專利名稱：：使用柔性版印版的二次背曝光的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：實施方案總體上涉及在柔性版印版上形成凸版圖像的裝置和方法，并且更具體而言涉及使用柔性版印版前體的二次背曝光(secondarybackexposure)的裝置和方法。
背景技術(shù)：
：柔版印刷是一種直接輥印刷方法，其使用在橡膠或感光聚合物印版(即柔性版印版)上的彈性凸版圖像來印刷例如紙箱、袋子、標(biāo)簽或書本的制品。柔版印刷已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在包裝行業(yè)中具有特殊的應(yīng)用，在該行業(yè)中在許多情況下它已經(jīng)代替了照相凹版印刷和平版膠印技術(shù)。雖然因為該技術(shù)已很成熟所以使用柔性版印版印刷的制品的品質(zhì)已經(jīng)得到了顯著的提高，但是仍然存在與在柔性版印版中產(chǎn)生凸版圖像的工藝相關(guān)的物理限制。特別是，使用柔性版印版印刷例如精細(xì)點、線以及甚至文字的小圖形元素非常難。在圖像的最亮區(qū)域(通常稱為高光部分)，該圖像的密度表示為在連續(xù)色調(diào)圖像的網(wǎng)屏表示(halftonescreenr印resantation)中的點的總面積。由于印版制備工藝的性質(zhì)導(dǎo)致在柔性版印版上保持小點非常難。在預(yù)成像(或后成像)步驟中，通過區(qū)域曝光于來自印版背面的紫外光而將印版的底層(floor)排印。這種曝光將感光聚合物硬化成用于最佳印刷所需的凸版深度。經(jīng)由蒙片(mask)層泛光曝光于成像輻射下，隨后進(jìn)行去除未硬化(即未曝光)的感光聚合物的處理步驟，得到具有大體上圓錐形的凸點。最小的這些點在處理過程中容易被除去，這意味著在印刷過程中沒有墨水被轉(zhuǎn)移到那些區(qū)域上(點沒有被“固定”在印版和/或印刷機上)。或者，即使最小的點在處理過程中存留下來，它們在輥印刷機上也容易受到損壞，因為小點在印刷過程中經(jīng)常折疊起來和/或部分?jǐn)嗟?，造成過多的墨水被轉(zhuǎn)印或者沒有墨水被轉(zhuǎn)印。仍然需要改進(jìn)小點在柔版印刷工藝中的存留率。
發(fā)明內(nèi)容一種實施方案提供了在柔性版印版上產(chǎn)生凸版圖像的方法，包括成圖像地曝光包括設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料的蒙片以形成在設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料中具有蒙片圖像的成像后蒙片，該蒙片圖像包括每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域。所述方法還包括將所述成像后的蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上，并根據(jù)該蒙片圖像的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值將所述柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過該柔性版印版前體的背表面的成圖像的可尋址固化輻射?！N實施方案提供了在柔性版印版上形成凸版圖像的裝置，包括層壓機、主曝光組件和二次曝光組件。層壓機被構(gòu)造為將具有蒙片圖像的成像后的蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上，該蒙片圖像具有每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域。主曝光組件被構(gòu)造為將柔性版印版前體曝光于透過成像后的蒙片的固化輻射，而二次曝光組件被構(gòu)造為根據(jù)蒙片圖像的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值將所述柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過所述柔性版印版前體的背表面的固化輻射。一種實施方案提供了在柔性版印版上形成凸版圖像的方法，包括將具有蒙片圖像的成像后的蒙片層壓在柔性版印版前體的前表面上，該蒙片圖像具有每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域，并根據(jù)所述蒙片圖像的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域?qū)⑺鋈嵝园嬗“媲绑w的選定區(qū)域曝光于透過該柔性版印版前體的背表面成圖像的可尋址固化輻射。圖1是圖示說明根據(jù)一個實施方案的在柔性版印版上產(chǎn)生凸版圖像的裝置的方框圖。圖2A是圖示說明適合與圖1的裝置一起使用的蒙片的一個實施方案的方框圖。圖2B是圖示說明適合與圖1的裝置一起使用的蒙片的一個實施方案的方框圖。圖2C是圖示說明適合與圖1的裝置一起使用的蒙片的一個實施方案的方框圖。