合劑等。粘合劑中可摻入近紅外線吸收劑及著色劑，還可 摻入紫外線吸收劑。作為樹(shù)脂膜38，可例舉PET膜等。(實(shí)施方式3)圖8所示為實(shí)施方式3的保護(hù)板。保護(hù)板40包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)透明粘合劑層34被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜24、通過(guò) 著色粘合劑層42被貼合于導(dǎo)電性膜24的表面的近紅外線屏蔽膜44。對(duì)于實(shí)施方式3中與實(shí)施方式1及實(shí)施方式2同樣的構(gòu)成標(biāo)記與圖6、圖7同樣 的符號(hào)并省略對(duì)其的說(shuō)明。著色粘合劑層42是由具備色調(diào)修正功能的粘合劑形成的層。透明粘合劑層34 不具備紫外線屏蔽功能時(shí)，著色粘合劑層42還具備紫外線屏蔽功能。作為粘合劑，可例 舉市售的粘合劑，優(yōu)選使用丙烯酸類(lèi)粘合劑、有機(jī)硅類(lèi)粘合劑、丁二烯類(lèi)粘合劑、聚氨 酯類(lèi)粘合劑等。粘合劑中被摻入著色劑，還可摻入紫外線吸收劑。近紅外線屏蔽膜44是在樹(shù)脂膜48上形成有近紅外線屏蔽涂層46的膜。將含樹(shù) 脂和近紅外線吸收劑的涂敷劑涂布于樹(shù)脂膜48上并干燥而形成近紅外線屏蔽涂層46。作 為樹(shù)脂膜48，可例舉PET膜等。(實(shí)施方式4)圖9所示為實(shí)施方式4的保護(hù)板。保護(hù)板50包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)著色粘合劑層22被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜24。
對(duì)于實(shí)施方式4中與實(shí)施方式1同樣的構(gòu)成標(biāo)記與圖6同樣的符號(hào)并省略對(duì)其的 說(shuō)明。(實(shí)施方式5)圖10所示為實(shí)施方式5的保護(hù)板。保護(hù)板52包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)透明粘合劑層34被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜54、形成 于導(dǎo)電性膜54的周緣的電極60、通過(guò)著色粘合劑層36被貼合于導(dǎo)電性膜54的表面的樹(shù) 脂膜38。對(duì)于實(shí)施方式5中與實(shí)施方式2同樣的構(gòu)成標(biāo)記與圖7同樣的符號(hào)并省略對(duì)其的 說(shuō)明。導(dǎo)電性膜54是通過(guò)濺射法在樹(shù)脂膜56上形成有導(dǎo)電膜58的膜，兼具電磁波屏 蔽功能和近紅外線屏蔽功能。導(dǎo)電膜58通常交替具備金屬氧化物層(In和Sn的氧化物、 Ti和Zn的氧化物、Al和Zn的氧化物、氧化鈮等)和金屬層(Ag、Ag合金等)、金屬層 數(shù)為η、金屬氧化物層數(shù)為η+1 (η為1以上的整數(shù))的層疊膜。作為樹(shù)脂膜56，可例舉 PET膜等。涂布含銀、玻璃料和樹(shù)脂的銀糊料或含銅、玻璃料和樹(shù)脂的銅糊料并燒成而形 成電極60?；蛘?，通過(guò)貼附帶導(dǎo)電性粘合劑的鋁帶而形成電極60。(實(shí)施方式6)圖11所示為實(shí)施方式6的保護(hù)板。保護(hù)板62包括低反射玻璃10 (支承基體)、 通過(guò)著色粘合劑層64被貼合于低反射玻璃10的玻璃基板12的表面的導(dǎo)電性膜54、形成 于導(dǎo)電性膜54的周緣的電極60。對(duì)于實(shí)施方式6中與實(shí)施方式5同樣的構(gòu)成標(biāo)記與圖10同樣的符號(hào)并省略對(duì)其 的說(shuō)明。著色粘合劑層64是由兼具色調(diào)修正功能和紫外線屏蔽功能的粘合劑形成的層。 作為粘合劑，可例舉市售的粘合劑，優(yōu)選使用丙烯酸類(lèi)粘合劑、有機(jī)硅類(lèi)粘合劑、丁二 烯類(lèi)粘合劑、聚氨酯類(lèi)粘合劑等。粘合劑中被摻入著色劑及紫外線吸收劑。以上所述的保護(hù)板20、32、40、50、52及62中，將耐擦傷性、耐候性、生產(chǎn) 性、外觀良好的低反射玻璃10用作為支承基體，因此其耐擦傷性、耐候性、生產(chǎn)性和外 觀良好。
