玻璃基板表面的預(yù)處理過程及纖薄腐蝕玻璃基板的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種在用于減少玻璃基板厚度的纖薄腐蝕過程之前進行的預(yù)處理過程。所述預(yù)處理過程包括：將多個玻璃基板彼此分開并垂直于地面設(shè)置，并從所述玻璃基板上方的多個噴灑點朝向所述玻璃基板向下噴灑包括硫酸和氫氟酸的表面處理溶液。
【專利說明】玻璃基板表面的預(yù)處理過程及纖薄腐蝕玻璃基板的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本申請要求2013年10月1日提交的韓國專利申請No. 10-2013-0117246的優(yōu)先 權(quán)，在此通過引用的方式將其全部并入本文。

【背景技術(shù)】
[0002] 本發(fā)明公開涉及一種在玻璃基板的纖薄腐蝕過程之前進行的玻璃基板表面的預(yù) 處理過程，更具體地說，涉及一種纖薄腐蝕方法的預(yù)處理過程，其在纖薄腐蝕玻璃基板的同 時，能夠在玻璃基板表面上限制例如劃痕或凹坑的缺陷的增加并獲得具有優(yōu)異品質(zhì)的玻璃 表面。此外，本發(fā)明公開涉及一種使用預(yù)處理過程的纖薄腐蝕玻璃基板的方法。
[0003] 通過機械拋光方法或化學(xué)腐蝕方法，對形成例如薄膜晶體管（TFT)液晶顯示器 (LCD)面板、有機發(fā)光顯示（0LED)面板和觸摸面板的顯示裝置面板的玻璃基板進行處理W 使面板減輕并變薄，使其被加工成具有小厚度的玻璃基板。到了 2000年，纖薄顯示面板的 需求增加。因此，與機械拋光方法相比具有更優(yōu)異的生產(chǎn)率并且更容易纖薄化面板的化學(xué) 腐蝕方法的纖薄腐蝕方法被廣泛地使用。
[0004] 為了腐蝕玻璃基板，有必要著重考慮玻璃基板特性之間的并行傳輸?？蒞通過腐 蝕表面使其變得光滑來降低透射光的漫射和反射光的漫反射。為了獲得優(yōu)異的光學(xué)特性， 在纖薄腐蝕過程中，使用了如氨氣酸、氣化饋和氣化氨饋的包括氣的腐蝕劑。然而，由于該 種腐蝕劑具有很強的滲透性，腐蝕劑滲透到例如存在于玻璃表面的劃痕和凹坑的缺陷，使 缺陷變得更大。
[0005] 另一方面，該樣的缺陷可能發(fā)生在玻璃制造公司生產(chǎn)玻璃的過程中。此外，在生產(chǎn) 形成玻璃上的電路和形成顯示面板的玻璃基板時，可能會產(chǎn)生缺陷。目P，通過大量的操作可 能在玻璃基板上產(chǎn)生缺陷，該些操作例如是電路圖案形成過程、氣相沉積過程、在形成有電 路的表面在其中彼此相對W形成面板時使兩塊玻璃基板彼此相對的過程、高于幾百攝氏度 的高溫過程W及在過程之間使用傳送帶的傳送過程。
[0006] 當(dāng)通過腐蝕沒有電路圖案形成的玻璃表面的纖薄腐蝕過程W減輕玻璃基板時，由 于如上所述的腐蝕劑，如上所述產(chǎn)生的缺陷尺寸增加，引起玻璃基板上的瑕疵。
[0007] 為了限制缺陷的增加，在進行腐蝕玻璃基板的過程之前，有用于預(yù)先處理玻璃表 面上缺陷的預(yù)處理過程。增加有預(yù)處理過程的纖薄化玻璃基板的整個過程包括：預(yù)處理過 程、第一次清洗過程、纖薄腐蝕過程和第二次清洗過程。
[0008] 在一個現(xiàn)有預(yù)處理過程中，玻璃基板面板被安裝到作為玻璃基板支撐物的箱上然 后被浸入到填充有惰性液體的池子中，W使惰性液體被添入到缺陷中。通過該樣的方法，有 缺陷的部分在纖薄腐蝕過程中被腐蝕較少，從而限制了缺陷的擴展。在另一個方法中，玻璃 基板被浸入到填充有具有例如約5 y m或小于5 y m每分鐘的低腐蝕速率的腐蝕劑的池子 中，并且腐蝕一點表面W平坦化，從而在隨后的纖薄腐蝕過程中限制缺陷的擴展。在該種情 況下，在纖薄腐蝕過程中，使用約5 y m或大于5 y m每分鐘的腐蝕劑進行腐蝕。作為另一種 方法，玻璃基板被浸入到填充有高濃度硫酸和低濃度氨氣酸的混合物的池子中，W部分浸 潰由劃痕和凹坑引起的存在于表面上的凹陷。將玻璃基板浸入到高濃度硫酸的方法具有限 制缺陷擴展的作用，但在玻璃表面上會產(chǎn)生不平坦的曲線和明顯的污潰，該已經(jīng)被發(fā)明人 注意到。
