專利名稱：一種炻瓷質(zhì)釉面內(nèi)墻磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種改進(jìn)了的建筑材料，特別適用作為墻體施工的建筑材料。
背景技術(shù)：
長期以來，國內(nèi)外二次燒成釉面內(nèi)墻磚，是通過坯體粉料制造——坯體成型——干燥——素?zé)?1180℃)——存坯——淋底釉——淋面釉——印花裝飾——釉燒(1100℃)而生產(chǎn)出產(chǎn)品，這種普通內(nèi)墻磚有疏松瓷土素?zé)呐黧w，還有同時燒結(jié)于其上的底釉和面釉。由于普通內(nèi)墻磚吸水率高(12-20％)，后期龜裂問題一直未能得到很好的解決。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于降低內(nèi)墻磚的吸水率，達(dá)到使用后期不龜裂。
本實用新型的主要內(nèi)容在于這種內(nèi)墻磚有和底釉一起進(jìn)行燒結(jié)的坯體。
本實用新型的主要內(nèi)容還在于有炻瓷質(zhì)低吸水率的坯體；并有在控制有底釉燒結(jié)坯體溫度而施淋的面釉。
本實用新型和已有技術(shù)相比，具有明顯的有益效果。這種炻瓷質(zhì)內(nèi)墻磚吸水率低，吸水率由12-20％降到3-8％，因而吸水膨脹很少，坯釉結(jié)合好，使用后不龜裂，且各項性能指標(biāo)均優(yōu)于普通釉面磚。


圖1 炻瓷質(zhì)內(nèi)墻磚結(jié)構(gòu)示意圖具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)行說明。1、面釉，這是在釉燒形成的面釉，其上有印花裝飾。2、底釉，3、坯體，是將瓷土和底釉在同時燒結(jié)的。
為了達(dá)到釉面內(nèi)墻磚的后期不龜裂，我們采取了一套與傳統(tǒng)方法不同的工藝流程，生產(chǎn)出低吸水率炻瓷質(zhì)釉面內(nèi)墻磚。其工藝流程是低吸水率坯體粉料制造——坯體成型——干燥——施底釉——煅燒有底釉的坯體——控制有底釉燒結(jié)坯體溫度——淋面釉——印花裝飾——釉燒——產(chǎn)品。和傳統(tǒng)工藝相比，新工藝有如下不同1、坯體方面，由炻瓷質(zhì)低吸水率坯體代替了高吸水率坯體。2、生產(chǎn)流程方面，傳統(tǒng)工藝一般先素?zé)鹿に囀遣捎玫子院团黧w一起進(jìn)行燒結(jié)，用大循環(huán)的方法，控制連底釉坯的溫度進(jìn)行施面釉，由于淋面釉時有一定的溫度，能使面釉很快的干透，而進(jìn)一步進(jìn)行印花裝飾。這樣坯體燒結(jié)度高，強(qiáng)度大，坯釉膨脹系數(shù)合適，吸水膨脹少，不會產(chǎn)生后期龜裂。
權(quán)利要求1.一種由坯體、底釉、面釉構(gòu)成的炻瓷質(zhì)釉面內(nèi)墻磚，其特征在于有和底釉一起進(jìn)行燒結(jié)的坯體。
2.按照權(quán)利要求1所說的炻瓷質(zhì)釉面內(nèi)墻磚，其特征在于有炻瓷質(zhì)低吸水率的坯體。
3.按照權(quán)利要求1、2所說的炻瓷質(zhì)釉面內(nèi)墻磚，其特征在于有在控制有底釉燒結(jié)坯體溫度而施淋的面釉。
專利摘要本實用新型涉及一種改進(jìn)了的建筑材料，特別適用作為墻體施工的建筑材料。本實用新型的主要內(nèi)容在于這種內(nèi)墻磚有和底釉一起進(jìn)行燒結(jié)的坯體。這種炻瓷質(zhì)內(nèi)墻磚吸水率低，坯釉結(jié)合好，使用后不龜裂，且各項性能指標(biāo)均優(yōu)于普通釉面磚。
文檔編號E04F13/08GK2618976SQ0326160
公開日2004年6月2日 申請日期2003年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月23日
發(fā)明者馮釗, 黃榮凱 申請人:順德市澳爾卡陶瓷有限公司