專(zhuān)利名稱(chēng)：常壓等離子體噴墨涂布裝置以及制作彩色濾光膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)于一種噴墨涂布裝置及使用噴墨涂布操置制作彩色濾光膜 的方法，特別有關(guān)于一種常壓等離子體噴墨涂布裝置以及使用噴墨涂布裝置 制作彩色濾光膜的方法。
背景技術(shù)：
薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)前段工藝所需求的材料，主要包括彩 色濾光膜(Color filter,簡(jiǎn)稱(chēng)CF)、玻璃基板、驅(qū)動(dòng)電路(driver IC)、背光模塊 及液晶材料等。尤其，在在TFT-LCD的制造成本中，材料成本占60~70%比 重，其中又以彩色濾光膜占整體TFT-LCD面板材料成本最高，幾乎達(dá)到1/4 的比例。在TFT-LCD應(yīng)用產(chǎn)品多元化及產(chǎn)量逐漸擴(kuò)大之際，對(duì)彩色濾光膜 的需求也逐步攀升。
為了解決制造彩色濾光膜的問(wèn)題，彩色濾光膜噴墨法系統(tǒng)已被提出。然 而，傳統(tǒng)噴墨法制造彩色濾光膜需要精準(zhǔn)的平臺(tái)去控制噴墨液滴噴至事先決 定的像素圖案(pattern)位置，且不可溢散至相鄰的像素色塊，以避免混色 的發(fā)生。再者，彩色濾光膜所能打印的樣式與分辨率必須配合噴墨頭噴嘴的 間距而設(shè)計(jì)，增加工藝的復(fù)雜度。
傳統(tǒng)噴墨工藝主要是將墨滴直接上色在濾光膜基板上由黑色矩陣(Black Matrix)構(gòu)成的凹坑(concavities )內(nèi)，不同型式的濾光膜有不同的顏色噴布 型式， 一般以紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)三色作為一個(gè)基本的像素。噴墨工藝相對(duì) 于其它半導(dǎo)體工藝方法，其設(shè)備與制造成本可大幅降低。然而，噴墨法必須 相當(dāng)精確的位置定位，方能使墨滴噴涂在預(yù)定的位置上。此外，由于墨滴在 凹坑內(nèi)的擴(kuò)散均勻性不佳，會(huì)造成凹坑間的白色缺陷(White Omission)。
針對(duì)這些問(wèn)題，已知技術(shù)提供吸墨層的設(shè)計(jì)，在濾光膜基板的凹坑內(nèi)， 設(shè)置吸墨層。將墨滴以特殊的方式排列噴涂(包含墨滴的大小以及位置)， 再利用吸墨層的高擴(kuò)散性將其擴(kuò)散到想要的區(qū)域。并且，利用光學(xué)校正定位 的方式，提供更加精確的定位。然而，設(shè)置吸墨層會(huì)增加制造成本與工藝復(fù)雜度。墨滴透過(guò)吸墨層擴(kuò)散
后，在凹坑間易產(chǎn)生白色缺陷或造成混色(ColorMixing),而嚴(yán)重影響彩色濾 光膜的品質(zhì)。此外，在定位方面，光學(xué)實(shí)時(shí)校正定位是利用模擬信號(hào)解析， 也就是通過(guò)凹坑的狹縫效應(yīng)的光線的光量分布判別所需噴涂的位置。然而， 光量分布會(huì)因光源與CCD間的相對(duì)位置誤差，造成波峰或波谷位置的偏移， 并沒(méi)有辦法達(dá)到精確的判別。
彩色濾光膜噴墨法系統(tǒng)已被提出，包括美國(guó)專(zhuān)利US 5,984,470、 US 6,145,981 、 US 6,207,948以及US 5，847，720披露噴墨涂布裝置及制作彩色濾 光膜的方法。必須以精準(zhǔn)的平臺(tái)去控制噴墨液滴噴至事先決定的樣板
(pattern)位置，且進(jìn)行噴墨作業(yè)時(shí)不可溢散至相鄰的色塊，以避免混色等 異常情況發(fā)生。而其彩色濾光膜所能打印的樣式與分辨率必須配合噴墨頭噴 嘴之間距而精確設(shè)計(jì)。尤其墨水噴嘴清洗不易，并且容易因墨水干涸而阻塞。 圖1顯示傳統(tǒng)以噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的示意圖。傳統(tǒng)噴墨涂布 裝置20將墨滴30涂布于基板10上，由黑色矩陣12所構(gòu)成的凹坑
(concavities)內(nèi)。如基板10未經(jīng)過(guò)表面改性處理，噴涂的墨滴30會(huì)由于 基板10本身的憎水性，以及表面張力而呈現(xiàn)水珠狀。如此將造成控制墨滴 大小的困難度，難以估計(jì)墨滴干涸后的形狀。例如，墨滴會(huì)因表面張力的影 響而形成凸出的墨滴30a于像素區(qū)域，如圖2A所示?；蛘咭虮砻鎻埩Σ蛔?而形成墨滴30b于像素區(qū)域中，如圖2B所示。此外，傳統(tǒng)未經(jīng)表面處理的 基板，因其本身的憎水性，使墨滴30c定位誤差溢出像素區(qū)域，造成墨滴渲 染及混色，而影響成品率，如圖2C所示。