實(shí)施例以下通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但這些實(shí)施例并不對(duì)本發(fā)明構(gòu) 成限定性解釋。(C原子含量的測(cè)定)最外層18中的C原子含量通過(guò)以下方法測(cè)定。用四極型二次離子質(zhì)譜儀(SIMS)進(jìn)行了測(cè)定。具體來(lái)講，制作相對(duì)于最外層 18的深度的Si原子、C原子、O原子及與最外層鄰接的層的成分以及基板成分的濃度的 SIMS深度分布圖。接著，算出從深度4nm至該SIMS深度分布圖中顯現(xiàn)與最外層鄰接的 層的成分的分布的深度為止的C原子的離子強(qiáng)度的平均值(I1)。一次離子種使用Cs+(銫 陽(yáng)離子)。然后，根據(jù)下式(1)算出C原子含量。
C 原子含量=(I/IJ XRSF (1)上式(1)中，將玻璃基板中的O原子(含量已知)的強(qiáng)度作為基準(zhǔn)(Iref)(以O(shè) 原子強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)化)。此外，對(duì)于C原子含量已知的試樣(含量Z摩爾％ )，由用SIMS獲得的C原 子的離子強(qiáng)度(Iiz)和玻璃基板中的O原子的強(qiáng)度(Iref)通過(guò)下式(2)算出RSF。RFS = (Z/Iiz) XIref (2)首先，用負(fù)檢測(cè)進(jìn)行測(cè)定，所得C原子含量在1摩爾％以下的試樣將此作為C原 子含量。利用負(fù)檢測(cè)的測(cè)定中，作為所述C原子含量已知的試樣，采用SiO2膜中離子注 入了 C原子的標(biāo)準(zhǔn)試樣，算出RSF值。使用了 SIMS的負(fù)檢測(cè)中，C原子含量超過(guò)時(shí)所得數(shù)據(jù)的可靠性低。因此， 對(duì)于超過(guò)的試樣，除了采用正檢測(cè)以外通過(guò)與使用所述SIMS的測(cè)定同樣的方法來(lái)測(cè) 定C原子的離子強(qiáng)度，算出C原子含量。正檢測(cè)中，作為所述C原子含量已知的試樣， 采用通過(guò)X射線光電子能譜(XPS)測(cè)得的C原子含量為13.2%的試樣，算出RSF值。通 過(guò)使用了 SIMS的正檢測(cè)而得的C原子含量超過(guò)但在5%以下的試樣將此作為C原子 含量。在基于使用SIMS的正檢測(cè)的測(cè)定中，C原子含量超過(guò)5%時(shí)所得數(shù)據(jù)的可靠性 低，因此對(duì)于超過(guò)5%的試樣，通過(guò)X射線光電子能譜(XPS)測(cè)定C原子含量。(耐擦傷性的評(píng)價(jià))用連續(xù)荷重抗劃痕強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)(新東科學(xué)株式會(huì)社制，HEIDONTRIBOGEAR 18
