本發(fā)明關(guān)于一種吸塑臺(tái)面，尤其是一種超厚鏤空的吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)及其吸塑工藝。

背景技術(shù)：

目前鏤空臺(tái)面主要應(yīng)用在中島柜、梳妝臺(tái)等家具中，通常與玻璃、石材、飾面板等材料搭配使用。鏤空臺(tái)面基材一般有實(shí)木、中纖板、鋁材等，其表面處理形式主要有三種：其一是先包覆再拼框；其二是拼框或鏤銑后再吸塑，其三是拼框或鏤銑后再噴漆。

對于拼框或鏤銑后再吸塑的臺(tái)面，常見的臺(tái)面造型及結(jié)構(gòu)如圖1所示。由于其造型及結(jié)構(gòu)，在鏤空部位通常只有三面，即a面1、b面2和c面3。當(dāng)臺(tái)面厚度過厚時(shí)(厚度≧30mm)，尤其是b面2較厚時(shí)(厚度≧25mm)，因?yàn)閴毫Φ葪l件的限制，在吸塑過程中吸塑膜常會(huì)出現(xiàn)無法被吸附到上下膜接縫處，導(dǎo)致吸塑不到位，吸塑膜無法緊密貼合基材，例如f點(diǎn)。當(dāng)臺(tái)面幅面尺寸越小，厚度越大，越容易出現(xiàn)吸塑不到位現(xiàn)象。

對于超厚鏤空吸塑臺(tái)面，常見的結(jié)構(gòu)及工藝會(huì)導(dǎo)致返工率極大，極為耗費(fèi)人力及物力，限制了工廠的生產(chǎn)效率，增加了生產(chǎn)成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于考慮上述問題而提供一種超厚鏤空的吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)及其吸塑工藝。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是：一種超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)，包括見光面和背面，所述見光面和背面之間為階梯狀的鏤空結(jié)構(gòu)；所述階梯狀的鏤空結(jié)構(gòu)為靠近見光面的豎直面a面和水平面b面組成的見光面凹槽結(jié)構(gòu)、中部由豎直面c面組成的中部凹槽結(jié)構(gòu)、及靠近背面由水平面的d面和斜面的e面組成的背面凹槽結(jié)構(gòu)組成；所述d面的兩端分別與所述c面與所述e面連接；所述d面的長度l為d面的兩端分別與所述c面與所述e面交點(diǎn)間的距離；所述e面向背面的兩邊傾斜呈“八”字形，所述e面與底面的傾斜角為β。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述傾斜角β的范圍為45°≦β≦75°。由于臺(tái)面較厚，且e面深度較深，若e面為垂直面，則會(huì)導(dǎo)致吸塑不到位。將e面設(shè)置為斜面，能夠有效減少吸塑膜在壓力下的延展，減少吸塑膜及真空覆膜機(jī)硅膠膜被拉扯壞的概率，同時(shí)保證了吸塑膜與基材的緊密粘合。e面傾斜角度β是e面與水平面的夾角(銳角)，其范圍為45°≦β≦75°。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述d面的長度l為3mm-5mm；d面長度l其范圍建議控制在3mm-5mm。當(dāng)l值過小，則不方便修剪和掩蓋缺陷；當(dāng)l值過大，銑削過多，浪費(fèi)板材和降低效率，且d面與e面的交匯處吸塑膜可能會(huì)吸不到位，易脫膠。

同時(shí)，本發(fā)明還提供一種操作簡單、易于實(shí)現(xiàn)、針對上述超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的吸塑工藝，為實(shí)現(xiàn)此目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：一種利用如上述的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的吸塑工藝，包括如下步驟：

(1)、備料；

(2)、通過cnc對臺(tái)面進(jìn)行造型加工，將加工后的臺(tái)面進(jìn)行砂光處理；

(3)、背面噴膠及吸塑；具體為：將臺(tái)面的背面進(jìn)行清潔處理，然后在所述背面、e面、d面進(jìn)行噴膠；暖房靜置；背面吸塑；修整清潔；

(4)、見光面噴膠及吸塑；具體為：將臺(tái)面的見光面進(jìn)行清潔處理；然后在所述見光面、c面、b面、a面進(jìn)行噴膠；暖房靜置；見光面吸塑；修整清潔；

(5)、收庫。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述步驟(3)中的所述背面吸塑、所述步驟(4)見光面吸塑在墊塊上完成。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述墊塊的長度l墊塊長度為：l墊塊長度＝l臺(tái)面鏤空長度-2×d；其中，l臺(tái)面鏤空長度為臺(tái)面鏤空長度；d是臺(tái)面與墊塊單邊空隙，50mm≦d≦300mm。在真空覆膜機(jī)上吸塑時(shí)，由于臺(tái)面中間為鏤空狀態(tài)，覆膜機(jī)的硅膠膜和吸塑膜在真空壓力下會(huì)被過度拉伸至平臺(tái)，并被吸附在平臺(tái)上；在恢復(fù)至大氣壓時(shí)，吸塑膜不易離開平臺(tái)，由于硅膠膜也與吸塑膜貼合緊密，導(dǎo)致在出倉時(shí)硅膠膜會(huì)連同吸塑膜一起被拉扯，導(dǎo)致臺(tái)面部分位置吸塑膜被剝離，吸塑失??；同時(shí)硅膠膜也極易損壞；增加墊塊后，由于臺(tái)面與墊塊間的空隙相對較小，吸塑膜和硅膠膜在真空壓力下不會(huì)與平臺(tái)接觸，或接觸面積相對較小，因此在恢復(fù)常壓時(shí)能夠及時(shí)脫離，極大的減少了吸塑膜被剝離的情況。

