干燥裝置和干燥處理方法
【專利摘要】本發(fā)明的干燥裝置和干燥處理方法在短時(shí)間內(nèi)高效率地去除在對(duì)基板上的有機(jī)材料膜進(jìn)行干燥的干燥裝置的處理容器內(nèi)殘留的溶劑。干燥裝置(100)具備能夠進(jìn)行抽真空的處理容器(1)、在處理容器(1)內(nèi)支承基板(S)的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)(3)、向處理容器(1)的內(nèi)部照射紫外線的紫外線照射裝置(5)以及控制部(6)。紫外線照射裝置(5)作為溶劑分解單元而發(fā)揮功能，其在從處理容器(1)搬出已完成干燥處理的基板(S)之后，將殘留在處理容器(1)內(nèi)的溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物。
【專利說(shuō)明】干燥裝置和干燥處理方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種例如在制造有機(jī)EL元件的過(guò)程中為了進(jìn)行基板上的有機(jī)材料膜的干燥而能夠利用的干燥裝置和干燥處理方法。

【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)EL(Electro Luminescence:電致發(fā)光)元件是利用通過(guò)流通電流而產(chǎn)生的有機(jī)化合物的發(fā)光(luminescence)的發(fā)光元件,成為在一對(duì)電極之間夾持多個(gè)有機(jī)功能膜的層疊體(以下，將該層疊體統(tǒng)稱為“EL層”)而成的結(jié)構(gòu)。在此，EL層例如具有從陽(yáng)極側(cè)起按[空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]、[空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]或者[空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層/電子注入層]等順序?qū)盈B而成的結(jié)構(gòu)。
[0003]EL層的形成是通過(guò)針對(duì)各層在基板上蒸鍍或者涂布有機(jī)材料來(lái)進(jìn)行的。在形成高精度的微細(xì)圖案的情況下，認(rèn)為將噴墨印刷法用作涂布方法時(shí)有利。
[0004]在通過(guò)噴墨印刷法印刷在基板上的有機(jī)材料膜中含有大量的源自墨的溶劑，因此為了去除溶劑而進(jìn)行減壓干燥。干燥后的有機(jī)材料膜進(jìn)一步在低氧環(huán)境中被進(jìn)行烘烤(bake)處理。通過(guò)該烘烤處理，有機(jī)材料膜變化為構(gòu)成EL層的有機(jī)功能膜。
[0005]在進(jìn)行干燥處理時(shí)，從基板上的有機(jī)材料膜揮發(fā)出大量的溶劑。因此，為了使針對(duì)多個(gè)基板的干燥處理?xiàng)l件恒定，重要的是在干燥處理之后迅速地從干燥裝置的處理容器內(nèi)去除溶劑。但是，當(dāng)對(duì)干燥裝置的處理容器內(nèi)進(jìn)行減壓時(shí)，隨著壓力的降低而排氣量逐漸減少，因此在高真空狀態(tài)下排氣量減少而溶劑的去除效率降低。另外，存在以下問(wèn)題:在高真空狀態(tài)下，分子量大的高沸點(diǎn)溶劑的移動(dòng)中擴(kuò)散占主導(dǎo)，因此移動(dòng)小而不容易被排出到處理容器外。
[0006]作為去除有機(jī)EL制造裝置等的處理容器內(nèi)的有機(jī)物的方法，在專利文獻(xiàn)I中提出了一種向處理容器內(nèi)注入含臭氧的氣體的方法。
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-138041號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求1等)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0009]本發(fā)明的目的在于，在短時(shí)間內(nèi)高效率地去除在使基板上的有機(jī)材料膜干燥的干燥裝置的處理容器內(nèi)殘留的溶劑。
[0010]用于解決問(wèn)題的方案
[0011]本發(fā)明的干燥裝置是去除在基板的表面涂布的有機(jī)材料膜中的溶劑后進(jìn)行干燥的干燥裝置。本發(fā)明的干燥裝置具備:能夠進(jìn)行抽真空的處理容器；支承構(gòu)件，其在上述處理容器內(nèi)支承上述基板；以及溶劑分解單元，在從上述處理容器搬出已完成干燥處理的上述基板之后，該溶劑分解單元將殘留在上述處理容器內(nèi)的上述溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物。
[0012]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述溶劑分解單元也可以具有紫外線照射裝置，該紫外線照射裝置向上述處理容器的內(nèi)部照射紫外線。
[0013]在本發(fā)明的干燥裝置中，也可以還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑，上述紫外線照射裝置被安裝于在構(gòu)成上述處理容器的壁上設(shè)置的透過(guò)窗的外部，向上述溶劑捕集部照射紫外線。
[0014]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述透過(guò)窗也可以被設(shè)置于上述支承構(gòu)件的下方。
[0015]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述溶劑分解單元也可以還具有氧化性氣體供給裝置，該氧化性氣體供給裝置將氧化性氣體導(dǎo)入到上述處理容器內(nèi)。
[0016]在本發(fā)明的干燥裝置中，也可以還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑，上述氧化性氣體供給裝置向上述溶劑捕集部供給上述氧化性氣體。
[0017]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述溶劑分解單元也可以具有等離子體供給裝置，該等離子體供給裝置將等離子體導(dǎo)入到上述處理容器內(nèi)。
[0018]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述等離子體供給裝置也可以具備:等離子體產(chǎn)生部，其產(chǎn)生上述等離子體；氣體供給源，其向上述等離子體產(chǎn)生部供給氣體；以及等離子體供給路徑，其將由上述等離子體產(chǎn)生部產(chǎn)生的等離子體供給至上述處理容器內(nèi)。在該情況下，上述等離子體供給路徑也可以與上述處理容器的等離子體導(dǎo)入部相連接。
[0019]另外，在本發(fā)明的干燥裝置中，也可以還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑，上述等離子體導(dǎo)入部被設(shè)置于面對(duì)上述溶劑捕集部的位置，使得能夠?qū)⑸鲜龅入x子體供給至上述溶劑捕集部。
[0020]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述溶劑捕集部也可以具有一個(gè)或多個(gè)金屬板，上述一個(gè)或多個(gè)金屬板具有多個(gè)貫通開口。
[0021]在本發(fā)明的干燥裝置中，上述溶劑捕集部也可以還具有冷卻裝置，該冷卻裝置冷卻上述金屬板。
[0022]本發(fā)明的干燥處理方法具備:干燥處理工序，在干燥裝置的處理容器內(nèi)，使在基板的表面涂布的有機(jī)材料膜中的溶劑揮發(fā)來(lái)去除該溶劑；以及更新(日文:U 7Λ )工序，在上述干燥處理工序結(jié)束之后將上述基板從上述處理容器搬出之后，將殘留在上述處理容器內(nèi)的上述溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物來(lái)從上述處理容器內(nèi)排出。
[0023]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述更新工序也可以包括以下步驟:將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力；在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線；將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力；以及在將上述處理容器內(nèi)減壓至上述第二壓力的途中，結(jié)束上述紫外線的照射。而且，在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述第一壓力在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。
[0024]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序:將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力；在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體；在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為比上述第一壓力高的第三壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線；結(jié)束上述氧化性氣體的導(dǎo)入；結(jié)束上述紫外線的照射；以及在結(jié)束上述紫外線的照射之后，將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力。在該情況下，上述第一壓力也可以在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)，上述第三壓力下的氧化性氣體的分壓也可以在50Pa?150Pa的范圍內(nèi)。
[0025]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序:將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至第三壓力；在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為上述第三壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線；結(jié)束上述紫外線的照射；以及在結(jié)束上述紫外線的照射之后，將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第三壓力的第二壓力。在該情況下，上述第三壓力下的氧氣分壓也可以在50Pa?150Pa的范圍內(nèi)。
[0026]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述紫外線的波長(zhǎng)也可以在10nm以上且200nm以下的范圍內(nèi)。
[0027]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序:將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力；在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體；在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為比上述第一壓力高的第四壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器的內(nèi)部導(dǎo)入上述氧化性氣體的等離子體；結(jié)束上述氧化性氣體和上述等離子體的導(dǎo)入；以及將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力。在該情況下，上述第一壓力也可以在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)，上述第四壓力也可以在50Pa?300Pa的范圍內(nèi)。
[0028]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述第二壓力也可以為lX10_4Pa以下。