型，針0.1mm)測(cè)定防反射膜表面的損傷產(chǎn)生荷重。本發(fā)明的耐擦傷性的評(píng)價(jià)中，損傷產(chǎn)生荷重值根據(jù)裝在連續(xù)荷重抗劃痕強(qiáng)度試 驗(yàn)機(jī)上的針的狀態(tài)發(fā)生變化。因此，通過(guò)相對(duì)比較使用同樣的針在幾乎同時(shí)測(cè)得的試樣 的損傷產(chǎn)生荷重值來(lái)進(jìn)行評(píng)價(jià)。本實(shí)施例中，實(shí)施例1 2及比較例1 4中使用同樣 的針且?guī)缀跬瑫r(shí)進(jìn)行測(cè)定。實(shí)施例3 4及比較例5 7使用同樣的針且?guī)缀跬瑫r(shí)進(jìn)行 測(cè)定。(反射率的分光曲線的測(cè)定)分光光度計(jì)(日立高科技株式會(huì)社(/、4〒々7 α夕一 <社)制，U4100),測(cè) 定波長(zhǎng)380 780nm處的光的所得低反射玻璃的形成有防反射膜的表面的單面反射率。(實(shí)施例1)將由2個(gè)以上的腔構(gòu)成的連續(xù)(inline)式濺射裝置排氣至1 X 10_5托以下，在第 1腔內(nèi)導(dǎo)入Ar及N2的混合氣體(Ar/N2 = 93/7流量比(體積比，下同))，在第2腔內(nèi)導(dǎo) 入Ar及CO2的混合氣體(Ar/C02 = 3/7流量比)，調(diào)整各混合氣體的流量使得各腔內(nèi)的 壓力達(dá)到3X10—3托。水洗ImXOJmX厚3.2mm的鈉鈣玻璃，干燥后將其投入所述濺射裝置的第1 腔內(nèi)，用配置于第1腔的Ti金屬靶進(jìn)行DC磁控濺射，在鈉鈣玻璃上形成由TiNx構(gòu)成的 中間層。所形成的由TiNx構(gòu)成的中間層的消光系數(shù)K2及Ii2在波長(zhǎng)380 780nm處為 0.1《K2《2.4且0.5邊2《2.5，滿足380nm鄰< q《780nm的波長(zhǎng)p、q處的消光系數(shù)K2分別記 為K2p、K2q時(shí)K2p<K2q，波長(zhǎng)ρ、q處的折射率屯分別記為n2p、n2q時(shí)n2p>n2q。即，實(shí) 施例1的中間層為(b)層。接著，將鈉鈣玻璃移至第2腔內(nèi)，用配置于第2腔的Si靶進(jìn)行AC磁控濺射，在中間層上形成作為含Si原子、C原子及O原子的層(以下記為SiCO 層)的最外層。該最外層是以SiO2為主成分的層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后3 4小時(shí)后和4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有 防反射膜的表面的單面反射率的分光曲線示于圖12。光反射率示于表1。(實(shí)施例2)將與實(shí)施例1同樣的濺射裝置排氣至1X10—5托以下，在第1腔內(nèi)導(dǎo)入Ar及O2 的混合氣體(Ar/02 = 2/8 流量比)，在第2腔內(nèi)導(dǎo)入Ar及CO2的混合氣體(Ar/C02 = 3/7流量比)，調(diào)整各混合氣體的流量使得各腔內(nèi)的壓力達(dá)到3X10_3托。水洗ImXOJmX厚3.2mm的鈉鈣玻璃，干燥后將其投入所述濺射裝置的第1腔 內(nèi)，用配置于第1腔的Ti金屬靶進(jìn)行DC磁控濺射，在鈉鈣玻璃上形成由TiOy構(gòu)成的中 間層。所形成的中間層(TiOy)的消光系數(shù)K1為0，折射率ηι為2.45。S卩，實(shí)施例2的 中間層為(a)層。接著，將鈉鈣玻璃移至第2腔內(nèi)，用配置于第2腔的Si靶進(jìn)行AC磁 控濺射，在中間層上形成作為SiCO層的最外層。該最外層是以SiO2為主成分的層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后3 4小時(shí)后和4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有 防反射膜的表面的單面反射率的分光曲線示于圖13。光反射率示于表1。(比較例1、2)除了將導(dǎo)入第2腔的混合氣體改為Ar和O2的混合氣體以外，與實(shí)施例1同樣操 作，形成了由TiNx構(gòu)成的中間層和由不含C的SiO2構(gòu)成的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后3 4小時(shí)后和4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有 防反射膜的表面的單面反射率的分光曲線示于圖12。