專利名稱：高光革的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種人造革，特別涉及一種高光革。
背景技術(shù)：
人造革應(yīng)用于箱包、服飾等領(lǐng)域時，由于經(jīng)常清洗，服裝經(jīng)過洗滌之后表面亮度損失，箱包和服裝就顯得很舊，越發(fā)難看。

實用新型內(nèi)容為了克服上述缺陷，本實用新型提供了一種高光革，該高光革制造工藝簡單、表面有高亮度的光澤，花紋飽滿，主體感強(qiáng)烈、成衣水洗后亮度損失較少。本實用新型為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種高光革，包括基布層、 濕法貝斯層和干法貼面層，以使用狀態(tài)為基準(zhǔn)，濕法貝斯層固定夾設(shè)于干法貼面層和基布層之間，還設(shè)有高光薄膜層，高光薄膜層固定覆蓋位于干法貼面層背向濕法貝斯層的外側(cè)表面，本產(chǎn)品表面有一種高亮度的光澤，成衣水洗后亮度損失較少。作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，還設(shè)有具有壓花的壓花花紋層，該壓花花紋層固定夾設(shè)于干法貼面層和高光薄膜層之間，產(chǎn)品花型的頂部高亮度的光澤與底面的霧面形成了鮮明的對比，此合成革花紋飽滿，主體感強(qiáng)烈、成衣水洗后亮度損失較少、風(fēng)格依舊。本實用新型的有益效果是本實用新型通過在干法貼面層的外側(cè)表面固定貼上壓花花紋層和高光薄膜層，使得產(chǎn)品花型的頂部有一種高亮度的光澤與底面的霧面形成了鮮明的對比，此合成革花紋飽滿，主體感強(qiáng)烈、成衣水洗后亮度損失較少、風(fēng)格依舊。

圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)原理示意圖。
具體實施方式
實施例一種高光革，包括基布層1、濕法貝斯層2和干法貼面層3，以使用狀態(tài)為基準(zhǔn)，濕法貝斯層2固定夾設(shè)于干法貼面層3和基布層1之間，還設(shè)有高光薄膜層4，高光薄膜層4固定覆蓋位于干法貼面層3背向濕法貝斯層的外側(cè)表面，本產(chǎn)品表面有一種高亮度的光澤，成衣水洗后亮度損失較少。還設(shè)有具有壓花的壓花花紋層5，該壓花花紋層5固定夾設(shè)于干法貼面層3和高光薄膜層4之間，產(chǎn)品花型的頂部高亮度的光澤與底面的霧面形成了鮮明的對比，此合成革花紋飽滿，主體感強(qiáng)烈、成衣水洗后亮度損失較少、風(fēng)格依舊。
權(quán)利要求1.一種高光革，包括基布層(1)、濕法貝斯層( 和干法貼面層(3)，以使用狀態(tài)為基準(zhǔn)，濕法貝斯層⑵固定夾設(shè)于干法貼面層⑶和基布層⑴之間，其特征在于還設(shè)有高光薄膜層G)，高光薄膜層固定覆蓋位于干法貼面層( 背向濕法貝斯層的外側(cè)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光革，其特征在于還設(shè)有具有壓花的壓花花紋層(5)，該壓花花紋層(5)固定夾設(shè)于干法貼面層( 和高光薄膜層(4)之間。
專利摘要本實用新型公開了一種高光革，包括基布層、濕法貝斯層和干法貼面層，以使用狀態(tài)為基準(zhǔn)，濕法貝斯層固定夾設(shè)于干法貼面層和基布層之間，還設(shè)有高光薄膜層，高光薄膜層固定覆蓋位于干法貼面層背向濕法貝斯層的外側(cè)表面，本實用新型通過在干法貼面層的外側(cè)表面固定貼上壓花花紋層和高光薄膜層，使得產(chǎn)品花型的頂部有一種高亮度的光澤與底面的霧面形成了鮮明的對比，此合成革花紋飽滿，主體感強(qiáng)烈、成衣水洗后亮度損失較少、風(fēng)格依舊。
文檔編號B32B27/06GK202156088SQ201120273398
公開日2012年3月7日 申請日期2011年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月29日
發(fā)明者俞金英, 倪愛平, 吳平, 王志明, 譚明林, 顧春剛 申請人:昆山協(xié)孚人造皮有限公司