專利名稱：一種光學(xué)擴(kuò)散膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)擴(kuò)散膜。
背景技術(shù)：
光學(xué)擴(kuò)散薄膜(還可稱為光學(xué)擴(kuò)散膜，簡(jiǎn)稱擴(kuò)散膜)廣泛應(yīng)用于液晶顯示、廣告燈箱、照明燈具等需要光源的裝置中，特別是在液晶顯示裝置中，擴(kuò)散膜是背光模塊中的關(guān)鍵零部件。光學(xué)擴(kuò)散膜的主要作用是提升光線亮度，并將導(dǎo)光板收到的光線柔散化，為顯示器提供一個(gè)均勻的面光源，起到拓寬視角的作用。就液晶顯示器來(lái)說(shuō)，在整個(gè)光學(xué)模組中需要兩片光學(xué)擴(kuò)散膜，分別稱為上擴(kuò)散膜和下擴(kuò)散膜。其中下擴(kuò)散膜靠近導(dǎo)光板，主要功能是集光、遮蔽導(dǎo)光板印刷網(wǎng)點(diǎn)或線光源、 燈管黑影；上擴(kuò)散膜具有高光穿透能力，可改善視角、增加光源柔和性，兼具擴(kuò)散及保護(hù)棱鏡片的功能。擴(kuò)散膜相比較于其它光學(xué)膜片(如棱鏡片)來(lái)說(shuō)所占的材料成本比重不高，但在高亮度規(guī)格的要求下，顯示屏的均勻度與亮度主要受擴(kuò)散膜的品質(zhì)影響。擴(kuò)散膜的目的是將線性光源或點(diǎn)狀光源均勻轉(zhuǎn)換成面光源，其作用原理是利用光在具有不同折射率的介質(zhì)中穿過(guò)，光線產(chǎn)生許多折射、反射、散射的現(xiàn)象，造成光學(xué)擴(kuò)散的效果。目前擴(kuò)散膜的制作方法多采用散射粒子型的濕法涂布方式，如圖I所示，現(xiàn)有擴(kuò)散膜結(jié)構(gòu)從上至下分別為擴(kuò)散層2、基材I和抗粘連粒子4，擴(kuò)散層2含有散射粒子3 (還可稱為擴(kuò)散微粒，或擴(kuò)散粒子)和粘合樹脂。其中基材I通常為透明光學(xué)級(jí)聚酯薄膜，散射粒子3可以是無(wú)機(jī)粒子或高分子粒子(或稱聚合物粒子)。有些擴(kuò)散膜結(jié)構(gòu)的上層和下層都是擴(kuò)散層，有些擴(kuò)散膜的下擴(kuò)散層下面還設(shè)置有粘接層。擴(kuò)散層2是通過(guò)涂布方式，將散射粒子和粘合樹脂，如聚丙烯酸樹脂(或稱壓克力樹脂)的混合物涂覆于基材I表面，涂層經(jīng)高溫烘干去除溶劑、硬化而成。散射粒子型涂布式擴(kuò)散膜具有透光率較高，霧度調(diào)節(jié)范圍大，外觀質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)，為高端背光源產(chǎn)品的擴(kuò)散膜首選品種。但該類擴(kuò)散膜由于采用后涂布加工方式，存在散射粒子與溶劑、樹脂的粘結(jié)力不佳，粒子分布均勻度難以控制等缺點(diǎn)。此外，所用涂料含有機(jī)溶劑，因溶劑揮發(fā)度不同易造成涂層不均的問(wèn)題，同時(shí)還存在烘干溶劑消耗能源且所用時(shí)間長(zhǎng)，干燥過(guò)程易受溫濕度影響，溶劑的廢氣處理等問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有的光學(xué)擴(kuò)散膜中的擴(kuò)散粒子與粘合樹脂和基膜之間的粘結(jié)力不佳的缺陷，及現(xiàn)有的光學(xué)擴(kuò)散膜需要涂布后加工處理，工藝復(fù)雜的缺陷，本發(fā)明提供了一種光學(xué)擴(kuò)散膜及其制備方法，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜中的擴(kuò)散粒子與樹脂之間的粘結(jié)力較好，表面抗粘連性能與光學(xué)性能良好，其制備方法包括三層共擠出和雙向拉伸工藝，操作簡(jiǎn)單。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案[0009]一種光學(xué)擴(kuò)散膜，它的特點(diǎn)是，所述擴(kuò)散膜為三層結(jié)構(gòu)，包括基材，所述基材兩側(cè)至少一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層，所述擴(kuò)散層包含有散射粒子，所述散射粒子的粒徑為1-60 μ m。