[0029]在本發(fā)明的干燥處理方法中，上述有機(jī)材料膜也可以是在制造有機(jī)電致發(fā)光元件(Organic Electroluminescence Device)的過(guò)程中通過(guò)噴墨印刷法涂布到上述基板上的。
[0030]發(fā)明的效果
[0031]根據(jù)本發(fā)明的干燥裝置和干燥處理方法，通過(guò)具備溶劑分解單元，能夠在短時(shí)間內(nèi)高效率地更新對(duì)基板進(jìn)行干燥處理之后的處理容器內(nèi)。因而，能夠大幅提高更換多個(gè)基板來(lái)進(jìn)行干燥處理時(shí)的生產(chǎn)率。另外，通過(guò)溶劑分解單元，能夠可靠地去除容易殘留在處理容器內(nèi)的高沸點(diǎn)溶劑，因此在依次切換多個(gè)基板來(lái)進(jìn)行處理時(shí)，能夠調(diào)整處理容器內(nèi)的狀況來(lái)進(jìn)行穩(wěn)定的干燥處理。這樣，根據(jù)本發(fā)明的干燥裝置和干燥處理方法，還能夠提高例如有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的可靠性。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0032]圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的干燥裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0033]圖2是表示第一實(shí)施方式的干燥裝置的變形例的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0034]圖3是表示溶劑捕集部的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0035]圖4是表示捕集板的一例的俯視圖。
[0036]圖5A是示意性地表示通過(guò)紫外線照射使溶劑中包含的有機(jī)化合物分解的過(guò)程的說(shuō)明圖。
[0037]圖5B是示意性地表示通過(guò)紫外線照射使溶劑中包含的有機(jī)化合物分解的過(guò)程的說(shuō)明圖。
[0038]圖6是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序中的壓力的時(shí)間變化的圖。
[0039]圖1是表示有機(jī)EL元件的制造工序的概要的流程圖。
[0040]圖8是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的干燥裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0041]圖9是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的干燥裝置的變形例的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0042]圖10是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力的時(shí)間變化的圖。
[0043]圖11是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力的時(shí)間變化的另一例的圖。
[0044]圖12是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的干燥裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0045]圖13是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的干燥裝置的變形例的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0046]圖14是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力的時(shí)間變化的圖。
[0047]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0048]1:處理容器；3:載置臺(tái)；5:紫外線照射裝置；6:控制部；11:底壁；13:側(cè)壁；13a:搬入搬出口 ；13b:貫通開口 ；13c:透過(guò)窗；15:頂部；15a:氣體導(dǎo)入部；17:排氣管；19:排氣裝置；23 =APC閥；25:壓力計(jì)；27:氣體供給裝置；31:配管；33:質(zhì)量流量控制器(MFC)；35:開閉閥；61:控制器；62:用戶接口 ；63:存儲(chǔ)部；100:干燥裝置；200:紫外線；S:基板；GV:閘閥(gate valve)。

【具體實(shí)施方式】
[0049]以下，參照附圖來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0050][第一實(shí)施方式]
[0051]圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的單片式干燥裝置的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。本實(shí)施方式的干燥裝置100使用于以下干燥處理:對(duì)作為被處理體的例如有機(jī)EL顯示器用的玻璃基板(以下，簡(jiǎn)單記為“基板”)S，去除在其表面涂布的有機(jī)材料膜中的溶劑后進(jìn)行干燥。
[0052]本實(shí)施方式的干燥裝置100具備:能夠進(jìn)行抽真空的處理容器I ;在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3 ;向處理容器I的內(nèi)部照射紫外線200的紫外線照射裝置5 ;以及控制部6。
[0053]<處理容器>
[0054]處理容器I為能夠進(jìn)行抽真空的耐壓容器。處理容器I由金屬材料形成。作為形成處理容器I的材料，例如使用鋁、鋁合金、不銹鋼等。處理容器I具備底壁11、方筒狀的四個(gè)側(cè)壁13以及頂部15。
[0055]在側(cè)壁13上設(shè)置有用于將基板S搬入裝置內(nèi)以及從裝置內(nèi)搬出基板S的搬入搬出口 13a。搬入搬出口 13a用于與處理容器I的外部之間搬入搬出基板S。在搬入搬出口13a處設(shè)置有閘閥GV。閘閥GV具有打開和關(guān)閉搬入搬出口 13a的功能，在關(guān)閉狀態(tài)下氣密地密封處理容器I，并且在打開狀態(tài)下能夠在處理容器I與外部之間進(jìn)行基板S的輸送。
[0056]另外，在側(cè)壁13上設(shè)置有貫通開口 13b。在該貫通開口 13b處，以保持氣密性的狀態(tài)安裝有透過(guò)窗13c，使得能夠入射來(lái)自處理容器I的外部的光線。
[0057]在底壁11上設(shè)置有多個(gè)排氣口 11a。排氣口 Ila經(jīng)由排氣管17而與外部的排氣裝置19相連接。構(gòu)成為:通過(guò)驅(qū)動(dòng)該排氣裝置19，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)減壓排氣至規(guī)定的真空度、例如0.1Pa左右的壓力。
[0058]〈載置臺(tái)〉
[0059]在處理容器I的內(nèi)部配置有作為支承基板S的支承裝置的載置臺(tái)3。此外，在圖1中，用雙點(diǎn)劃線表示載置在載置臺(tái)3上的基板S。載置臺(tái)3被固定于底壁11。雖然省略圖示，但是載置臺(tái)3具有用于使基板S升降移位的機(jī)構(gòu)、例如升降銷等，能夠在用于交接基板S的交接位置與用于載置在載置臺(tái)3上來(lái)進(jìn)行干燥處理的處理位置之間調(diào)整基板S的高度位置。
[0060]<紫外線照射裝置>
[0061]在本實(shí)施方式的干燥裝置100中，紫外線照射裝置5作為溶劑分解單元而發(fā)揮功能，其在從處理容器I搬出已完成干燥處理的基板S之后，將殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物。
[0062]紫外線照射裝置5具有光源部5a。紫外線照射裝置5以使光源部5a面對(duì)透過(guò)窗13c的方式安裝于處理容器I的側(cè)壁13的外部。從光源部5a照射的規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線200能夠經(jīng)由透過(guò)窗13c入射到處理容器I內(nèi)。作為紫外線200的波長(zhǎng)，例如優(yōu)選設(shè)在10nm以上且300nm以下的范圍內(nèi)，特別優(yōu)選的是作為易于被溶劑分子吸收的波長(zhǎng)的10nm以上且200nm以下的范圍內(nèi)。
[0063]〈壓力控制機(jī)構(gòu)〉
[0064]本實(shí)施方式的干燥裝置100還具備排氣裝置19。此外，排氣裝置19既可以是干燥裝置100的一個(gè)結(jié)構(gòu)部分，也可以是與干燥裝置100分開的外部裝置。排氣裝置19例如具有渦輪分子泵、干泵等真空泵。干燥裝置100還具備用于將排氣口 Ila與排氣裝置19進(jìn)行連接的排氣管17以及被設(shè)置于排氣管17的中途位置的APC(Adaptive Pressure Control:自適應(yīng)壓力控制)閥23。通過(guò)使排氣裝置19的真空泵進(jìn)行動(dòng)作、并且調(diào)節(jié)APC閥23的開度，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅的內(nèi)部空間減壓排氣至規(guī)定的真空度。此外，APC閥23由一個(gè)主閥和多個(gè)從閥構(gòu)成，各從閥與主閥連動(dòng)地進(jìn)行動(dòng)作。
[0065]另外，本實(shí)施方式的干燥裝置100還具備用于監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力的壓力計(jì)25。壓力計(jì)25將處理容器I內(nèi)的測(cè)量壓力作為電信號(hào)發(fā)送到上述主閥的APC閥23。
[0066]在本實(shí)施方式中，由排氣裝置19、排氣管17、APC閥23以及壓力計(jì)25來(lái)構(gòu)成對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣并且調(diào)節(jié)為規(guī)定壓力的壓力控制機(jī)構(gòu)。
[0067]<氣體供給機(jī)構(gòu)>
[0068]本實(shí)施方式的干燥裝置100具備氣體供給裝置27，該氣體供給裝置27向處理容器I內(nèi)供給氣體。此外，氣體供給裝置27既可以是干燥裝置100的一個(gè)結(jié)構(gòu)部分，也可以是與干燥裝置100分開的外部裝置。在處理容器I的頂部15上設(shè)置有氣體導(dǎo)入部15a。氣體導(dǎo)入部15a上連接有氣體供給裝置27。氣體導(dǎo)入部15a也可以被設(shè)置于頂部15以外的位置、例如側(cè)壁13等。氣體供給裝置27具備氣體供給源29和一個(gè)或多個(gè)配管31 (僅圖示一個(gè))，該氣體供給源29向氣體導(dǎo)入部15a供給氣體，該配管31對(duì)氣體供給源29與氣體導(dǎo)入部15a進(jìn)行連接，向氣體導(dǎo)入部15a供給氣體。在氣體導(dǎo)入部15a處設(shè)置有未圖示的噴嘴、噴頭。另外，氣體供給裝置27在配管31的中途位置具備控制氣體流量的質(zhì)量流量控制器(MFC)33和多個(gè)開閉閥35(僅圖示兩個(gè))。由質(zhì)量流量控制器33和開閉閥35來(lái)控制從氣體導(dǎo)入部15a導(dǎo)入到處理容器I內(nèi)的氣體的流量等。作為從氣體供給源29供給的氣體，例如優(yōu)選使用氧氣、臭氧氣體等氧化性氣體、氬氣等用于形成等離子體的惰性氣體、氮?dú)?、干空氣等置換用氣體。
[0069]<控制部>
[0070]如圖1所示，干燥裝置100的各結(jié)構(gòu)部為與控制部6連接而被控制的結(jié)構(gòu)。控制部6具備包括CPU的控制器61、用戶接口 62以及存儲(chǔ)部63?？刂破?1具有計(jì)算機(jī)功能，在干燥裝置100中統(tǒng)一控制各結(jié)構(gòu)部。用戶接口 62由鍵盤、顯示器等構(gòu)成，該鍵盤用于由工序管理者為了管理干燥裝置100而進(jìn)行命令的輸入操作等，該顯示器用于將干燥裝置100的運(yùn)轉(zhuǎn)狀況可視化來(lái)進(jìn)行顯示。在存儲(chǔ)部63中保存有制程，該制程記錄了用于在控制器61的控制下實(shí)現(xiàn)由干燥裝置100執(zhí)行的各種處理的控制程序(軟件)、處理?xiàng)l件數(shù)據(jù)等。用戶接口 62和存儲(chǔ)部63與控制器61相連接。