有鑒于此，業(yè)界亟需一種表面處理改性基板特性，使得基板與墨滴間表 面張力降低，呈現(xiàn)水滴接觸角度小于10度，使墨滴平鋪于像素區(qū)域內(nèi)，如 圖2D所示，更可通過(guò)鄰近區(qū)域的表面張力差異，使得墨滴自動(dòng)校準(zhǔn)對(duì)位。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種常壓等離子體噴墨涂布裝置以及以其制作彩 色濾光膜的方法。通過(guò)含常壓等離子體模塊進(jìn)行表面改性，同步噴墨制作彩 色像素的裝置，使得基板上的噴涂像素的墨水，經(jīng)由等離子體表面改性后的 憎/親水性質(zhì)，得以自我對(duì)準(zhǔn)且均勻擴(kuò)散，提供實(shí)時(shí)的校正定位，使得墨滴噴 涂更加精確，進(jìn)而達(dá)到節(jié)省墨水使用，以及提升成品率。本發(fā)明實(shí)施例提供一種常壓等離子體噴墨涂布裝置，包括噴孔片，其 上包括第一排噴孔及第二排噴孔；噴墨頭模塊，具至少一彩色墨水對(duì)應(yīng)該第 一排噴孔以及常壓等離子體模塊對(duì)應(yīng)該第二排噴孔。
本發(fā)明另提供一種以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的方 法，包括提供基板；形成圖案化黑色矩陣層于該基板上，并定義出多個(gè)像 素區(qū)域；由常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭^f莫塊噴涂彩色墨水材料于 各個(gè)該像素區(qū)域中；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體 模塊對(duì)該基板進(jìn)行表面處理。
本發(fā)明又提供一種常壓等離子體噴墨涂布裝置，包括噴孔片，其上包 括第一排噴孔、第二排噴孔及狹縫型噴口；噴墨頭模塊，具至少一彩色墨水
源經(jīng)由導(dǎo)管連接該第一排噴孔常壓等離子體模塊，具有等離子體源產(chǎn)生常 壓等離子體至對(duì)應(yīng)該第二排噴孔以及輔助常壓等離子體模塊，由該等離子 體源產(chǎn)生常壓等離子體至對(duì)應(yīng)該狹縫型噴口 。
本發(fā)明又提供一種以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的方 法，包括提供基板；形成圖案化黑色矩陣層于該基板上，并定義出多個(gè)像 素區(qū)域；由常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂彩色墨水材料于 各個(gè)該像素區(qū)域中；由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊 對(duì)該基板進(jìn)行全面性的表面處理；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該 輔助常壓等離子體模塊對(duì)該基板的各個(gè)該像素區(qū)域進(jìn)行局部性的表面處理。
為使本發(fā)明能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說(shuō)明 如下:
圖1顯示傳統(tǒng)以噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的示意圖； 圖2A-2D顯示傳統(tǒng)以噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜造成各像素墨滴大 小不均的示意圖3顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置的示意圖； 圖4A-4C分別顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置的 噴孔片示意圖5顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的利用常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色 濾光膜的方法的流程圖；圖6A-6E顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的利用常壓等離子體噴墨涂布裝置制 作彩色濾光膜的方法各步驟的俯視圖7A-7D顯示根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置與形 成彩色濾光膜基板相對(duì)運(yùn)動(dòng)的示意圖；以及
圖8顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置的等離子體噴 流兼具清潔噴墨頭的示意圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明
10 基板；
20 傳統(tǒng)噴墨涂布裝置； 100 常壓等離子體噴墨涂布裝置； 120 噴墨頭模塊； 130 常壓等離子體模塊； 13 5 輔助常壓等離子體模塊； 112R、 112G、 112B 第一排噴孔； 115 狹縫型噴口；
S510-S570 利用常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的工藝步
驟;
12 黑色矩陣；
30、 30a-30c 墨滴30。
110、 110a-110c 噴孔片；