一般來(lái)說(shuō)，應(yīng)選用一系列不同粒徑的粒子，以達(dá)到不同的光散射效果。例如，采用各粒徑范圍分布均勻的體系，得到的擴(kuò)散膜散射效果更為均勻；采用粗粒徑和細(xì)粒徑各占一半的體系，得到的擴(kuò)散膜亮度將會(huì)更高。進(jìn)一步的，制備散射效果均勻的光學(xué)擴(kuò)散膜，所述散射粒子的總重量為100%，其中粒徑為l-15um的粒子占25%，粒徑為16_30um的粒子占25%，粒徑為31_45um的粒子占25%，粒徑為46-60um的粒子占25%。上述百分比為重量百分比。進(jìn)一步的，制備高亮度的光學(xué)擴(kuò)散膜，所述散射粒子的總重量為100%，其中粒徑為l-15um的粒子占40 %，粒徑為16-30um的粒子占10 %，粒徑為31_45um的粒子占10 %，粒徑為46-60um的粒子占40%。上述百分比為重量百分比。進(jìn)一步的，所述基材的一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層，另一側(cè)設(shè)有抗粘連層，所述抗粘連層包含有抗粘連粒子，所述抗粘連粒子的粒徑為1-4 μ m。所述抗粘連粒子優(yōu)選為二氧化娃粒子。其中擴(kuò)散層(或稱散射層)起到光擴(kuò)散作用，抗粘連層起到薄膜收放卷過(guò)程中的抗粘連作用。由于散射層本身已有微粒存在，本身也具有抗粘連作用，所以有散射層的一面無(wú)需再添加抗粘連層。進(jìn)一步的，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為75-250 μ m，所述基材的厚度為擴(kuò)散膜厚度的76% -88%，所述擴(kuò)散層的厚度為擴(kuò)散膜厚度的6% -12%。薄膜表面的摩擦系數(shù)(動(dòng)、靜摩擦系數(shù))一般為O. 2-0. 6，最好情況下為O. 3-0. 5，滿足薄膜收放卷的抗粘連性要求。在光學(xué)性能方面，薄膜的透光率為86-94%，霧度為60-94%。一般來(lái)說(shuō)，薄膜的透光率越高，光利用率就越高；霧度越高，則膜的擴(kuò)散效果越好。透光率、霧度的要求，可以通過(guò)調(diào)整散射粒子的種類、粒徑以及添加量來(lái)得到滿足。進(jìn)一步的，所述擴(kuò)散膜為三層共擠結(jié)構(gòu)。在基膜(或稱基材)加工的同時(shí)直接完成擴(kuò)散膜的制備。一方面，免去了涂布后加工處理工序，從而可避免涂布處理所帶來(lái)的產(chǎn)品品質(zhì)和生產(chǎn)管理方面的問(wèn)題；另一方面，散射粒子與聚酯基膜的外層(即擴(kuò)散層)樹脂熔融混和，無(wú)需添加額外的粘合樹脂和溶劑，使得散射粒子牢固地嵌入擴(kuò)散層中，擴(kuò)散層與基材通過(guò)熔融共擠出和雙向拉伸工藝制備，兩層之間沒有明顯的分界，形成了一個(gè)整體，所以，散射粒子與基膜之間的粘結(jié)力較好。進(jìn)一步的，所述散射粒子粒徑為2-40 μ m。所述散射粒子可以根據(jù)粒徑以及所述擴(kuò)散層厚度的不同，在三層共擠時(shí)完全沒入擴(kuò)散層，或部分裸露在擴(kuò)散膜表面，或被擠入所述基材中。進(jìn)一步的，制備散射效果均勻的光學(xué)擴(kuò)散膜，所述散射粒子的總重量為100%，其中粒徑為2-10um的粒子占25%，粒徑為ll_20um的粒子占25%，粒徑為21_30um的粒子占25%，粒徑為31-40um的粒子占25%。所述百分比為重量百分比。進(jìn)一步的，制備高亮度的光學(xué)擴(kuò)散膜，所述散射粒子的總重量為100%，其中粒徑為2-10um的粒子占30 %，粒徑為I l_20um的粒子占20 %，粒徑為21_30um的粒子占20 %，粒徑為31-40um的粒子占30%。所述百分比為重量百分比。 進(jìn)一步的，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為100-200 μ m。