圖2D是圖示說明適合與圖1的裝置一起使用的蒙片的一個實施方案的方框圖。圖3是圖示說明根據(jù)一個實施方案進(jìn)行成圖像地曝光的蒙片的方框圖。圖4是根據(jù)一個實施方案進(jìn)行成圖像地曝光的蒙片的實例部分的頂視圖。圖5是圖示說明根據(jù)一個實施方案層壓到柔性版印版前體上的蒙片的方框圖。圖6是圖示說明進(jìn)行背曝光的圖5的柔性版印版前體的選定部分的方框圖。圖7是根據(jù)一個實施方案的通過層壓到其上的蒙片進(jìn)行曝光的柔性版印版前體的方框圖。圖8是根據(jù)一個實施方案的去除蒙片后的圖7的柔性版印版前體的方框圖。圖9是根據(jù)一個實施方案通過顯影圖8的柔性版印版前體形成的柔性版印版的方框圖。圖10是圖示說明在根據(jù)一個實施方案的柔性印版中的高光點的圖像。圖11是圖示說明在根據(jù)一個實施方案的柔性印版中的高光點的圖像。圖12A是圖示說明在凸版圖像中的凹凸度(relief)對紫外曝光量的曲線圖。圖12B是圖示說明在凸版圖像中的凹凸度對紫外曝光量的曲線圖。圖13是圖示說明根據(jù)一個實施方案的用于背曝光柔性版印版前體的裝置的方框圖。具體實施例方式圖1是總體上圖示說明從柔性版印版前體32制備帶有凸版圖像的制品(例如柔性版印版)的裝置30的一個實施方案的方框圖。根據(jù)一個實施方案，裝置30包括旋轉(zhuǎn)成像輥34、激光組件36、主曝光組件38、二次背曝光組件40、接觸導(dǎo)輥42和輸運床44。如圖所示，主和二次背曝光組件38和40分別被設(shè)置為鄰近柔性版印版前體32的前表面33a和后表面33bο在操作時，根據(jù)一個實施方案，成像輥34接收可成像蒙片50并將其固定到外表面46上(例如，通過真空把持裝置)。隨著成像輥34被驅(qū)動以旋轉(zhuǎn)箭頭18所示的方向(例如，圖1中的逆時針方向)旋轉(zhuǎn)，蒙片50沿外表面46移動并經(jīng)過激光組件36，直至在由成像輥34和接觸導(dǎo)輥42形成的輥隙52處與柔性版印版前體32合并。如將在下面更詳細(xì)描述的，根據(jù)一個實施方案，柔性版印版前體31是具有粘合性的層，以使得當(dāng)蒙片50和柔性版印版前體32同時經(jīng)過輥隙52時將蒙片50粘合層壓到柔性版印版前體32上。隨后，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)的成像輥34將柔性版印版前體32和蒙片50的層壓組合沿輸運床44移動經(jīng)過二次背曝光組件40和主曝光組件38，如方向箭頭M所示。下面更詳細(xì)地描述激光組件36、主曝光組件38和二次背曝光組件40相對于蒙片50的操作，以在柔性版印版前體32上形成凸版圖像。根據(jù)一個實施方案，如圖2A所示，蒙片50包含可成像膜，該可成像膜至少包括蒙片基底60和可成像材料62，可成像材料62包含一層或多層設(shè)置在基底60上的相對均勻的涂層。在另一個實施方案中，如圖2B所示，蒙片50包括設(shè)置在蒙片基底60上的底層(subbinglayer)64和設(shè)置在底層64上的可成像材料62。在另一個實施方案中，如圖2C所示，蒙片50包括設(shè)置在基底60上的可燒蝕層(ablatablelayer)66和設(shè)置在可燒蝕層66上的可成像材料62。在再一個實施方案中，如圖2D所示，蒙片50包括設(shè)置在蒙片基底60上的底層64、設(shè)置在底層64上的可燒蝕層66和設(shè)置在可燒蝕層66上的可成像材料62。如圖3所示，并且進(jìn)一步參考圖1，根據(jù)一個實施方案，隨著蒙片50經(jīng)過激光組件36，激光組件36將蒙片50成圖像地曝光于來自激光(例如，激光束56，其被聚焦照射到可成像材料62上)的激光輻射下。在計算機控制下用激光束56掃描或光柵掃描整個蒙片50，同時根據(jù)代表所需圖像的電子存貯數(shù)據(jù)調(diào)制激光束56的輸出，來在蒙片50的可成像材料62中產(chǎn)生曝光區(qū)域70和未曝光區(qū)域72。根據(jù)一個實施方案，隨著將蒙片50曝光于成像輻射(例如激光束56)下，輻射被蒙片50中的可成像層62和如果包括的話，可燒蝕層66中的能量吸收劑吸收，并在曝光于成像輻射下的區(qū)域70中造成可成像材料62從蒙片基底60的轉(zhuǎn)印。這種工藝的實例描述在授予I^atel等人的美國專利No.5，935，758中。在曝光于成像輻射以后，在蒙片基底60上剩余的可成像材料62和其他層(例如可燒蝕層66)—起形成被稱為“蒙片圖像”的結(jié)構(gòu)。所述蒙片圖像和蒙片基底60的組合被稱為成像后的蒙片。形成蒙片圖像的工藝也描述在美國專利申請序列號11/081,018中。下面簡略描述蒙片50的元件。對適合于蒙片50的這些元件的更詳細(xì)描述提供在Zwadlo的美國專利No.7，279，254中。蒙片基底60可以為任何適合的基底，其包括，例如塑料片和膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯、芴聚酯聚合物、聚乙烯、聚丙烯、聚丙烯酸酯、聚氯乙烯及它們的共聚物，以及水解和未水解的乙酸纖維素。