柵11，格柵11底部固定在廢水罐I底部。取廢水管2通向基坑8內(nèi)，基坑8內(nèi)設(shè)有第二液位傳感器7。廢水罐I為鋼板制成的廢水罐。廢水罐I壁厚大于等于5毫米。
[0036]地下建筑低洼處的排水方法，運用以上提到的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，包括以下步驟，
[0037]A.取廢水管2和第二液位傳感器7插入基坑8底部；
[0038]B.當基坑8內(nèi)的水位達到第二液位傳感器7的設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51關(guān)閉，微型真空栗41打開，插入基坑8內(nèi)的取廢水管2將基坑8內(nèi)廢水抽吸至廢水罐I ;
[0039]C.當基坑8內(nèi)廢水被抽干或廢水罐I內(nèi)液位達到第一液位傳感器6設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51打開，微型真空栗41關(guān)閉，廢水通過格柵11依靠重力被排至排水溝或廢水井。
[0040]實施例4
[0041]一種地下建筑低洼處的排水設(shè)備，如圖2所示，包括廢水罐1，廢水罐I上側(cè)設(shè)有取廢水管2，廢水罐I底部設(shè)有排水管3，排水管3上設(shè)有排水電磁閥31，廢水罐I頂部設(shè)有與真空栗相連的第一管道4，第一管道4上設(shè)有真空電磁閥41，廢水罐I頂部還設(shè)有與大氣相通的第二管道5，第二管道5上設(shè)有放空閥51 ;廢水罐I內(nèi)側(cè)設(shè)有第一液位傳感器6，廢水罐I內(nèi)側(cè)設(shè)有格柵11，格柵11底部固定在廢水罐I底部。取廢水管2通向基坑8內(nèi)，基坑8內(nèi)設(shè)有第二液位傳感器7。廢水罐I為鋼板制成的廢水罐。廢水罐I壁厚大于等于5毫米。
[0042]地下建筑低洼處的排水方法，運用以上提到的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，包括以下步驟，
[0043]A.取廢水管2和第二液位傳感器7插入基坑8底部；
[0044]B.當基坑8內(nèi)的水位達到第二液位傳感器7的設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51關(guān)閉，真空電磁閥41打開，插入基坑8內(nèi)的取廢水管2將基坑8內(nèi)廢水抽吸至廢水罐I ;
[0045]C.當基坑8內(nèi)廢水被抽干或廢水罐I內(nèi)液位達到第一液位傳感器6設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51打開，真空電磁閥41關(guān)閉，廢水通過格柵11依靠排污栗12被排至排水溝或廢水井。
[0046]實施例5
[0047]一種地下建筑低洼處的排水設(shè)備，如圖2所示，包括廢水罐I，廢水罐I上側(cè)設(shè)有取廢水管2，廢水罐I底部設(shè)有排水管3，排水管3上設(shè)有排水電磁閥31，廢水罐I頂部設(shè)有與真空栗相連的第一管道4，第一管道4上設(shè)有微型真空栗41，廢水罐I頂部還設(shè)有與大氣相通的第二管道5，第二管道5上設(shè)有放空閥51 ;廢水罐I內(nèi)側(cè)設(shè)有第一液位傳感器6，廢水罐I內(nèi)側(cè)設(shè)有格柵11，格柵11底部固定在廢水罐I底部。取廢水管2通向基坑8內(nèi)，基坑8內(nèi)設(shè)有第二液位傳感器7。廢水罐I為鋼板制成的廢水罐。廢水罐I壁厚大于等于5毫米。
[0048]地下建筑低洼處的排水方法，運用以上提到的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，包括以下步驟，
[0049]A.取廢水管2和第二液位傳感器7插入基坑8底部；
[0050]B.當基坑8內(nèi)的水位達到第二液位傳感器7的設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51關(guān)閉，微型真空栗41打開，插入基坑8內(nèi)的取廢水管2將基坑8內(nèi)廢水抽吸至廢水罐I ;