[0071]而且，根據(jù)需要，根據(jù)來(lái)自用戶接口 62的指示等從存儲(chǔ)部63調(diào)用任意的制程來(lái)使控制器61執(zhí)行該制程，由此在控制器61的控制下進(jìn)行干燥裝置100中的期望的處理。上述控制程序、處理?xiàng)l件數(shù)據(jù)等制程能夠利用在計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)、例如CD-ROM、硬盤、軟盤、快閃存儲(chǔ)器等中存儲(chǔ)的狀態(tài)的制程?；蛘?，還能夠從其它裝置例如經(jīng)由專用線路隨時(shí)傳送來(lái)聯(lián)機(jī)使用。
[0072][第一實(shí)施方式的變形例]
[0073]接著，參照?qǐng)D2?圖4說(shuō)明第一實(shí)施方式的變形例的干燥裝置100A。圖2是表示本變形例的干燥裝置100A的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。本變形例的干燥裝置100A在處理容器I內(nèi)具備溶劑捕集部70，該溶劑捕集部70捕集從形成在基板S上的有機(jī)材料膜中揮散的溶齊U。溶劑捕集部70被設(shè)置于載置臺(tái)3的周圍。在本變形例中，溶劑捕集部70被配置在與排氣裝置19連接的排氣口 Ila的上方，使得能夠迅速地進(jìn)行所捕集的溶劑的排出。溶劑捕集部70通過(guò)使從有機(jī)材料膜中氣化的處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的氣體狀的溶劑凝結(jié)來(lái)捕獲。
[0074]另外，在本實(shí)施方式中，多個(gè)紫外線照射裝置5以能夠向溶劑捕集部70照射紫外線200的方式設(shè)置于處理容器I的頂部15。紫外線照射裝置5具有光源部5a。紫外線照射裝置5以使光源部5a面對(duì)被設(shè)置于頂部15的貫通開口 15b處的透過(guò)窗15c的方式安裝于處理容器I的頂部15的外部。從光源部5a照射的規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線200經(jīng)由透過(guò)窗15c被入射到處理容器I內(nèi)，能夠向溶劑捕集部70照射。
[0075]本變形例中的其它結(jié)構(gòu)與圖1的干燥裝置100相同，因此對(duì)相同的結(jié)構(gòu)附加相同的標(biāo)記而省略說(shuō)明。
[0076]圖3是表示溶劑捕集部70的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的剖視圖。溶劑捕集部70具備一個(gè)或多個(gè)作為金屬板的捕集板71。捕集板71為呈矩形的板狀，形成有多個(gè)貫通開口 71a。捕集板71被未圖示的支承部所支承。此外，也可以將捕集板71直接固定于處理容器I的側(cè)壁13。
[0077]捕集板71也可以為一個(gè)，但是為了提高溶劑的捕集效率，例如優(yōu)選在2?20個(gè)的范圍內(nèi)使用。通過(guò)增減捕集板71的設(shè)置個(gè)數(shù)，來(lái)使溶劑捕集部70中的捕集板71的合計(jì)表面積變化，能夠調(diào)節(jié)與溶劑蒸氣的接觸面積。
[0078]捕集板71優(yōu)選由導(dǎo)熱性優(yōu)良的材質(zhì)、例如鋁、不銹鋼等構(gòu)成。為了加大溶劑捕集部70整體的表面積來(lái)提高溶劑的捕集效率，能夠?qū)⒁粋€(gè)捕集板71的厚度設(shè)為例如0.2mm?2mm的范圍內(nèi)。另外，為了提高溶劑的捕集效率，能夠?qū)盈B多個(gè)捕集板71的情況下的間隔設(shè)為例如Imm?20mm的范圍內(nèi)。
[0079]在本實(shí)施方式中，如圖4所示，將大小相同的圓形的多個(gè)貫通開口 71a在捕集板71的面內(nèi)以固定間隔均等地進(jìn)行排列。捕集板71的貫通開口 71a是例如在俯視觀察時(shí)呈圓形的孔。此外，貫通開口 71a的形狀并不限定于圓形，例如也可以是橢圓形、長(zhǎng)方形等多角形。貫通開口 71a的大小、形狀既可以是全部相同，也可以在捕集板71的面內(nèi)變化。另外，在捕集板71的面內(nèi)，能夠以任意的排列來(lái)形成貫通開口 71a。
[0080]捕集板71的面內(nèi)的貫通開口 71a的開口率還根據(jù)捕集板71的設(shè)置個(gè)數(shù)而不同，但是例如優(yōu)選在20%?80%的范圍內(nèi)。在此，開口率是指假設(shè)不存在貫通開口 71a的情況下的捕集板71的單面面積上所占的貫通開口 71a的開口面積的合計(jì)。通過(guò)將捕集板71的面內(nèi)的貫通開口 71a的開口率設(shè)為上述范圍內(nèi)，能夠調(diào)節(jié)與溶劑蒸氣的接觸面積，并且能夠調(diào)節(jié)從基板S側(cè)至排氣口 Ila的揮發(fā)蒸氣的排氣傳導(dǎo)性(日文:排気- >夕'々夕)。
[0081]關(guān)于捕集板71的表面，根據(jù)促進(jìn)在處理容器I內(nèi)氣化的溶劑的凝結(jié)而使得容易附著于捕集板71的表面的觀點(diǎn)，例如算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選在0.3 μ m?13 μ m的范圍內(nèi)。在捕集板71的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra小于0.3μπι時(shí)，難以去除凝結(jié)的溶劑，當(dāng)超過(guò)13 μ m時(shí)在捕集板71的表面難以產(chǎn)生溶劑的凝結(jié)，從而捕集效率降低。
[0082]在本變形例中，如圖3所示，多個(gè)捕集板71在相互分離的狀態(tài)下平行地層疊配置。另外，優(yōu)選的是，多個(gè)捕集板71中至少兩個(gè)捕集板71錯(cuò)開位置地配置使得貫通開口 71a的整體在層疊方向上不重疊。另外，更優(yōu)選的是，至少層疊方向上鄰接的兩個(gè)捕集板71錯(cuò)開位置地配置使得貫通開口 71a的整體在層疊方向上不重疊。此外，被層疊的多個(gè)捕集板71也可以是貫通開口 71a的一部分在層疊方向上重疊的配置。
[0083]這樣，在本實(shí)施方式中，由多個(gè)捕集板71形成迷宮結(jié)構(gòu)。從基板S揮發(fā)的溶劑蒸氣的氣流AF通過(guò)捕集板71的迷宮結(jié)構(gòu)而前進(jìn)方向被遮擋，蛇行地經(jīng)過(guò)溶劑捕集部70。這樣，通過(guò)在鄰接的捕集板71之間錯(cuò)開貫通開口 71a的位置，增加經(jīng)過(guò)溶劑捕集部70的溶劑蒸氣與捕集板71表面的接觸機(jī)會(huì)，能夠提高捕集效率。另外，通過(guò)增減具有多個(gè)貫通開口71a的捕集板71的個(gè)數(shù)，來(lái)能夠容易調(diào)節(jié)從基板S側(cè)至排氣口 Ila的排氣傳導(dǎo)性。
[0084]在本實(shí)施方式的干燥裝置100中，溶劑捕集部70為了提高各捕集板71中的溶劑的捕集效率，具備捕集促進(jìn)裝置，該捕集促進(jìn)裝置促進(jìn)溶劑向捕集板71的附著。在此，作為捕集促進(jìn)裝置能夠利用溫度調(diào)節(jié)裝置。溫度調(diào)節(jié)裝置例如能夠具備多個(gè)帕爾貼(Peltie)元件73以及向各帕爾貼元件73供給直流電流的未圖示的電源部和供電線。各帕爾貼元件73構(gòu)成為例如在-20°C?80°C的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行溫度控制。通過(guò)從電源部對(duì)各帕爾貼元件73供電，使帕爾貼元件73的下表面?zhèn)任鼰?，從而能夠冷卻面接觸的捕集板71。通過(guò)冷卻捕集板71，處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的溶劑容易凝結(jié)在捕集板71的表面，因此能夠提高溶劑捕集部70中的溶劑的捕集效率。另外，通過(guò)對(duì)捕集板71進(jìn)行加熱，也能夠使溶劑氣化來(lái)迅速地進(jìn)行排氣。
[0085]在本變形例的干燥裝置100A中，以能夠向溶劑捕集部70照射紫外線200的方式配置有紫外線照射裝置5，因此能夠?qū)τ扇軇┎都?0捕集到的溶劑高效率地照射紫外線200。因而，能夠提高從處理容器I內(nèi)去除溶劑的去除效率。
[0086]此外，也可以不配置捕集促進(jìn)裝置。另外，作為捕集促進(jìn)裝置，還可以代替帕爾貼元件73而例如使用制冷機(jī)(chiller)、熱泵等冷卻裝置。
[0087][干燥處理的過(guò)程]
[0088]說(shuō)明使用如上那樣構(gòu)成的干燥裝置100、100A的干燥處理的過(guò)程。首先，作為前階段，通過(guò)外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)在基板S上以規(guī)定的圖案印刷有機(jī)材料膜。接著，打開閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)將印刷了有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置100、100A的載置臺(tái)3。
[0089]接著，關(guān)閉干燥裝置100、100A的閘閥GV，使排氣裝置19進(jìn)行動(dòng)作來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后，一邊通過(guò)壓力計(jì)25來(lái)監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力，一邊控制APC閥23的開度來(lái)減壓至規(guī)定的真空度。通過(guò)這樣，能夠?qū)嵤┤コ诨錝上形成的有機(jī)材料膜中包含的溶劑的干燥處理。在該干燥處理之前或者干燥處理的期間，在變形例的干燥裝置100A中，例如利用帕爾貼元件73來(lái)冷卻溶劑捕集部70的捕集板71，由此能夠抑制處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的溶劑附著于內(nèi)壁，能夠通過(guò)捕集板71來(lái)高效率地進(jìn)行捕集。
[0090]接著，使排氣裝置19停止，在將處理容器I內(nèi)的壓力上升至規(guī)定壓力之后，打開干燥裝置100U00A的閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。通過(guò)以上的過(guò)程，結(jié)束對(duì)一個(gè)基板S的干燥處理。
[0091]在結(jié)束干燥處理而搬出了基板S的處理容器I內(nèi)殘留有從基板S上的有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑。特別是在處理容器I的內(nèi)壁面附著有溶劑。在像這樣附著有溶劑的狀態(tài)下對(duì)下一個(gè)及以后的基板S進(jìn)行干燥處理時(shí)，難以將處理容器I內(nèi)的狀況保持恒定。因此，在搬出了結(jié)束干燥處理的基板S之后，進(jìn)行處理容器I內(nèi)的更新工序。通過(guò)該更新工序，能夠使殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑氣化來(lái)迅速地從處理容器I內(nèi)排出。
[0092]本實(shí)施方式的干燥裝置100、100A具備作為溶劑分解單元的紫外線照射裝置5。在更新工序中，在干燥處理結(jié)束而基板S的搬出結(jié)束之后，從紫外線照射裝置5向處理容器I內(nèi)照射紫外線200。也就是說(shuō)，在本實(shí)施方式的干燥裝置100、100A中，通過(guò)對(duì)在處理容器I內(nèi)的內(nèi)壁面等上附著的溶劑中包含的有機(jī)化合物照射紫外線200，利用紫外線200的能量來(lái)分解為易于揮散的低分子量的化合物。