蒙片基底60應(yīng)當(dāng)對固化輻射是足夠透明的(如將在下面描述的)，并且在某些情況下，理想的是蒙片基底60對成像輻射(例如激光束56)是足夠透明的。蒙片基底60也可以包括抗靜電涂層。可成像材料62包括多種成分，例如分散在粘合劑中的著色劑(例如染料或顏料)和能量吸收劑?？沙上癫牧?2可以設(shè)置為單層或多層。例如，在一個實施方案中，可成像材料62可以與燒蝕材料和吸收材料混合在單層中。在另一個實施方案中，可成像材料62可以包含能量吸收層和毗鄰該能量吸收層的包含燒蝕材料的層。在其他實施方案中，可成像材料62可以包括其他成分，例如用于分散其他成分的粘合劑、用于增強熔融或軟化的可成像材料的轉(zhuǎn)印的氟碳添加劑、適合的潛在交聯(lián)劑、增塑劑、涂飾劑、UV吸收劑和填料。底層64，也稱為粘合促進(jìn)劑層、或防劃痕硬涂層或硬化凝膠層，在層壓(如在下面更詳細(xì)描述的)后提供光學(xué)接觸并幫助在成像(例如用激光束56)過程中從處于去除了可成像材料62的蒙片50的區(qū)域中的柔性版印版32的感光材料去除蒙片圖像?？蔁g層66可以包含顆粒材料，例如金屬氧化物顆粒或鐵氧化物顆粒，其分解提供對燒蝕成像機理特別有利的推進(jìn)氣體。成圖像地曝光蒙片50的可成像材料62的方法是本領(lǐng)域中的常規(guī)方法，其中成圖像地曝光蒙片50的模擬和數(shù)字方法都是適合的。另外，雖然在圖1中描述為使用外滾筒掃描器(externaldrumscanner)，但是可以使用其他的掃描設(shè)備，例如平板掃描器和內(nèi)滾筒掃描器。在一些實施方案中，成像輻射可以包括紅外輻射。所述紅外輻射可以在例如750-1200nm的范圍內(nèi)，并且可以例如用例如二極管激光(830nm)或Nd:YAG激光(1064nm)的紅外激光器提供。根據(jù)這樣的實施方案，成像材料62包括對紅外輻射敏感的能量吸收劑，其將紅外輻射轉(zhuǎn)化為熱，這隨后可以導(dǎo)致物理或化學(xué)性質(zhì)的物理或化學(xué)變化。在另一些實施方案中，例如，可成像材料62被曝光于例如在400-700nm范圍內(nèi)的可見光激光下。在再一些實施方案中，可成像材料62通過激光直接成像(LDI)曝光于UV輻射下。對于這些成像工藝或機理的更詳細(xì)描述，包括對適合進(jìn)行這些成像工藝的成像器和設(shè)備的描述，由之前納入的Zwadlo的美國專利No.7，279，254提供。根據(jù)一種成像機理，通過燒蝕去除蒙片50的成像材料62中的曝光區(qū)域70。采用這種成像機理，成像材料62(以及如果存在的話，可燒蝕層66)的曝光區(qū)域70通過產(chǎn)生氣體而被從蒙片基底60上噴掉。根據(jù)這種實施方案，在可成像材料62或可燒蝕層66中可以使用在曝光于熱(例如激光輻射)時分解以快速產(chǎn)生氣體的特殊粘合劑。在可成像材料62的曝光區(qū)域70下面或其中氣體的累積在曝光區(qū)域70中產(chǎn)生了驅(qū)使可成像材料62脫離蒙片基底60的壓力。在通過激光束(例如激光束56)作用的另一種燒蝕成像模式中，將具有著色劑、紅外吸收染料和粘合劑的可成像材料層成像，其中來自激光的能量在該激光束照射該可成像材料的點上除掉可成像材料。采用燒蝕成像機理，例如，可以將爆片收集器(例如真空或適合的接收器片)設(shè)置在可成像材料附近以在曝光的可成像材料被從蒙片基底上噴掉后回收或收集該曝光的可成像材料。其他成像機理也可以適合成圖像地曝光蒙片50的成像材料62，包括，例如激光誘導(dǎo)的膜轉(zhuǎn)印，剝離機理和染料升華或擴散。這些成像機理，和燒蝕機理一起更詳細(xì)地描述在之前納入的Zwadlo的美國專利No.7，279，254中?；氐綀D3，注意到曝光區(qū)域70是不同尺寸或面積的。例如，對于圖3，在蒙片50的右手邊的曝光區(qū)域70的尺寸小于在蒙片50的左手邊的曝光區(qū)域70。圖4是用激光組件36成圖像地曝光(例如施用燒蝕機理)后的蒙片50的一個實例部分的頂視圖。再次注意到曝光區(qū)域70是不同尺寸的。如在下面更詳細(xì)描述的，根據(jù)常規(guī)已知的技術(shù)，由主曝光組件38提供的固化輻射39通過曝光區(qū)域70(參見圖1和7)，其與顯影工藝一起，在由柔性版印版前體32形成的柔性版印版32’上產(chǎn)生圓錐形的“高光點”。同時，所述高光點在柔性版印版32’上形成所需的凸版圖像，其中不同尺寸的曝光區(qū)域在凸版圖像中產(chǎn)生不同尺寸的高7點ο在待使用柔性版印版32’印刷的圖像的最亮區(qū)域(通常稱為高光部分)，該圖像的密度表示為在連續(xù)色調(diào)圖像的網(wǎng)屏表示中的高光點的總面積。不同尺寸的高光點相應(yīng)于不同的色調(diào)密度。例如，在不需要密度的區(qū)域(0%色調(diào))中，沒有高光點，而用于10%色調(diào)的高光點的尺寸將大于用于5%色調(diào)的高光點?；谶@種對應(yīng)性，高光點的尺寸通常按照高光點對應(yīng)的色調(diào)值來標(biāo)示高光點的尺寸，例如5%高光點或10%高光點。