125~導(dǎo)管；
132~通道；
150~框架；
111 第二排噴孔；
610， 具憎水性的表面； 620 黑色矩陣(BM);
702 全面性的表面處理區(qū)域；
610 基板；
620' 局部親水性處理的區(qū)域； 630R、 630G、 630B 彩色像素區(qū)域； 701 基板； 703 彩色像素之間的區(qū)域； 706、 706， 等離子體處理過(guò)的區(qū)域；
707 事先定義的像素區(qū)域； 705R、 705G、 705B 彩色像素；
710a-710d 噴孔片；
Rp 常壓等離子體噴墨涂布裝置的運(yùn)動(dòng)方向；
Rs 彩色濾光膜基板的運(yùn)動(dòng)方向； 800~常壓等離子體噴墨涂布裝置； 810 噴墨頭模塊； 820 常壓等離子體模塊；
820~等離子體流； 840 基板。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明實(shí)施例利用常壓等離子體具表面改性特性，使得基板上的噴涂像 素的墨水得以自我對(duì)準(zhǔn)、均勻擴(kuò)散，以及節(jié)省墨水使用等成效。更明確地說(shuō)， 以常壓等離子體作為噴墨前/后的表面改性，改善墨滴精確定位、節(jié)省墨水使 用，以及提升成品率等成效。
圖3顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置的示意圖。請(qǐng)
參閱圖3，常壓等離子體噴墨涂布裝置100,包括噴孔片110，其上包括第一 排噴孔及第二排噴孔。噴墨頭模塊120,具至少一彩色墨水源經(jīng)由導(dǎo)管125 連接該第一排噴孔。常壓等離子體模塊130具等離子體源產(chǎn)生常壓等離子體 經(jīng)通道132至該第二排噴孔。該噴孔片IIO還包括狹縫型噴口以及輔助常壓 等離子體模塊135對(duì)應(yīng)該狹縫型噴口。常壓等離子體噴墨涂布裝置100還包 括框架150，使噴墨頭模塊120與常壓等離子體模塊130、 135整合于一體。 又或者，該噴墨頭模塊120與該常壓等離子體模130彼此獨(dú)立且分別動(dòng)作。
圖4A-4C分別顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置的 噴孔片示意圖。請(qǐng)參閱圖4A，噴孔片110a包括第一排噴孔112R、 112G、 112B對(duì)應(yīng)彩色墨水源，且設(shè)置于第二排噴孔111與狹縫型噴口 115之間。第 二排噴孔111與狹縫型噴口 115各對(duì)應(yīng)一常壓等離子體源。根據(jù)本發(fā)明另一 實(shí)施例，第二排噴孔111可設(shè)置于第一排噴孔112R、 112G、 112B與狹縫型 噴口 115之間(未繪示)。
請(qǐng)參閱圖4B,噴孔片100b亦可包括第一排噴孔112R、 112G、 112B對(duì) 應(yīng)彩色墨水源，以及第二排噴孔lll對(duì)應(yīng)一常壓等離子體源。再者，請(qǐng)參閱 圖4C，噴孔片100b亦可包括第一排噴孔112R、 112G、 112B對(duì)應(yīng)彩色墨水 源，以及狹縫型噴口 115對(duì)應(yīng)一常壓等離子體源。
本發(fā)明實(shí)施例所使用的常壓等離子體得以RF、 VHF、 DC、 AC、 MW作 為驅(qū)動(dòng)源，激發(fā)氣體(如CDA、 He)與混合氣體(如02、 N2、 CF4)產(chǎn)生0、 N、 OH、 H、 F等官能團(tuán)，使得達(dá)到表面處理的目的。
圖5顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的利用常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色 濾光膜的方法的流程圖。首先，提供常壓等離子體噴墨涂布系統(tǒng)(S510)，以 及提供基板(S520)。接著，形成圖案化黑色矩陣層于該基板上，并定義出多 個(gè)像素區(qū)域。例如，進(jìn)行全面性的常壓等離子體處理該基板，使其成為憎水 性(S530)。由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板 進(jìn)行局部的表面處理，以定義出親水性的黑色矩陣區(qū)域(S550)。由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂黑色矩陣材料于親水性的該黑色 矩陣區(qū)域(S560)。
接著，由常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂彩色墨水材料
于各個(gè)該像素區(qū)域中(S570)。再由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等 離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行全面性的表面處理，或者由該常壓等離子體噴墨涂 布裝置的該輔助常壓等離子體模塊對(duì)該基板的各個(gè)該像素區(qū)域進(jìn)行局部性 的表面處理(S570)。