[0093]用于形成有機(jī)材料膜的墨包含溶質(zhì)和溶劑，作為干燥處理的對(duì)象的成分主要為溶劑。作為溶劑中含有的有機(jī)化合物，大多為高沸點(diǎn)化合物，例如可以列舉出:1，3- 二甲基-2-咪唑烷酮(1，3-dimethyl-2-1midazolidinone,沸點(diǎn) 220 V、熔點(diǎn)80C )、4_叔丁基苯甲醚(4-ter-Butylanisole,沸點(diǎn)222°C、熔點(diǎn)18°C )、反式-茴香腦(Trans-Anethole,沸點(diǎn) 235 °C、溶點(diǎn) 20 °C )、鄰苯二甲醚(I, 2-Dimethoxybenzene,沸點(diǎn)206.7°C、熔點(diǎn) 22.5°C )、2_ 甲氧基聯(lián)苯(2-Methoxybiphenyl，沸點(diǎn) 274°C、熔點(diǎn) 28 °C )、苯基醚(Phenyl Ether,沸點(diǎn) 258.3 °C、熔點(diǎn) 28 °C )、2_ 萘乙醚(2-Ethoxynaphthalene，沸點(diǎn)282 °C、熔點(diǎn)35 °C )、芐基苯基醚(Benzyl Phenyl Ether,沸點(diǎn)288 V、熔點(diǎn)39 °C )、2，6- 二甲氧基甲苯(2，6-Dimethoxytoluene，沸點(diǎn) 222 °C、熔點(diǎn) 39 °C )、2-丙氧基萘(2-Propoxynaphthalene，沸點(diǎn) 305 °C、熔點(diǎn) 40°C )、1，2，3_ 三甲氧基苯(I, 2, 3_Trimethoxybenzene,沸點(diǎn) 235°C、溶點(diǎn) 45°C )、環(huán)己基苯(cyclohexybenzene,沸點(diǎn)237.5°C、熔點(diǎn) 50C )、十二烷基苯(dodecylbenzene，沸點(diǎn) 288°C、熔點(diǎn) _7°C )、1，2，3，4-四甲基苯(1，2，3，4-tetramethylbenzene,沸點(diǎn)203?、熔點(diǎn)76? )等。這些高沸點(diǎn)有機(jī)化合物也存在組合兩種以上配合到墨中的情況。
[0094]圖5A和圖5B是示意性地表示通過(guò)紫外線照射使溶劑中包含的有機(jī)化合物分解的過(guò)程的說(shuō)明圖。如圖5A所示，在干燥處理后的處理容器I內(nèi)殘留有機(jī)化合物201，例如附著于處理容器I的內(nèi)壁面。通過(guò)對(duì)附著于處理容器I的內(nèi)面的高沸點(diǎn)的有機(jī)化合物201照射具有分子的結(jié)合能以上的能量的紫外線200 (在圖5A中用箭頭表示)，如圖5B所示，切斷分子內(nèi)的結(jié)合，能夠分解為低分子量的化合物202、203。低分子量的化合物202、203的沸點(diǎn)比有機(jī)化合物201的沸點(diǎn)低，蒸氣壓高，易于揮散。因而，通過(guò)使排氣裝置19進(jìn)行動(dòng)作來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣，來(lái)能夠容易地向處理容器I外排出。此外，通過(guò)后述的等離子體照射，也能夠通過(guò)與圖5A、5B示出的機(jī)制相同的機(jī)制來(lái)使高沸點(diǎn)的有機(jī)化合物201脫離。
[0095]接著，參照?qǐng)D6來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序。圖6是說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力隨時(shí)間的變化的圖。
[0096]更新工序能夠包括以下步驟:
[0097]將處理容器I內(nèi)從大氣壓減壓排氣至第一壓力；
[0098]在處理容器I內(nèi)處于第一壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I內(nèi)照射紫外線200 ；
[0099]將處理容器I內(nèi)減壓至低于第一壓力的第二壓力；以及
[0100]結(jié)束紫外線200的照射。
[0101]在圖6中，縱軸表示壓力。壓力PA為大氣壓，作為第二壓力的壓力PO為將排氣裝置19的泵能力設(shè)為最大的狀態(tài)(lX10_4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸(日文:引務(wù)切D T ))。另外，作為第一壓力的壓力Pl為殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑的蒸氣壓，例如在
0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。
[0102]另外，在圖6中，橫軸表示時(shí)間。時(shí)間點(diǎn)t0為從干燥裝置100、100A的處理容器I內(nèi)搬出了結(jié)束干燥處理的基板S的狀態(tài)。
[0103]在圖6中，用實(shí)線表示進(jìn)行紫外線照射的本實(shí)施方式的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。另外，為了進(jìn)行比較，用虛線表示不進(jìn)行紫外線照射而僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。
[0104]在壓力曲線(實(shí)線)中，從時(shí)間點(diǎn)t0至?xí)r間點(diǎn)tl，對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣，使處理容器I內(nèi)降低至作為溶劑的蒸氣壓的壓力P1。通過(guò)將處理容器I內(nèi)調(diào)節(jié)為壓力P1，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑開始脫離。然后，在時(shí)間點(diǎn)tl，通過(guò)紫外線照射裝置5開始照射紫外線200。通過(guò)照射紫外線200，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201開始分解為低分子量的化合物202、203 (參照?qǐng)D5B)。由于有機(jī)化合物201的分解，從時(shí)間點(diǎn)tl起處理容器I內(nèi)的壓力轉(zhuǎn)為上升。也就是說(shuō)，壓力曲線在壓力Pl中形成向下凸的峰。
[0105]在壓力曲線(實(shí)線)中，接著，在時(shí)間點(diǎn)t2，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201幾乎全部脫離。隨之，從時(shí)間點(diǎn)t2起處理容器I內(nèi)的壓力再次轉(zhuǎn)為下降。也就是說(shuō)，壓力曲線在超過(guò)壓力Pl之處形成向上凸的峰。從時(shí)間點(diǎn)tl至?xí)r間點(diǎn)t2的期間，隨著從有機(jī)化合物201向低分子量的化合物202、203的分解進(jìn)展而促進(jìn)排出的結(jié)果，處理容器I內(nèi)的溶劑濃度降低，進(jìn)一步促進(jìn)所附著的溶劑的脫離。
[0106]在時(shí)間點(diǎn)t2以后至?xí)r間點(diǎn)t3的期間，一邊通過(guò)排氣裝置19對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊排出有機(jī)化合物201、低分子量的化合物202、203。在時(shí)間點(diǎn)t3，將處理容器I內(nèi)減壓至低于第一壓力的第二壓力。在從該時(shí)間點(diǎn)t2至t3的期間的任意的時(shí)機(jī)結(jié)束紫外線200的照射。
[0107]在處理容器I內(nèi)的壓力達(dá)到PO的時(shí)間點(diǎn)t3，使排氣裝置19停止。然后，使處理容器I內(nèi)逐漸升壓，開放至大氣。
[0108]在圖6中，當(dāng)將進(jìn)行紫外線照射的本實(shí)施方式的更新工序中的壓力曲線(實(shí)線)與僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的壓力曲線(虛線)進(jìn)行比較時(shí)，在以往的壓力曲線中，低于接近溶劑的蒸氣壓的壓力Pl為止需要到時(shí)間點(diǎn)t4。即，可知與本實(shí)施方式的更新工序相比溶劑的脫離需要更長(zhǎng)時(shí)間。在本實(shí)施方式中，在將處理容器I內(nèi)降低至作為溶劑的蒸氣壓的壓力Pl后的階段，向處理容器I內(nèi)照射紫外線200，由此能夠大幅縮短去除殘留溶劑所需的時(shí)間。因而，使用干燥裝置100、100A，能夠大幅改善切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理的情況下的生產(chǎn)率。
[0109]如上所述，本實(shí)施方式的干燥裝置100、100A具備作為溶劑分解單元的紫外線照射裝置5，由此能夠在短時(shí)間內(nèi)高效率地進(jìn)行對(duì)基板S進(jìn)行干燥處理之后的處理容器I內(nèi)的更新。因而，通過(guò)干燥裝置100、100A，能夠大幅提高更換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行干燥處理時(shí)的生產(chǎn)率。另外，通過(guò)紫外線照射，能夠可靠地去除容易殘留在處理容器I內(nèi)的高沸點(diǎn)溶劑。因而，在依次切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理時(shí)，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)調(diào)整為相同狀況來(lái)進(jìn)行穩(wěn)定的干燥處理，還能夠提高例如有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的可靠性。
[0110][對(duì)有機(jī)EL元件的制造工藝的應(yīng)用例]
[0111]在有機(jī)EL元件的制造中，在陽(yáng)極與陰極之間形成多個(gè)有機(jī)功能膜作為EL層。本實(shí)施方式的干燥裝置100U00A能夠應(yīng)用于任意的層疊結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL元件的制造。在此，列舉制造從陽(yáng)極側(cè)向陰極側(cè)具有空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層/電子注入層作為EL層的有機(jī)EL元件的情況，來(lái)說(shuō)明干燥裝置100、100A的具體處理。
[0112]圖7中示出有機(jī)EL元件的制造工序的概要。在本例中，通過(guò)步驟I?步驟8的工序來(lái)制造有機(jī)EL元件。在步驟I中，在基板S上例如通過(guò)蒸鍍法等以規(guī)定的圖案來(lái)形成陽(yáng)極(像素電極)。接著，在步驟2中，在陽(yáng)極之間通過(guò)光刻法來(lái)形成利用絕緣物的隔壁(岸，bank)。作為用于形成隔壁的絕緣材料，例如能夠使用感光性聚酰亞胺樹脂等高分子材料。
[0113]接著，在步驟3中，在步驟I中形成的陽(yáng)極上形成空穴注入層。首先，通過(guò)噴墨印刷法，在被各隔壁分隔的陽(yáng)極上印刷作為空穴注入層的材料的有機(jī)材料。接著，使用干燥裝置100、100A對(duì)這樣印刷的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于去除溶劑的減壓干燥處理。接著，將干燥處理后的基板S輸送至烘烤裝置，在大氣中進(jìn)行烘烤處理，由此形成空穴注入層。
[0114]接著，在步驟4中，在步驟3中形成的空穴注入層上形成空穴輸送層。首先，通過(guò)噴墨印刷法，在空穴注入層上印刷作為空穴輸送層的材料的有機(jī)材料。使用干燥裝置100、100A對(duì)這樣印刷的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于去除溶劑的減壓干燥處理。接著，將干燥處理后的基板S輸送至烘烤裝置，在大氣中進(jìn)行烘烤處理，由此形成空穴輸送層。
[0115]接著，在步驟5中，在步驟4中形成的空穴輸送層上形成發(fā)光層。首先，通過(guò)噴墨印刷法，在空穴輸送層上印刷作為發(fā)光層的材料的有機(jī)材料。使用干燥裝置100、100A對(duì)這樣印刷的有機(jī)材料膜進(jìn)行用于去除溶劑的減壓干燥處理。接著，將干燥處理后的基板S輸送至烘烤裝置，在大氣中進(jìn)行烘烤處理，由此形成發(fā)光層。此外，在發(fā)光層由多個(gè)層形成的情況下，反復(fù)進(jìn)行上述處理。
