專利名稱::被提供有熱性能的疊層的基材的制作方法被提供有熱性能的疊層的基材本發(fā)明涉及透明基材,尤其是由剛性無機材料如玻璃制成的那些,所述基材覆蓋有薄層疊層,該薄層的疊層包含至少2個能作用于日光和/或長波長的紅外線的金屬型功能層。本發(fā)明更具體地說涉及此種基材用于制造熱絕緣和/或防曬保護玻璃(vitrage)的用途。這樣的玻璃可用于裝備建筑物或車輛,尤其著眼于減少由建筑物和車輛車廂內(nèi)日益增長的玻璃表面的使用所帶來的空調(diào)負(fù)荷和/或過度曬熱(被稱作"日光控制"玻璃)和/或減少能量朝外部的散失(被稱作"低-發(fā)射"玻璃)。這樣的玻璃另外還可集成為具有特殊功能的玻璃,例如,發(fā)熱玻璃或電致變色3皮璃。賦予基材此類性能的一種公知類型的疊層由至少2個具有在紅外和/或日光范圍的反射性能的基于銀或含銀金屬合金的金屬功能層組成。每個金屬功能層以結(jié)晶形式沉積在潤濕層上,后者也是結(jié)晶的并且促使沉積在它上面的金屬層的恰當(dāng)?shù)慕Y(jié)晶取向。每個功能層被置于2個由金屬氧化物或氮化物類的介電材料制成的涂層之間。該疊層通常由釆用真空4支術(shù),例如,4壬選地>磁場輔助的陰招_噴鍍(pulv6risationcathodique),實施的一系列沉積操作來獲得。還可提供l個,或甚至2個,非常薄的膜,被稱為"阻隔涂層",這個或這些涂層直接置于每個銀基金屬功能層的下面、上面或每一側(cè),當(dāng)后面可能的對沉積物的熱處理時,該下層涂層(revStementsous-jacent)作為粘纟吉層(revStementd,accrochage)、成才亥層禾口/或4呆4戶層,禾口J(口果置于《艮基層上面的層在氧或氮氣的存在下通過陰極噴鍍進行沉積和/或如果疊層在沉積后經(jīng)受熱處理時,該上層涂層作為保護層或"犧牲層,,以防止銀受到損壞。譬如,此類型具有2個銀基層的疊層,可從歐洲專利申請EP-0638528得知。再有,從歐洲專利申請No.EP803481已知一種直接接觸基材、用在基于氧化鋅的潤濕層下層、基于鋅-錫的混合氧化物的無定形層。原來,當(dāng)此種無定形層不是直接沉積到基材上去,而是被插入到下層介電層與潤濕層之間時,它可以改性介電層與位于其上的潤濕層之間的界面并從而顯著改善潤濕層的結(jié)晶,同時也顯著改善金屬功能層的結(jié)曰曰曰。然而,在具有多個功能層的疊層中,將這樣一種無定形層并入到在功能層下面的并備有至少一個位于該無定形層下面的每個涂層中,并不能在每種情況下都達(dá)到功能層所希望的結(jié)晶改進并從而達(dá)到整個疊層電阻率的所希望的改進。因此,本發(fā)明的目的是彌補現(xiàn)有技術(shù)的缺點,開發(fā)出具有上面描述的那些類型功能層的新型疊層,該疊層具有改進的電阻率,電阻率比具有相當(dāng)功能層和涂層厚度的類似疊層更低,所述疊層經(jīng)受或不經(jīng)受一次(或多次)彎曲、鋼化和退火類的高溫?zé)崽幚恚绻?jīng)受一次(或多次)種此類處理,則其光學(xué)品質(zhì)和機械完整性仍將保持不變。因此,本發(fā)明的目的,就其最廣的公認(rèn)意義而言,是一種基材,尤其是透明玻璃基材,其被提供有薄層疊層,該疊層包含具有在紅外和/或曰光范圍反射性能的n個功能層的交替排列,尤其是基于銀或含銀金屬合金的金屬功能層,以及(n+l)個涂層,其中n是整數(shù),>2,所述涂層包括多個介電層,以便讓每個功能層位于2個涂層之間,至少2個功能層每個沉積在潤濕層上,潤濕層本身分別直接沉積到下層涂層上,特征在于,2個下層涂層每個包含至少一個介電層和至少一個非結(jié)晶平層與所述上層潤濕層相接觸,特征還在于,這2個下層涂層厚度各不相同,總厚度小于其他下層涂層的下層涂層的平滑層的厚度小于或等于上述其他下層涂層的平滑層的厚度。