圖6A-6E顯示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的利用常壓等離子體噴墨涂布裝置制 作彩色濾光膜的方法各步驟的俯視圖。請(qǐng)參閱圖6A，首先提供基板610,并 將基板610全面以常壓等離子體處理或其它表面處理步驟使其表面憎水性 610，，如圖6B所示。
接著，請(qǐng)參閱圖6C，通過(guò)常壓等離子體噴墨頭模塊的微等離子體噴頭， 直徑范圍約為5-200微米(]um)，進(jìn)行局部圖案表面親水性處理620'。接著， 由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂黑色矩陣材料于親水 性的該黑色矩陣區(qū)域，以定義出黑色矩陣(BM)620,如圖6D所示。
接著，請(qǐng)參閱圖6E，由常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴 涂各彩色墨水材料于各個(gè)彩色像素區(qū)域630R、 630G、 630B中。接著，視工 藝需求，以線性等離子體源進(jìn)行全面性或局部性表面處理，使其呈憎水性。
圖7A-7D顯示根據(jù)本發(fā)明各實(shí)施例的常壓等離子體噴墨涂布裝置與形 成彩色濾光膜基板相對(duì)運(yùn)動(dòng)的示意圖。請(qǐng)參閱圖7A,常壓等離子體噴墨涂 布裝置的運(yùn)動(dòng)方向Rp相對(duì)于彩色濾光膜基板701的運(yùn)動(dòng)方向Rs。常壓等離 子體噴墨涂布裝置的噴孔片710a上的噴孔配置，分別是像素等離子體模塊 噴孔lll,噴墨噴孔112R、 112G、 112B，狹縫型等離子體噴孔115。像素等 離子體噴孔111的位置與噴墨噴孔112R、 112G、 112B的位置在相對(duì)的運(yùn)動(dòng) 方向是平行的。其目的在于在噴墨步驟前，像素等離子體噴嘴lll先對(duì)基板 701事先定義的像素區(qū)域707作等離子體處理成像素等離子體處理過(guò)的區(qū)域 706。彩色像素之間的區(qū)域703則維持原表面性質(zhì)。接著，再依照顏色的涂 布需求，驅(qū)動(dòng)噴墨噴孔112R、 112G、 112B，將彩色墨水涂布于噴墨涂布彩 色像素705R、 705G、 705B。涂布墨水步驟后，驅(qū)動(dòng)常壓等離子體源，由狹 縫型等離子體噴孔115對(duì)基板701進(jìn)行全面性的表面處理，如區(qū)域702所示。
或者，請(qǐng)參閱圖7B，常壓等離子體噴墨涂布裝置的運(yùn)動(dòng)方向Rp相對(duì)于彩色濾光膜基板701的運(yùn)動(dòng)方向Rs。常壓等離子體噴墨涂布裝置的噴孔片 710b上的噴孔配置，分別是像素等離子體模塊噴孔111,噴墨噴孔112R、 112G、 112B，狹縫型等離子體噴孔115。且像素等離子體噴孔111的排列與 噴墨噴孔112R、 112G、 112B的排列位置在相對(duì)的運(yùn)動(dòng)方向是^l普位的。其目 的在于在噴墨步驟前，以像素等離子體噴孔111先對(duì)基板701上事先定義的 非像素區(qū)域706，作等離子體處理。接著，再依照顏色的涂布需求，驅(qū)動(dòng)噴 墨噴孔112R、 112G、 112B，將各彩色墨水涂布于噴墨涂布像素705R、 705G、 705B。涂布墨水步驟后，驅(qū)動(dòng)常壓等離子體源，由狹縫型等離子體噴孔115 對(duì)基板701進(jìn)行全面性的表面處理，如區(qū)域702所示。
或者，請(qǐng)參閱圖7C，常壓等離子體噴墨涂布裝置的運(yùn)動(dòng)方向Rp相對(duì)于 彩色濾光膜基板701的運(yùn)動(dòng)方向Rs。常壓等離子體噴墨涂布裝置的噴孔片 710c上的噴孔配置，分別是狹縫型等離子體噴孔115,像素等離子體模塊噴 孔lll,以及噴墨噴孔112R、 112G、 112B。像素等離子體噴孔111的排列與 噴墨噴孔112R、 112G、 112B的排列位置在相對(duì)的運(yùn)動(dòng)方向是錯(cuò)位的。其目 的在于在噴墨步驟前，先驅(qū)動(dòng)狹縫型等離子體噴孔115對(duì)基板701進(jìn)行全面 性的表面處理，如區(qū)域702所示。接著，以像素等離子體噴孔111對(duì)基板701 事先定義的非像素區(qū)域706'作等離子體處理。接著，驅(qū)動(dòng)噴墨噴孔112R、 112G、 112B,將各顏色墨水涂布于噴墨涂布像素705R、 705G、 705B。
或者，請(qǐng)參閱圖7D,常壓等離子體噴墨涂布裝置的運(yùn)動(dòng)方向Rp相對(duì)于 彩色濾光膜基板701的運(yùn)動(dòng)方向Rs。常壓等離子體噴墨涂布裝置的噴孔片 710d上的噴孔配置，排列分別是狹縫型等離子體噴孔115，像素等離子體模 塊噴孔111,以及噴墨噴孔112R、 112G、 112B,且像素等離子體噴孔111 的排列與噴墨噴孔112R、 112G、 112B的排列的位置在相對(duì)的運(yùn)動(dòng)方向是平 行的。其目的在于在噴墨步驟前，先驅(qū)動(dòng)狹縫型等離子體噴孔115對(duì)基板701 進(jìn)行全面性的表面處理，如區(qū)域702所示。接著，以像素等離子體噴孔lll 對(duì)基板701事先定義的像素區(qū)域706作等離子體處理。接著，驅(qū)動(dòng)噴墨噴孔 112R、 112G、 112B，將各顏色墨水涂布于噴墨涂布像素705R、 705G、 705B。
