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記錄介質(zhì)的制作方法

文檔序號:9678729閱讀:242來源:國知局
記錄介質(zhì)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及記錄介質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002] 在用于噴墨圖像記錄方法中的記錄介質(zhì)之中,需求其表面具有低光澤、即其表面 具有良好的"無光澤外觀(matteappearance)"的記錄介質(zhì)(無光澤紙)。另一方面,如 果將粒徑大的顆粒簡單地添加至墨接收層來實現(xiàn)良好的無光澤外觀,則墨接收層的粘結(jié)性 化indingp;rope;rty)會劣化,即,落粉現(xiàn)象(dustingphenomenon)會出現(xiàn)。因此,需求用于 實現(xiàn)良好的無光澤外觀且抑制落粉現(xiàn)象的方法。
[0003] 日本專利申請?zhí)亻_No. 2007-118529公開了通過將由至少兩層構(gòu)成的并且配置在 透氣性基材上的墨接收層使用包含平均粒徑為40nmW下的膠體二氧化娃的濕潤液再濕 潤,并朝加熱鼓按壓W轉(zhuǎn)移鏡面的鑄造法來改善表面強度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 根據(jù)本發(fā)明的一方面的記錄介質(zhì)依次包括基材、第一墨接收層、和作為最表層的 第二墨接收層,其中第一墨接收層包含平均粒徑為1.0 y m W上的無定形二氧化娃,第二墨 接收層包含膠體二氧化娃,而且第二墨接收層表面的JISB0601:2001中規(guī)定的粗糖度輪 廓單兀(roll曲ness profile elements)的均方根斜率(root-mean-square slope)RAq為 0. 3W上。 陽0化]從W下示例性實施方案的描述中本發(fā)明的進一步特征將變得明顯。
【具體實施方式】
[0006] 根據(jù)通過本發(fā)明人對日本專利特開No. 2007-118529中公開的記錄介質(zhì)進行的研 究,抑制落粉現(xiàn)象,但未充分實現(xiàn)無光澤外觀。因此,本發(fā)明旨在提供具有無光澤外觀并且 抑制了落粉現(xiàn)象的記錄介質(zhì)。
[0007] 下文中,將利用實施方案詳細描述本發(fā)明。
[0008] 首先,將描述根據(jù)本發(fā)明的實施方案的"無光澤外觀"。具有無光澤外觀的記錄介 質(zhì)是指即使當(dāng)在任何角度下觀察時也具有小的表面反射且具有小的光澤的記錄介質(zhì)。更具 體而言,具有無光澤外觀的記錄介質(zhì)是指其中表面的20°光澤度、60°光澤度和75°光澤 度全部小于6. 0 %的記錄介質(zhì)。
[0009] 作為通過本發(fā)明人對記錄介質(zhì)的表面粗糖度與無光澤外觀之間的關(guān)系進行的研 究的結(jié)果,已發(fā)現(xiàn)記錄介質(zhì)表面(即,最表層表面)的JISB0601:2001中規(guī)定的粗糖度輪 廓單元的均方根斜率RAq必須為0.3W上。均方根斜率RAq表示凹凸傾斜的程度。RAq 的值大表示凹凸傾斜睹。認為由于此類表面形狀(surfaceprofile)而實現(xiàn)無光澤外觀, 運是因為入射光趨于隨凹凸的斜率而散亂,因此沿鏡面反射方向的光量減少。
[0010] 根據(jù)通過本發(fā)明人進行的進一步的研究,已發(fā)現(xiàn),當(dāng)由至少兩層構(gòu)成配置在基材 上的墨接收層時,作為下層的第一墨接收層包含平均粒徑為I.OymW上的無定形二氧化 娃,作為最表層的第二墨接收層包含膠體二氧化娃,且第二墨接收層的表面的均方根斜率 RAq為0. 3W上,可抑制落粉現(xiàn)象同時維持無光澤外觀。
[0011] [記錄介質(zhì)]
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的實施方案的記錄介質(zhì)依次包括基材、第一墨接收層、和作為最表層 的第二墨接收層。只要實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的實施方案的優(yōu)點,可在基材與第一墨接收層之間、 或在第一墨接收層與第二墨接收層之間配置另一層。根據(jù)本發(fā)明的實施方案的記錄介質(zhì)是 特別地用于噴墨記錄法中的記錄介質(zhì),即噴墨記錄介質(zhì)。下文中,將描述根據(jù)本發(fā)明的實施 方案的記錄介質(zhì)的各組件。 陽OU] <基材〉
[0014] 基材是例如,僅由原紙構(gòu)成的基材、或包括原紙和樹脂層的基材,即包括用樹脂涂 覆的原紙的基材。在本發(fā)明的實施方案中,可W使用包括原紙和樹脂層的基材,即樹脂涂覆 的基材。在該情況下,樹脂層可W配置在原紙的僅一個表面上,但是期望配置在原紙的兩個 表面上。