于是,本發(fā)明在于提供位于潤濕層下方的非結(jié)晶平滑層,為了使位于該潤濕層上面的功能層的恰當(dāng)生長,該平滑層與潤濕層直接接觸或者通過下阻P鬲'涂層(revetementdesous-blocage)的介質(zhì)。平滑層的結(jié)晶學(xué)外觀必定區(qū)別于潤濕層,因為平滑層是非結(jié)晶的,而潤濕層基本上是結(jié)晶的;因此,從這一角度看它們不可能被混淆。然而,現(xiàn)已發(fā)現(xiàn),在具有多個功能層的疊層中,重要的是要考慮下層涂層的厚度以便計算存在于這些下層涂層中的平滑層的厚度。于是,本發(fā)明在于提供:較薄下層涂層的平滑層的厚度不得大于較厚下層涂層的平滑層的厚度。本發(fā)明適用于涂層,該涂層在功能層下面,,不論功能層在疊層中的位置如何;然而,優(yōu)選的是,在同一個薄層疊層中,所有包含平滑層的下層涂層都符合本發(fā)明的定義。就本發(fā)明的意義而言,當(dāng)提到層或涂層(包含一個或多個層)的沉積是直接在另一沉積層之下或直接在其上實施時,指的是在這兩個沉積層之間不得有其他層插入。平滑層優(yōu)選地是基于氧化物的;因此,它們不是金屬的。平滑層在以下意義上被稱作為"非結(jié)晶的"它們可以是完全無定形或者部分無定形,因此是部分結(jié)晶的,但它們在其整個厚度不能是完全結(jié)晶的。此種平滑層的優(yōu)點能獲得稍微粗糙的、與直接在上面的潤濕層之間的界面。此種低粗糙度界面還可用透射電鏡進一步看出。再者,潤濕層具有較好質(zhì)地,另外還具有更明顯的優(yōu)選的結(jié)晶取向。因此,每個平滑層由不同于直接位于其上方的潤濕層的材料組成,從結(jié)晶學(xué)和化學(xué)計量的角度都不同。本發(fā)明不僅僅適用于疊層,該疊層僅包括2個位于3個涂層之間的功能層,上述涂層中2個涂層是下層涂層。它也適用于疊層,該疊層包含3個與4個涂層交替排列的功能層,其中上述涂層中的3個是下層涂層,或者包含4個與5個涂層交替排列的功能層,其中上述涂層中的4個是下層涂層。就這些具有多個功能層的疊層而言,至少l個功能層,優(yōu)選每個功能層,被直接置于至少一個下層阻隔涂層上面和/或直接置于至少一個上層阻隔涂層的下面。在具有2個功能層的疊層的情況下,甚至在其他情況下也是,所述包含平滑層的下層涂層當(dāng)中的最薄涂層,優(yōu)選地最靠近基材,甚至與基材接觸,不論直接地抑或通過"接觸層"介質(zhì),例如,基于二氧化鈦(Ti〇2)。在具有多于2個功能層的疊層的情況下,離基材最遠(yuǎn)的下層涂層是2個相鄰下層涂層中的較薄層。優(yōu)選地是,至少一個平滑層,甚至所有平滑層,是氧化物層,尤其是混合氧化物層,它們基于下列金屬中的一種之一或多種的氧化物Sn、Si、Ti、Zr、Hf、Zn、Ga、In,更確切地i兌,是在^氐溫沉積的基于鋅和錫的混合氧化物的層或銦錫混合氧化物(ITO)的層。平滑層的指數(shù)優(yōu)選地小于2.2。優(yōu)選地是,另外,至少一個平滑層,甚至所有平滑層,是具有非化學(xué)計量氧含量的氧化物層,更具體地說,基于亞化學(xué)計量的以銻摻雜的鋅和錫的混合氧化物(SnZnOx:Sb,x是數(shù)字)層。另夕卜,該(或每個)平滑層優(yōu)選地具有介于0.1-30nm的幾何厚度,更優(yōu)選0.2~10nm,特別是對于2個當(dāng)中較薄的那個。在優(yōu)選的實施方案中,至少一個阻隔涂層基于Ni或Ti或基于鎳基合金,尤其是基于NiCr合金。