光反射率示于表1。(比較例3、4)除了將導(dǎo)入第2腔的混合氣體改為Ar和O2的混合氣體以外，與實(shí)施例2同樣操 作，形成了由TiOy構(gòu)成的中間層和由不含C的SiO2構(gòu)成的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后3 4小時(shí)后和4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有 防反射膜的表面的單面反射率的分光曲線示于圖13。光反射率示于表1。(實(shí)施例3)除了導(dǎo)入第2腔的混合氣體使用Ar和CO2的混合氣體(Ar/C02 = 0/10 流量 比)以外，與實(shí)施例1同樣操作，形成了由TiNx構(gòu)成的中間層和作為SiCO層的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有防反射膜的表面 的單面反射率的分光曲線示于圖14。光反射率示于表1。(實(shí)施例4)除了導(dǎo)入第2腔的混合氣體使用Ar和CO2的混合氣體(Ar/C02 = 2/8 流量比) 以外，與實(shí)施例1同樣操作，形成了由TiNx構(gòu)成的中間層和作為SiCO層的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射
14膜的成膜后4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有防反射膜的表面 的單面反射率的分光曲線示于圖14。光反射率示于表1。(比較例5)除了導(dǎo)入第2腔的混合氣體使用Ar和C02的混合氣體(Ar/C02 = 35/65 流量 比)以外，與實(shí)施例1同樣操作，形成了由TiNx構(gòu)成的中間層和作為SiCO層的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有防反射膜的表面 的單面反射率的分光曲線示于圖14。光反射率示于表1。(比較例6)除了導(dǎo)入第2腔的混合氣體使用Ar和C02的混合氣體(Ar/C02 = 40/60 流量 比)以外，與實(shí)施例1同樣操作，形成了由TiNx構(gòu)成的中間層和作為SiCO層的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，低反射玻璃的形成有防反射膜的表面 的單面反射率的分光曲線示于圖14。光反射率示于表1。(比較例7)除了導(dǎo)入第2腔的氣體改為02氣體以外，與實(shí)施例1同樣操作，形成了由TiNx 構(gòu)成的中間層和由不含C的Si02構(gòu)成的最外層。防反射膜的各層的膜厚、最外層的折射率、最外層中的C原子的含量及防反射 膜的成膜后4 5天后的耐擦傷性示于表1。另外，光反射率示于表1。(實(shí)施例5)等離子體顯示器用保護(hù)板的制作例用實(shí)施例1制得的低反射玻璃，制作圖10所示的等離子體顯示器用保護(hù)板。<濺射靶的制作>按照摩爾比ZnO Ti02 = 90 10稱量作為原料的ZnO粉末和Ti02粉末，用球
磨機(jī)濕式混合24小時(shí)后用蒸發(fā)器干燥，再用榨汁攪拌機(jī)(日文7 -—寸一 S *寸一) 粉碎干燥物，使其通過(guò)200目的篩子，獲得粒度經(jīng)調(diào)整的原料粉末。將所得原料粉末填 入石墨模具內(nèi)，用電阻加熱式熱壓裝置，以氬氣為氣氛氣體，在升溫速度350°C/小時(shí)、 最高溫度1150°C、最高溫度保持時(shí)間2小時(shí)、壓力99MPa(表壓)的條件下加壓燒結(jié)，藉 此獲得以ZnO和Zn2Ti04粉末為主成分的濺射靶。