[0009] 在使用浸潰的預(yù)處理方法中，預(yù)處理溶液不具有相對于玻璃的相對流動性。預(yù)處 理溶液與玻璃反應(yīng)的機制可W被劃分為四個操作。所述四個操作分別是吸附化學(xué)物到玻璃 表面（第一操作）、化學(xué)物與玻璃表面之間的化學(xué)反應(yīng)（第二操作）、從玻璃表面分離反應(yīng) 產(chǎn)物（第H操作）W及通過擴散除去反應(yīng)產(chǎn)物（第四操作）。由于四個操作的其他速度比 第二操作速度慢很多，根據(jù)第一、第H和第四操作的特性確定玻璃表面的特性。特別地，在 浸潰法中，由于難W給予表面處理溶液流動性，從玻璃基板分離并除去反應(yīng)產(chǎn)物不是很容 易。因此，在浸潰法中使用泡沫，該不是根本的解決辦法。
[0010] 由于該樣的原因，當(dāng)通過浸潰法進行預(yù)處理過程時，如圖1所示，在進行纖薄玻璃 基板100的整個過程之后，檢查到在玻璃基板100上產(chǎn)生了大量不平坦的曲線102并且在 整個玻璃基板100上用肉眼觀察到明顯的污潰。雖然使用了在池子中產(chǎn)生泡沫W使預(yù)處理 溶液具有相對于玻璃基板的相對流動性的改進的浸潰法，檢查到明顯的污潰仍然沒有被除 去。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 實施方式提供能夠在限制玻璃基板表面上缺陷增長的同時顯著地減少污潰的一 種預(yù)處理過程，W及使用所述預(yù)處理過程的纖薄腐蝕玻璃基板的方法。
[0012] 在一個實施方式中，在用于減少玻璃基板厚度的纖薄腐蝕過程之前進行的預(yù)處理 過程包括將多個玻璃基板彼此分開并垂直于地面設(shè)置，W及從所述玻璃基板上方的多個噴 灑點朝向玻璃基板向下噴灑包括硫酸和氨氣酸的表面處理溶液。
[0013] 在另一個實施方式中，纖薄腐蝕玻璃基板的方法包括朝向彼此分開的多個玻璃基 板向下噴灑包括硫酸和氨氣酸的預(yù)處理溶液的預(yù)處理過程，W及朝向經(jīng)過預(yù)處理過程的玻 璃基板向下噴灑包括從約Iwt%至約20wt% (重量百分比）的硫酸和氣化氨饋中的至少一 種的腐蝕劑的腐蝕過程。
[0014] 根據(jù)用于玻璃基板的預(yù)處理過程，由使用通用浸潰法預(yù)處理玻璃基板產(chǎn)生的不平 坦的曲線，當(dāng)通過使用高濃度硫酸和低濃度氨氣酸的混合物限制缺陷增長時，如圖2所示， 曲線104顯著地變低并且尺寸減小W使玻璃基板的污潰變淡，從而生產(chǎn)具有優(yōu)異光學(xué)特性 的玻璃基板。
[0015] 將結(jié)合附圖詳細(xì)解釋并在下文中描述一個或多個實施方式的細(xì)節(jié)。從說明書和附 圖W及從權(quán)利要求書中，其它特征是顯而易見的。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016] 圖1是一個示意圖，示出了應(yīng)用了通過通用浸潰法進行的預(yù)處理過程的玻璃基板 表面的曲線，該通用浸潰法使用硫酸溶液和氨氣酸溶液；
[0017] 圖2是一個示意圖，示出了根據(jù)一個實施方式的通過使用向下噴灑硫酸溶液和氨 氣酸溶液進行的預(yù)處理過程獲得的玻璃基板表面的曲線；
[0018] 圖3是一個示意圖，示出了通過使用所述實施方式的向下噴灑方法的玻璃基板的 預(yù)處理過程；