雖然本發(fā)明上述實(shí)施例是以彩色濾光膜的像素噴墨工藝為例，然非用以 限定本發(fā)明，其它圖案化工藝，例如電極或?qū)Ь€涂布，或其它具有事先定義 圖案的基板上的微小結(jié)構(gòu)單元，皆可經(jīng)由常壓等離子體表面處理技術(shù)，改變 特定局部區(qū)域的表面親水性質(zhì)，使其有別于其它非特定局部區(qū)域的表面憎水特性。以噴墨方式進(jìn)行噴涂，致使噴涂的墨水均勻地散布于特定處理后的局 部區(qū)域內(nèi)，不會(huì)渲染至其它非特定局部區(qū)域外。本發(fā)明實(shí)施例亦可避免機(jī)構(gòu) 對(duì)位的偏移所造成的尺寸誤差。當(dāng)噴墨液體在基板上形成，得選擇以常壓等 離子體進(jìn)行基板表面憎水處理，使特定局部區(qū)域經(jīng)過(guò)噴涂后的表面性質(zhì)與非 特定局部區(qū)域的表面性質(zhì)相同，達(dá)到提高工藝成品率的目的。
再者，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，由于等離子體噴流兼具清潔噴墨頭的功效。
請(qǐng)參閱圖8,當(dāng)常壓等離子體噴墨涂布裝置800的噴墨頭模塊810與常壓等 離子體模塊820整合于一體時(shí)，由常壓等離子體模塊820射出的等離子體流 830,經(jīng)基板840折向噴墨頭模塊810可清潔噴墨頭模塊，避免墨水干涸殘留。
本發(fā)明雖以優(yōu)選實(shí)施例披露如上，然其并非用以限定本發(fā)明的范圍，任 何所屬技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可 做些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種常壓等離子體噴墨涂布裝置，包括噴孔片，其上包括第一排噴孔及第二排噴孔；噴墨頭模塊，具至少一彩色墨水對(duì)應(yīng)該第一排噴孔以及常壓等離子體模塊對(duì)應(yīng)該第二排噴孔。
2. 如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，還包括框架，使該 噴墨頭模塊與該常壓等離子體模塊整合于一體。
3. 如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該噴孔片還包 括狹縫型噴口。
4. 如權(quán)利要求3所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，還包括輔助常壓等 離子體模塊對(duì)應(yīng)該狹縫型噴口 。
5. 如權(quán)利要求3所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 設(shè)置于該第二排噴孔與該狹縫型噴口之間。
6. 如權(quán)利要求3所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第二排噴孔 設(shè)置于該第一排噴孔與該狹縫型噴口之間。
7. 如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 包括多個(gè)第一噴孔，以及該第一排噴孔包括多個(gè)第二噴孔，其中各個(gè)該第一 噴孔與各個(gè)該第二噴孔沿水平方向錯(cuò)位。
8. 如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 包括多個(gè)第一噴孔，以及該第一排噴孔包括多個(gè)第二噴孔，其中各個(gè)該第一 噴孔與各個(gè)該第二噴孔沿水平方向?qū)R。
9. 如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中 該噴孔片還包括狹縫型噴口 ；該噴墨頭模塊的至少一彩色墨水源經(jīng)由導(dǎo)管連接該第一排噴孔； 該常壓等離子體模塊具有等離子體源產(chǎn)生常壓等離子體至對(duì)應(yīng)該第二 排噴孔；以及輔助常壓等離子體模塊，由該等離子體源產(chǎn)生常壓等離子體至對(duì)應(yīng)該狹 縫型噴口 。
10. 如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，還包括框架，使該 噴墨頭模塊與該常壓等離子體模塊整合于一體。
11 .如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該噴墨頭模塊 與該常壓等離子體模塊分別動(dòng)作。
12. 如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 設(shè)置于該第二排噴孔與該狹縫型噴口之間。