另外,至少l個,優(yōu)選地每個,相對于功能層為下層潤濕層優(yōu)選地基于氧化鋅;這些潤濕層尤其可基于鋁-摻雜的氧化鋅。每個潤濕層的幾^f可厚度優(yōu)選介于2~30nm,更優(yōu)選介于3-20nm。而且,至少l個,優(yōu)選每個,在所述下層涂層內(nèi)與平滑層相鄰的介電層,特別是直接在平滑層下面的介電層,優(yōu)選基于氮化物,尤其是氮^ft石圭和/或氮化鋁。該氮化物基介電層的指數(shù)優(yōu)選地小于2.2。本發(fā)明玻璃至少包括載有本發(fā)明的疊層的基材,任選地與至少l個其他基材的組合。每個基材可以是透明或著色的。其中至少一個基材尤其可由本體-著色的玻璃制成。著色類型的選擇將取決于該玻璃一旦制造完成后所要求的透光率(niveaudetransmissionlumineuse)和/或色度學(xué)外觀。因此,就用于裝配車輛的玻璃來說,某些標(biāo)準(zhǔn)^見定,擋風(fēng)玻璃應(yīng)具有約75%的透光率TL,而其他標(biāo)準(zhǔn)則要求約65%的透光率TL;例如側(cè)窗或天窗則不要求這樣的透光率水平。例如,可使用的著色玻璃是,對于4mm厚度的而言,在光源D65下,具有65%~95%的TL,40%~80%的透能率TE,470nm~525nm的主透射波長的玻璃,與0.4%~6%的透射純度的結(jié)合,這可在色度體系(L,a*,b*)中通過分別介于-9~0之間和畫8~+2之間的透射a,口b承值"表示(tradmre)"。就用于裝配在建筑物上的玻璃來說,對于'M氐-透射的"應(yīng)用,該玻璃優(yōu)選地具有至少75%或更高的透光率TL,以及對于"日光控制"應(yīng)用至少40%或更高的透光率TL。本發(fā)明的玻璃可具有層壓結(jié)構(gòu),尤其結(jié)合了至少2個玻璃型剛性基材與至少1個熱塑性聚合物片材的玻璃,從而具有以下類型的結(jié)構(gòu):玻璃/薄層疊層/1個或多個片材/玻璃。該聚合物尤其可基于聚乙烯醇縮丁醛(PVB)、乙烯/醋酸乙蹄(EVA)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚氯乙烯(PVC)。該玻璃還可具有所謂不對稱的層壓玻璃結(jié)構(gòu),它結(jié)合了玻璃型剛性基材與至少一個具有吸能性質(zhì)的聚氨酯型聚合物片材,任選地結(jié)合另一層具有"自愈,,性能的聚合物。有關(guān)此類型玻璃的進一步細(xì)節(jié)可參見,尤其是專利EP-0132198、EP-0131523、EP-0389354。因此,該玻璃具有以下類型的結(jié)構(gòu):玻璃/薄層疊層/聚合物片材。本發(fā)明玻璃能經(jīng)受熱處理而對薄層疊層沒有損害。因此,任選地它們進4亍彎曲和/或鋼化處理。該玻璃,當(dāng)由備有疊層的單一基材組成時,可接受彎曲和/或鋼化處理。這時,它,皮稱作"單塊(monolithique),,玻璃。當(dāng)該玻璃一皮彎曲,尤其是為了制造車窗時,薄層疊層優(yōu)選地位于至少部分地非平面的面上。該玻璃也可以是多(層)玻璃,尤其是雙層JE皮璃,至少該載有疊層的基材可以被彎曲和/或鋼化。在多層玻璃結(jié)構(gòu)中優(yōu)選的是,該疊層被置于面朝氣體-充填空間的位置。在層壓結(jié)構(gòu)中,載有疊層的基材優(yōu)選地與聚合物片材接觸。當(dāng)該玻璃是整塊或呈雙層玻璃或?qū)訅翰A偷亩鄬硬Ar,至少該載有疊層的基材可由彎曲或鋼化玻璃制成,該基材可在疊層沉積之前或之后進行彎曲或鋼化處理。