例如，參考圖4，最小的高光點可以表示1%高光點，而最大的高光點可以表示10%高光點。因為高光點之間的這種對應(yīng)性，蒙片50的曝光區(qū)域70的尺寸也按照色調(diào)百分比進(jìn)行標(biāo)示。這個百分比有時也稱為高光值。如已知的，蒙片圖像的曝光區(qū)域70的尺寸越小，就越難在柔性版印版32’的凸版圖像中有效形成相應(yīng)的高光點。再次參考圖1，根據(jù)一個實施方案，在蒙片50上形成蒙片圖像后，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)的成像輥驅(qū)動蒙片50和柔性版印版前體32—起通過輥隙52，使得蒙片50的成像材料60粘附或?qū)訅旱饺嵝园嬗“媲绑w32的前表面33a上。圖5是圖示說明被層壓到柔性版印版前體32上后的蒙片50的方框圖。根據(jù)一個實施方案，通過施加壓力，例如由輥隙52施加的壓力，將蒙片50層壓到柔性版印版前體32上。在另一些實施方案中，可以通過加熱將蒙片50層壓到柔性版印版前體32上。層壓還包括同時向柔性版印版前體32和蒙片50施加熱和壓力。另外，可以使用同時提供熱和壓力的市售層壓機，來代替使用成像輥34和壓力輥42層壓蒙片50和柔性版印版前體32。適合的層壓機包括，例如可由festmanKodakCo.(Rochester,N.Y.)得到的KODAKmodel880XLAPPROVALLAMINAT0R和可由C0R0Rlaminatingsystems(Amsterdam,Holland)得至Ij的C0D0RLPP650LAMINAT0R。如圖所示，根據(jù)一個實施方案，柔性版印版前體32包括感光基底80，感光材料82和脫離層84，其中蒙片50的成像材料62經(jīng)由脫離層84被層壓到柔性版印版前體32上。根據(jù)一個實施方案，在將蒙片50的蒙片圖像形成為柔性版印版前體32上的凸版圖像以后由柔性版印版前體32得到柔性版印版32’。根據(jù)一些實施方案，感光材料82可以是正性或負(fù)性的。負(fù)性感光材料通過曝光在固化輻射下硬化或固化，并且通常包括當(dāng)曝光在固化輻射下時發(fā)生聚合或交聯(lián)的聚合物或預(yù)聚物。在一個實施方案中，感光材料82包含還可能包括彈性體粘合劑的紫外可固化樹脂、至少一種單體和光引發(fā)劑，其中該引發(fā)劑對非紅外輻射敏感。在大多數(shù)情況下，所述引發(fā)劑對紫外或可見光輻射敏感或?qū)烧叨济舾小Ｋ鰪椥泽w粘合劑可以是單一聚合物或多種聚合物的混合物，它們可溶解、溶脹或分散在含水顯影、半水顯影液或有機溶劑顯影液中。所述單體可以包括單一單體或多種單體的混合物，它們與粘合劑相容的程度為可以產(chǎn)生透明無混濁的感光層。所述光引發(fā)劑可以為對紫外輻射敏感產(chǎn)生自由基的任何單一化合物或多種化合物的組合，所述自由基引發(fā)所述單一單體或多種單體的聚合反應(yīng)而沒有過度的終止。所述光引發(fā)劑可以是對可見或紫外輻射敏感的，并且也可以是對紅外和/或可見輻射不敏感的，應(yīng)當(dāng)在185°C或更低溫度下呈熱惰性。根據(jù)所需的最終性質(zhì)，所述紫外可固化樹脂可能包含其他的添加劑，例如敏化劑、增塑劑、流變改性劑、熱聚合抑制劑、增粘劑、著色劑、抗氧化劑、抗臭氧劑或填料。感光材料82(例如紫外可固化樹脂)的厚度可以根據(jù)所需的柔性版印版32的類型而變化。在一個實施方案中，紫外可固化樹脂的厚度可以為，例如20-250密耳(500-600微米)或更多，且更具體為20-100密耳(500-2500微米)。根據(jù)一個實施方案，柔性版印版32包括由KodakPolychromeGraphics(Norwalk,CT)以FLEXCELNX銷售的柔性版印版前體。在一個實施方案，柔性版印版32包括由KodakPolychromeGraphics(Norwalk,CT)以FLEXCELSRH銷售的柔性版印版前體。脫離層84有利于在固化工藝之后從感光材料82上去除成像后的蒙片50。脫離材料84在固化工藝中也可以在印版32和成像后的蒙片50之間提供足夠的粘合性。該脫離層不應(yīng)該顯著吸收或散射固化輻射并且在室溫下應(yīng)當(dāng)允許完整地去除蒙片50，而在高溫下不允許。脫離層84也可以保護(hù)感光材料82的紫外可固化樹脂免受指紋的損害或其他損害。適合用作脫離層84的涂料的實例包括聚乙烯醇或類似的聚合物，纖維素聚合物例如甲基纖維素或羥丙基甲基纖維素，或聚乙烯醇縮丁醛或其他如上所述的羥基聚合物。脫離層84的一個特殊實例為水解的苯乙烯馬來酸酐共聚物。用于柔性版印版32的適合層壓技術(shù)和各種材料及材料的組合的描述和實例更詳細(xì)地提供在之前納入的Zwadlo的專利No.7，279，254中。再次參考圖1，將蒙片50層壓到柔性版印版前體32的前表面33a上以后，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)成像輥34來移動層壓組合物沿輸運床44首先經(jīng)過二次背曝光組件40，然后經(jīng)過主曝光組件38。