專利名稱：釉面磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種釉面磚，特別是經(jīng)過拋光處理的釉面磚。
背景技術(shù)：
普通建筑陶瓷磚由于沒有經(jīng)過拋光處理，光澤差、色彩單調(diào)，檔次低。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種表面光滑細(xì)膩、色彩豐富的釉面磚。
為達(dá)到上述目的，本實用新型采用如下的技術(shù)方案本實用新型所述的釉面磚，在基板上覆蓋有經(jīng)過拋光處理的釉面層。
經(jīng)過拋光處理的釉面層覆蓋在基板的上表面和四周。
采用上述技術(shù)方案后，釉面光滑細(xì)膩、視覺、質(zhì)感強烈，不存在任何吸污缺點，并且色彩、圖案都能具備。


附圖是本實用新型的一個實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如附圖所示，本實用新型所述的釉面磚是在普通基板1上覆蓋有經(jīng)過3000目磨塊拋光處理的釉面層2。
經(jīng)過拋光處理的釉面層2覆蓋在基板1的上表面和四周。
當(dāng)然，為了降低生產(chǎn)成本，也可以僅對基板1的上表面進(jìn)行拋光處理。
權(quán)利要求1.釉面磚，其特征在于在基板(1)上覆蓋有經(jīng)過拋光處理的釉面層(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所是述的釉面磚，其特征在于經(jīng)過拋光處理的釉面層(2)覆蓋在基板(1)的上表面和四周。
專利摘要本實用新型涉及一種釉面磚，特別是經(jīng)過拋光處理的釉面磚。在基板上覆蓋有經(jīng)過拋光處理的釉面層。經(jīng)過拋光處理的釉面層覆蓋在基板的上表面和四周。經(jīng)過拋光處理的釉面光滑細(xì)膩、視覺、質(zhì)感強烈，不存在任何吸污缺點，并且色彩、圖案都能具備。
文檔編號E04F13/14GK2732891SQ20042011220
公開日2005年10月12日 申請日期2004年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月28日
發(fā)明者蒲鼎新 申請人:蒲鼎新