[0116]接著，例如通過(guò)蒸鍍法，在發(fā)光層上依次形成電子輸送層(步驟6)、電子注入層(步驟7)以及陰極(步驟8)，由此得到有機(jī)EL元件。另外，還能夠通過(guò)噴墨印刷法來(lái)形成電子輸送層(步驟6)、電子注入層(步驟7)。
[0117]在這種有機(jī)EL元件的制造工藝中，干燥裝置100、100A能夠優(yōu)選應(yīng)用于步驟3 (空穴注入層形成)、步驟4 (空穴輸送層形成)、步驟5 (發(fā)光層形成)、步驟6 (電子輸送層形成)以及步驟7 (電子注入層形成)。即，在通過(guò)噴墨印刷法印刷作為各層的前階段的有機(jī)材料膜之后，能夠使用干燥裝置100、100A對(duì)有機(jī)材料膜進(jìn)行減壓干燥處理。另外，干燥裝置100、100A具備作為溶劑分解單元的紫外線照射裝置5，因此通過(guò)基板S的干燥處理能夠在短時(shí)間內(nèi)可靠地去除附著于處理容器I內(nèi)的溶劑(更新處理)。因而，在干燥裝置100、100A中，在對(duì)多個(gè)基板S反復(fù)進(jìn)行處理的情況下，能夠大幅提高生產(chǎn)率。另外，能夠通過(guò)溶劑分解單元來(lái)調(diào)整處理容器I內(nèi)的狀況，干燥處理的可靠性提高，還能夠提高例如有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的可靠性。
[0118]如上所述，通過(guò)使用干燥裝置100、100A，在有機(jī)EL元件的制造工藝中，能夠以高生產(chǎn)率高效率地進(jìn)行形成EL層所需的干燥工序。
[0119][第二實(shí)施方式]
[0120]接著，參照?qǐng)D8來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的干燥裝置。圖8是表示第二實(shí)施方式所涉及的干燥裝置101的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。與第一實(shí)施方式的干燥裝置100之間的主要區(qū)別點(diǎn)在于，在本實(shí)施方式的干燥裝置101中安裝有多個(gè)紫外線照射裝置5，并且構(gòu)成為能夠從氣體供給裝置27供給氧化性氣體。也就是說(shuō)，氣體供給裝置作為氧化性氣體供給裝置而發(fā)揮功能。下面，以與第一實(shí)施方式的干燥裝置100之間的區(qū)別點(diǎn)為中心進(jìn)行說(shuō)明，在本實(shí)施方式的干燥裝置101中，對(duì)與第一實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)附加相同的標(biāo)記而省略說(shuō)明。
[0121]本實(shí)施方式的干燥裝置101具備:能夠進(jìn)行抽真空的處理容器I ;在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3A ;紫外線照射裝置5，其被設(shè)置于處理容器I的底部11，向處理容器I的內(nèi)部照射紫外線200 ;以及氣體供給裝置27，其向處理容器I內(nèi)供給氧化性氣體。
[0122]在底壁11上設(shè)置有多個(gè)貫通開口 lib。在各貫通開口 Ilb處，以保持氣密性的狀態(tài)安裝有透過(guò)窗11c，使得能夠入射來(lái)自處理容器I的外部的光線。
[0123]紫外線照射裝置5具有光源部5a。紫外線照射裝置5以使光源部5a面對(duì)透過(guò)窗Ilc的方式安裝于處理容器I的底壁11的外部。
[0124]在本實(shí)施方式的干燥裝置101中，載置臺(tái)3A具有貫通部3a。貫通部3a與透過(guò)窗Ilc被設(shè)置于對(duì)應(yīng)的位置。因而，從各光源部5a照射的規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線200經(jīng)由透過(guò)窗11c、載置臺(tái)3A的貫通部3a入射到處理容器I內(nèi)，例如能夠向頂部15照射。
[0125]在本實(shí)施方式中，多個(gè)紫外線照射裝置5和氣體供給裝置27構(gòu)成溶劑分解單元。氣體供給裝置27具有氧氣或者臭氧氣體的供給源作為氣體供給源29。而且，經(jīng)由氣體導(dǎo)入部15a將氧氣或者臭氧氣體供給至處理容器I內(nèi)。氧氣通過(guò)從紫外線照射裝置5照射的紫外線200生成臭氧、氧自由基。另外，通過(guò)紫外線200分解溶劑中的有機(jī)化合物201來(lái)變化為低分子量的化合物202、203(參照?qǐng)D5B)。低分子量的化合物202、203由于臭氧、氧自由基的作用而被氧化，由此更易于氣化地變化，從而促進(jìn)從處理容器I內(nèi)排出。
[0126]如上所述，在本實(shí)施方式的干燥裝置101中，作為溶劑分解單元具備多個(gè)紫外線照射裝置5和氣體供給裝置27，由此能夠在短時(shí)間內(nèi)高效率地進(jìn)行對(duì)基板S進(jìn)行干燥處理之后的處理容器I內(nèi)的更新。因而，通過(guò)干燥裝置101，能夠大幅提高更換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行干燥處理時(shí)的生產(chǎn)率。另外，通過(guò)紫外線照射與氧化性氣體的組合，能夠使容易殘留在處理容器I內(nèi)的高沸點(diǎn)溶劑分解、氧化來(lái)可靠地去除。因而，在對(duì)下一個(gè)及以后的基板S進(jìn)行處理時(shí)，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)的狀況調(diào)整為相同狀況來(lái)進(jìn)行穩(wěn)定的干燥處理，還能夠提高例如有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的可靠性。
[0127][第二實(shí)施方式的變形例]
[0128]接著，參照?qǐng)D9來(lái)說(shuō)明本實(shí)施方式的變形例的干燥裝置101A。圖9是表示本變形例的干燥裝置1lA的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。本變形例的干燥裝置1lA在處理容器I內(nèi)具備溶劑捕集部70，該溶劑捕集部70捕集從基板S上的有機(jī)材料膜中揮散的溶劑。溶劑捕集部70的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。溶劑捕集部70通過(guò)使從有機(jī)材料膜中氣化的處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的氣體狀的溶劑凝結(jié)來(lái)捕獲。
[0129]另外，在本實(shí)施方式中，多個(gè)紫外線照射裝置5以能夠向溶劑捕集部70照射紫外線200的方式設(shè)置于處理容器I的頂部15。紫外線照射裝置5具有光源部5a。紫外線照射裝置5以使光源部5a面對(duì)透過(guò)窗15c的方式安裝于處理容器I的頂部15的外部。從光源部5a照射的規(guī)定波長(zhǎng)的紫外線200經(jīng)由透過(guò)窗15c入射到處理容器I內(nèi)，能夠向溶劑捕集部70照射。
[0130]本變形例中的其它結(jié)構(gòu)與圖8的干燥裝置101相同，因此對(duì)相同的結(jié)構(gòu)附加相同的標(biāo)記而省略說(shuō)明。
[0131]在本變形例的干燥裝置1lA中，還將紫外線照射裝置5以能夠向溶劑捕集部70照射紫外線200的方式配置于頂部15，因此能夠向由溶劑捕集部70捕集到的溶劑高效率地照射紫外線200。因而，能夠提高從處理容器I內(nèi)去除溶劑的去除效率。
[0132][干燥處理的過(guò)程]
[0133]接著，說(shuō)明使用如上那樣構(gòu)成的干燥裝置101U01A的干燥處理的過(guò)程。首先，作為前階段，通過(guò)外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)在基板S上以規(guī)定的圖案來(lái)印刷有機(jī)材料膜。接著，打開閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)將印刷了有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置101、1lA的載置臺(tái)3A。
[0134]接著，關(guān)閉干燥裝置101、1lA的閘閥GV，使排氣裝置19進(jìn)行動(dòng)作來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后，一邊通過(guò)壓力計(jì)25來(lái)監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力，一邊控制APC閥23的開度來(lái)減壓至規(guī)定的真空度。通過(guò)這樣，能夠?qū)嵤┤コ诨錝上形成的有機(jī)材料膜中包含的溶劑的干燥處理。在該干燥處理之前或者干燥處理的期間，在變形例的干燥裝置1lA中，例如利用帕爾貼元件73來(lái)冷卻溶劑捕集部70的捕集板71，由此能夠高效率地捕集處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的溶劑。
[0135]接著，使排氣裝置19停止，在將處理容器I內(nèi)的壓力上升至規(guī)定壓力之后，打開干燥裝置101U01A的閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。通過(guò)以上的過(guò)程，結(jié)束對(duì)一個(gè)基板S的干燥處理。
[0136]在結(jié)束干燥處理而搬出了基板S的處理容器I內(nèi)殘留有從基板S上的有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑。特別是在處理容器I的內(nèi)壁面附著有溶劑。在像這樣附著有溶劑的狀態(tài)下對(duì)下一個(gè)及以后的基板S進(jìn)行干燥處理時(shí)，難以將處理容器I內(nèi)的狀況保持恒定。因此，在搬出了結(jié)束干燥處理的基板S之后，進(jìn)行處理容器I內(nèi)的更新工序。通過(guò)該更新工序，能夠使殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑氣化來(lái)迅速地從處理容器I內(nèi)排出。
[0137]在本實(shí)施方式的干燥裝置101U01A中，紫外線照射裝置5和氣體供給裝置27構(gòu)成溶劑分解單元。在更新工序中，在結(jié)束干燥處理并結(jié)束基板S的搬出之后，從氣體供給裝置27向處理容器I內(nèi)供給氧化性氣體，并且從紫外線照射裝置5向處理容器I內(nèi)照射紫外線200。也就是說(shuō)，在本實(shí)施方式的干燥裝置101、101A中，在氧化性氣體的存在下對(duì)在處理容器I內(nèi)的內(nèi)壁面等上附著的溶劑中包含的有機(jī)化合物201照射紫外線200，由此分解為易于揮散的低分子量的化合物202、203。
[0138]接著，參照?qǐng)D10來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序。圖10是說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力隨時(shí)間的變化的圖。
[0139]本實(shí)施方式的更新工序能夠包括以下步驟:
[0140]將處理容器I內(nèi)從大氣壓減壓排氣至第一壓力；
[0141]在處理容器I內(nèi)處于第一壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體；
[0142]在將處理容器I內(nèi)的壓力調(diào)整為比第一壓力高的第三壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I內(nèi)照射紫外線200 ；
[0143]結(jié)束氧化性氣體的導(dǎo)入；
[0144]結(jié)束紫外線200的照射；以及
[0145]在結(jié)束紫外線照射之后，將處理容器I內(nèi)減壓至低于第一壓力的第二壓力。
[0146]在圖10中，縱軸表示壓力。壓力PA為大氣壓，作為第二壓力的壓力PO為將排氣裝置19的泵能力設(shè)為最大的狀態(tài)(lX10_4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸)。另外，作為第一壓力的壓力Pl為殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑的蒸氣壓，例如在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。另外，作為第三壓力的壓力P2為處理容器I內(nèi)的導(dǎo)入氧化性氣體之后的壓力，在該情況下，氧化性氣體的分壓為50Pa?150Pa，優(yōu)選為10Pa左右。當(dāng)氧化性氣體的壓力過(guò)高時(shí)紫外線的照射距離變短而效果減弱。另外，當(dāng)氧化性氣體的壓力過(guò)低時(shí)氧化減小而效果減弱。在此，作為氧化性氣體，例如優(yōu)選使用氧氣、臭氧氣體等。
