專利名稱：圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，尤指一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
產(chǎn)品外觀構(gòu)裝為影響消費行為的重要因素，具備獨特構(gòu)圖設計與時尚質(zhì)感的產(chǎn)品 往往能夠得到較多青睞。模內(nèi)裝飾(IMD，In-molddecoration)為一項新型塑料加工技術(shù)， 其將上方印有裝飾圖紋的轉(zhuǎn)印膜定位于射出機的模具內(nèi)，于塑料制品射出成形同時，一并 進行圖紋轉(zhuǎn)印，完成殼體外觀裝飾。相較于傳統(tǒng)噴涂、印刷、電鍍等加工方式，模內(nèi)裝飾技術(shù) 可配合制品量產(chǎn)，連續(xù)完成圖紋轉(zhuǎn)印，可簡化生產(chǎn)步驟、縮短制程時間，已廣泛應用于電子 裝置、家用電器等諸多領(lǐng)域。請參閱圖1以及圖2，一已知技術(shù)轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的剖面示意圖，以及此轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的 應用狀態(tài)剖面示意圖。如圖所示，轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10包括一基底薄膜層11以及上方次序堆棧 形成的一離型層12、一硬化膜層13、一飾紋層14以及一黏著膜層15。基底薄膜層11可為塑料、金屬或纖維系薄膜，用以提供表面平坦且不易變形的基 材，以利后續(xù)涂布與印刷等加工。離型層12設置于基底薄膜層11表面上方，用以輔助基底 薄膜層11離型。硬化膜層13設置于離型層12表面上，由樹脂溶液干燥形成，為具高硬度 的保護層。飾紋層14設置于硬化膜層13表面上，系由印刷形成的油墨裝飾圖紋。黏著膜 層15設置于飾紋層14表面上方，轉(zhuǎn)印時，提供一定的制程條件(例如預定溫度值)，使黏 著膜層15緊密黏著于物品20表面，從而將轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10結(jié)合于物品20。最后，借著離型 層12將基底薄膜層11撕離，即完成圖紋轉(zhuǎn)印。上述轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)10可提供亮面裝飾圖紋，然而實務上，霧面化以及亮面與霧面同 時呈現(xiàn)的圖案化霧面設計亦為常見的外觀設計方式。本案設計人有鑒于此，從而提出本實 用新型，提供可產(chǎn)生圖案化霧面效果的轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設計需求。

實用新型內(nèi)容本實用新型目的在于提供一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)。為達上述目的，本實用新型揭示一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一 基底薄膜層，包括一由微粒子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面； 一遮蔽層，覆蓋于該基底薄膜層的上表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以于 該基底薄膜層的上表面形成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的 上表面；一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面； 以及一黏著膜層，設置于該飾紋層的上表面。本實用新型揭示另一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其包括一基底薄膜層，包括一由 微粒子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基 底薄膜層上表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以于該基底薄膜層的上表面 形成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面；一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該第一硬化膜層的上表面；一第二硬化膜 層，設置于該飾紋層的上表面；以及一黏著膜層，設置于該第二硬化膜層的上表面。所述抗眩光劑的微粒子的粒徑為0. 1微米至20微米。所述抗眩光劑的微粒子為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一 種陶瓷材料。所述遮蔽層的厚度為2微米至10微米。所述遮蔽層的材料為聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚 酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚酰胺系 樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系 樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯中的一種。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型所具有的有益效果為本實用新型藉由具有凹凸粗 糙上表面的基底薄膜層上方設置遮蔽層，以于基底薄膜層上方形成一光面圖案，從而使得 間隔離型層鄰接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，上方并分布有 光面圖案，而于轉(zhuǎn)印膜應用時達到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設計需求。以上的概述與接下來的詳細說明及附圖，皆是為了能進一步說明本實用新型為達 成預定目的所采取的方式、手段及功效。而有關(guān)本實用新型其它目的及優(yōu)點，將在后續(xù)的說 明及圖式中加以闡述。

46、56第二硬化膜層551金屬薄膜層
具體實施方式