進(jìn)一步的，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為75-150 μ m。[0023]進(jìn)一步的，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為150-250 μ m。進(jìn)一步的，所述基材原料包括聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其共聚改性聚酯，所述散射粒子為無(wú)機(jī)粒子或聚合物粒子。聚酯材料的特性粘度值為O. 55-0. 70dl/g，優(yōu)選為O. 64-0. 68dl/g，熔點(diǎn)大于255°C，優(yōu)選為260°C以上。所述散射粒子優(yōu)選為聚合物粒子，特別是透明性較好且具備一定光折射率的聚合物粒子，如樹脂材料。進(jìn)一步的，所述散射粒子為聚合物粒子，所述聚合物粒子材料的光折射率為I. 4-1. 75，所述聚合物粒子包括聚甲基丙烯酸甲酯粒子、聚酯粒子、聚碳酸酯粒子或聚苯乙烯粒子中的一種或至少兩種的組合。本發(fā)明還提供了一種上述的光學(xué)擴(kuò)散膜的制備方法，它的特點(diǎn)是，所述制備方法 包括如下步驟(I)散射母料的制備將計(jì)算量的散射粒子與聚酯切片混和均勻，使得散射粒子在母料中的重量含量為4g-8g/kg,優(yōu)選為6g/kg(6000ppm),然后熔融、擠出、切粒,制得散射母料；其中，散射粒子必須在聚酯母料中分散均勻方可使用，通過(guò)掃描電鏡觀察粒子的分布情況，來(lái)檢驗(yàn)散射粒子在母料切片中的分散是否均勻。(2)擴(kuò)散膜的制備將步驟(I)所得散射母料與聚酯切片混合，其中所述散射母料與聚酯切片的重量比為30-50 70-50，制成混合料A，所得混合料A與基材原料B分別進(jìn)行熔融塑化，所得的熔體通過(guò)分配器進(jìn)入三層共擠出機(jī)的模頭，兩外層為混和料A，中間層為基材原料B，共擠出后通過(guò)冷卻、鑄片、雙向拉伸工藝，制得ABA結(jié)構(gòu)的光學(xué)擴(kuò)散膜；或者，將步驟(I)所得散射母料與聚酯切片混合，其中所述散射母料與聚酯切片的重量比為30-50 70-50，制成混合料A，將抗粘連母料與聚酯切片混和，其中所述抗粘連母料與聚酯切片的重量比為30-40 60-70，制成混合料C，所得混合料A、混合料C與基材原料B分別進(jìn)行熔融塑化，所得的熔體通過(guò)分配器進(jìn)入三層共擠出機(jī)的模頭，兩外層分別為混和料A和混合料C，中間層為基材原料B，共擠出后通過(guò)冷卻、鑄片、雙向拉伸工藝，制得ABC結(jié)構(gòu)的光學(xué)擴(kuò)散膜。本發(fā)明還提供了一種背光模組，包括光學(xué)擴(kuò)散膜，它的特點(diǎn)是，所述擴(kuò)散膜為上述的光學(xué)擴(kuò)散膜。本發(fā)明還提供了一種液晶顯示裝置，包括背光模組，它的特點(diǎn)是，所述背光模組包括上述的光學(xué)擴(kuò)散膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜，抗粘連性，光透過(guò)率和霧度的綜合性能較好，在產(chǎn)品性能上可以達(dá)到現(xiàn)有產(chǎn)品的水平。本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜的制備方法簡(jiǎn)單易行，在制備工藝上，無(wú)須后涂布加工處理，省去了一道繁雜的工序，免去粘合樹脂、有機(jī)溶劑等的需求，不僅減少生產(chǎn)成本，使操作更為簡(jiǎn)便，而且可以提高產(chǎn)品的性能，如提高了散射層與基膜之間的粘結(jié)強(qiáng)度，并且利于環(huán)境保護(hù)。本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜的制備方法，在現(xiàn)有的聚酯拉伸生產(chǎn)線上就可以實(shí)現(xiàn)。