在一種實施方案中,該玻璃被提供能對所述疊層提供電能的手段。本發(fā)明還涉及一種制造本發(fā)明的基材的方法,它包括采用陰極噴鍍類真空技術(shù)(任選地由磁場輔助)在其基材上沉積薄層疊層,隨后對被覆蓋的基材實施彎曲/鋼化或退火等類型熱處理,而不會損害其光學(xué)和/或力學(xué)品質(zhì)。然而,并不排除疊層的1個或多個第一層可以利用其他技術(shù)進行沉積,例如,采用高溫?zé)峤庑蜔岱纸饧夹g(shù)。本發(fā)明的細(xì)節(jié)和優(yōu)點特征通過以下借助于附圖示出的非限制性實施例將變得更清楚。圖1示出了單功能層的疊層(有或沒有平滑層)的薄層電阻在熱處理前隨著設(shè)置在下面的介電層厚度的變化,該疊層被提供有上阻隔單層涂層;圖2示出了與圖1所示相同的單功能層的疊層(有或沒有平滑層)的薄層電阻在熱處理后隨著位于其下的介電層的厚度的變化;圖3示出單功能層的疊層的薄層電阻在熱處理前隨著平滑層的厚度的變化,其中該疊層被提供有單層阻隔涂層;圖4示出與圖3所示相同的單功能層的疊層的薄層電阻在熱處理后隨著平滑層厚度的變化;圖5示出了本發(fā)明的雙功能層的疊層,每個功能層被提供有上阻隔覆蓋層但沒有下阻隔涂層;圖6示出具有2個本發(fā)明功能層的疊層,每個功能層被提供有下阻隔涂層但沒有罩面阻隔涂層;圖7示出具有2個本發(fā)明功能層的疊層,每個功能層被提供有下阻隔涂層并被提供有上阻隔涂層;圖8示出具有3個本發(fā)明功能層的疊層,每個功能層被提供有下阻隔涂層但沒有上阻隔涂層;以及圖9示出具有4個本發(fā)明功能層的疊層,每個功能層被提供有下阻隔涂層但沒有上阻隔涂層。在示出的多層疊層的示意圖中,為更容易理解,不同材料的厚度并未嚴(yán)格按照比例示出。另外,在下面的所有實施例中,薄層疊層被沉積在由鈉鈣玻璃制成的基材10上,基材厚度為2mm,除非另行明確指出。在對基材施加的熱處理所有情況下,熱處理是在約660。C溫度進行約5mm的退火處理,以及隨后在室溫(約20。C)的冷卻。圖1~4的目的是說明平滑層在疊層中的存在的重要性。然而,被用于獲得這些圖的疊層不是本發(fā)明的疊層,因為它們是具有以下類型單功能層的疊層基材/Si3N4/SnZnOx:Sb/ZnO/A§/Ti/ZnO/Si3N4可變/可變/8nm/10nm/2nm/8nm/20nm在圖1和2中,曲線Cl和Cll說明了當(dāng)疊層未被提供有平滑層時分別在熱處理之前(BHT)和之后(AHT),疊層的薄層電阻(Q)隨與基材接觸的氮化硅(eSi3N4)基的介電層厚度的變化。曲線C2和C12說明了當(dāng)疊層^L提供有6nm厚的由SnZnOx:Sb(x代表非零的數(shù)字)制成的平滑層時,分別在熱處理之前和之后,疊層的薄層電阻(Q)隨與基材接觸的氮化硅(eSi3N4)基的介電層厚度的變化。曲線C3和C13說明了當(dāng)疊層被提供有20nm厚的基于SnZnOx:Sb的平滑層時,分別在熱處理之前和之后,疊層的薄層電阻(n)隨與基材接觸的氮化硅(eSi3N4)基的介電層厚度的變化。正如在圖1和2中看到的,對于與基材接觸的介電層的相同厚度(例如,20nm),當(dāng)疊層包含介于與基材接觸的氮化硅基的介電層與和在銀Ag基功能層下面的氧化鋅ZnO基的潤濕層之間的SnZnOx:Sb基平滑層時,疊層的薄層電阻總是較低一因而較好一對于曲線C2、C3、C12和C13;而且,對于20nm的平滑層厚度(曲線C3和C13),疊層的薄層電阻總是較低。業(yè)已證實,由混合氧化物制成的平滑層沿其整個厚度都是無定形的,而潤濕層和金屬功能層則沿它們的整個厚度都是結(jié)晶的。