本發(fā)明的鏤空吸塑臺(tái)面中在原有c面的基礎(chǔ)上增加了d面和e面；d面主要用于隱藏吸塑膜接縫以及在接縫處可能存在的缺陷，其次是在吸塑完成后裁切修補(bǔ)工序中，方便工人裁切多余的吸塑膜，提高修整效率和減少因修整產(chǎn)生的質(zhì)量問題。由于臺(tái)面較厚，且e面深度較深，若e面為垂直面，則會(huì)導(dǎo)致吸塑不到位。將e面設(shè)置為斜面，能夠有效減少吸塑膜在壓力下的延展，減少吸塑膜及真空覆膜機(jī)硅膠膜被拉扯壞的概率，同時(shí)保證了吸塑膜與基材的緊密粘合。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)吸塑工藝的流程圖；

圖4為本發(fā)明的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)墊塊的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1-a面、2-b面、3-c面、4-吸塑膜、5-f點(diǎn)、6-d面、7-e面、8-墊塊。

具體實(shí)施方式

為更好的說明本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)，下面將結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

如圖2所示，一種超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)，包括見光面和背面，所述見光面和背面之間為階梯狀的鏤空結(jié)構(gòu)；所述階梯狀的鏤空結(jié)構(gòu)為靠近見光面的豎直面a面1和水平面b面2組成的見光面凹槽結(jié)構(gòu)、中部由豎直面c面3組成的中部凹槽結(jié)構(gòu)、及靠近背面由水平面的d面6和斜面的e面7組成的背面凹槽結(jié)構(gòu)組成；所述d面6的兩端分別與所述c面6與所述e面7連接；所述d面6的長度l為d面6的兩端分別與所述c面3與所述e面7交點(diǎn)間的距離；所述e面7向背面的兩邊傾斜呈“八”字形，所述e面7與底面的傾斜角為β；所述傾斜角β的范圍為45°≦β≦75°。由于臺(tái)面較厚，且e面深度較深，若e面為垂直面，則會(huì)導(dǎo)致吸塑不到位。將e面設(shè)置為斜面，能夠有效減少吸塑膜在壓力下的延展，減少吸塑膜及真空覆膜機(jī)硅膠膜被拉扯壞的概率，同時(shí)保證了吸塑膜與基材的緊密粘合。e面傾斜角度β是e面與水平面的夾角(銳角)，其范圍為45°≦β≦75°；所述d面的長度l為3mm-5mm；d面長度l其范圍建議控制在3mm-5mm。當(dāng)l值過小，則不方便修剪和掩蓋缺陷；當(dāng)l值過大，銑削過多，浪費(fèi)板材和降低效率，且d面與e面的交匯處吸塑膜可能會(huì)吸不到位，易脫膠。

同時(shí)，本發(fā)明還提供一種操作簡單、易于實(shí)現(xiàn)、針對上述超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的吸塑工藝，為實(shí)現(xiàn)此目的，如圖2-3所示，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：一種利用如上述的超厚鏤空吸塑臺(tái)面結(jié)構(gòu)的吸塑工藝，包括如下步驟：

(1)、備料；

(2)、通過cnc對臺(tái)面進(jìn)行造型加工，將加工后的臺(tái)面進(jìn)行砂光處理；

(3)、背面噴膠及吸塑；具體為：將臺(tái)面的背面進(jìn)行清潔處理，然后在所述背面、e面7、d面6進(jìn)行噴膠；暖房靜置；背面吸塑；修整清潔；

(4)、見光面噴膠及吸塑；具體為：將臺(tái)面的見光面進(jìn)行清潔處理；然后在所述見光面、c面3、b面2、a面1進(jìn)行噴膠；暖房靜置；見光面吸塑；修整清潔；

(5)、收庫。

所述步驟(3)中的所述背面吸塑、所述步驟(4)見光面吸塑在墊塊8上完成，所述墊塊8的長度l墊塊長度為：l墊塊長度＝l臺(tái)面鏤空長度-2×d；其中，l臺(tái)面鏤空長度為臺(tái)面鏤空長度；d是臺(tái)面與墊塊單邊空隙，50mm≦d≦300mm。在真空覆膜機(jī)上吸塑時(shí)，由于臺(tái)面中間為鏤空狀態(tài)，覆膜機(jī)的硅膠膜和吸塑膜在真空壓力下會(huì)被過度拉伸至平臺(tái)，并被吸附在平臺(tái)上；在恢復(fù)至大氣壓時(shí)，吸塑膜不易離開平臺(tái)，由于硅膠膜也與吸塑膜貼合緊密，導(dǎo)致在出倉時(shí)硅膠膜會(huì)連同吸塑膜一起被拉扯，導(dǎo)致臺(tái)面部分位置吸塑膜被剝離，吸塑失敗；同時(shí)硅膠膜也極易損壞；增加墊塊后，由于臺(tái)面與墊塊間的空隙相對較小，吸塑膜和硅膠膜在真空壓力下不會(huì)與平臺(tái)接觸，或接觸面積相對較小，因此在恢復(fù)常壓時(shí)能夠及時(shí)脫離，極大的減少了吸塑膜被剝離的情況。

最后應(yīng)當(dāng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明作了詳細(xì)地說明，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的實(shí)質(zhì)和范圍。