圖I為現(xiàn)有散射粒子型涂布法制得的擴(kuò)散膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明提供 的光學(xué)擴(kuò)散膜(單擴(kuò)散層)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(雙擴(kuò)散層)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(單擴(kuò)散層)的剖面示意圖；圖5為本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(雙擴(kuò)散層)的剖面示意圖。其中，I為基材，2為擴(kuò)散層，3為散射粒子，4為抗粘連粒子，5為抗粘連層。
具體實(shí)施方式
如圖2所示，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(單擴(kuò)散層)為三層結(jié)構(gòu)，包括基材1，所述基材I的一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層2，所述擴(kuò)散層2添加有散射粒子3，所述散射粒子3的粒徑為1-60 μ m ;所述基材I的另一側(cè)設(shè)有抗粘連層5，所述抗粘連層5添加有抗粘連粒子4，所述抗粘連粒子4的粒徑為1-4 μ m。如圖3所示，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(雙擴(kuò)散層)為三層結(jié)構(gòu)，包括基材1，所述基材I的兩側(cè)都設(shè)有擴(kuò)散層2，所述擴(kuò)散層2添加有散射粒子3。如圖4所示，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(單擴(kuò)散層)為三層結(jié)構(gòu)，包括基材1，所述基材I的一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層2，所述擴(kuò)散層2添加有散射粒子3，所述散射粒子3的粒徑為1-60 μ m，所述散射粒子3根據(jù)粒徑以及擴(kuò)散層2厚度情況不同，可以在三層共擠時(shí)完全沒入擴(kuò)散層2，或部分裸露在擴(kuò)散膜表面，或被擠入基材I中；所述基材I的另一側(cè)設(shè)有抗粘連層5,所述抗粘連層5添加有抗粘連粒子4,所述抗粘連粒子4的粒徑為1-4 μ m。如圖5所示，本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜(雙擴(kuò)散層)為三層結(jié)構(gòu)，包括基材1，所述基材I的兩側(cè)都設(shè)有擴(kuò)散層2，所述擴(kuò)散層2添加有散射粒子3，所述散射粒子3根據(jù)粒徑以及擴(kuò)散層2厚度情況不同，可以在三層共擠時(shí)完全沒入擴(kuò)散層2，或部分裸露在擴(kuò)散膜表面，或被擠入基材I中。本發(fā)明所用的材料和設(shè)備均為現(xiàn)有材料和設(shè)備，例如聚酯薄膜制備原料采用市場(chǎng)上銷售的膜級(jí)聚酯切片，一般為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或其共聚改性聚酯；散射粒子采用市場(chǎng)上銷售的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)。本發(fā)明采用下述常用檢測(cè)方法和設(shè)備測(cè)試所制備的光學(xué)擴(kuò)散膜的抗粘連性和光學(xué)性能。摩擦系數(shù)評(píng)價(jià)擴(kuò)散膜的表面抗粘連性，抗粘連性越高對(duì)應(yīng)的摩擦系數(shù)越低。摩擦系數(shù)的測(cè)定依據(jù)是GB 10006-88塑料薄膜和薄片摩擦系數(shù)測(cè)定方法，在濟(jì)南蘭光機(jī)電技術(shù)有限公司的MXD-OlA摩擦系數(shù)儀上進(jìn)行。光透過(guò)率和霧度用來(lái)評(píng)定擴(kuò)散薄膜的光學(xué)性能，薄膜的光透過(guò)率越高則光學(xué)性能越好，霧度越高膜的散射效果越好。