結(jié)果,平滑層的存在顯著改善了具有相當(dāng)?shù)南聦咏殡妼雍穸鹊寞B層的薄層電阻,且此種改善,當(dāng)平滑層厚度大時,甚至更大。在圖3和4中,曲線說明了,當(dāng)疊層被提供有介于基材與基于SnZnOx:Sb的層之間的20nm氮化硅SigN4基層時,分別在熱處理之前(BHT)和之后(AHT),疊層的薄層電阻(Q)隨基于以銻摻雜的鋅和錫氧化物(eSnZnOx:Sb)的平滑層厚度的變化。還證實,由混合氧化物制成的平滑層沿其整個厚度都是無定形的,而潤濕層和金屬功能層則沿各自整個厚度都是結(jié)晶的。正如還可從圖3和4看出的,對于平滑層厚度介于>0與4nm之間,平滑層的存在顯著改善了疊層的薄層電阻,且此種改善,當(dāng)平滑層厚度大時,則更大。類似的結(jié)論可以適用于被提供有下阻隔涂層但沒有上阻隔涂層或者被提供有下阻隔涂層且上阻隔涂層的單功能層的疊層。另外,為測量各層的粗糙度,進行了試驗。下表給出由X-射線反射測定法測定的并以納米為單位表示的粗糙度(基材的粗糙度為約0.4)表1層厚度(nm)粗糙度a(nm)Si3N428.51.1玻璃基材Sn〇229.50.8玻璃基材SnZn〇x:Sb32.00.7玻璃基材SnZnOx:Sb11.20.8Si3N419.70.5玻璃基材Sn〇210.40.8Si3N419.30.5玻璃基材正如從該表可以看出的,基于僅僅沉積在玻璃上的氮化硅Sl3N4的層的粗糙度被提高,但包含基于銦錫氧化物SnInOx(ITO)的混合氧化物層的或者基于沉積在基于氮化硅的層上的鋅錫混合氧化物SnZnOx:Sb的層的疊層的最終粗糙度較低。因此,基于混合氧化物的潤濕層可以通過降低上述粗糙度來改善與潤濕層之間的界面的粗糙度。從上述結(jié)論出發(fā),因此可以在基材10上沉積薄層疊層,它包含具有在紅外和/或日光范圍的反射性能的交替的n個功能層40、80、120、160,尤其是基于銀或含銀金屬合金的金屬功能層,以及(n+l)個涂層20、60、100、140、180,其中n是大于或等于2的整數(shù),所述涂層包括多個介電層24、26;62、64、66;102、104、106、142、144、146、182、184,為了使每一個功能層40、80、120、140位于2個涂層20、60、100、140、180之間,至少2個功能層,優(yōu)選每個功能層一皮沉積在潤濕層30、70、110、150上,這些潤濕層本身分別一皮直接沉積在下層涂層20、60、100、140上。于是,基于上面的單功能層試驗,進行了多個兩功能層試驗,但是不是全都滿意。基于圖5所示的具有兩功能層的疊層結(jié)構(gòu)進行了2個實施例,編號1和2,其中每個功能層40、80被提供有上阻隔涂層45、85但沒有下阻隔涂層。下表2給出每個層的厚度,以納米為單位表2<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>于是,在本發(fā)明實施例1中,較薄下層涂層20的基于銻摻雜的鋅錫氧化物SnZnOx:Sb的平滑層26的厚度小于較厚下層涂層60的基于銻摻雜的鋅錫氧化物SnZnOx:Sb的平滑層66的厚度;然而在對比例2中,較薄下層涂層20的平滑層26的厚度則大于較厚下層涂層60的平滑層66的厚度。獲得的電阻率在下表3中給出實施例1實施例2熱處理前R口Ag24.805.4R口Agi4.754.5,S、R口2.392.45熱處理后R。Ag23.734.353.653.45,S、Rd1.841.92于是,本發(fā)明實施例1的電阻率好于實施例2的電阻率,不i侖熱處理前還是熱處理后。在實施例2的情況中,在具有多個功能層的疊層中的加入平滑層卻不可能達(dá)到實施例1情況中所獲得的在功能層結(jié)晶上要求的改善,即使(而且這一點已經(jīng)得到證實)平滑層是無定形并且潤濕層是結(jié)晶的。