技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了一種負(fù)離子瓷磚，包括底部的坯體層和頂部的面層，其特征在于：所述的坯體層上設(shè)置有底層，底層上設(shè)置有附著層，附著層與面層之間設(shè)置有負(fù)離子層，坯體層與底層的接觸面上設(shè)置有多個(gè)凹槽與凸起，附著層的表面硬度小于底層的硬度，面層由底釉層和面釉層組成，底層的厚度為1～2mm，附著層的厚度為0.5～1.0mm,負(fù)離子層的厚度為0.1～0.8mm。

技術(shù)研發(fā)人員：范桂順
受保護(hù)的技術(shù)使用者：范桂順
文檔號(hào)碼：201720137843
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.16
技術(shù)公布日：2017.10.03