[0019] 圖4示出了在所述實施方式中使用的用于裝載玻璃基板的箱W及支撐玻璃基板 的夾子和凹槽；
[0020] 圖5示出了根據(jù)所述實施方式從噴嘴中噴灑的玻璃表面處理溶液的液滴，液滴與 玻璃基板接觸；
[0021] 圖6示出了玻璃基板的上表面沒有暴露于玻璃表面處理溶液的一種情況；
[0022] 圖7示出了根據(jù)所述實施方式使用凹痕標(biāo)記形成凹痕；
[0023] 圖8A和8B示出了根據(jù)所述實施方式用于實驗的玻璃基板；
[0024] 圖9A是根據(jù)所述實施方式的初始凹痕的尺寸和形狀的一個實施例的一張照片， 圖9B是在纖薄腐蝕過程之后獲得的擴展被限制和最小化的最終凹痕的尺寸和形狀的一個 實施例的照片，W及圖9C是擴展的凹痕的一個放大側(cè)視圖；W及
[0025] 圖10A和10B分別是具有70%和15%污潰區(qū)別的玻璃基板的實施例的照片。

【具體實施方式】
[0026] 現(xiàn)在將詳細(xì)地描述本發(fā)明公開的實施方式，附圖中示出其實施例。
[0027] 如圖3所示，根據(jù)所述實施方式的預(yù)處理過程使用向下噴灑方法將用于預(yù)處理的 表面處理溶液200噴灑到玻璃基板100。下文中，將描述作為所述實施方式的一個要素的進 行向下噴灑方法的裝置和機制，然后將描述表面處理溶液200的組成。
[002引噴嘴
[0029] 在所述實施方式中，多個噴嘴300被設(shè)置在多個玻璃基板100的上方。噴嘴300 可W與噴嘴頭302結(jié)合。噴嘴300可W被安裝到預(yù)處理裝置內(nèi)的上部。噴嘴300可W具有 全錐形噴嘴。噴嘴300使液滴可W在基于貫穿噴嘴300的頂部和底部虛擬線的圓錐的所有 方向噴射。在圖3或其他附圖中，為了方便，噴灑的表面處理溶液200被示為幾條虛線。實 際上，噴灑的表面處理溶液200被均勻地噴灑成液滴?？蒞選擇各種噴灑的表面處理溶液 200的噴灑角0。例如，噴灑角0可W是30度、45度和60度中的一個。當(dāng)考慮到噴嘴300 之間的間隔W及噴嘴300和玻璃基板之間的間隔時，可W選擇比該些角度更小或更大的角 度。除了全錐形噴嘴之外，例如，如果適當(dāng)?shù)卦O(shè)置多個噴嘴，平噴式噴嘴可W提供與全錐形 噴嘴類似的效果。然而，由于直線噴嘴沒有噴灑角并且不能使液體變成液滴，直線地噴灑液 體的直線噴嘴在所述實施方案中不可用。
[0030] 箱
[0031] 如圖4所示，多個玻璃基板100可W被安裝到箱400中。箱400由帶有間隔W支 撐幾個玻璃基板100的支撐夾子402和凹槽404中的一個形成。支撐夾子402和凹槽404 中的一個的位置在箱400的頂部和底部被調(diào)整，W便使玻璃基板100具有朝向箱400底表 面或地面的一個角度。例如，當(dāng)在箱400頂部上的凹槽404和在箱400底部上的凹槽404被 制造成垂直于箱400底表面時，安裝玻璃基板100時，玻璃基板100被設(shè)置為垂直于地面。 當(dāng)在箱400頂部上的凹槽404和在箱400底部上的凹槽404被制造成彼此有差異時，安裝 玻璃基板100時，玻璃基板100被設(shè)置為W銳角傾斜于地面。當(dāng)使用支撐夾子402時，在最 小化與玻璃基板100的接觸面積的同時可W支撐玻璃基板100。此外，不允許玻璃基板100 被緊密地插入到支撐夾子402中，在安裝玻璃基板100的同時可W形成一點空間。
[0032] 玻璃基板和地面之間的角度
[0033] 當(dāng)假定位于玻璃基板100上方的多個噴嘴300朝向正下方的地面時，玻璃基板100 可W被設(shè)置為與箱400底表面或地面（下文中，稱為地面）保持直角。
