專利名稱：一種仿石織紋?；u的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及玻化磚，尤其是涉及一種仿石織紋?；u。
背景技術(shù)：
目前在?；u產(chǎn)品市場上，有很多仿大理石紋理和線條的產(chǎn)品，這些線條有的是采用模塊加入線條技術(shù)，有的是用平板印刷技術(shù)，產(chǎn)品線條特性是機(jī)械且硬性的，不能很好地體現(xiàn)天然石材自然流暢的效果。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種紋理線條自然流暢、仿大理石逼真，整體性強(qiáng)的仿石織紋?；u。
本實用新型的目的可以通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn) 一種仿石織紋?；u，其特征在于，該?；u包括面料層和底坯層，面料層設(shè)置在底坯層上方，所述的面料層上設(shè)有面料底花、正面線條紋理和側(cè)面線條紋理，面料層周邊設(shè)有倒角，所述的底坯層由背紋加強(qiáng)筋、凹槽和底坯料組成。
所述的背紋加強(qiáng)筋有多條，設(shè)置在?；u的底面，多條背紋加強(qiáng)筋之間形成凹槽。
所述的背紋加強(qiáng)筋有5 20條。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下優(yōu)點
一. 紋理線條自然流暢的產(chǎn)品根據(jù)天然石材紋理線條設(shè)計，面料底花均勻柔和，線條紋理粗細(xì)協(xié)調(diào)，仿大理石效果逼真，該產(chǎn)品紋理類似黑金花，莎安娜米黃等名貴石材。
二. 整體性強(qiáng)的產(chǎn)品兩種微粉組成的面料底花和線條紋理在磚面上狀態(tài)穩(wěn)定，雖然每塊磚線條位置有變化，但相鄰線條的間距程度相同，所以，鋪貼時，整體感很強(qiáng)。
3三.替代天然石材的產(chǎn)品因其產(chǎn)品仿石效果逼真，對于想在裝潢中用大理 石，但又擔(dān)心其耐磨性、耐臟性、放射性、色差等問題存在，這款系列產(chǎn)品可以替 代，并且無天然石材的鋪貼和使用煩惱。


圖l為本實用新型產(chǎn)品線條圖; 圖2為圖1的A-A剖面圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。 實施例1
如圖1 2所示； 一種仿石織紋?；u，該?；u包括面料層8和底坯層4， 面料層8設(shè)置在底坯層4上方，所述的面料層8上設(shè)有面料底花1、正面線條紋理 2和側(cè)面線條紋理7，面料層8周邊設(shè)有倒角6，所述的底坯層4由背紋加強(qiáng)筋5、 凹槽3和底坯料組成，背紋加強(qiáng)筋5和凹槽3起到鋪設(shè)、加強(qiáng)筋的作用，還可以省
權(quán)利要求1.一種仿石織紋?；u，其特征在于，該玻化磚包括面料層和底坯層，面料層設(shè)置在底坯層上方，所述的面料層上設(shè)有面料底花、正面線條紋理和側(cè)面線條紋理，面料層周邊設(shè)有倒角，所述的底坯層由背紋加強(qiáng)筋、凹槽和底坯料組成。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種仿石織紋?；u，其特征在于，所述的背紋加強(qiáng)筋有多條，設(shè)置在?；u的底面，多條背紋加強(qiáng)筋之間形成凹槽。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種仿石織紋玻化磚，其特征在于，所述的背紋加強(qiáng)筋有5 20條。
專利摘要本實用新型涉及一種仿石織紋玻化磚，該?；u包括面料層和底坯層，面料層設(shè)置在底坯層上方，所述的面料層上設(shè)有面料底花、正面線條紋理和側(cè)面線條紋理，面料層周邊設(shè)有倒角，所述的底坯層由背紋加強(qiáng)筋、凹槽和底坯料組成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有紋理線條自然流暢、整體性強(qiáng)等優(yōu)點。
文檔編號E04F13/08GK201416245SQ20082015695
公開日2010年3月3日 申請日期2008年12月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月11日
發(fā)明者李慈雄 申請人:上海斯米克建筑陶瓷股份有限公司