光透過(guò)率和霧度的測(cè)定依據(jù)GB/T 2410-2008標(biāo)準(zhǔn)，在英國(guó)Diffusion公司的EEL 57D霧度儀上進(jìn)行。雙向拉伸工藝所用的設(shè)備日本三菱重工生產(chǎn)的聚酯薄膜拉伸生產(chǎn)線。本發(fā)明提供的光學(xué)擴(kuò)散膜的制備方法包括如下步驟(I)散射母料的制備[0053]將計(jì)算量的散射粒子與聚酯切片混和均勻，使得散射粒子在母料中的重量含量為4g-8g/kg,優(yōu)選為6g/kg(6000ppm),然后熔融、擠出、切粒,制得散射母料；(2)擴(kuò)散膜的制備將步驟(I)所得散射母料與聚酯切片混合，其中所述散射母料與聚酯切片的重量比為30-50 70-50，制成混合料A，所得混合料A與基材原料B分別進(jìn)行熔融塑化，所得的熔體通過(guò)分配器進(jìn)入三層共擠出機(jī)的模頭，兩外層為混和料A，中間層為基材原料B，共擠出后通過(guò)冷卻、鑄片，所得厚片在100°C下縱向拉伸4倍，在104°C下橫向拉伸3. 8倍，在225°C下熱定型處理，冷卻之后收卷，制得厚度為75-250 μ m的ABA結(jié)構(gòu)光學(xué)擴(kuò)散膜；或者，將步驟(I)所得散射母料與聚酯切片混合，其中所述散射母料與聚酯切片的重量比為30-50 70-50，制成混合料A，將抗粘連母料與聚酯切片混和，其中所述抗粘連母料與聚酯切片的重量比為30-40 60-70，制成混合料C，所得混合料A、混合料C與基材原料B分別進(jìn)行熔融塑化，所得的熔體通過(guò)分配器進(jìn)入三層共擠出機(jī)的模頭，兩外層分別為混和料A和混合料C，中間層為基材原料B，共擠出后通過(guò)冷卻、鑄片，所得厚片在100°C下縱向拉伸4倍，在104°C下橫向拉伸3. 8倍，在225°C下熱定型處理，冷卻之后收卷，制得厚度為75-250 μ m的ABC結(jié)構(gòu)光學(xué)擴(kuò)散膜。下述實(shí)施例中擴(kuò)散膜的制備方法與上述制備方法相同，只是材料和配比不同，并通過(guò)上述檢測(cè)方法對(duì)下述實(shí)施例制備的擴(kuò)散膜的表面抗粘連性能及光學(xué)性能(透光率、霧度)進(jìn)行測(cè)定。下述實(shí)施例1-8中，所述擴(kuò)散膜原料包括有光切片(產(chǎn)品型號(hào)為FG600)和抗粘連母料切片(產(chǎn)品型號(hào)為FG610)，前述有光切片和抗粘連母料切片均為中國(guó)儀征化纖有限公司生產(chǎn)的膜級(jí)聚酯切片。散射粒子采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子，由日本積水化成工業(yè)公司制備并提供，粒徑為2-40um，光折射率為I. 45-1. 55。其中，所述PMMA以母料形式使用，所述PMMA在母料中的重量含量為4g_8g/kg。所述基材(中間層)的厚度為擴(kuò)散膜厚度的80%，所述擴(kuò)散層的厚度為擴(kuò)散膜厚度的10%。實(shí)施例I按前述方法制備擴(kuò)散膜，所得薄膜厚度為75um，單擴(kuò)散層，擴(kuò)散層中散射母料與有光切片的重量比為32 68，PMMA粒子粒徑為2-10um，在母料中的重量含量為6g/kg，抗粘連層中抗粘連母料與有光切片的重量比為35 65，中間層完全使用有光切片。所得擴(kuò)散膜如圖2所示，薄膜表面抗粘連性能及光學(xué)性能(透光率、霧度)測(cè)定結(jié)果見表I。實(shí)施例2按前述方法制備擴(kuò)散膜，所得薄膜厚度為125um，單擴(kuò)散層，擴(kuò)散層中散射母料與有光切片的配比為36 64，PMMA粒子粒徑為2-20um，在母料中的重量含量為6g/kg，抗粘連層中抗粘連母料與有光切片的重量比為35 65，中間層完全使用有光切片。所得擴(kuò)散膜如圖2所示，薄膜表面抗粘連性能及光學(xué)性能(透光率、霧度)測(cè)定結(jié)果見表I。實(shí)施例3按前述方法制備擴(kuò)散膜，所得薄膜厚度為188um，單擴(kuò)散層，擴(kuò)散層中散射母料與有光切片的配比為40 60，？