專利名稱：一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬于顯示設備上液晶板的制造設備，具體涉及的是一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備。
背景技術：
隨著科技的進步，越來越多是顯示設備采用液晶屏幕，同時，對于一些超薄的電子產品，其液晶玻璃板是需要進行減薄操作的，目前采用較多的是蝕刻減薄，為了保證蝕刻的過程可控制及蝕刻效果好，一般采用將玻璃板浸泡在定向流動的蝕刻箱體中，但這樣的方法也有一些缺陷，在液體的反應路徑上，前面的反應液濃度會隨著反應的進行而降低，在路徑的后段，蝕刻反應較弱，而造成后段的玻璃厚度較厚，整個蝕刻反應不均勻。

發(fā)明內容
針對現(xiàn)有技術存在的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種可以使蝕刻反應均勻的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備。
本發(fā)明解決其技術問題所采取的技術方案是一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，所述的蝕刻設備包括蝕刻液供給設備、蝕刻液回收設備以及蝕刻反應槽，所述的蝕刻液供給設備通過輸送管連接到蝕刻反應槽，關鍵所述的蝕刻液供給設備設有至少兩組，分別輸出不同反應液，在蝕刻反應槽的前側面及后側面及底面共三個面上分別設置有多組的液體進出口，每組的液體進出口分別與反應液輸出管道的輸送管連接，所述的蝕刻液供給設備還包括有多個的流量控制器，每組輸送管上連接一流量控制器，流量控制器對組輸送管進行單獨的順逆流動控制，反應液在蝕刻反應槽與各個流量控制器與連接管路之間形成可控流體場，所述的流量控制器與蝕刻液回收設備之間還設有一回收管。
所述的每組的液體進出口包括有兩個或以上的進出通道，反應槽外設置有接液槽。多個的進出通道可使液體的流動更細化更平穩(wěn)，可有效得減少流動的沖擊性，使反應更均勻。
所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為兩組，分別為酸性蝕刻液和中性水。
所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為三組，分別為酸性蝕刻液、中性水及堿性反應液。
本發(fā)明的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，采用在三個方向都設置進出液的管道，并使用多組不同的反應液的結構，假如設多組的反應液為n，則可實現(xiàn)為“2x3n+l”種， 其中的“I”為三個面都正向流動，最后的反應液從頂部溢出，進入到接液槽中，由于采用正反流動可控制的蝕刻結構，避免在反應后段的反應液濃度減低也使反應不完全，前后兩端都可均勻反應到，同時，底部的進出口可進一步縮小反應的不均衡性。


圖1為本發(fā)明的結構示意圖 。
圖2為本發(fā)明的局部結構示意圖。
具體實施例方式如圖1至圖2所示，一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，所述的蝕刻設備包括蝕刻液供給設備1、蝕刻液回收設備2以及蝕刻反應槽3，所述的蝕刻液供給設備通過輸送管30連接到蝕刻反應槽，其特征在于所述的蝕刻液供給設備設有至少兩組，分別輸出不同反應液， 在蝕刻反應槽的前側面及后側面及底面共三個面上分別設置有多組的液體進出口 31，每組的液體進出口分別與反應液輸出管道的輸送管30連接，所述的蝕刻液供給設備還包括有多個的流量控制器32，每組輸送管上連接一流量控制器32，流量控制器對組輸送管進行單獨的順逆流動控制，反應液在蝕刻反應槽與各個流量控制器和與連接管路之間形成可控流體場，所述的流量控制器與蝕刻液回收設備之間還設有一回收管33。相同道理，為了實現(xiàn)流體的可逆流動，也可以在上述蝕刻反應槽的兩個面設置正反流向的液體進出口，但控制效果自然差很多。反應時，基板的前端和后端以及下端都設置有液體進出口，側面是不可以有液體沖擊的。流量控制器32可采用電磁控制，同時配合液體泵，實現(xiàn)液體的流向控制。
設置多組的液體進出口，可以對反應過程的反應液濃度進行精確調整，對蝕刻反應進行變量控制。進一步優(yōu)化反應后的基板光滑·度。
所述的每組的液體進出口 31包括有兩個或以上的進出通道，反應槽3外設置有接液槽4。
所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為兩組，分別為酸性蝕刻液和中性水。
所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為三組，分別為酸性蝕刻液、中性水及堿性反應液。
權利要求
1.一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，所述的蝕刻設備包括蝕刻液供給設備(I)、 蝕刻液回收設備(2)以及蝕刻反應槽(3)，所述的蝕刻液供給設備通過輸送管(30)連接到蝕刻反應槽，其特征在于所述的蝕刻液供給設備設有至少兩組，分別輸出不同反應液，在蝕刻反應槽的前側面及后側面及底面共三個面上分別設置有多組的液體進出口(31)，每組的液體進出口(31)分別與反應液輸出管道的輸送管(30)連接，所述的蝕刻液供給設備還包括有多個的流量控制器(32)，在每組輸送管(30)上連接一流量控制器(32)，流量控制器對組輸送管進行單獨的順逆流動控制，反應液在蝕刻反應槽與各個流量控制器與連接管路之間形成可控流體場，所述的流量控制器與蝕刻液回收設備之間還設有一回收管(33)。
2.根據(jù)權利要求1所述的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，其特征在于所述的每組的液體進出口(31)包括有兩個或以上的進出通道，反應槽(3)外設置有接液槽(4)。
3.根據(jù)權利要求2所述的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，其特征在于所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為兩組，分別為酸性蝕刻液和中性水。
4.根據(jù)權利要求2所述的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，其特征在于所述的在蝕刻反應槽的三個側面上設置的多組液體進出口為三組，分別為酸性蝕刻液、中性水及堿性反應液。
全文摘要
一種使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，包括蝕刻液供給設備、蝕刻液回收設備以及蝕刻反應槽，蝕刻液供給設備通過輸送管連接到蝕刻反應槽，蝕刻液供給設備設有至少兩組，分別輸出不同反應液，在蝕刻反應槽的前側面及后側面及底面共三個面上分別設置有多組的液體進出口，每組的液體進出口分別與反應液輸出管道的輸送管連接，每組輸送管上連接一流量控制器，反應液在蝕刻反應槽與各個流量控制器與連接管路之間形成可控流體場，所述的流量控制器與蝕刻液回收設備之間還設有一回收管。本發(fā)明的使用可控流體場的玻璃蝕刻設備，采用在三個方向都設置進出液的管道，并使用多組不同的反應液的結構,保證蝕刻反應的均勻。
文檔編號C03C15/00GK103043913SQ20131002262
公開日2013年4月17日 申請日期2013年1月21日 優(yōu)先權日2013年1月21日
發(fā)明者朱邁, 羅清泉, 謝慶強, 陳秀玉 申請人:汕頭市拓捷科技有限公司