[0015] 原紙主要由木漿制成,任選地包含諸如聚丙締等合成漿、和諸如尼龍或聚醋等合 成纖維。木漿的實例包括闊葉樹漂白牛皮紙漿(LBKP)、闊葉樹漂白亞硫酸鹽紙漿(LBSP)、 針葉樹漂白牛皮紙漿(NBKP)、針葉樹漂白亞硫酸鹽紙漿(NBSP)、闊葉樹溶解紙漿(LD巧、 針葉樹溶解紙漿(ND巧、闊葉樹未漂牛皮紙漿(LUK巧和針葉樹未漂牛皮紙漿(NUKP)。它 們可W適當(dāng)?shù)貑为毣騑兩種W上的組合來使用。運些木漿中,特別地使用包含大量短纖維 (shodstaple)組分的LBKP、NBSP、LBSP、NDP和LDP。紙漿特別地是僅包含少量雜質(zhì)的化 學(xué)紙漿(硫酸鹽紙漿或亞硫酸鹽紙漿)。也可使用通過漂白處理使白色度改善的紙漿。紙 基材可適當(dāng)?shù)匕┠z劑、白色顏料、紙力增強劑(paperstrengtheningagent)、巧光增 白劑、水分保持劑、分散劑、和軟化劑等。
[0016] 在本發(fā)明的實施方案中,原紙的JISP8118中規(guī)定的紙密度優(yōu)選為0.6g/cm3w上且1. 2g/cm3W下,并且更優(yōu)選0. 7g/cm3W上且1. 2g/cm3W下。 陽017]在本發(fā)明的實施方案中,當(dāng)基材包括樹脂層時,樹脂層的厚度例如為,IOymW上 且60ymW下。在本發(fā)明的實施方案中,樹脂層的厚度通過下述方法來計算。通過用切片 機切出記錄介質(zhì)來使記錄介質(zhì)的截面暴露,并用掃描電子顯微鏡觀察截面。樹脂層的厚度 在任意選擇的100個W上的點處測量,并且將厚度的平均值定義為樹脂層的厚度。在本發(fā) 明的實施方案中,其它層的厚度也通過相同的方法來計算。
[0018] 用于樹脂層的樹脂例如為,熱塑性樹脂。熱塑性樹脂的實例包括丙締酸類樹脂、丙 締酸類娃樹脂、聚締控樹脂和苯乙締-下二締共聚物。其中,特別地使用聚締控樹脂。在本 發(fā)明的實施方案中,聚締控樹脂是指使用締控作為單體的聚合物。締控樹脂的具體實例包 括乙締、丙締和異下締等的聚合物和共聚物。聚締控樹脂可W適當(dāng)?shù)貑为毣騑兩種W上的 組合來使用。其中,特別地使用聚乙締。聚乙締例如是,低密度聚乙締(LDP巧或高密度聚 乙締化DPE)。樹脂層可包含例如,控制不透明度、白色度和色相的白色顏料、巧光增白劑或 群青藍(ultramarineblue)。其中,可包含白色顏料W改善不透明度。白色顏料的實例包 括金紅石型氧化鐵和銳鐵礦型氧化鐵。
[0019] 在本發(fā)明的實施方案中,在第一墨接收層側(cè)的基材表面的JIS80601:2001中規(guī)定 的粗糖度輪廓單元的均方根斜率RAq優(yōu)選為0.IW上,并且更優(yōu)選0. 3W上。均方根斜率RAq優(yōu)選為2.0W下,并且更優(yōu)選1.0W下。
[0020] <墨接收層〉
[0021] 在本發(fā)明的實施方案中,墨接收層可W配置于基材的僅一個表面或兩個表面上。 墨接收層的厚度例如為,18. 0ymW上且55. 0ymW下。在本發(fā)明的實施方案中,墨接收 層可W由兩層或=層W上構(gòu)成。在本發(fā)明的實施方案中,墨接收層的干燥涂布量優(yōu)選為 18. 0g/m2W上且55. 0g/m2W下,并且更優(yōu)選18. 0g/m2W上且50. 0g/m2W下。當(dāng)墨接收層 由多層構(gòu)成時,墨接收層的干燥涂布量是指所有層的總干燥涂布量。下文中,將描述可包含 于墨接收層中的材料。
[0022] (第一墨接收層)
[0023] 在本發(fā)明的實施方案中,第一墨接收層包含平均粒徑為LOymW上的無定形二 氧化娃。
[0024] (1)平均粒徑為1. 0ymW上的無定形二氧化娃 陽0巧]在本發(fā)明的實施方案中,無定形二氧化娃的平均粒徑優(yōu)選為LOymW上且 15. 0ymW下,并且更優(yōu)選1. 0ymW上且8. 0ymW下。在本發(fā)明的實施方案中,平均粒徑 是指具有當(dāng)用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察記錄介質(zhì)的截面時辨認為顆粒的最大單元的顆 粒的平均直徑。更具體而言,用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察記錄介質(zhì)的截面,測量任意選擇 的100個顆粒的直徑,并且計算直徑的數(shù)量平均值。在無定形二氧化娃中,觀察通過一次顆 粒的締合而形成的二次顆粒。因此,"無定形二氧化娃的平均粒徑"是指"無定形二氧化 娃的平均二次粒徑"。無定形二氧化娃的一次粒徑優(yōu)選為InmW上且SOnmW下,并且更優(yōu) 選2nmW上且70nmW下。如果一次粒徑小于Inm,則可劣化墨吸收性。如果一次粒徑大于 80nm,貝Ij可劣化顯色性kolordevelopment)。
[0026] 無定形二氧化娃是指W干燥重量為基準包含93%W上的Si〇2、約5%W下的AI2O3 和約5%W下的NazO的顆粒,例如所謂的白炭黑、硅膠和多孔性合成無定形二氧化娃。多孔 性合成無定形二氧化娃的生產(chǎn)方法分類為干式法和濕式法,并且干式法分類為燃燒法和加 熱法。濕式法分類為沉淀法
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