另一系列實施例,編號3,是根據(jù)圖6所示的具有2個功能層的疊層結(jié)構(gòu)進行的,其中每個功能層40、80被提供有下阻隔涂層35、75,但沒有在圖6中可看到的機械保護層200。下表4給出每個層的厚度,以納米為單位表4<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>在此基礎(chǔ)上,進4亍6個實施例,編號3a3f。下表5給出每個實施例的X和Y值,以納米為單位:表5<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>于是,在本發(fā)明實施例3a、3c和3e中,較薄下層涂層20的平滑層26的厚度小于較厚下層涂層60的平滑層66的厚度,而在對比例3b、3d和3f中,較薄下層涂層20的平滑層26的厚度則大于較厚下層涂層60的平滑層66的厚度。這些實施例的電阻率、光學(xué)和能量特性在下表6中給出(光學(xué)和能量特性是在退火并插入到具有以下結(jié)構(gòu)的層壓玻璃中后被測定的:外部/2.1mm玻璃基材/0.25mmPVB/載有疊層的2.1mm玻璃基材;于是,該層的疊層位于表面3上,按相對于入射日光的方向編號)表6<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>因此,本發(fā)明實施例3a、3c、3e的疊層電阻率(這里在熱處理后測定)仍然分別低于對應(yīng)對比例3b、3d、3f。再有,在光源A下測定的透能率TE、透光率Tl,在光源065下測定的能量反射RE、光反射RL(D65),以及按照在這些層一側(cè)的光源D65下測量的LAB色度體系中的反射光的顏色a,口bM直,在本發(fā)明實施例與對應(yīng)對比例3b、3d、3f之間沒有非常顯著的變4t。通過熱處理前測定的光學(xué)和能量特性與熱處理后的這些同樣特性相比,沒有觀察到任何退化。其他試驗是基于圖7中所示的具有2個功能層的疊層結(jié)構(gòu)實施的,其中每個功能層40、80,皮提供有下阻隔涂層35、75和上阻隔涂層45、85。這些試驗得出了類似的觀測結(jié)果。就具有2個功能層的結(jié)構(gòu)而言,觀察到,較薄下層涂層的平滑層優(yōu)選地離基材最近,于是較厚下層涂層的平滑層便離基材最遠(yuǎn)。另外,本發(fā)明可應(yīng)用于具有3個功能層的疊層,例如,圖8中所示疊層。在該說明的結(jié)構(gòu)中,每個功能層40、80、12(H皮提供有下阻隔涂層35、75、115;然而,也可以在除了下阻隔涂層35、75、115之外另提供上阻隔涂層,或者在沒有上述下阻隔層時提供上述上阻隔層。再有,在該說明的結(jié)構(gòu)中,每個下層涂層20、60、100包含根據(jù)本發(fā)明的平滑層26、66、106。就具有3個功能層的結(jié)構(gòu)而言,據(jù)發(fā)現(xiàn),較薄下層涂層的平滑層優(yōu)選地離基材最近,而較厚下層涂層的平滑層作為中心平滑層66,同時離基材106最遠(yuǎn)的層應(yīng)比離基材最近的平滑層26厚并且其厚度又小于中心平滑層66的厚度。在此種結(jié)構(gòu)中,有可能僅提供2個平滑層,就是說僅提供2個對應(yīng)于本發(fā)明的下層涂層。在此種情況下,所述2個下層涂層當(dāng)中較薄涂層離基材最遠(yuǎn)。另外,本發(fā)明可以應(yīng)用于具有4個功能層的疊層,例如,圖9所示疊層。