首先，請參閱圖3以及圖4，圖3為本實用新型圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第一具體 實施例的剖面示意圖，圖4為此圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的上視圖。如圖所示，圖案化霧面轉(zhuǎn) 印膜結(jié)構(gòu)30包括一基底薄膜層31、一遮蔽層32、一離型層33、一硬化膜層34、一飾紋層35， 以及一黏著膜層36?；妆∧?1摻雜有由微粒子310構(gòu)成的抗眩光劑，使基底薄膜層 31具有一凹凸粗糙的上表面。遮蔽層32覆蓋于基底薄膜層31的上表面的局部區(qū)域，遮蔽 層32具有一光滑的上表面，以于基底薄膜層31的上表面形成一光面圖案320。離型層33 設置于基底薄膜層31以及遮蔽層32的上表面。硬化膜層34設置于離型層33的上表面。 飾紋層35設置于硬化膜層34的上表面。黏著膜層36設置于飾紋層35的上表面。由于硬化膜層34是間隔離型層33鄰接于基底薄膜層31及遮蔽層32，因此硬化膜 層34將同樣形成凹凸粗糙表面，上方分布有光面圖案320，而于轉(zhuǎn)印膜應用時達到圖案化 霧面效果?；妆∧?1為提供后續(xù)涂布與印刷等加工的基材，應具備高平坦度且不易變 形，可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚 氯乙烯系樹脂等高分子聚合物基材，或選用玻璃紙、涂布紙、賽珞凡等纖維系薄膜，或上述 薄膜組成的復合薄膜基材，于制程時，摻入由微粒子310構(gòu)成的抗眩光劑混合制備原料，經(jīng) 由熱吹膜成形為片狀結(jié)構(gòu)，或制作為可連續(xù)進行涂布及印刷工序的大面積卷裝結(jié)構(gòu)?；?薄膜層31的厚度約為5微米(μ m)至300微米(μ m)。所述的抗眩光劑可選用氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石、氧化鋇等陶瓷材料， 微粒子310的粒徑約為0.1微米(μπι)至20微米(μ m)，分散于基底薄膜層31內(nèi)部及表 面，將可使其表面結(jié)構(gòu)凹凸粗糙。遮蔽層32系以凹版印刷或網(wǎng)版印刷方式涂布于基底薄膜層31表面上方，經(jīng)過干 燥固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹 脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚亞 胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯 氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。遮蔽層32的厚度約為2微米(μ m)至10微米(μ m)。離型層33用以輔助基底薄膜層31及遮蔽層32離型，系以涂布設備將原料溶液涂 布于基底薄膜層31及遮蔽層32的表面上方，經(jīng)過加熱干燥或紫外線照射固化而形成，可選 用聚硅氧烷系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素 系樹脂、橡膠系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯_乙酸乙烯酯共 聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等材料，并根據(jù)材料種類，采取適當?shù)墓袒绞?。離 型層33的厚度約為0.5微米(μπι)至40微米(μπι)。硬化膜層34為具有高硬度的保護層，系以涂布設備將原料溶液涂布于離型層33 表面上方，經(jīng)過固化形成，可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、 聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚酰胺 系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯等材料。硬化膜層34的厚度約為3微米(μ m)至60微 米(ym)。硬化膜層34鄰接離型層33的表面將同樣形成凹凸粗糙表面，上方分布有光面圖 案320，可使轉(zhuǎn)印物品產(chǎn)生圖案化霧面效果。飾紋層35包括一油墨層350，系采用網(wǎng)版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷 方式制作形成，提供油墨裝飾圖紋，其印刷原料一般可選用聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、 聚丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚酯胺基甲酸酯系樹脂、纖維 素酯系樹脂、醇酸樹脂等樹脂為結(jié)合劑加上顏料混合制得。黏著膜層36可選用聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚 酰胺系樹脂等材料，以涂布設備將原料溶液涂布于飾紋層35表面上方，經(jīng)過干燥形成。黏 著膜層36的厚度約為3微米(μ m)至50微米(μ m)。接著，請參閱圖5，本實用新型的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第二具體實施例的剖面 示意圖。此實施例中，圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)40包括一基底薄膜層41、一遮蔽層42、一離 型層43、一第一硬化膜層44、一飾紋層45、一第二硬化膜層46，以及一黏著膜層47?；妆?膜層41摻雜有由微粒子410構(gòu)成的抗眩光劑，使基底薄膜層41具有一凹凸粗糙的上表面。 遮蔽層42覆蓋于基底薄膜層41的上表面的局部區(qū)域，遮蔽層42具有一光滑的上表面，以 于基底薄膜層41的上表面形成一光面圖案。離型層43設置于基底薄膜層41以及遮蔽層 42的上表面。第一硬化膜層44設置于離型層43的上表面。飾紋層45包括一油墨層450， 設置于第一硬化膜層44的上表面。第二硬化膜層46設置于飾紋層45的上表面。黏著膜 層47設置于第二硬化膜層46的上表面。圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)40中，第一硬化膜層44將同樣形成凹凸粗糙表面，并分布 有光面圖案，而于應用時達到圖案化霧面效果。