[0034] 雖然玻璃基板100被設(shè)置為垂直于地面，由于在預(yù)處理過程中的預(yù)處理裝置中產(chǎn) 生氣流的原因使玻璃基板100移動，玻璃基板100不能連續(xù)地垂直于地面。雖然箱400的 支撐夾子402或凹槽404沒有牢固地固定玻璃基板100并有一點空間，安裝玻璃基板100 到箱400中W精確地垂直于地面是不可能的。因此，在所述實施方式中，指定玻璃基板100 和地面之間的直角為接近直角的角度。
[0035] 此外，在所述實施方式中，玻璃基板100可W被設(shè)置為比從約45度到約90度的一 定角度范圍內(nèi)的直角更傾斜于地面。當(dāng)僅處理玻璃基板100的一個表面時，可W容易地理 解玻璃基板100的表面處理在所述角度范圍內(nèi)是否可行。雖然必須處理玻璃基板100的兩 面，作為由發(fā)明人進行的實驗結(jié)果，核實了在所述角度范圍內(nèi)處理是可行的。當(dāng)玻璃基板 100被設(shè)置為W-個小于45度的角度傾斜于地面時，由于在玻璃基板100上的噴灑液滴的 壓力增強，不僅處理玻璃基板100的兩面是困難的，支撐玻璃基板100 W及同時設(shè)置和處理 多個玻璃基板100也是困難的。
[0036] 玻璃表面和用于預(yù)處理的表面處理溶液之間的接觸和反應(yīng)機制
[0037] 由于噴霧壓力，噴嘴300噴灑的表面處理溶液200的液滴直接到達玻璃基板100 的頂部邊緣108和玻璃基板100表面110的頂部或中部。然后，由于增加了重力，表面處理 溶液200沿著玻璃基板100的表面110流下并與玻璃基板100的表面110反應(yīng)（參見圖 5)。當(dāng)玻璃基板100之間的距離較遠(yuǎn)并且玻璃基板100的尺寸較小時，液滴可W直接到達 玻璃基板100的底部。
[0038] 安裝有多個玻璃基板100的箱400被插入到預(yù)處理裝置中，并且位于安裝在預(yù)處 理裝置上部的多個噴嘴300下面。如果均勻地設(shè)置多個噴嘴300,在其下方將形成均勻的 噴灑區(qū)202。在噴灑區(qū)202中，沒有必要使多個玻璃基板100與噴嘴300的設(shè)置對齊，并且 玻璃基板100的陣列可W相對于噴嘴300陣列成直角或者W對角線形式對應(yīng)噴嘴300的陣 列。
[0039] 噴嘴之間的距離、噴嘴的噴灑角、噴嘴末端和玻璃基板頂部邊緣之間的相關(guān)性W 及玻璃基板之間的間隔
[0040] 噴嘴300之間的間隔、噴嘴300的噴灑角0 W及噴嘴300末端和玻璃基板100頂 部邊緣108之間的距離b可W被相關(guān)地確定W使玻璃基板100表面110被暴露于表面處理 溶液200的噴灑液滴下。當(dāng)噴嘴300之間的距離增加時，噴灑角0變小，或者噴嘴300末 端和玻璃基板100頂部邊緣108之間的距離b變得更近，可能出現(xiàn)玻璃基板100表面110 未被暴露在表面處理溶液200液滴下的未被暴露的頂部112 (參見圖6)。另一方面，玻璃基 板100和噴嘴300之間的距離過分地疏遠(yuǎn)，在噴灑的液滴到達玻璃基板100之前噴霧壓力 降低，從而使得液滴豎直自由下落。在該種情況下，沒有液滴直接到達玻璃基板100的表面 110，該將妨礙所述實施方式的取得效果。
[0041] 考慮到該一點，有必要確定噴嘴300之間的距離a、噴嘴300的噴灑角0 W及噴嘴 300末端和玻璃基板100頂部邊緣108之間的距離b，如圖5所示，W便使液滴被噴灑向每 個玻璃基板100的頂部邊緣108和表面110,至少噴灑向玻璃基板100表面110的頂部。在 根據(jù)所述實施方式的向下噴灑方法中，液滴直接到達玻璃基板100的表面110,然后流下并 與玻璃基板100表面110反應(yīng)。有必要使液滴沒有遺漏地到達每個玻璃基板100表面110 的最上部。此外，液滴直接到達的區(qū)域可W從每個玻璃基板100表面的最上部增加到每個 玻璃基板100表面的較低部分。在此，為了使液滴直接到達玻璃基板100表面110的頂部 邊緣108正下方的最上部，有必要向玻璃基板100的頂部邊緣108噴灑液滴。
