一種全拋釉陶瓷制品及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種全拋釉陶瓷制品及其制備方法,全拋釉陶瓷制品包括陶瓷坯體及陶瓷坯體外的全拋釉層,所述全拋釉層的原料主要成分為粉料,所述粉料各組分及重量含量為:鈉長石42-62%、鉀長石2-7%、白云石0-4%、方解石4-8%、碳酸鋇0-2%、氧化鋁6-8%、燒滑石3-5%、氧化鋅2-4.6%、石英粉3-9%、蘇州高嶺土0.5-2.5%、煅燒高嶺土1-6%、硅灰石5-10%、鋰輝石0.1-3.0%、硼鈣石0.1-2.8%。采用一次配料球磨完成全拋釉漿料的制備,因氧化鋁等耐磨物質(zhì)含量少,球磨時間短,生產(chǎn)效率更高;并通過加入少量鋰輝石、硼鈣石可以提高燒成后全拋釉陶瓷產(chǎn)品的耐磨性和硬度。
【專利說明】—種全拋釉陶瓷制品及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于陶瓷生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及一種全拋釉陶瓷制品及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前噴墨打印技術(shù)在陶瓷裝飾新產(chǎn)品開發(fā)上被大量應用,陶瓷噴墨打印的優(yōu)勢是花色品種設(shè)計更為靈活,色釉用量更為節(jié)省,圖案紋理更為逼真,但由于其釉料用量極少,導致色釉圖案易磨損,嚴重影響裝飾效果,為進一步保留陶瓷噴墨打印裝飾效果,彌補其使用上的不足,在陶瓷產(chǎn)品色釉圖案之上施加一層耐磨透明的全拋釉,燒制后將釉面進行拋光就能夠解決這一問題。但普通透明釉的耐磨性不能滿足瓷質(zhì)磚的耐磨要求,故開發(fā)一種既透明、又耐磨且成本低的陶瓷全拋釉成為人們追求的目標。
[0003]全拋釉產(chǎn)品集拋光磚的光潔和仿古磚的內(nèi)涵于一體,實現(xiàn)了 “看得見,摸不著”的藝術(shù)效果。而全拋釉是這一完美結(jié)合的關(guān)鍵。目前我國主要陶瓷產(chǎn)區(qū)都推出了全拋釉產(chǎn)品,深得市場推崇和認可,是市場中的高檔陶瓷制品,市場前景廣闊。
[0004]中國專利CN102329152A公開了一種全拋釉仿古磚面釉及其制備方法,其原料組成中有毒物質(zhì)碳酸鋇的加入量為4-6%。其次,該全拋釉制備中加有乙二醇和印油(即原料:球石:乙二醇:印油=I: 1.8-2: 0.25: 0.3),既增加了生產(chǎn)成本,有容易導致釉面缺陷的產(chǎn)生。專利CN102603364A公開了一種超耐磨高硬度全拋釉料的原料配方及制備方法,其全拋釉制漿過程為兩步完成:首先配料球磨制備釉漿,其次將配制的增稠劑按比例與釉漿混合40-60min,生產(chǎn)效率較低;(2)全拋釉配料組成中氧化鋁加入比例為10份,即10%,由于剛玉氧化鋁為價格比較高的原料,其比例增加會明顯提高成本,也會增加球磨時間,降低生產(chǎn)效率。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足,提供一種全拋釉陶瓷制品及其制備方法,其全拋釉原料采用一次配料球磨完成制備過程,生產(chǎn)效率高,并且利用該全拋釉原料制備的全拋釉陶瓷產(chǎn)品透明性好、防污耐磨。
[0006]本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案:
[0007]一種全拋釉陶瓷制品,包括陶瓷坯體及陶瓷坯體外的全拋釉層,所述全拋釉層的原料主要成分為粉料,所述粉料各組分及重量含量為:鈉長石42-62%、鉀長石2-7%、白云石0-4%、方解石4-8%、碳酸鋇0-2%、氧化鋁6-8%、燒滑石3_5%、氧化鋅2-4.6%、石英粉3-9%、蘇州高嶺土 0.5-2.5%、煅燒高嶺土 1-6%、硅灰石5-10%、鋰輝石0.1-3.0%、硼?丐石 0.1~2.8% .