[0147]另外，在圖10中，橫軸表示時(shí)間。時(shí)間點(diǎn)t0為從干燥裝置101U01A的處理容器I內(nèi)搬出了結(jié)束干燥處理的基板S的狀態(tài)。
[0148]在圖10中，用實(shí)線表示進(jìn)行紫外線照射的本實(shí)施方式的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。另外，為了進(jìn)行比較，用虛線表示不進(jìn)行紫外線照射而僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。
[0149]在壓力曲線(實(shí)線)中，從時(shí)間點(diǎn)t0至?xí)r間點(diǎn)tll，對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣，使處理容器I內(nèi)降低至作為溶劑的蒸氣壓的壓力P1。通過(guò)將處理容器I內(nèi)調(diào)節(jié)為壓力P1，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑開始脫離。然后，在時(shí)間點(diǎn)tll，通過(guò)氣體供給裝置27開始向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體。通過(guò)導(dǎo)入氧化性氣體,從時(shí)間點(diǎn)tll起處理容器I內(nèi)的壓力轉(zhuǎn)為上升。也就是說(shuō)，壓力曲線在壓力Pi中形成向下凸的峰。
[0150]在壓力曲線(實(shí)線)中，接著，從時(shí)間點(diǎn)tl2至tl3的期間，將處理容器I內(nèi)的壓力調(diào)整為導(dǎo)入氧化性氣體之后的壓力P2。然后，在從該時(shí)間點(diǎn)tl2至tl3的期間的一部分或者全部范圍內(nèi)，通過(guò)紫外線照射裝置5進(jìn)行紫外線200的照射。也就是說(shuō)，在將處理容器I內(nèi)的壓力調(diào)整為壓力P2的狀態(tài)下開始照射紫外線200，在保持著壓力P2的期間，照射紫外線200。通過(guò)照射紫外線200，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201開始分解為低分子量的化合物202、203(參照?qǐng)D5B)。另外，通過(guò)紫外線200照射到處理容器I內(nèi)的氧化性氣體、例如氧氣，生成臭氧、氧自由基。通過(guò)這些活性種使有機(jī)化合物201氧化，由此向低分子量的化合物202、203的分解得以進(jìn)展，從而促進(jìn)從處理容器I內(nèi)排出。其結(jié)果，處理容器I內(nèi)的溶劑濃度下降，進(jìn)一步促進(jìn)所附著的溶劑的脫離。
[0151]在壓力曲線(實(shí)線)中，在時(shí)間點(diǎn)tl3，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201幾乎全部脫離。在時(shí)間點(diǎn)tl3以后至?xí)r間點(diǎn)tl4的期間，一邊加快排氣裝置19的排氣速度來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊排出有機(jī)化合物201、低分子量的化合物202、203。從時(shí)間點(diǎn)tl3至?xí)r間點(diǎn)tl4，將處理容器I內(nèi)減壓至低于作為第一壓力的壓力Pl的第二壓力P0(1X 10_4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸)。在處理容器I內(nèi)達(dá)到壓力PO的時(shí)間點(diǎn)tl4，使排氣裝置19停止。然后，使處理容器I內(nèi)逐漸升壓，開放至大氣。
[0152]在圖10中，當(dāng)將進(jìn)行紫外線照射和氧化性氣體的導(dǎo)入的本實(shí)施方式的更新工序中的壓力曲線(實(shí)線)與僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的壓力曲線(虛線)進(jìn)行比較時(shí)，在以往的壓力曲線中，低于接近溶劑的蒸氣壓的壓力Pl為止需要到時(shí)間點(diǎn)tl5。S卩，可知與本實(shí)施方式的更新工序相比溶劑的脫離需要更長(zhǎng)時(shí)間。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的干燥處理方法中，向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體，且在調(diào)節(jié)為壓力P2的狀態(tài)下照射紫外線200，由此能夠大幅縮短去除殘留溶劑所需的時(shí)間。因而，使用干燥裝置101U01A，能夠大幅改善切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理的情況下的生產(chǎn)率。
[0153]接著，參照?qǐng)D11來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序的其它例。圖11是說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序的其它例的壓力隨時(shí)間的變化的圖。
[0154]本實(shí)施方式的更新工序能夠包括以下步驟:
[0155]將開放至大氣的處理容器I內(nèi)從大氣壓減壓排氣至第三壓力；
[0156]在將處理容器I內(nèi)的壓力調(diào)整為第三壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I內(nèi)照射紫外線200 ；
[0157]結(jié)束上述紫外線200的照射；以及
[0158]在結(jié)束上述紫外線照射之后，將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第三壓力的第二壓力(I X 1-4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸)。
[0159]在圖11中，縱軸表示壓力。壓力PA為大氣壓，作為第二壓力的壓力PO為將排氣裝置19的泵能力設(shè)為最大的狀態(tài)(lX10_4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸)。另外，壓力Pl為殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑的蒸氣壓，例如在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。另外，作為第三壓力的壓力P2為處理容器I內(nèi)的壓力，例如在P2處于250Pa?750Pa的范圍內(nèi)的情況下，氧氣分壓在50Pa?150Pa的范圍內(nèi)，優(yōu)選為10Pa左右。
[0160]另外，在圖11中，橫軸表示時(shí)間。時(shí)間點(diǎn)t0為從干燥裝置101U01A的處理容器I內(nèi)搬出了結(jié)束干燥處理的基板S的狀態(tài)。
[0161]在圖11中，用實(shí)線表示進(jìn)行紫外線照射的本實(shí)施方式的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。另外，為了進(jìn)行比較，用虛線表示不進(jìn)行紫外線照射而僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。
[0162]在壓力曲線(實(shí)線)中，首先，從時(shí)間點(diǎn)t0至?xí)r間點(diǎn)t21，將處理容器I內(nèi)的壓力從作為大氣壓的壓力PA降低至壓力P2。在此,在本例中,代替導(dǎo)入氧化性氣體,而將大氣中的氧用作氧化性氣體。
[0163]在壓力曲線(實(shí)線)中，接著，將壓力P2從時(shí)間點(diǎn)t21保持到t22。然后，在從該時(shí)間點(diǎn)t21至t22的期間的一部分或者全部范圍內(nèi)，通過(guò)紫外線照射裝置5開始照射紫外線200。通過(guò)照射紫外線200，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201開始分解為低分子量的化合物202、203(參照?qǐng)D5B)。另外，通過(guò)紫外線200照射到處理容器I內(nèi)的氧，生成臭氧、氧自由基。通過(guò)這些活性種，從有機(jī)化合物201向低分子量的化合物202、203的分解以及氧化得以進(jìn)展，促進(jìn)從處理容器I的內(nèi)壁面排出。其結(jié)果，處理容器I內(nèi)的溶劑濃度降低，促進(jìn)所附著的溶劑的脫離。
[0164]在壓力曲線(實(shí)線)中，在時(shí)間點(diǎn)t22，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201幾乎全部脫離。在時(shí)間點(diǎn)t22以后至?xí)r間點(diǎn)t23的期間，一邊加快排氣裝置19的排氣速度來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊排出有機(jī)化合物201、低分子量的化合物202、203。
[0165]在處理容器I內(nèi)的壓力達(dá)到作為第二壓力的壓力PO的時(shí)間點(diǎn)t23，使排氣裝置19停止。然后，使處理容器I內(nèi)逐漸升壓，開放至大氣。
[0166]在圖11中，當(dāng)將利用紫外線照射和大氣中的氧的本實(shí)施方式的更新工序中的壓力曲線(實(shí)線)與僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的壓力曲線(虛線)進(jìn)行比較時(shí)，在以往的壓力曲線中，低于作為溶劑的蒸氣壓的壓力Pl為止需要到時(shí)間點(diǎn)t24。即，可知與本實(shí)施方式的更新工序相比溶劑的脫離需要更長(zhǎng)時(shí)間。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的干燥處理方法中，利用存在于處理容器I內(nèi)的源自大氣的氧，并且向處理容器I內(nèi)照射紫外線200，由此能夠大幅縮短去除殘留溶劑所需的時(shí)間。因而，使用干燥裝置101U01A，能夠大幅改善切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理的情況下的生產(chǎn)率。
[0167]當(dāng)將圖11示出的方法與圖10示出的方法進(jìn)行比較時(shí)，在圖10中，雖然生產(chǎn)率低，但能夠供給所需濃度的氧，因此具有容易控制氧濃度這樣的優(yōu)點(diǎn)。與此相對(duì)，在圖11中具有生產(chǎn)率高這樣的優(yōu)點(diǎn)。此外，在圖11示出的方法中，在無(wú)法確保所需濃度的氧的情況下，也能夠供給氧來(lái)確保所需氧濃度。
[0168]如上所述，通過(guò)本實(shí)施方式的干燥裝置101、1lA和干燥處理方法，能夠在短時(shí)間內(nèi)高效率地進(jìn)行對(duì)基板S進(jìn)行干燥處理之后的處理容器I內(nèi)的更新。因而，通過(guò)干燥裝置101U01A能夠大幅提高更換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行干燥處理時(shí)的生產(chǎn)率。另外，通過(guò)將紫外線照射與氧化性氣體(包含大氣中的氧)組合利用，能夠可靠地去除容易殘留在處理容器I內(nèi)的高沸點(diǎn)溶劑。因而，在依次切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理時(shí)，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)調(diào)整為相同狀況來(lái)進(jìn)行穩(wěn)定的干燥處理，還能夠提高例如有機(jī)EL顯示器等產(chǎn)品的可靠性。