13. 如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第二排噴孔 設(shè)置于該第一排噴孔與該狹縫型噴口之間。
14. 如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 包括多個(gè)第一噴孔，以及該第一排噴孔包括多個(gè)第二噴孔，其中各個(gè)該第一 噴孔與各個(gè)該第二噴孔沿水平方向錯(cuò)位。
15. 如權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置，其中該第一排噴孔 包括多個(gè)第一噴孔，以及該第一排噴孔包括多個(gè)第二噴孔，其中各個(gè)該第一 噴孔與各個(gè)該第二噴孔沿水平方向?qū)R。
16. —種以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的方法，包括 提供基板；形成圖案化黑色矩陣層于該基板上，并定義出多個(gè)像素區(qū)域； 由權(quán)利要求1所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭才莫塊噴涂彩色墨水材料于各個(gè)該像素區(qū)域中；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行表面處理。
17. 如權(quán)利要求16所述的以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜 的方法，其中形成該圖案化黑色矩陣層于該基板上的步驟包括進(jìn)行全面性的常壓等離子體處理該基板，使其成為憎水性； 由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行局部的表面處理，以定義出親水性的黑色矩陣區(qū)域；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂黑色矩陣材料于親水性的該黑色矩陣區(qū)域。
18. 如權(quán)利要求16所述的以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜 的方法，其中由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基 板進(jìn)行表面處理的步驟包括對(duì)該基板進(jìn)行全面性的表面處理。
19. 如權(quán)利要求16所述的以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜 的方法，其中由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行表面處理的步驟包括對(duì)該基板的各個(gè)該像素區(qū)域進(jìn)行局部性的表面 處理。
20. —種以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜的方法，包括 提供基板；形成圖案化黑色矩陣層于該基板上，并定義出多個(gè)像素區(qū)域；由權(quán)利要求9所述的常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂彩 色墨水材料于各個(gè)該像素區(qū)域中；由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行 全面性的表面處理；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該輔助常壓等離子體模塊對(duì)該基板的各個(gè)該像素區(qū)域進(jìn)行局部性的表面處理。
21. 如權(quán)利要求20所述的以常壓等離子體噴墨涂布裝置制作彩色濾光膜 的方法，其中形成該圖案化黑色矩陣層于該基^1上的步驟包括進(jìn)行全面性的常壓等離子體處理該基板，使其成為憎水性； 由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該常壓等離子體模塊對(duì)該基板進(jìn)行局部的表面處理，以定義出親水性的黑色矩陣區(qū)域；以及由該常壓等離子體噴墨涂布裝置的該噴墨頭模塊噴涂黑色矩陣材料于親水性的該黑色矩陣區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明提供一種常壓等離子體噴墨涂布系統(tǒng)以及以其制作彩色濾光膜的方法。上述常壓等離子體噴墨涂布系統(tǒng)包括噴孔片，其上包括第一排噴孔及第二排噴孔。噴墨頭模塊，具至少一彩色墨水對(duì)應(yīng)該第一排噴孔。常壓等離子體模塊對(duì)應(yīng)該第二排噴孔。
文檔編號(hào)B41J3/407GK101318413SQ200710108269
公開(kāi)日2008年12月10日 申請(qǐng)日期2007年6月7日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月7日
發(fā)明者張加強(qiáng), 林春宏, 邱琬雯, 鄭兆凱, 黃介一 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院