[0042] 考慮到能夠一次處理玻璃基板100的生產(chǎn)率，可W密集地排列玻璃基板100。當(dāng)玻 璃基板100被設(shè)置為垂直于地面或噴嘴300之間的距離較短時，玻璃基板100可W被密集 地設(shè)置。
[0043] 表面處理溶液的組分
[0044] 表面處理溶液包括大于60wt%且小于80wt%的硫酸和大于0. 5wt%且小于2wt% 的氨氣酸，更具體地，包括從約65wt%至約75wt%的硫酸和從約0. 75wt%至約1. 5wt%的 氨氣酸。
[0045] 玻璃基板的纖薄腐蝕過程
[0046] 在根據(jù)所述實施方式的玻璃基板預(yù)處理過程之后，可W使用預(yù)處理裝置的同類裝 置進行玻璃基板的清洗和纖薄腐蝕。纖薄腐蝕溶液可W是包括從約Iwt%至約20wt%的氨 氣酸和氣化氨饋中至少一種的腐蝕劑。除了從約Iwt%至約20wt%的氨氣酸之外，所述腐 蝕劑可W包括硫酸、硝酸、鹽酸、磯酸和己酸。
[0047] 下文中，將描述根據(jù)所述實施例和比較例進行玻璃表面處理過程的示例性實施 例。
[0048] 【示例性實施例1】
[0049] 根據(jù)所述實施方式使用向下噴灑方法進行預(yù)處理，然后使用向下噴灑方法進行清 洗和腐蝕過程。在實驗的小系統(tǒng)中進行所述示例性實施例。在此，用于預(yù)處理的表面處理 溶液是20kg的75wt %硫酸和Iwt %氨氣酸的混合物，表面處理溶液的溫度為3(TC，噴嘴的 數(shù)目是9,噴嘴的容量為2L，噴嘴的壓力為1. Ikg/cm2,預(yù)處理時間為15min，并且作為玻璃 樣品，具有尺寸90mmX60mmX630]im的由日本As址i Co巧oration(朝日公司）生產(chǎn)的兩 片無堿AN-100玻璃被設(shè)置為垂直于地面。如圖7所示，在每塊玻璃板100上使用凹痕標(biāo)記 形成凹痕106。凹痕106為通過有力地?fù)舸虮砻嫘纬傻牟ＡО?00表面上的凹陷部分。如 圖7中示出的箭頭，用于形成凹痕106的作用在玻璃板100上3砂鐘的瞬時負(fù)荷約為lOg。 使用光學(xué)顯微鏡測量人為形成的每個凹痕106的初始尺寸。在所述示例性實施例中，凹痕 106的初始尺寸為15 + 1 ym。如圖8A所示，僅在玻璃板100-面的上部、中間和底部H點 上形成凹痕106。如圖8B所示，使用耐酸膠帶114貼住另一面W使得只有一面被預(yù)處理，從 而容易測量凹痕106和污潰的擴展程度。在根據(jù)上述條件的預(yù)處理后進行的第一次清洗、 腐蝕和第二次腐蝕過程之后，使用光學(xué)顯微鏡測量擴展的凹痕106的最終尺寸。圖9A示出 了凹痕106的初始尺寸和形狀，圖9B是通過預(yù)處理限制擴展來最小化的凹痕106的最終尺 寸和形狀的實施例的一張照片，所述照片是在腐蝕過程之后拍攝的，W及圖9C是擴展的凹 痕106的一個放大側(cè)視圖。
[0050] 此外，在第一次清洗、腐蝕和第二次清洗過程之后觀察由于增加了預(yù)處理過程產(chǎn) 生的由表面曲線造成的污潰程度。由于測量表面曲線程度或污潰程度是困難的，用肉眼觀 察程度并且用％確定和表示被指定為"污潰區(qū)別"的如何區(qū)分整個表面上出現(xiàn)的污潰。當(dāng) 污潰區(qū)別較低時，提供更優(yōu)良的光學(xué)特性。由同一發(fā)明人確定污潰區(qū)別w使所述示例性實 施例的相對比較精確。圖10A和10B是70%和15%的污潰區(qū)別的照片，所述照片是在使用 英光燈照射玻璃基板時拍攝的。