[0008]按上述方案,所述全拋釉層的原料還包括減水劑,所述減水劑加入量為粉料質(zhì)量的 0.32-0.35%。
[0009]按上述方案,所述減水劑為三聚磷酸鈉、水玻璃、腐植酸鈉按質(zhì)量比1:1:1配制而成的復合減水劑。
[0010]按上述方案,所述全拋釉層的原料還包括懸浮劑,所述懸浮劑的加入量為粉料質(zhì)量的0.30%。
[0011]按上述方案,所述懸浮劑為取代度為0.5-0.7的羧甲基纖維素鈉(CMC)。
[0012]本發(fā)明還提供上述全拋釉陶瓷制品的制備方法,其技術(shù)方案是:根據(jù)上述的配方稱取原料,按原料中粉料:磨球:水=1:2:0.5加入球磨機中球磨18-22h,然后經(jīng)除鐵、過篩得全拋釉漿料,再將所述全拋釉漿料施于已印花的陶瓷坯體上,并在1180 - 1220°C下一次性燒成,并經(jīng)磨邊、拋光等工序得到全拋釉陶瓷制品。
[0013]按上述方案,所述過篩是過325目,篩余小于等于0.5 %。
[0014]本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明原料中僅含0-2%碳酸鋇和6-8%氧化鋁,球磨時無需添加乙二醇、印油等物質(zhì),只加水和少量CMC即可,既減少生產(chǎn)成本,又避免釉面缺陷的產(chǎn)生;另外,本發(fā)明全拋釉原料采用一次配料球磨工藝完成制備,因氧化鋁等耐磨物質(zhì)含量少,球磨時間短,生產(chǎn)效率更高;再者,本發(fā)明通過加入少量鋰輝石、硼鈣石可以提高全拋釉的耐磨性和硬度,采用該全拋釉得到的陶瓷產(chǎn)品品質(zhì)更好。
[0015]此外,本發(fā)明提供的全拋釉漿料穩(wěn)定性好(1-2月不沉淀)、比重較大(比重在1.86-1.9(^/0113之間)、粒度小(325目篩余不大于0.5%)、燒失量小(6.5-8.1%),燒成溫度范圍寬(1180-1220°C )、陶瓷釉面耐磨性好、不吸污,釉下圖案紋理清晰。
【具體實施方式】
[0016]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案,下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0017]實施例1
[0018]全拋釉漿料其原料主要成分包括粉料、減水劑和懸浮劑,所述粉料包括以下重量含量的組分:鈉長石42 %、鉀長石7 %、方解石8 %、碳酸鋇2 %、氧化鋁8 %、燒滑石5.0%、氧化鋅4.6 %、石英粉9 %、蘇州高嶺土 0.5%、煅燒高嶺土 I %、硅灰石10 %、鋰輝石0.1%、砸?丐石2.8% ;
[0019]所述減水劑為三聚磷酸鈉、水玻璃、腐植酸鈉按質(zhì)量比1:1:1配制而成的復合減水劑;
[0020]所述懸浮劑為羥甲基纖維素(CMC),CMC取代度為0.5。
[0021]復合減水劑為粉料質(zhì)量的0.33%,CMC為粉料質(zhì)量的0.3%
[0022]全拋釉漿料的制備:將上述原料按比例準確稱量,裝入陶瓷球磨機中,加入水,原料中粉料:磨球:水=I:2:0.5,球磨22h,然后經(jīng)除鐵、過篩即得到全拋釉漿料,其比重1.90g/cm3, 325目篩余0.5%。該全拋釉衆(zhòng)料穩(wěn)定性好,放置60天不沉淀。
[0023]將所得全拋釉漿料施于已印花的陶瓷坯體上,并在1220°C下一次性燒成,并經(jīng)磨邊、拋光等工序得到瓷質(zhì)磚。測得燒失量6.5%。
[0024]本實施例得到的全拋釉陶瓷制品圖案清晰,采用藍墨水測試無痕跡殘留,可判斷耐污性好。本實施例所制備的全拋釉層析出的微晶相有剛玉質(zhì)微晶(其莫氏硬度為9.0)、鈣長石(其莫氏硬度為6.0-6.5)、硅灰石(其莫氏硬度為4.0-5.0)等,非晶相為堿石灰玻璃(其莫氏硬度為5.0)。測得所制備的全拋釉層莫氏硬度達4.5左右,而全拋釉的耐磨性與硬度是正相關(guān)的,因此可見其耐磨性良好。
[0025]實施例2
[0026]全拋釉漿料其原料主要成分包括粉料、減水劑和懸浮劑,所述粉料包括以下重量含量的組分:鈉長石56%、鉀長石2%、白云石1.7%、方解石4%、氧化鋁6%、燒滑石3%、氧化鋅3.5%、石英粉3%、蘇州高嶺土 2.5%、煅燒高嶺土 6%、硅灰石7%、鋰輝石3%、硼?丐石2.3% ;
[0027]所述減水劑為三聚磷酸鈉、水玻璃、腐植酸鈉按質(zhì)量比1:1:1配制而成的復合減水劑;
[0028]所述懸浮劑為羥甲基纖維素(CMC),CMC取代度為0.6。
[0029]復合減水劑為粉料質(zhì)量的0.32%,CMC為粉料質(zhì)量的0.3%
[0030]全拋釉漿料的制備:將上述原料按比例準確稱量,裝入陶瓷球磨機中,加入水,原料中粉料:磨球:水=I:2:0.5,球磨20h,然后經(jīng)除鐵、過篩即得到全拋釉漿料,其比重1.89g/cm3, 325目篩余0.47%。該全拋釉衆(zhòng)料穩(wěn)定性好,放置60天不沉淀。