根據(jù)一個實施方案，如圖6所示，當(dāng)柔性版印版前體32的背表面3移動經(jīng)過二次背曝光組件40時，二次背曝光組件40經(jīng)由背表面3將柔性版印版前體32的感光基底80的選定面積或區(qū)域選擇性地曝光在固化輻射90下。根據(jù)一個實施方案，固化輻射90包含紫外輻射。根據(jù)一個實施方案，在與蒙片50層壓在一起以前，柔性版印版前體32的背表面33b經(jīng)由感光基底80首先被曝光于固化輻射下，以在毗鄰感光基底80的感光材料82中制備均勻的固化薄層，這是通常稱為“背曝光”的工藝。如下所述，這個均勻的固化薄層有時被稱為在所得到的柔性版印版的感光材料82中的凸版圖像的“底層”。因此，由二次背曝光組件40提供的固化輻射90增加了在選定區(qū)域中的感光材料層82的固化層的厚度(即，升高了底層或降低了在選定區(qū)域中的所得凸版圖像的凹凸度)。根據(jù)一個實施方案，用二次背曝光組件40曝光的選定區(qū)域相應(yīng)于這樣的蒙片50的蒙片圖像的區(qū)域，其中曝光區(qū)域70具有等于或低于高光值閾的高光值。在一個實施方案中，背曝光組件40與成像后蒙片50對準(zhǔn)或分度(index)到成像后蒙片50上，根據(jù)在蒙片圖像的形成中用于產(chǎn)生曝光區(qū)域70和未曝光區(qū)域72的電子存貯數(shù)據(jù)，二次背曝光組件40將具有等于或低于高光值閾的高光值的那些區(qū)域曝光在固化輻射90下。根據(jù)一個實施方案，例如二次背曝光組件40提供曝光輻射，其中圖像特征(例如曝光區(qū)域70)具有等于或小于m的高光值。例如，在一個實施方案中，參考圖6，僅僅曝光區(qū)域70中的區(qū)域92等于或小于給定的高光閾值(例如洲)，而其余的曝光區(qū)域70高于該高光閾值。因此，根據(jù)這樣的實施方案，柔性版印版前體32的背表面33b中僅僅對相應(yīng)于曝光區(qū)域92的區(qū)域被二次背曝組件40曝光于固化輻射90下。應(yīng)當(dāng)注意，高光閾值可能根據(jù)給定的柔性版印版前體的具體要求而變化。根據(jù)一個實施方案，由二次背曝光組件40提供的固化輻射90是數(shù)字控制的，以便僅曝光柔性版印版前體32的選定區(qū)域。根據(jù)一個實施方案，二次背曝光組件40根據(jù)蒙片圖像的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值，提供經(jīng)過背表面3的成圖像地可尋址固化輻射90來曝光柔性版印版前體32的選定區(qū)域。在一個實施方案中，二次背曝光組件40通過多個各自可尋址輻射源提供成圖像地可尋址固化輻射90。在一個實施方案中，背曝光組件40包括各自可尋址的紫外(UV)發(fā)光二極管(LED)的陣列。在一個實施方案中，將所述UVLED排列形成線形陣列，該陣列被設(shè)置為在橫向方向上延伸跨越柔性版印版前體32的寬度。適合用作背曝光組件40的市售線形UVLED陣列的實例包括可由CON-TROL-⑶RE.com得到的UVLEDCure-AllLinear100，可由Mockeryale,he.得到的COBRA線掃描照明設(shè)備(COBRALinescanIlluminationdevices)，以及可由OptoTechnology(Wheeling,IL)得到的照明設(shè)備。根據(jù)一個實施方案，所述LED陣列的分辨率和準(zhǔn)直度使得由這些LED提供的曝光輻射被限制在有限面積上，例如每英寸100個點。雖然上面描述的是UVLED的線形陣列，但是二次背曝光組件40可以包括任何適合類型的數(shù)字可尋址光源，例如具有各自可尋址的微鏡的陣列和連接至各自可尋址/可控制光源的光學(xué)纖維的陣列的數(shù)字投光器(DLP)。參考圖1，在曝光于來自于二次背曝光組件40的固化輻射90下之后，柔性版印版前體32和蒙片50的層壓組合被驅(qū)動通過主曝光組件38，在這里，如圖7所示，主曝光組件38透過蒙片50以泛光模式將固化輻射39投射到柔性版印版前體32的感光材料82上。固化輻射39被蒙片50的未曝光區(qū)域72阻擋并通過曝光或未掩蓋的區(qū)域70，以照射到感光材料82上來造成硬化或固化。因此，蒙片圖像應(yīng)當(dāng)為對固化輻射39基本上不透明的，其中基本上不透明指的是該蒙片圖像的透射光學(xué)密度應(yīng)當(dāng)為2.0或更高，且更特別為3.0或更高?？沙上癫牧?2的未掩蓋或曝光區(qū)域70和蒙片基底60應(yīng)當(dāng)為基本上透明的，其中基本上透明指的是在固化輻射39的波長下透射光學(xué)密度為0.5或更小，并且更特別為0.1或更小，甚至更特別為0.05或更小。適合固化輻射39的波長或波長范圍由感光材料82的性質(zhì)決定。根據(jù)一個實施方案，固化輻射39包含紫外輻射。用于泛光曝光于紫外輻射下的輻射源是常規(guī)的。適合的可見或UV源的實例包括碳弧、汞汽弧、熒光燈、電子閃光燈和攝影泛光燈。適合的LV輻射源包括汞汽燈，特別是日光燈。用于主曝光組件38的適合的標(biāo)準(zhǔn)輻射源的實例包括可由BurgessIndustries,Inc.