由作為原料的ZnO和Ti02的添加量 計(jì)算 ZnO 和 Zn2Ti04 的含量(摩爾比)，ZnO Zn2Ti04 = 88 12。測(cè)定濺射靶的粉末X射線衍射。測(cè)定方法是首先用研杵和研缽使濺射靶形成為 粉末，然后將其裝入15mmX15mmXlmmt(厚度)的X射線衍射測(cè)定用容器，用馬克科 學(xué)(Mac Science)公司制X射線衍射裝置，在20° <20 <80°的范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)定。獲 得的所述濺射靶的粉末X射線衍射的數(shù)據(jù)示于圖15。如圖15所示，僅出現(xiàn)來(lái)自ZnO的 峰和來(lái)自Zn2Ti04的峰，未出現(xiàn)來(lái)自Ti02的峰。即，表示靶組成為ZnO和Zn2Ti04。該 粉末X射線衍射測(cè)定的結(jié)果是2 0 =31.7°附近的Zn0[100]的積分強(qiáng)度為116966[cps]，
2 0 = 35.2°附近的Zn2Ti04[311]的積分強(qiáng)度為76676[cps]，比值為60%。<導(dǎo)電性膜的制作>在作為基材的厚100 ym的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)的一個(gè)表面上形 成4層按照金屬氧化物層A和金屬層的順序?qū)盈B而得的層疊膜，在最上層形成金屬氧化物
15層A，藉此獲得PET膜表面形成有導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性膜。BP,導(dǎo)電膜的構(gòu)成從基材開(kāi)始依次為金屬氧化物層A1 (膜厚40nm)、金屬層 1(膜厚10nm)、金屬氧化物層A2(膜厚80nm)、金屬層2 (膜厚lOnm)、金屬氧化物層 A3(膜厚80nm)、金屬層3 (膜厚lOnm)、金屬氧化物層A4 (膜厚80nm)、金屬層4 (膜厚 lOnm)、金屬氧化物層A5 (膜厚40nm)。層疊膜的合計(jì)膜厚為360nm。金屬氧化物層A用所述濺射靶通過(guò)DC濺射成膜。成膜條件是將95體積％氬氣 和5體積％氧氣的混合氣體導(dǎo)入DC濺射裝置的同時(shí)將壓力定為0.42Pa(表壓)、投入電 力定為3.75W/cm2。成膜時(shí)間按照A1及A5的膜厚均達(dá)到40nm且A2、A3及A4的膜 厚均達(dá)到80nm而定。金屬層是銀99原子％ -金1原子％的膜。用可形成為所希望的組成的銀和金的 濺射靶通過(guò)DC濺射形成金屬層。成膜條件是將氬氣導(dǎo)入DC濺射裝置的同時(shí)將壓力定為 0.42Pa(表壓)、投入電力定為2.5W/cm2。成膜時(shí)間按照膜厚達(dá)到lOnm而定。<等離子體顯示器用保護(hù)板的制作>在所得的導(dǎo)電性膜54的PET膜(樹(shù)脂膜56)側(cè)的表面設(shè)置透明粘合劑層34(丙 烯酸類(lèi)粘合劑、厚25i!m)。將實(shí)施例1制得的低反射玻璃10切割成規(guī)定尺寸，倒角，洗滌后加熱至660°C， 然后風(fēng)冷，實(shí)施玻璃強(qiáng)化處理。在低反射玻璃10的未形成有防反射膜14的一側(cè)介以所述透明粘合劑層34貼附 導(dǎo)電性膜54。然后，以保護(hù)導(dǎo)電膜58為目的在導(dǎo)電膜58表面介以著色粘合劑層36(丙 烯酸類(lèi)粘合劑，厚25 ym)貼合樹(shù)脂膜38 (東洋紡績(jī)株式會(huì)社制，商品名A4100)。但 是，出于要取出電極的目的，在導(dǎo)電性膜的周緣部殘留有未貼合樹(shù)脂膜的部分(電極形 成部)。接著，在電極形成部按照尼龍網(wǎng)眼#180、乳劑厚度20 ym的條件絲網(wǎng)印刷銀糊 (太陽(yáng)油墨制造株式會(huì)社制，商品名AF4810)，用熱風(fēng)循環(huán)爐以85°C干燥35分鐘，形 成電極60。[表1]
權(quán)利要求