[0169]本實(shí)施方式中的其它結(jié)構(gòu)和效果與第一實(shí)施方式相同。另外，干燥裝置101U01A與第一實(shí)施方式同樣地，能夠應(yīng)用于有機(jī)EL兀件的制造工藝。
[0170][第三實(shí)施方式]
[0171]接著，參照?qǐng)D12來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第三實(shí)施方式的干燥裝置。圖12是表示第三實(shí)施方式所涉及的干燥裝置102的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。與第一實(shí)施方式的干燥裝置100之間的主要區(qū)別點(diǎn)在于，在本實(shí)施方式的干燥裝置102中具備等離子體供給裝置40，該等離子體供給裝置40將等離子體P導(dǎo)入到處理容器I內(nèi)。以下，以與第一實(shí)施方式的干燥裝置100之間的區(qū)別點(diǎn)為中心進(jìn)行說(shuō)明，在本實(shí)施方式的干燥裝置102中，對(duì)與第一實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)附加相同的標(biāo)記而省略說(shuō)明。
[0172]本實(shí)施方式的干燥裝置102具備:能夠進(jìn)行抽真空的處理容器I ;在處理容器I內(nèi)支承基板S的作為支承構(gòu)件的載置臺(tái)3 ;以及等離子體供給裝置40，其向處理容器I的內(nèi)部供給等離子體P。
[0173]等離子體供給裝置40具備:等離子體產(chǎn)生部41，其生成等離子體P ;氣體供給裝置43，其向等離子體產(chǎn)生部41供給氣體；以及等離子體供給路徑45，其向處理容器I內(nèi)供給由等離子體產(chǎn)生部41產(chǎn)生的等離子體。等離子體供給路徑45與形成于處理容器I的側(cè)壁13上的貫通開口即等離子體導(dǎo)入部13d相連接。
[0174]氣體供給裝置43具備氣體供給源47和一個(gè)或多個(gè)配管49 (僅圖示一個(gè))，該氣體供給源47向等離子體產(chǎn)生部41供給氣體，該配管49對(duì)氣體供給源47與等離子體產(chǎn)生部41進(jìn)行連接，向等離子體產(chǎn)生部41供給氣體。另外，氣體供給裝置43在配管49的中途位置具備控制氣體流量的質(zhì)量流量控制器(MFC)51和多個(gè)開閉閥53(僅圖示兩個(gè))。由質(zhì)量流量控制器51和開閉閥53來(lái)控制從氣體供給源47供給至等離子體產(chǎn)生部41的氣體的流量等。作為從氣體供給源47供給的氣體，例如優(yōu)選使用氧氣等氧化性氣體以及氬氣等用于生成等離子體的惰性氣體。此外,氣體供給源47也可以與氣體供給裝置27的氣體供給源29共用。
[0175]在本實(shí)施方式中，等離子體供給裝置40構(gòu)成溶劑分解單元。而且，經(jīng)由等離子體導(dǎo)入部13d向處理容器I內(nèi)供給等離子體P。能夠通過(guò)該等離子體P中的氧自由基、離子，使溶劑中的有機(jī)化合物201分解或者氧化分解而變化為易于氣化的低分子量的化合物202、203。而且，促進(jìn)從處理容器I內(nèi)排出。通過(guò)該等離子體P使有機(jī)化合物201脫離的過(guò)程是通過(guò)與第一實(shí)施方式中的紫外線照射的作用相同的機(jī)制來(lái)進(jìn)行的(參照?qǐng)D5A，5B。此外，將圖5A中的箭頭改作為等離子體P即可)。
[0176][第三實(shí)施方式的變形例]
[0177]接著，參照?qǐng)D13來(lái)說(shuō)明第三實(shí)施方式的變形例的干燥裝置102A。圖13是表示本變形例的干燥裝置102A的概要結(jié)構(gòu)的剖視圖。本變形例的干燥裝置102A在處理容器I內(nèi)具備溶劑捕集部70，該溶劑捕集部70捕集從形成在基板S上的有機(jī)材料膜中揮散的溶劑。溶劑捕集部70的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。溶劑捕集部70通過(guò)使從有機(jī)材料膜中氣化的處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的氣體狀的溶劑凝結(jié)來(lái)捕獲。另外，在本實(shí)施方式中，等離子體導(dǎo)入部13d被設(shè)置成面對(duì)溶劑捕集部70，使得能夠從等離子體供給裝置40向溶劑捕集部70供給等離子體P，具體地說(shuō)，在與等離子體導(dǎo)入部13d的高度位置大致同等的高度位置配置有溶劑捕集部70。
[0178]本變形例的干燥裝置102A中的其它結(jié)構(gòu)與圖12的干燥裝置102相同，因此對(duì)相同的結(jié)構(gòu)附加相同的標(biāo)記而省略說(shuō)明。
[0179]在本變形例的干燥裝置102A中，與等離子體導(dǎo)入部13d接近地配置溶劑捕集部70,使得能夠從等離子體供給裝置40向溶劑捕集部70供給等離子體。因此，能夠高效率地將等離子體P供給至由溶劑捕集部70捕集到的溶劑。因而，能夠提高從處理容器I內(nèi)去除溶劑的去除效率。
[0180][干燥處理的過(guò)程]
[0181]接著，說(shuō)明使用如上那樣構(gòu)成的干燥裝置102U02A的干燥處理的過(guò)程。首先，作為前階段，通過(guò)外部的噴墨印刷裝置(省略圖示)在基板S上以規(guī)定的圖案來(lái)印刷有機(jī)材料膜。接著，打開閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)將印刷了有機(jī)材料膜的基板S交接到干燥裝置102U02A的載置臺(tái)3。
[0182]接著，關(guān)閉干燥裝置102U02A的閘閥GV，使排氣裝置19進(jìn)行動(dòng)作來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行減壓排氣。然后，一邊通過(guò)壓力計(jì)25來(lái)監(jiān)視處理容器I內(nèi)的壓力，一邊控制APC閥23的開度來(lái)減壓至規(guī)定的真空度。通過(guò)這樣，能夠?qū)嵤┤コ诨錝上形成的有機(jī)材料膜中包含的溶劑的干燥處理。在該干燥處理之前或者干燥處理的期間，在變形例的干燥裝置102A中，例如利用帕爾貼元件73來(lái)冷卻溶劑捕集部70的捕集板71，由此能夠高效率地捕集處理容器I內(nèi)的環(huán)境氣體中的溶劑。
[0183]接著，使排氣裝置19停止，在將處理容器I內(nèi)的壓力上升至規(guī)定壓力之后，打開干燥裝置102U02A的閘閥GV，通過(guò)外部的搬送裝置(省略圖示)從處理容器I搬出基板S。通過(guò)以上的過(guò)程，結(jié)束對(duì)一個(gè)基板S的干燥處理。
[0184]在結(jié)束干燥處理而搬出了基板S的處理容器I內(nèi)殘留有從基板S上的有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑。特別是在處理容器I的內(nèi)壁面附著有溶劑。在像這樣附著有溶劑的狀態(tài)下對(duì)下一個(gè)及以后的基板S進(jìn)行干燥處理時(shí)，難以將處理容器I內(nèi)的狀況保持恒定。因此，在搬出了結(jié)束干燥處理的基板S之后，進(jìn)行處理容器I內(nèi)的更新工序。通過(guò)該更新工序，能夠使殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑氣化來(lái)迅速地從處理容器I內(nèi)排出。
[0185]在本實(shí)施方式的干燥裝置102、102A中，等離子體供給裝置40構(gòu)成溶劑分解單元。在更新工序中，在結(jié)束干燥處理并結(jié)束基板S的搬出之后，從等離子體供給裝置40向處理容器I內(nèi)供給氧化性氣體的等離子體P。另外，從氣體供給裝置27向處理容器I內(nèi)供給置換氣體。也就是說(shuō)，在本實(shí)施方式的干燥裝置102U02A中，通過(guò)使氧化性氣體的等離子體P作用于在處理容器I內(nèi)的內(nèi)壁面等上附著的溶劑中包含的有機(jī)化合物201，分解為易于揮散的低分子量的化合物202、203。
[0186]接著，參照?qǐng)D14來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法中的更新工序。圖14是說(shuō)明本實(shí)施方式的干燥處理方法的更新工序中的壓力隨時(shí)間的變化的圖。
[0187]本實(shí)施方式的更新工序能夠包括以下步驟:
[0188]將處理容器I內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為溶劑的蒸氣壓的第一壓力；
[0189]在處理容器I內(nèi)處于第一壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體；
[0190]在將處理容器I內(nèi)的壓力調(diào)整為比第一壓力高的第四壓力的狀態(tài)下，開始向處理容器I的內(nèi)部導(dǎo)入氧化性氣體的等離子體P ;
[0191]結(jié)束氧化性氣體和等離子體P的導(dǎo)入；以及
[0192]將處理容器I內(nèi)減壓至低于第一壓力的第二壓力。
[0193]在圖14中，縱軸表示壓力。壓力PA為大氣壓，作為第二壓力的壓力PO為將排氣裝置19的泵能力設(shè)為最大的狀態(tài)(lX10_4Pa以下；以最大抽吸能力進(jìn)行抽吸)。另外，作為第一壓力的壓力Pl為殘留在處理容器I內(nèi)的溶劑的蒸氣壓，例如在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。另外，作為第四壓力的壓力P3例如在50Pa?300Pa的范圍內(nèi)，優(yōu)選在10Pa?250Pa左右。
[0194]另外，在圖14中，橫軸表示時(shí)間。時(shí)間點(diǎn)t0為從干燥裝置102U02A的處理容器I內(nèi)搬出了結(jié)束干燥處理的基板S的狀態(tài)。
[0195]在圖14中，用實(shí)線表示進(jìn)行紫外線照射的本實(shí)施方式的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。另外，為了進(jìn)行比較，用虛線表示不進(jìn)行紫外線照射而僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的處理容器I內(nèi)的壓力曲線。
[0196]在壓力曲線(實(shí)線)中，從時(shí)間點(diǎn)t0至?xí)r間點(diǎn)t31，將處理容器I內(nèi)從作為大氣壓的壓力PA降低至作為溶劑的蒸氣壓的壓力P1。通過(guò)將處理容器I內(nèi)調(diào)節(jié)為壓力P1，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑易于脫離。然后，在時(shí)間點(diǎn)t31，通過(guò)氣體供給裝置43開始向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體。為了提高等離子體P的點(diǎn)火性和穩(wěn)定性，氧化性氣體的流量例如優(yōu)選在I?6L/min(slm)的范圍內(nèi)。通過(guò)導(dǎo)入氧化性氣體,從時(shí)間點(diǎn)t31起處理容器I內(nèi)的壓力轉(zhuǎn)為上升。也就是說(shuō)，壓力曲線在壓力Pl中形成向下凸的峰。在此，作為氧化性氣體，例如優(yōu)選使用氧氣、臭氧氣體等。
[0197]在壓力曲線(實(shí)線)中，接著，從時(shí)間點(diǎn)t32至t33的期間，將處理容器I內(nèi)壓力調(diào)整為作為第四壓力的壓力P3。該壓力P3相當(dāng)于在處理容器I內(nèi)能夠穩(wěn)定地生成等離子體P的壓力帶。然后，在從該時(shí)間點(diǎn)t32至t33的期間的一部分或者全部范圍內(nèi)，通過(guò)等離子體供給裝置40向處理容器I內(nèi)導(dǎo)入等離子體P。通過(guò)導(dǎo)入等離子體P，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201開始分解為低分子量的化合物202、203(參照?qǐng)D5B)。另外，通過(guò)等離子體P中的臭氧、氧自由基等活性種使有機(jī)化合物201氧化，由此向低分子量的化合物202、203的分解得以進(jìn)展，促進(jìn)從處理容器I的內(nèi)壁面排出。其結(jié)果，處理容器I內(nèi)的溶劑濃度降低，促進(jìn)所附著的溶劑的脫離。