同時，飾紋層45與黏著膜層47之間增設的 第二硬化膜層46將可阻擋黏著膜層47的膠水向下滲漏，防止飾紋層45的油墨圖紋受到破 壞，且可進一步加強膜層結(jié)構(gòu)強度。上述第一、二具體實施例的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)中，飾紋層僅由單一油墨層構(gòu) 成，然實務上，飾紋層可為復合結(jié)構(gòu)。請參閱圖6，本實用新型的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)的第 三具體實施例的剖面示意圖。此實施例中，圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)50包括次序堆棧的一基 底薄膜層51、一遮蔽層52、一離型層53、一第一硬化膜層54、一飾紋層55、一第二硬化膜 層56以及一黏著膜層57，基底薄膜層51摻雜有由微粒子510所構(gòu)成的抗眩光劑。其中飾 紋層55包括一油墨層550以及一金屬薄膜層551，油墨層550設置于第一硬化膜層54的上 表面，金屬薄膜層551則設置于油墨層550的上表面。第二硬化膜層56設置于金屬薄膜層 551與黏著膜層57之間。綜上所述，本實用新型的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)系于具有凹凸粗糙的上表面的基 底薄膜層上方設置遮蔽層，以于基底薄膜層上方形成光面圖案，使得間隔離型層鄰接于基 底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，并分布有光面圖案，于轉(zhuǎn)印膜應用 時達到圖案化霧面效果，以滿足多樣化的產(chǎn)品外觀設計需求。
權(quán)利要求一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基底薄膜層的上表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以于該基底薄膜層的上表面形成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面；一硬化膜層，設置于該離型層的上表面；一飾紋層，設置于該硬化膜層的上表面；以及一黏著膜層，設置于該飾紋層的上表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子 的粒徑為0. 1微米至20微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該抗眩光劑的微粒子 為氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該遮蔽層的厚度為2微 米至10微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該遮蔽層的材料為聚 胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系樹 月旨、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系 樹脂、聚醚砜系樹脂、聚砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸酯 中的一種。
6.一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于包括一基底薄膜層，包括一由微粒子構(gòu)成的抗眩光劑，使該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的 上表面；一遮蔽層，覆蓋于該基底薄膜層上表面的局部區(qū)域，該遮蔽層具有一光滑的上表面，以 于該基底薄膜層的上表面形成一光面圖案；一離型層，設置于該基底薄膜層以及該遮蔽層的上表面； 一第一硬化膜層，設置于該離型層的上表面； 一飾紋層，設置于該第一硬化膜層的上表面； 一第二硬化膜層，設置于該飾紋層的上表面；以及 一黏著膜層，設置于該第二硬化膜層的上表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該抗眩光劑微粒子的 粒徑為0. 1微米至20微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該抗眩光劑微粒子為 氧化硅、氧化鈦、碳黑、碳酸鈣、滑石以及氧化鋇中的一種陶瓷材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該遮蔽層的厚度為2微 米至10微米。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，該遮蔽層的材料為自 由聚胺酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、壓克力系樹脂、聚醚系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚醋酸纖維素系 樹脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚亞胺系樹脂、聚二醚酮系樹脂、聚醚砜系樹脂、聚 砜系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、丙烯氰酯系樹脂、異氰酸 酯中的一種。
專利摘要一種圖案化霧面轉(zhuǎn)印膜結(jié)構(gòu)，包括一基底薄膜層、一遮蔽層、一離型層、一硬化膜層、一飾紋層及一黏著膜層。該基底薄膜層具有一凹凸粗糙的上表面；遮蔽層具有一光滑的上表面，覆蓋于基底薄膜層的上表面的局部區(qū)域，以于基底薄膜層上方形成一光面圖案；離型層設置于基底薄膜層及遮蔽層的上表面；硬化膜層設置于離型層的上表面；飾紋層設置于硬化膜層的上表面；黏著膜層設置于飾紋層的上表面。其中，間隔離型層鄰接于基底薄膜層及遮蔽層的硬化膜層同樣形成凹凸粗糙表面，且上方分布有光面圖案，而于轉(zhuǎn)印膜應用時達到圖案化霧面效果。
文檔編號B32B27/18GK201712399SQ201020207468
公開日2011年1月19日 申請日期2010年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月28日
發(fā)明者蔡明倫, 謝宇恒, 黃宋因 申請人:勝昱科技股份有限公司