—粒子粒徑為11-2511111，在母料中的重量含量為68/1^，抗粘、連層中抗粘連母料與有光切片的重量比為35 65，中間層完全使用有光切片。所得擴(kuò)散膜如圖4所示，薄膜表面抗粘連性能及光學(xué)性能(透光率、霧度)測(cè)定結(jié)果見表I。實(shí)施例4按前述方法制備擴(kuò)散膜，所得薄膜厚度為250um，單擴(kuò)散層，擴(kuò)散層中散射母料與有光切片的配比為48 52，PMMA粒子粒徑為2-40um，在母料中的重量含量為6g/kg，抗粘連層中抗粘連母料與有光切片的重量比為35 65，中間層完全使用有光切片。所得擴(kuò)散膜如圖4所示，薄膜表面抗粘連性能及光學(xué)性能(透光率、霧度)測(cè)定結(jié)果見表I。表I
權(quán)利要求1.一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述擴(kuò)散膜為三層結(jié)構(gòu)，包括基材，所述基材兩側(cè)至少一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層，所述擴(kuò)散層包含有散射粒子，所述散射粒子的粒徑為1-60 ym。
2.一種如權(quán)利要求I所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述基材的一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層，另一側(cè)設(shè)有抗粘連層，所述抗粘連層包含有抗粘連粒子，所述抗粘連粒子的粒徑為1-4 U m。
3.—種如權(quán)利要求I所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為75-250 iim，所述基材的厚度為擴(kuò)散膜厚度的76% -88%，所述擴(kuò)散層的厚度為擴(kuò)散膜厚度的 6% -12%。
4.一種如權(quán)利要求I所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述擴(kuò)散膜為三層共擠結(jié)構(gòu)。
5.一種如權(quán)利要求I所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述散射粒子粒徑為2-40 ym。
6.一種如權(quán)利要求3所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為100-200um。
7.—種如權(quán)利要求3所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為75-150 u mD
8.—種如權(quán)利要求3所述的光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征在于，所述光學(xué)擴(kuò)散膜的厚度為150-250u m。
專利摘要本實(shí)用新型涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)擴(kuò)散膜。為了解決現(xiàn)有的光學(xué)擴(kuò)散膜中的擴(kuò)散粒子與粘合樹脂和基膜之間的粘結(jié)力不佳的缺陷，本實(shí)用新型提供了一種光學(xué)擴(kuò)散膜，該光學(xué)擴(kuò)散膜為三層結(jié)構(gòu)，包括基材，所述基材兩側(cè)至少一側(cè)設(shè)有擴(kuò)散層，所述擴(kuò)散層包含有散射粒子，所述散射粒子的粒徑為1-60μm。本實(shí)用新型提供的光學(xué)擴(kuò)散膜中的擴(kuò)散粒子與樹脂之間的粘結(jié)力較好，表面抗粘連性能與光學(xué)性能良好。
文檔編號(hào)B32B27/14GK202383315SQ20112057164
公開日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
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