[0051]C.當基坑8內(nèi)廢水被抽干或廢水罐I內(nèi)液位達到第一液位傳感器6設(shè)定值時，排水電磁閥31和放空閥51打開，微型真空栗41關(guān)閉，廢水通過格柵11依靠排污栗12被排至排水溝或廢水井。
[0052]總之，以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明專利的涵蓋范圍。
【主權(quán)項】
1.一種地下建筑低洼處的排水設(shè)備，其特征在于:包括廢水罐(1)，廢水罐(I)上側(cè)設(shè)有取廢水管(2)，廢水罐(I)底部設(shè)有排水管(3)，排水管(3)上設(shè)有排水電磁閥(31)，廢水罐(I)頂部設(shè)有與真空栗相連的第一管道(4)，第一管道(4)上設(shè)有真空電磁閥或微型真空栗(41)，廢水罐(I)頂部還設(shè)有與大氣相通的第二管道(5)，第二管道(5)上設(shè)有放空閥(51);廢水罐⑴內(nèi)側(cè)設(shè)有第一液位傳感器(6)，廢水罐⑴內(nèi)側(cè)設(shè)有格柵(11)，格柵(11)底部固定在廢水罐(I)底部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，其特征在于:取廢水管(2)通向基坑(8)內(nèi)，基坑(8)內(nèi)設(shè)有第二液位傳感器(7)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，其特征在于:廢水罐(I)為鋼板制成的廢水罐。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，其特征在于:廢水罐(I)壁厚大于等于5毫米。5.地下建筑低洼處的排水方法，運用權(quán)力要求4所述的地下建筑低洼處的排水設(shè)備，其特征在于:包括以下步驟， A.取廢水管(2)和第二液位傳感器(7)插入基坑(8)底部； B.當基坑⑶內(nèi)的水位達到第二液位傳感器(7)的設(shè)定值時，排水電磁閥(31)和放空閥(51)關(guān)閉，真空電磁閥或微型真空栗(41)打開，插入基坑⑶內(nèi)的取廢水管(2)將基坑(8)內(nèi)廢水抽吸至廢水罐(I)； C.當基坑(8)內(nèi)廢水被抽干或廢水罐(I)內(nèi)液位達到第一液位傳感器(6)設(shè)定值時，排水電磁閥(31)和放空閥(51)打開，真空電磁閥或微型真空栗(41)關(guān)閉，廢水通過格柵(11)后排出。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的地下建筑低洼處的排水方法，其特征在于:步驟C中，廢水通過格柵(11)依靠重力排出。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的地下建筑低洼處的排水方法，其特征在于:步驟C中，廢水依靠重力被排至排水溝或廢水井。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的地下建筑低洼處的排水方法，其特征在于:步驟C中，廢水通過排污栗(12)被排至排水溝或廢水井。
【專利摘要】本發(fā)明涉及地下建筑低洼積水排放技術(shù)領(lǐng)域，公開了地下建筑低洼處的排水設(shè)備，包括廢水罐(1)，及其內(nèi)設(shè)有的取廢水管(2)、排水管(3)、排水電磁閥(31)、第一管道(4)、真空電磁閥或微型真空泵(41)、第二管道(5)、放空閥(51)、第一液位傳感器(6)，廢水罐(1)內(nèi)側(cè)設(shè)有格柵(11)。本發(fā)明還公開了地下建筑低洼處的排水方法，將地下建筑低洼處的排水設(shè)備與真空源相連，將取廢水管(2)插入低洼基坑(8)最底處，當?shù)屯莼?8)積水達到第二液位傳感器(7)的設(shè)定值時，積水先被抽吸至廢水罐(1)，后依靠重力或排污泵被排至排水溝或廢水井。解決了地鐵站和地下商業(yè)空間等地下建筑局部低洼較小，排放積水困難的技術(shù)問題。
【IPC分類】E03F5/10, E03F3/02
【公開號】CN105064486
【申請?zhí)枴緾N201510494480
【發(fā)明人】張正軍
【申請人】杭州聚川環(huán)?？萍加邢薰?br>【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年8月12日