(Plymouth,MN)得到的SYLVANIA350BLACKLIGHT熒光燈和帶有ADDALUX754-18017燈的BURGESSEXPOSUREFRAME,Model5K-3343VSII。通過蒙片50曝光的時間取決于柔性版印版前體32的感光材料82的性質(zhì)和厚度。應(yīng)當(dāng)注意，由于將蒙片50層壓到柔性版印版前體32上，所以對于用二次背曝光組件40進(jìn)行的背表面33b的曝光或用來自主曝光組件38的固化輻射39進(jìn)行的透過蒙片50的感光材料82的曝光而言，都不需要進(jìn)行真空下拉(vacuumdraw-down).因此，不需要產(chǎn)生真空所需的時間，并且不需要將能夠造成固化輻射散射的去光劑或珠作為蒙片50的一部分。參考圖8，在透過蒙片50將感光材料82曝光，從柔性版印版前體32的前表面33a上除去蒙片50，以便能夠重復(fù)使用成像后的蒙片50。例如，可以通過從柔性版印版前體32上剝離蒙片50來去除蒙片50。去除蒙片50可以手動或用機器完成。在去除或剝離成像后的蒙片50后，柔性版印版前體32的感光材料82中的未硬化或未固化(即未曝光于固化輻射下)的部分通過顯影工藝除去，留下感光材料82的固化部分，其限定了凸版圖像或凸版印刷表面，并由此完成了從柔性版印版前體32向柔性版印版32’的轉(zhuǎn)變。根據(jù)一個實施方案，顯影工藝包括用適合的顯影液沖洗柔性版印版前體32。適合的顯影液可以溶解、分散或溶脹感光材料82的未曝光區(qū)域。機器顯影也可以是合適的并且包括擦洗或刷洗柔性版印版前體32以去除感光材料82的未固化或未硬化部分。機器顯影設(shè)備也可以和溶劑顯影設(shè)備結(jié)合使用。對這種顯影工藝的更詳細(xì)描述，以及對適合的柔性版印版前體32的更詳細(xì)討論，和用主曝光組件38經(jīng)由成像后蒙片50曝光感光材料82詳細(xì)描述在之前納入的Zwadlo的美國專利No.7，279，254中。圖9圖示說明了通過顯影柔性版印版前體前體32得到的柔性版印版32’。如圖所示，脫離層84和感光材料82的未固化部分已經(jīng)被洗掉，留下感光材料82的固化部分，其對應(yīng)于蒙片50的曝光區(qū)域70并限定了感光基底80上的所需凸版圖像。如早期所描述的，顯影后剩余的感光材料82的圓錐形固化部分通常被稱為高光點，圖示為高光點94、96、98、100和102。參考圖6的實例圖示，高光點94、96和98相應(yīng)于蒙片50的區(qū)域92，在這里，曝光區(qū)域或未遮蓋區(qū)域70具有等于或低于給定高光閾值(例如2%)的高光值，而高光點100和102相應(yīng)于蒙片50的具有高于給定高光閾值的高光值的曝光區(qū)域70。如圖所示，由于通過二次背曝光組件40將固化輻射90選擇性地施加到區(qū)域92上，在選定區(qū)域92中的凸版圖像的底層具有深度104，其大于在非選定區(qū)域中的“標(biāo)準(zhǔn)”底層深度106(其中，“標(biāo)準(zhǔn)”底層通過將整個背表面3曝光于預(yù)背部曝光輻射下而形成)。因此，等于或低于給定高光閾值的高光點(例如高光點94、96和98)的凸版深度108小于高于給定高光閾值的高光點的凸版深度110。通過為具有等于或小于給定高光閾值的高光值的高光點提供更高的底層(即減少的凹凸度)，例如與高光點94、96和98相關(guān)的減少的凸版深度108，為這種高光點提供了額外的底層結(jié)構(gòu)。這種額外的底層結(jié)構(gòu)提供了增加的穩(wěn)定性，并且使所述高光點能夠在顯影工藝中更好地存活(例如，在顯影過程中較不容易被洗掉)，并且使從其得到的柔性版印版32’與根據(jù)常規(guī)工藝形成的柔性版印版相比能夠保持更小尺寸的高光點。這種額外的支撐也有助于在將使用柔性版印版32’的后續(xù)印刷工藝中更好地保持這些高光點的物理完整性。例如，根據(jù)一個實驗，將FlexelNX蒙片成圖像地曝光并層壓到板厚度為0.067英寸的FlexelSRH印版前體上(兩者均可由KodakPolychromeGraphics,Norwalk,CT得到)。當(dāng)使用8分鐘的前或主曝光(例如用主曝光組件38)時，對于27密耳的印版凹凸度，在133線屏的高光點存留率為1(具有約80微米的相對凹凸度)。當(dāng)結(jié)合在8分鐘前側(cè)曝光之前使用420mW和370nm波長的UVLED陣列(得自O(shè)ptoTechnology,Wheeling,IL的0TLH-0280-UV-10_A)進(jìn)行的20秒的二次背曝光重復(fù)進(jìn)行時，高光點存留率被降低至0.5%點(具有約60微米的相對凹凸度)。根據(jù)第二實驗，將17mm的FlexelSRH柔性版印版前體進(jìn)行背曝光11秒(對于27密耳的標(biāo)稱凹凸度)。然后使用提供40mW總輸出功率并具有375的測量輸出波長的OptotekP150-3072UVLED打印頭以1.6mm/秒另外背曝光0.5英寸寬列，以提供12密耳的總凹凸度。然后用具有各種高光點尺寸和500微米RLD特征的TIL蒙片進(jìn)行4分鐘的常規(guī)前曝光(即，主曝光)。