[0031]將所得全拋釉漿料施于已印花的陶瓷坯體上,并在1200°C下一次性燒成,并經(jīng)磨邊、拋光等工序得到瓷質(zhì)磚。測得燒失量7.5%。本實施例得到的全拋釉陶瓷制品性能與實施例I所得制品性能相似。
[0032]實施例3
[0033]全拋釉漿料其原料主要成分包括粉料、減水劑和懸浮劑,所述粉料包括以下重量含量的組分:鈉長石62 %、鉀長石2.1 %、白云石4%、方解石4.5 %、碳酸鋇0.7 %、氧化鋁
6.1 %、燒滑石3.5%、氧化鋅2.0%、石英粉4.6%、蘇州高嶺土 1.0%、煅燒高嶺土 1.7%、硅灰石5%、鋰輝石2.7%、硼鈣石0.1% ;
[0034]所述減水劑為三聚磷酸鈉、水玻璃、腐植酸鈉按質(zhì)量比1:1:1配制而成的復合減水劑;
[0035]所述懸浮劑為羥甲基纖維素(CMC),CMC取代度為0.7。
[0036]復合減水劑為粉料質(zhì)量的0.35%,CMC為粉料質(zhì)量的0.3%
[0037]全拋釉漿料的制備:將上述原料按比例準確稱量,裝入陶瓷球磨機中,加入水,原料中粉料:磨球:水=I:2:0.5,球磨18h,然后經(jīng)除鐵、過篩即得到全拋釉漿料,其比重
1.86g/cm3, 325目篩余0.46%。該全拋釉衆(zhòng)料穩(wěn)定性好,放置30天不沉淀。
[0038]將所得全拋釉漿料施于已印花的陶瓷坯體上,并在1180°C下一次性燒成,并經(jīng)磨邊、拋光等工序得到瓷質(zhì)磚。測得燒失量8.1%。
[0039]本實施例得到的全拋釉陶瓷制品性能與實施例1所得制品性能相似。
[0040]由以上實施例可知本發(fā)明提供的全拋釉層原料配伍合理,加入適當比例剛玉微晶料及氧化鈣等材料,保證燒成中鈣長石等微晶的析出,提高了全拋釉層的硬度和耐磨性;該全拋釉漿料制備方法簡單,節(jié)能環(huán)保,因而適于工業(yè)化生產(chǎn)。
[0041]值得注意的是,以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進,這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種全拋釉陶瓷制品,包括陶瓷坯體及陶瓷坯體外的全拋釉層,其特征在于所述全拋釉層的原料主要成分為粉料,所述粉料各組分及重量含量為:鈉長石42-62%、鉀長石2-7%、白云石0-4%、方解石4-8%、碳酸鋇0-2%、氧化鋁6_8%、燒滑石3_5%、氧化鋅2-4.6%、石英粉3-9%、蘇州高嶺土 0.5-2.5%、煅燒高嶺土 1_6%、硅灰石5_10%、鋰輝石0.1-3.0 %、硼鈣石 0.1-2.8%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全拋釉陶瓷制品,其特征在于:所述全拋釉層的原料還包括減水劑,所述減水劑加入量為粉料質(zhì)量的0.32-0.35%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的全拋釉陶瓷制品,其特征在于:所述減水劑為三聚磷酸鈉、水玻璃、腐植酸鈉按質(zhì)量比1:1:1配制而成的復合減水劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全拋釉陶瓷制品,其特征在于:所述全拋釉層的原料還包括懸浮劑,所述懸浮劑的加入量為粉料質(zhì)量的0.30%。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的全拋釉陶瓷制品,其特征在于:所述懸浮劑為取代度為0.5-0.7的羧甲基纖維素鈉。
6.一種權(quán)利要求1至5任一所述的全拋釉陶瓷制品的制備方法,其特征在于:根據(jù)權(quán)利要求I至5任一所述的配方稱取原料,按原料中粉料:磨球:水=I:2:0.5加入球磨機中球磨18-22h,然后經(jīng)除鐵、過篩得全拋釉漿料,再將所述全拋釉漿料施于已印花的陶瓷坯體上,并在1180 - 1220°C下一次性燒成,并經(jīng)磨邊、拋光等工序得到全拋釉陶瓷制品。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的全拋釉陶瓷制品的制備方法,其特征在于:所述過篩是過325目,篩余小于等于0.5 %。
【文檔編號】C04B41/86GK104072205SQ201410330771
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2014年7月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月11日
【發(fā)明者】張強, 范盤華 申請人:江蘇拜富科技有限公司, 武漢理工大學