在所示結(jié)構(gòu)中,每個功能層40、80、120、160,皮提供有下阻隔;余層35、75、115、155;然而,還可能除了下阻隔涂層35、75、115、155外另提供上阻隔涂層,或者在沒有上述下阻隔層時提供上述上阻隔層。另外,在所示結(jié)構(gòu)中,每個下層涂層20、60、100、140包含本發(fā)明的平滑層26、66、106、146。這種疊層可通過,例如,將基材10經(jīng)過用于沉積具有2個功能層的疊層的裝置2次來獲得,正如從國際專利申請WO2005/051858中已知,從而沉積-在第一次通過期間,層24-102,隨后國在第二次通過期間,層104-182,隨后-在沉積最后工序的裝置中,層184和200。在此種結(jié)構(gòu)中,有可能僅提供2個平滑層,就是說僅提供2個對應(yīng)于本發(fā)明的下層涂層。在此種情況中,所示2個下層涂層當(dāng)中較薄涂層離基材最遠(yuǎn)。上面通過實施例描述了本發(fā)明。應(yīng)當(dāng)理解的是,本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠進行各種不同的本發(fā)明替代方案,而不致偏離如權(quán)利要求定義的發(fā)明范圍。權(quán)利要求1.基材(10),尤其是透明玻璃基材,其被提供有薄層的疊層,該疊層包含交替排列的具有在紅外和/或日光范圍反射性能的n個功能層(40、80),尤其是基于銀或含銀金屬合金的金屬功能層,以及(n+1)個涂層(20、60、100),其中n是≥2的整數(shù),所述涂層包括多個介電層(24、26;64、66;104),以便使每個功能層(40、80)位于2個涂層(20、60、100)之間,其中至少2個功能層(40、80)中的每個沉積在潤濕層(30、70)上,潤濕層本身分別被直接沉積到下層涂層(20、60)上,特征在于,2個下層涂層(20、60)中的每個包含至少一個介電層(24、64)和至少一個非結(jié)晶的平滑層(26、66),構(gòu)成平滑層的材料不同于每個涂層內(nèi)所述介電層的材料,所述平滑層(26、66)與所述上層潤濕層(30、70)相接觸,特征還在于,這2個下層涂層(20、60)厚度各不相同,總厚度小于其他下層涂層(60、20)的下層涂層(20、60)的平滑層(26、66)的厚度小于或等于其他下層涂層(60、20)的平滑層(66、26)的厚度。2.權(quán)利要求1的基材(10),其特征在于,疊層包含與3個涂層的交替排列的2個功能層。3.權(quán)利要求1的基材(10),其特征在于,疊層包含與4個涂層的交替排列的3個功能層。4.權(quán)利要求1的基材(10),其特征在于,疊層包含與5個涂層的交替排列的4個功能層。5.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,離基材最近的下層涂層是所述2個下層涂層(20、60)當(dāng)中較薄的涂層。6.權(quán)利要求3~5中任何一項的基材(10),其特征在于,離基材7.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(id,其:征在于,至少一個平滑層(26、66),甚至所有平滑層(26、66),是氧化物層,尤其是基于下列金屬中一種或多種的氧化物的混合氧化物:Sn、Si、Ti、Zr、Hf、Zn、Ga、In。8.以上權(quán)利要求的基材(10),其特征在于,至少一個平滑層(26、66),甚至所有平滑層(26、66),是混合氧化物層,尤其是一種在低溫沉積的基于鋅和錫的混合氧化物的層或銦錫混合氧化物(ITO)的層。9.