專利名稱：鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種集塵機(jī)構(gòu)，尤其是ー種能夠有效地改善鐳射機(jī)臺(tái)集塵效果的鐳射設(shè)備集塵機(jī)構(gòu)
背景技術(shù)：
鐳射設(shè)備對(duì)玻璃進(jìn)行刻蝕的工作原理是激光頭做橫向移動(dòng)，工作平臺(tái)做縱向移動(dòng)，且工作平臺(tái)的移動(dòng)速度達(dá)到1000mm/s ;在刻蝕過程中，膜層產(chǎn)生氣化，微爆，從而達(dá)到刻蝕的目的。在此過程中如果集塵效果不好，將使刻蝕下來的異物，以很高的速度侵蝕鐳射設(shè)備，會(huì)導(dǎo)致鐳射設(shè)備部件的更換頻度增高，影響設(shè)備的使用壽命。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，其能夠有效地改善鐳射機(jī)臺(tái)的集塵效果，減少激光刻蝕后顆粒拋射對(duì)鐳射設(shè)備造成的侵蝕。為實(shí)現(xiàn)以上的技術(shù)目的，本實(shí)用新型將采取以下的技術(shù)方案一種鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，包括用于置放待刻蝕玻璃板的鐳射工作平臺(tái)，其特征在于，所述鐳射工作平臺(tái)為敞ロ端向上設(shè)置的半封閉槽，待刻蝕玻璃板與半封閉槽的敞ロ端封接，且半封閉槽的側(cè)壁開設(shè)進(jìn)氣ロ，而半封閉槽的槽底開設(shè)吸塵ロ ；所述吸塵ロ與抽吸裝置的輸出端相連接，而進(jìn)氣ロ則與干潔氣源輸入裝置的輸入端連接。所述吸塵ロ至少為兩組，且各吸塵ロ等間距設(shè)置于半封閉槽的槽底。所述進(jìn)氣ロ為開度可調(diào)的進(jìn)氣ロ。根據(jù)以上的技術(shù)方案，可以實(shí)現(xiàn)以下的有益效果本實(shí)用新型在工作平臺(tái)邊緣放置進(jìn)氣ロ，當(dāng)玻璃到達(dá)工作平臺(tái)，并固定，后玻璃下方將形成密閉空間，如果沒有進(jìn)氣ロ，那么刻蝕下的異物只受到重力，及工作平臺(tái)加速度的影響，而吸塵ロ的位置是固定的，而且吸塵ロ吸力不足(不宣吸カ過大，過大將影響平臺(tái)上的玻璃的屈服度)，所以大部分的異物將落到平臺(tái)上和吸附到四壁上。而增加可調(diào)節(jié)進(jìn)氣量的進(jìn)氣ロ，可以在密閉空間內(nèi)形成環(huán)流，對(duì)慣性力作為主要?jiǎng)鹰目涛g殘屑，造成一定的抵消，使其在密閉空間內(nèi)吸塵ロ的吸附作用受到加強(qiáng)。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；其中待刻蝕玻璃板I ;進(jìn)氣ロ 2 ;吸塵ロ 3 ;侵蝕顆粒4 ;鐳射工作平臺(tái)5。
具體實(shí)施方式
附圖非限制性地公開了本實(shí)用新型所涉及優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；以下將結(jié)合附圖詳細(xì)地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。本實(shí)用新型公開了如圖I所示的集塵機(jī)構(gòu)，包括用于置放待刻蝕玻璃板的鐳射エ作平臺(tái)，其特征在于，所述鐳射工作平臺(tái)為敞ロ端向上設(shè)置的半封閉槽，待刻蝕玻璃板與半封閉槽的敞ロ端封接，且半封閉槽的側(cè)壁開設(shè) 進(jìn)氣ロ，而半封閉槽的槽底開設(shè)吸塵ロ ；所述吸塵ロ與抽吸裝置的輸出端相連接，而進(jìn)氣ロ則與干潔氣源輸入裝置的輸入端連接。所述吸塵ロ至少為兩組，且各吸塵ロ等間距設(shè)置于半封閉槽的槽底。所述進(jìn)氣ロ為開度可調(diào)的進(jìn)氣ロ。
權(quán)利要求1.一種鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，包括用于置放待刻蝕玻璃板的鐳射工作平臺(tái)，其特征在于，所述鐳射工作平臺(tái)為敞ロ端向上設(shè)置的半封閉槽，待刻蝕玻璃板與半封閉槽的敞ロ端封接，且半封閉槽的側(cè)壁開設(shè)進(jìn)氣ロ，而半封閉槽的槽底開設(shè)吸塵ロ ；所述吸塵ロ與抽吸裝置的輸出端相連接，而進(jìn)氣ロ則與干潔氣源輸入裝置的輸入端連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述吸塵ロ至少為兩組，且各吸塵ロ等間距設(shè)置于半封閉槽的槽底。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述進(jìn)氣ロ為開度可調(diào)的進(jìn)氣ロ。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種鐳射設(shè)備的集塵機(jī)構(gòu)，包括用于置放待刻蝕玻璃板的鐳射工作平臺(tái)，其特征在于，所述鐳射工作平臺(tái)為敞口端向上設(shè)置的半封閉槽，待刻蝕玻璃板與半封閉槽的敞口端封接，且半封閉槽的側(cè)壁開設(shè)進(jìn)氣口，而半封閉槽的槽底開設(shè)吸塵口；所述吸塵口與抽吸裝置的輸出端相連接，而進(jìn)氣口則與干潔氣源輸入裝置的輸入端連接。因此，本實(shí)用新型能夠有效地改善鐳射機(jī)臺(tái)的集塵效果，減少激光刻蝕后顆粒拋射對(duì)鐳射設(shè)備造成的侵蝕。
文檔編號(hào)B41J29/17GK202388957SQ20112055431
公開日2012年8月22日 申請(qǐng)日期2011年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月27日
發(fā)明者權(quán)永春, 李志鋒, 陳亮 申請(qǐng)人:江蘇綜藝光伏有限公司