1.低反射玻璃，所述玻璃包括玻璃基板和形成于該玻璃基板的表面的防反射膜，其 特征在于，所述防反射膜從所述玻璃基板側(cè)開(kāi)始依次配置有中間層和最外層，所述最外 層是含Si原子、C原子及O原子的層，且Si原子、C原子及O原子的合計(jì)100摩爾％中 的C原子含量為0.5 3摩爾％，所述中間層為下述(a)層或(b)層，(a)層波長(zhǎng)380 780nm處的消光系數(shù)K1為O^K1< 0.1且波長(zhǎng)550nm處的折射率 Ii1為2.0麵2.5的層，(b)層波長(zhǎng)380 780nm處的消光系數(shù)K2為0.1《K2《2.4且波長(zhǎng)380 780nm處的 折射率n2為0.5邊2《2.5、滿足380nm郊< q<780nm的波長(zhǎng)p、q處的消光系數(shù)K2分別記 為K2p、K2q時(shí)K2p<K2q，波長(zhǎng)ρ、q處的折射率屯分別記為n2p、n2q時(shí)n2p > n2q的層。
2.如權(quán)利要求1所述的低反射玻璃，其特征在于，所述最外層是含有SiO2作為主成 分的層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的低反射玻璃，其特征在于，所述最外層的波長(zhǎng)550nm處 的折射率為1.45以上但低于1.5。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的低反射玻璃，其特征在于，所述防反射膜是從玻 璃基板側(cè)開(kāi)始依次配置了(b)層、最外層的膜。
5.如權(quán)利要求4所述的低反射玻璃，其特征在于，(b)層含有Ti原子和N原子作為 主成分，Ti原子和N原子的比例為T(mén)iNx, χ為0.5 1.0。
6.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的低反射玻璃，其特征在于，所述防反射膜是從玻 璃基板側(cè)開(kāi)始依次配置了(a)層、最外層的膜。
7.如權(quán)利要求6所述的低反射玻璃，其特征在于，(a)層含有Ti原子和O原子作為 主成分，Ti原子和O原子的比例為T(mén)iOy，y為1.9 2.0。
8.顯示器用保護(hù)板，其特征在于，具備權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的低反射玻璃。
9.等離子體顯示器用保護(hù)板，其特征在于，具備由權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的低 反射玻璃形成的支承基體和設(shè)置在該支承基體的未形成有防反射膜的表面?zhèn)鹊膶?dǎo)電膜。
全文摘要
本發(fā)明提供耐擦傷性、耐候性、生產(chǎn)性及外觀良好的低反射玻璃及顯示器用保護(hù)板。低反射玻璃10包括玻璃基板12和形成于玻璃基板12的表面的防反射膜14，防反射膜14從玻璃基板12側(cè)開(kāi)始依次配置有中間層16和最外層18，最外層18是含Si原子、C原子及O原子的層，且Si原子、C原子及O原子的合計(jì)100摩爾％中的C原子含量為0.5～3摩爾％，中間層16為(a)層(高折射率層)或(b)層(光吸收層)；顯示器用保護(hù)板包括由低反射玻璃10形成的支承基體和設(shè)置在該支承基體的未形成有防反射膜的表面?zhèn)鹊膶?dǎo)電膜。
文檔編號(hào)G09F9/00GK102016652SQ200980114889
公開(kāi)日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2009年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月24日
發(fā)明者嘉賀晉介, 府川真, 田中謙一 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社