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,至少一個平滑層(26、66),甚至所有平滑層(26、66),是具有非化學(xué)計量的氧的氧化物層。10.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,該或每個平滑層(26、66)具有0.1-30nm,優(yōu)選0.2~10nm之間的幾何厚度。11.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,至少一個,優(yōu)選每個功能層(40、80)被直接置于至少一個下層阻隔涂層(35、75)上和/或直接在至少一個上層阻隔涂層(45、85)下方。12.以上權(quán)利要求的基材(10),其特征在于,至少一個阻隔涂層(35、45、75、85)基于Ni或Ti或基于鎳基合金,尤其是基于NiCr合金。13.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,至少一個,優(yōu)選每個在功能層(40、80)下方的潤濕層(30、70)是基于氧化鋅的。14.以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10),其特征在于,至少一個,優(yōu)選每個在所述下層涂層(20、60)內(nèi)與平滑層(26、66)相鄰的介電層(24、64)基于氮化物,尤其是氮化硅和/或氮化鋁。15.包括至少一個以上權(quán)利要求中任何一項的基材(10)的玻璃,任選地與至少一個其他基材結(jié)合。16.以上權(quán)利要求的玻璃,其以單塊形式或作為雙層玻璃或?qū)訅翰A投鄬硬AнM行安裝,特征在于,至少載有該疊層的基材被彎曲或被鋼化。17.權(quán)利要求15或16的玻璃,其特征在于,它被提供有能給所述疊層提供電能的手段。18.用于制造權(quán)利要求1~14中任何一項的基材(10)的方法,其特征在于,采用任選地磁場輔助的陰極噴鍍類真空技術(shù)在其基材上沉積薄層的疊層,隨后對所述基材實施彎曲、鋼化或退火等類熱處理,而不會損害其光學(xué)和/或力學(xué)品質(zhì)。全文摘要本發(fā)明涉及一種基材(10),被提供有一種薄層疊層,該疊層包含具有在紅外和/或日光范圍反射性能的n個功能層(40、80)的交替排列,以及(n+1)個涂層(20、60、200),其中n是整數(shù),≥2,所述涂層由多個介電層(24、26;64、66;104)組成,讓每個功能層(40)位于2個涂層(20、60、100)之間,至少2個功能層(40、80)每個沉積在潤濕層(30、70)上,潤濕層本身分別直接沉積到下層涂層(20、60)上。本發(fā)明基材的特征在于,2個下層涂層(20、60)每個包含至少一個介電層(24、64)和至少一個非結(jié)晶平滑層(26、66),構(gòu)成該(平滑)層的材料不同于每個涂層內(nèi)所述介電層的材料,所述平滑層(26)與所述下層潤濕層(30)相接觸。本發(fā)明的特征還在于,由于這2個下層涂層(20、60)厚度不相同,故讓總厚度小于其他下層涂層(60、20)的下層涂層(20、60)的平滑層(26、66)的厚度小于或等于所述其他下層涂層(60、20)的平滑層(66、26)的厚度。文檔編號B32B17/06GK101395000SQ200780007797公開日2009年3月25日申請日期2007年3月6日優(yōu)先權(quán)日2006年3月6日發(fā)明者E·馬丁,L·拉布勞斯,N·納多德,P·魯特勒申請人:法國圣戈班玻璃廠