如圖10的顯微圖像所示，在用LED打印頭的選定曝光制備的具有更高底層的印版區(qū)域上保持了20微米Maccato圖案的0.4%高光點，如在120處所示，而在具有較低底層的區(qū)域沒有保持這些高光點，如在122處所示。此外，如圖11的圖像所示，在額外曝光的列中保持了0.15%的高光點。根據(jù)第三實驗，將一半的0.67FlexcelSRHNX感光聚合物在Mekrom熒光燈排組件中進(jìn)行預(yù)背曝光11秒，這產(chǎn)生標(biāo)稱四密耳的凹凸度，而另一邊沒有接受預(yù)背曝光。接著，使用Optotek的P150-3072UVLED打印頭(其由多個模塊的交錯陣列組成，其中總LED間隔為每英寸150個LED，每個模塊都具有32個LED并提供40mff(1.25mff/二極管)的輸出功率)，將該打印頭以三種不同的速度掃描通過所述感光聚合物(0.12,0.18、和0.26cm/秒)以提供額外的背曝光。結(jié)果圖示說明在圖12A和12B的曲線圖中。圖12A是圖示說明僅僅由LED打印頭提供的背曝光得到的凹凸度的曲線圖130。圖12B是圖示說明由常規(guī)預(yù)背UV曝光和由LED打印頭提供的額外背曝光的組合得到的總凹凸度的曲線圖132。第一曲線134圖示說明了僅由LED打印頭提供的背曝光得到的凹凸度，其中數(shù)據(jù)點136、138和140對應(yīng)于增加的速度，LED打印頭以該速度掃描感光聚合物。第二曲線142圖示說明由LED打印頭提供的UV曝光與由Mekrom熒光燈排組件提供的常規(guī)UV背曝光組合得到的凹凸度，其中數(shù)據(jù)點144、146和148對應(yīng)于增加的速度，LED打印頭以該速度掃描感光聚合物。圖13圖示說明了用于使用背曝光組件40選擇性背曝光柔性版印版前體32的背表面3的另一種裝置150。根據(jù)圖13的實施方案，不是移動柔性版印版前體32通過主曝光組件38，而是移動二次曝光組件40并掃描跨越柔性版印版前體32的背表面33b，例如在χ-和y_方向上。同樣，將背曝光組件40分度到或?qū)?zhǔn)蒙片50，例如通過對準(zhǔn)起始點152。根據(jù)一個實施方案，對準(zhǔn)起始點152被寫入蒙片50中并被二次背曝光組件讀取，以用蒙片信息精確調(diào)準(zhǔn)來自二次背曝光組件40的固化輻射90?？偟膩碚f，通過將相應(yīng)于蒙片50的等于或低于給定高光值的曝光區(qū)域70的柔性版印版前體32的那些區(qū)域選擇性背曝光于來自背曝光組件40的輻射，裝置30能夠提供所得的柔性版印版32’，與常規(guī)工藝相比，其保持了更小尺寸的高光點(否則在顯影中會被沖洗掉)。由背曝光組件40提供的二次選擇性背曝光還減少了主或主曝光組件38所需的曝光時間。例如，僅適用經(jīng)由主曝光組件38的前曝光，可能需要高達(dá)30分鐘的曝光時間，同時增加的缺陷是蒙片圖像的一些區(qū)域可能被過度曝光并導(dǎo)致顯影后的蒙片的區(qū)域具有大于預(yù)期的高光值。例如，在一種情況下，如上所述，根據(jù)本發(fā)明對柔性版印版前體32進(jìn)行20秒的選擇性背曝光，僅需要由主曝光組件38進(jìn)行8分鐘的曝光時間。權(quán)利要求1.一種在柔性版印版上產(chǎn)生凸版圖像的方法，該方法包括成圖像地曝光包括設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料的蒙片，以在設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料中形成具有蒙片圖像的成像蒙片，該蒙片圖像包括每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域；將成像蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上；以及根據(jù)所述蒙片圖像中的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值，將柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過柔性版印版前體的背表面的成圖像的可尋址固化輻射。2.權(quán)利要求1所述的成像裝置，其中，所述選定區(qū)域包括具有等于或低于高光值閾的高光值的蒙片圖像區(qū)域。3.權(quán)利要求1所述的方法，包括，在經(jīng)由背表面曝光柔性版印版前體的選定區(qū)域之前，將柔性版印版前體的整個背表面曝光于固化輻射下，以毗鄰該背表面形成柔性版印版前體的基本上均勻的曝光層。4.權(quán)利要求1所述的方法，包括將柔性版印版前體曝光于穿過成像蒙片的固化輻射；從柔性版印版前體上除去成像蒙片；以及顯影柔性版印版前體以去除未曝光于固化輻射的柔性版印版前體部分，來形成柔性版印版，剩余的曝光部分形成凸版圖像。5.權(quán)利要求4所述的方法，其中在沒有真空下拉的情況下曝光柔性版印版前體的選定區(qū)域和穿過成像蒙片曝光柔性版印版前體。6.權(quán)利要求1所述的方法，其中曝光選定區(qū)域包括通過多個各自可尋址的輻射源提供成圖像的可尋址固化輻射。