[0198]在時(shí)間點(diǎn)t33，附著于處理容器I內(nèi)的溶劑中的有機(jī)化合物201幾乎全部脫離。因而，在時(shí)間點(diǎn)t33停止導(dǎo)入等離子體P。在時(shí)間點(diǎn)t33以后至?xí)r間點(diǎn)t34的期間，一邊加快排氣裝置19的排氣速度來(lái)對(duì)處理容器I內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊排出有機(jī)化合物201、低分子量的化合物202、203。
[0199]在處理容器I內(nèi)的壓力達(dá)到作為第二壓力的壓力PO的時(shí)間點(diǎn)t34，使排氣裝置19停止。然后，使處理容器I內(nèi)逐漸升壓，開放至大氣。
[0200]在圖14中，當(dāng)將進(jìn)行等離子體照射的本實(shí)施方式的更新工序中的壓力曲線與僅進(jìn)行排氣的以往的更新工序中的壓力曲線進(jìn)行比較時(shí)，在以往的壓力曲線中，低于接近溶劑的蒸氣壓的壓力Pl為止需要到時(shí)間點(diǎn)t35。即，可知與本實(shí)施方式的更新工序相比溶劑的脫離需要更長(zhǎng)時(shí)間。與此相對(duì)，在本實(shí)施方式的干燥處理方法中，通過(guò)將氧化性氣體的等離子體P導(dǎo)入到處理容器I內(nèi)，能夠大幅縮短去除殘留溶劑所需的時(shí)間。因而，使用干燥裝置102、102A，能夠大幅改善切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理的情況下的生產(chǎn)率。
[0201]如上所述，在本實(shí)施方式的干燥裝置102、102A中，具備等離子體供給裝置40作為溶劑分解單元，由此能夠在短時(shí)間內(nèi)高效率地進(jìn)行對(duì)基板S進(jìn)行干燥處理之后的處理容器I內(nèi)的更新。因而，通過(guò)干燥裝置102、102A，能夠大幅提高更換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行干燥處理時(shí)的生產(chǎn)率。另外，通過(guò)利用遠(yuǎn)程等離子體(日文:U ?—卜7° ^ X 7 )，能夠使容易殘留在處理容器I內(nèi)的高沸點(diǎn)溶劑分解、氧化而可靠地去除。因而，在依次切換多個(gè)基板S來(lái)進(jìn)行處理時(shí)，能夠?qū)⑻幚砣萜鱅內(nèi)的狀況調(diào)整為相同狀況來(lái)進(jìn)行穩(wěn)定的干燥處理，還能夠提聞例如有機(jī)EL顯不器等廣品的可罪性。
[0202]本實(shí)施方式中的其它結(jié)構(gòu)和效果與第一實(shí)施方式相同。另外，干燥裝置102、102Α與第一實(shí)施方式同樣地，能夠應(yīng)用于有機(jī)EL兀件的制造工藝。
[0203]以上，以例示為目的來(lái)詳細(xì)說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施方式，但是本發(fā)明并不被上述實(shí)施方式所限制，能夠?qū)嵤└鞣N變形。例如，有機(jī)EL元件的制造工序并不限定于圖7所例示的工序。例如，在具有EL層從陽(yáng)極側(cè)向陰極側(cè)按[空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]、[空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層]等順序?qū)盈B而成的結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL元件的制造過(guò)程中，也能夠同樣地應(yīng)用本發(fā)明的干燥裝置100、100A、101、101A、102、102A。
【權(quán)利要求】
1.一種干燥裝置，去除在基板的表面涂布的有機(jī)材料膜中的溶劑后進(jìn)行干燥，其特征在于，具備: 能夠進(jìn)行抽真空的處理容器； 支承構(gòu)件，其在上述處理容器內(nèi)支承上述基板；以及 溶劑分解單元，在從上述處理容器搬出已完成干燥處理的上述基板之后，該溶劑分解單元將殘留在上述處理容器內(nèi)的上述溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于， 上述溶劑分解單元具有紫外線照射裝置，該紫外線照射裝置向上述處理容器的內(nèi)部照射紫外線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干燥裝置，其特征在于， 還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑， 上述紫外線照射裝置被安裝于在構(gòu)成上述處理容器的壁上設(shè)置的透過(guò)窗的外部，向上述溶劑捕集部照射紫外線。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干燥裝置，其特征在于， 上述透過(guò)窗被設(shè)置于上述支承構(gòu)件的下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于， 上述溶劑分解單元還具有氧化性氣體供給裝置，該氧化性氣體供給裝置將氧化性氣體導(dǎo)入到上述處理容器內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的干燥裝置，其特征在于， 還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑， 上述氧化性氣體供給裝置向上述溶劑捕集部供給上述氧化性氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于， 上述溶劑分解單元具有等離子體供給裝置，該等離子體供給裝置將等離子體導(dǎo)入到上述處理容器內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的干燥裝置，其特征在于， 上述等離子體供給裝置具備: 等離子體產(chǎn)生部，其產(chǎn)生上述等離子體； 氣體供給源，其向上述等離子體產(chǎn)生部供給氣體；以及 等離子體供給路徑，其將由上述等離子體產(chǎn)生部產(chǎn)生的等離子體供給至上述處理容器內(nèi)， 其中，上述等離子體供給路徑與上述處理容器的等離子體導(dǎo)入部相連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的干燥裝置，其特征在于， 還具備溶劑捕集部，該溶劑捕集部捕集從上述有機(jī)材料膜揮發(fā)的溶劑， 上述等離子體導(dǎo)入部被設(shè)置于面對(duì)上述溶劑捕集部的位置，使得能夠?qū)⑸鲜龅入x子體供給至上述溶劑捕集部。
10.根據(jù)權(quán)利要求3、6或者9所述的干燥裝置，其特征在于， 上述溶劑捕集部具有一個(gè)或多個(gè)金屬板，上述一個(gè)或多個(gè)金屬板具有多個(gè)貫通開口。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的干燥裝置，其特征在于， 上述溶劑捕集部還具有冷卻裝置，該冷卻裝置冷卻上述金屬板。
12.—種干燥處理方法，具備: 干燥處理工序，在干燥裝置的處理容器內(nèi)，使在基板的表面涂布的有機(jī)材料膜中的溶劑揮發(fā)來(lái)去除該溶劑；以及 更新工序，在上述干燥處理工序結(jié)束之后將上述基板從上述處理容器搬出之后，將殘留在上述處理容器內(nèi)的上述溶劑中包含的有機(jī)化合物分解為低分子量的化合物來(lái)從上述處理容器內(nèi)排出。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述更新工序包括以下步驟: 將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力； 在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線； 將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力；以及 在將上述處理容器內(nèi)減壓至上述第二壓力的途中，結(jié)束上述紫外線的照射， 其中，上述第一壓力在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述更新工序包括以下步驟: 將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力； 在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體； 在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為比上述第一壓力高的第三壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線； 結(jié)束上述氧化性氣體的導(dǎo)入； 結(jié)束上述紫外線的照射；以及 在結(jié)束上述紫外線的照射之后，將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力， 其中，上述第一壓力在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)， 上述第三壓力下的氧化性氣體的分壓在50Pa?150Pa的范圍內(nèi)。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述更新工序包括以下步驟: 將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至第三壓力； 在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為上述第三壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)照射紫外線； 結(jié)束上述紫外線的照射；以及 在結(jié)束上述紫外線的照射之后，將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第三壓力的第二壓力， 其中，上述第三壓力下的氧氣分壓在50Pa?150Pa的范圍內(nèi)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13?15中的任一項(xiàng)所述的干燥處理方法,其特征在于， 上述紫外線的波長(zhǎng)在10nm以上且200nm以下的范圍內(nèi)。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述更新工序包括以下步驟: 將上述處理容器內(nèi)從大氣壓減壓排氣至作為上述溶劑的蒸氣壓的第一壓力； 在上述處理容器內(nèi)處于上述第一壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器內(nèi)導(dǎo)入氧化性氣體； 在將上述處理容器內(nèi)的壓力調(diào)整為比上述第一壓力高的第四壓力的狀態(tài)下，開始向上述處理容器的內(nèi)部導(dǎo)入上述氧化性氣體的等離子體； 結(jié)束上述氧化性氣體和上述等離子體的導(dǎo)入；以及 將上述處理容器內(nèi)減壓至低于上述第一壓力的第二壓力， 其中，上述第一壓力在0.0OlPa?1Pa的范圍內(nèi)， 上述第四壓力在50Pa?300Pa的范圍內(nèi)。
18.根據(jù)權(quán)利要求13?17中的任一項(xiàng)所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述第二壓力為I X 10_4Pa以下。
19.根據(jù)權(quán)利要求12?18中的任一項(xiàng)所述的干燥處理方法，其特征在于， 上述有機(jī)材料膜是在制造有機(jī)電致發(fā)光元件的過(guò)程中通過(guò)噴墨印刷法涂布到上述基板上的。
【文檔編號(hào)】B41F23/00GK104228329SQ201410251369
【公開日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年6月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月6日
【發(fā)明者】及川純史, 今田雄, 戶原淳志, 大島澄美, 島村明典, 林輝幸 申請(qǐng)人:東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社