[0051] 使用工業(yè)用水向下噴灑方法進行在應(yīng)用到所述示例性實施例的預(yù)處理之后的第 一次清洗，其中噴嘴的容量為化，噴嘴壓力為化g/cm 2,并且進行向下噴灑3分鐘。通過使用 向下噴灑方法向玻璃基板噴灑包括從約3%至約5%的氨氣酸和從約15%至約20%的硝酸 的腐蝕劑進行纖薄腐蝕過程，其中腐蝕劑的量為20kg，腐蝕劑溫度為32C，腐蝕速度E/R為 1. 3 y m/min并且腐蝕的量為從約280 y m至約290 y m。使用在水槽中噴灑五分鐘的方法作 為通用清洗進行在纖薄腐蝕過程之后的第二次清洗。
[0052] 【比較例1和2】
[0053] 在比較例1中，示例性實施例1的過程條件的預(yù)處理過程被省略，并且在腐蝕和清 洗過程之后就測量擴展的凹痕的尺寸。在該種情況下，由于沒有進行預(yù)處理過程，沒有額外 地測量污潰區(qū)別。
[0054] 在比較例2中，示例性實施例1的過程條件的預(yù)處理過程被使用泡沫的浸潰法和 與示例性實施例1過程相同的其他過程代替。
[0055] 表1示出了示例性實施例和比較例1和2的實驗結(jié)果。通過測量由凹痕標(biāo)記人為 形成的凹痕的初始尺寸并在進行所有的腐蝕和清洗后測量擴展凹痕的最終尺寸來計算在 各自情況下的凹痕的擴展量。分別具有H個凹痕的兩塊玻璃板被用于實驗并且得到總共六 個點的平均值。兩塊玻璃板的平均值被記錄為污潰區(qū)別。
[005引【表1】
[0057]

【權(quán)利要求】
1. 一種預(yù)處理過程，所述預(yù)處理過程在用于減少玻璃基板厚度的纖薄腐蝕過程之前進 行，所述預(yù)處理過程包括： 將多個玻璃基板彼此分開并垂直于地面設(shè)置；以及 從所述玻璃基板上方的多個噴灑點朝向所述玻璃基板向下噴灑包括硫酸和氫氟酸的 表面處理溶液。
2. 如權(quán)利要求1所述的預(yù)處理過程，其中所述表面處理溶液包括大于60wt%且小于 80wt%的硫酸和大于0. 5wt%且小于w wt%的氫氟酸。
3. 如權(quán)利要求2所述的預(yù)處理過程，其中所述表面處理溶液包括從約65wt %至約 75wt%的硫酸和從約0. 75wt%至約1. 5wt%的氫氟酸。
4. 如權(quán)利要求3所述的預(yù)處理過程，其中所述表面處理溶液中的氫氟酸濃度為lwt %。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項所述預(yù)處理過程，其中所述表面處理溶液被噴灑向所述 玻璃基板的頂部邊緣和所述玻璃基板表面的至少一個上部。
6. 如權(quán)利要求1至4中任一項所述預(yù)處理過程，其中所述噴灑點被設(shè)置在所述表面處 理溶液被均勻地噴灑到所述玻璃基板上的噴灑區(qū)內(nèi)。
7. 如權(quán)利要求1至4中任一項所述預(yù)處理過程，其中所述玻璃基板是薄膜晶體管液晶 顯示器面板、有機發(fā)光二極管面板和觸摸屏面板中的一個。
8. -種纖薄腐蝕玻璃基板的方法，所述方法包括： 預(yù)處理過程，其朝向彼此分開的多個玻璃基板向下噴灑包括硫酸和氫氟酸的預(yù)處理溶 液；以及 腐蝕過程，其朝向經(jīng)過所述預(yù)處理過程的玻璃基板向下噴灑包括從約lwt %至約 20wt %的氫氟酸和氟化氫銨中的至少一種的腐蝕劑。
9. 如權(quán)利要求8所述的方法，其中所述腐蝕劑包括從約lwt%至約20wt%的氫氟酸并 且還包括硫酸、硝酸、鹽酸、磷酸和乙酸中的至少一種。
【文檔編號】C03C15/00GK104513017SQ201410496123
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年9月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月1日
【發(fā)明者】高星宇, 金晉旭, 文勝鉉, 李在植 申請人:伊科尼有限公司