專利名稱：光刻機用近紫外光截止膜結構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種光刻機用近紫外光截止膜結構，主要用于可見光的反射和透射。
背景技術：
由于近紫外光波長短、熱效應不強等獨特特性，而廣泛應用于工業(yè)(半導體芯片生產(chǎn)、在塑料上雕刻圖形)、醫(yī)學裝置(片上生物工廠的制造)、天文、偵破等領域。特別是隨著高密度信息存儲、大規(guī)模集成電路以及慣性約束核聚變等近代科學技術的發(fā)展，人們對存儲密度、儀器集成度的要求越來越高，紫外波段高功率激光系統(tǒng)的發(fā)展愈來愈受到重視。 而紫外薄膜正是支持紫外光路系統(tǒng)的重要元件，它們的光學性能影響制約著整個系統(tǒng)的效率。隨著電子業(yè)的飛速發(fā)展，對作為電子元器件基礎的印制板的加工精度要求越來越高。紫外線光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。在使用光刻機對產(chǎn)品進行光刻時，一般是用放電放出最大的紫外光線能量，然后通過一碗狀反射鏡把光線聚成一個均勻的能量源照射在光刻產(chǎn)品上。但使用的反射鏡通常為碗狀玻璃反射鏡，而玻璃具有透過和反射可見光的功能，則紫外線通常有很大一部分被玻璃透射到空氣中，從而達不到光刻面所要求的能量。因此如何解決在光刻過程中，紫外線經(jīng)反射鏡被透射到空氣中，而達不到光刻面所要求的能量，是本實用新型所要解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型提供一種光刻機用近紫外光截止膜結構，其目的是解決現(xiàn)有技術中在光刻過程中，紫外線經(jīng)反射鏡被透射到空氣中，而達不到光刻面所要求的能量，從而影響光刻產(chǎn)品質(zhì)量的問題。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是一種光刻機用近紫外光截止膜結構，包括一碗狀反光鏡，在所述碗狀反光鏡上鍍設一近紫外光截止膜層，該近紫外光截止膜層由二氧化鋯膜層和二氧化硅膜層一隔一間隔層疊構成，該近紫外光截止膜層的層數(shù)共為36 40層；其中，第一層為二氧化鈦膜層，第二層為二氧化硅膜層，依次間隔層疊。上述技術方案中的有關內(nèi)容解釋如下I、上述方案中，所述近紫外光截止膜層共37層。由于上述技術方案運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點由于本實用新型在所述碗狀反光鏡上鍍設一近紫外光截止膜層，該近紫外光截止膜層由二氧化鋯膜層和二氧化硅膜層一隔一間隔層疊構成，并把膜層優(yōu)化到了 37層，在達到光刻面所要求的能量的同時，既縮短了生產(chǎn)時間，又提高了生產(chǎn)的效率。

[0011]附圖I為在不同波長對應的反射率曲線圖；附圖2為本實用新型截面示意圖。以上附圖中1、碗狀反光鏡；2、近紫外光截止膜層；3、二氧化鋯膜層；4、二氧化硅膜層。
具體實施方式
以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述實施例—種光刻機用近紫外光截止膜結構，包括一碗狀反光鏡I，在所述碗狀反光鏡I上鍍設一近紫外光截止膜層2，該近紫外光截止膜層2由二氧化鋯膜層3和二氧化硅膜層4 一隔一間隔層疊構成，該近紫外光截止膜層2的層數(shù)共為36 40層；其中，第一層為二氧化鈦膜層3，第二層為二氧化硅膜層4，依次間隔層疊。所述近紫外光截止膜層2共37層。近紫外截止膜(UV-CTT)是一種波長范圍在350-430nm范圍內(nèi)的不可見光線。在設計這個光學膜的時候，不用我們常用的Tio2+Sio2組合鍍這個紫外膜，而是選擇了 Zro2+Sio2 組合一隔一間隔層疊構成，主要是因為TiO2膜層在350-400nm有很大的吸收，不能使紫外光達到最大的反射率。而ZrO2膜層在350-400nm處紫外光就很有好的反射效果，吸收明顯比用TiO2效果低。在最先用Tio2+Sio2膜層鍍制膜的時候，鍍制39層，同樣的截制深度，測出的實際曝光面能量一直小于IOmW/cm2,而客戶所需的曝光面能量值要大于20mW/cm2,反復鍍制幾次后確認下來是由材料的吸收造成的曝光能量值小，通過材料篩選選用Zix)2+Si02 膜層鍍制膜的時候，同樣鍍制39層，測出的曝光值達到了 18mW/cm2，這就說明21~02膜層對紫外光吸收遠小于Tio2膜層。然后又對膜系的截止度做了優(yōu)化，由原來的98%提高到99%， 把紫外光截止寬度由原來的350-430nm拉寬到350_450nm，反復鍍制同次后，測試曝光能量值達到了 20mW/cm2以上，最高時可達到28mW/cm2，足以達到光刻面所要求的能量。最后為了便于生產(chǎn)和控制，把膜層優(yōu)化到了 37層，這樣又滿足了客戶的要求，縮短了生產(chǎn)時間，也提聞了生廣的效率。上述實施例只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍。 凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權利要求1.一種光刻機用近紫外光截止膜結構，包括一碗狀反光鏡(I)，其特征在于在所述碗狀反光鏡(I)上鍍設ー近紫外光截止膜層(2)，該近紫外光截止膜層(2)由ニ氧化鋯膜層(3)和ニ氧化硅膜層(4) ー隔ー間隔層疊構成，該近紫外光截止膜層(2)的層數(shù)共為36 40層；其中，第一層為ニ氧化鈦膜層(3)，第二層為ニ氧化硅膜層(4)，依次間隔層疊。
2.根據(jù)權利要求I所述的光刻機用近紫外光截止膜結構，其特征在于所述近紫外光截止膜層⑵共37層。
專利摘要一種光刻機用近紫外光截止膜結構，包括一碗狀反光鏡，在所述碗狀反光鏡上鍍設一近紫外光截止膜層，該近紫外光截止膜層由二氧化鋯膜層和二氧化硅膜層一隔一間隔層疊構成，該近紫外光截止膜層的層數(shù)共為36～40層；其中，第一層為二氧化鈦膜層，第二層為二氧化硅膜層，依次間隔層疊。本方案解決了現(xiàn)有技術中在光刻過程中，紫外線經(jīng)反射鏡被透射到空氣中，而達不到光刻面所要求的能量，從而影響光刻產(chǎn)品質(zhì)量的問題。
文檔編號B32B9/00GK202351442SQ20112041706
公開日2012年7月25日 申請日期2011年10月28日 優(yōu)先權日2011年10月28日
發(fā)明者朱文斌 申請人:蘇州靈菱照明鍍膜科技有限公司