7.權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述輻射源包括紫外光源。8.權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述各自可尋址的輻射源包括紫外發(fā)光二極管的陣列。9.權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述各自可尋址的輻射源包括連接至光源的多個各自可尋址的光纖。10.權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述各自可尋址的輻射源包括數(shù)字投光器(DLP)的各自可尋址的微鏡。11.在柔性版印版上形成凸版圖像的裝置，其包括層壓機，其被構(gòu)造為將具有蒙片圖像的成像蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上，該蒙片圖像具有每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域；主曝光組件，其被構(gòu)造為將柔性版印版前體曝光于穿過成像蒙片的固化輻射；以及二次曝光組件，其被構(gòu)造為根據(jù)所述蒙片圖像中的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值，將柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過柔性版印版前體的背表面的固化輻射。12.權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述選定區(qū)域包括具有等于或低于高光值閾的高光值的蒙片圖像區(qū)域。13.權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述柔性版印版前體包括通過將整個背表面曝光于固化輻射下形成的毗鄰該背表面的基本上均勻的曝光層。14.權(quán)利要求11所述的裝置，其中，根據(jù)表示蒙片圖像的存貯數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)將所述二次曝光組件分度到蒙片圖像。15.權(quán)利要求11所述的裝置，其中，所述二次曝光組件包括多個各自可控制的輻射源。16.權(quán)利要求15所述的裝置，其中，所述各自可控制的輻射源包括紫外發(fā)光二極管的陣列。17.權(quán)利要求15所述的裝置，其中，所述各自可控制的輻射源包括連接至各自可尋址的光源的多個光纖。18.權(quán)利要求15所述的裝置，其中，所述各自可控制的輻射源包括數(shù)字投光器(DLP)的各自可控制的微鏡。19.在柔性版印版上形成凸版圖像的方法，其包括將具有蒙片圖像的成像蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上，該蒙片圖像具有每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域；以及根據(jù)所述蒙片圖像中的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值，將柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過柔性版印版前體的背表面的成圖像的可尋址固化輻射下。20.權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述選定區(qū)域包括具有等于或低于高光值閾的高光值的蒙片圖像區(qū)域。21.權(quán)利要求19所述的方法，包括以泛光模式將柔性版印版前體曝光于穿過成像蒙片的固化輻射；從柔性版印版前體上除去成像蒙片；以及顯影柔性版印版前體以去除未曝光于固化輻射的柔性版印版前體部分，來形成柔性版印版，剩余的曝光部分形成凸版圖像。22.權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述成圖像的可尋址固化輻射包括由各自可尋址的紫外發(fā)光二極管的陣列提供的紫外輻射。全文摘要一種在柔性版印版上產(chǎn)生凸版圖像的方法，包括成圖像地曝光包括設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料的蒙片，以形成在設(shè)置在蒙片基底上的可成像材料中具有蒙片圖像的成像蒙片，該蒙片圖像包括每一個都具有高光值的蒙片圖像區(qū)域。該方法還包括將所述成像的蒙片層壓到柔性版印版前體的前表面上，并根據(jù)該蒙片圖像的相應(yīng)蒙片圖像區(qū)域的高光值將所述柔性版印版前體的選定區(qū)域曝光于透過該柔性版印版前體的背表面的成圖像的可尋址固化輻射。文檔編號B41C1/02GK102112312SQ200980129868公開日2011年6月29日申請日期2009年7月21日優(yōu)先權(quán)日2008年7月31日發(fā)明者G·L·茲沃爾多申請人:伊斯曼柯達(dá)公司