一種具有負離子緩釋功能的畫布及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及繪畫用品加工領域，具體涉及一種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，其中，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理。本發(fā)明還提供了該畫布的制作方法。本發(fā)明可解決傳統(tǒng)白色涂層畫布存在的涂層易發(fā)生龜裂、折裂和剝落等問題，并將負離子的保健功能結合到畫布產品中。
【專利說明】
一種具有負離子緩釋功能的畫布及其制作方法
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及繪畫用品加工領域，具體涉及一種具有負離子緩釋功能的畫布及其制作方法。
【背景技術】
[0002]油畫布是在特定的布質基材上涂覆阻止油料，溶劑，水等滲透的涂層底子，用來繪制油畫的布類。油畫藝術來源于西方，在我國尚未普及。過去，我國的油畫布生產及應用幾乎是空白。隨著我國改革開放的深入進行，人民生活水平顯著提高，在物質生活滿足以后，對精神生活也有了更高層次的追求。因此，對油畫的需求也與日倶增，隨之而來的油畫布生產便成為一個新的經濟增長點。隨著油畫布的推廣，對油畫布使用性能的要求進一步提升。比如公開號為CN 105200783A中國發(fā)明公開了一種防水油畫布、公開號為CN105178010A的中國發(fā)明公開了一種阻燃油畫布等等。
[0003]在現(xiàn)有技術中，藝術家繪畫通常采用傳統(tǒng)的白色涂層油畫布，其主要是在基底布料上直接涂白色涂層料，白色涂層料采用聚乙烯物乳液如聚乙烯醇乳液，乙烯乙酸均聚物乳液，苯乙烯-丙烯酸酯共聚物乳液及純丙烯酸酯共聚物乳液的單組份、雙組份乳液作為涂層膠加入較多數(shù)量填充物混合制成，然后將涂層料涂布在基布上制成藝術油畫布。已知的藝術油畫布的制造配方和工藝制造的油畫布在涂層耐溫變性和柔軟性、致密性方面均存在明顯缺陷，油畫布受溫差影響、空氣濕度變化易出現(xiàn)松垮;涂層易發(fā)生龜裂、折裂和剝落;繪畫時出現(xiàn)不同程度吸油及背滲，影響繪畫性能，這些缺陷直接影響油畫布產品的使用性能和貨架壽命。
[0004]負離子的發(fā)現(xiàn)與應用是19世紀末的事情，第一個在學術上證明負離子對人體功效的是德國物理學家菲利浦.萊昂納德博士，他認為地球自然環(huán)境，對人類健康有益的負離子存在最多的地方是瀑布周圍。醫(yī)學研究表明維持人們健康的負離子數(shù)為:1000-2000個/cm3;郊外、海濱的負離子數(shù)為:5000-50000個/cm3，可以增強人體免疫力和抗菌力;而都市住宅封閉區(qū)的負離子數(shù)僅為:40-50個/cm3，長期在這種環(huán)境下會誘發(fā)生理障礙如頭疼、失眠、神經衰弱、倦怠等;在裝空調的室內負離子數(shù)會降為:0-25個/cm3。負離子對改善人們的生活環(huán)境越來越多受到科學工作者和藝術家的重視。因此當今釋放負離子的顏料、紙張、紡織用品畫布因其應用領域廣泛而越來越被人們所重視。負離子材料是在20世紀90年代初才逐步發(fā)展起來的，釋放負離子的藝術用材料，將成為一種環(huán)保健康的新型材料，廣泛應用于各個領域。
[0005]但是目前尚未發(fā)現(xiàn)將負離子用于油畫布的報道。

【發(fā)明內容】

[0006]針對目前現(xiàn)有技術傳統(tǒng)的白色涂層畫布的缺陷和不足，以及缺少環(huán)保健康的畫布的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種具有負離子緩釋功能的畫布，將負離子的有益功效結合到油畫制作領域，使人們在制作、欣賞油畫的同時，身心都得到健康，并同時解決傳統(tǒng)白色涂層畫布存在的涂層易發(fā)生龜裂、折裂和剝落;繪畫時出現(xiàn)不同程度吸油及背滲等問題；同時，本發(fā)明還提供了該畫布的制作方法。
[0007]為實現(xiàn)本發(fā)明的發(fā)明目的，發(fā)明人提供如下技術方案:
[0008]首先，發(fā)明人提供了一種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，其中，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理。
[0009]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其中，所述的底料配方按重量份計為:PVA40-80份、去離子水20-30份、電氣石負離子粉I份、羧化殼聚糖1.5-2份、納米二氧化硅10-20份和超細碳酸鈣5-10份。
[0010]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其中，所述的電氣石負離子粉是經羧化殼聚糖包覆而成的微球，粒徑在20-50微米之間。
[0011]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其中，所述的電氣石負離子粉是經羧化殼聚糖包覆而成的微球，電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，包覆采用噴霧干燥法，主要工藝參數(shù)是:負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 1.5?2配比，噴霧干燥的進風口溫度為150-180 °C，噴霧干燥的出風口溫度為80-100 °C，噴霧干燥時間為20-30秒。
[0012]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其中，所述的低溫等離子體處理為輝光放電，主要工藝參數(shù)有:氣體介質Ar，功率為120-150W、壓強為40-60Pa和處理時間為40-100秒。
[0013]發(fā)明人還提供了上述一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，包括以下步驟:
[0014](I)備料
[0015]底料配方按重量份計為:PVA40-80份、去離子水20-30份、電氣石負離子粉I份、羧化殼聚糖1.5-2份、納米二氧化硅10-20份和超細碳酸鈣5-10份，
[0016](2)經噴霧干燥法制備羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球，
[0017](3)將配方下的PVA和去離子水混合并加熱(40-60°C )制成聚乙烯醇溶液，再加入步驟⑵制備的羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球、納米二氧化硅和超細碳酸鈣攪拌均勻，制成底料，
[0018](4)對基布做低溫等離子體處理，
[0019](5)底料涂布在基布上(按照常規(guī)工藝)，得到具有負離子緩釋功能的畫布。
[0020]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其中，步驟(2)的主要工藝參數(shù)包括:電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，電氣石負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 1.5?2配比，噴霧干燥的進風口溫度為150-180°C，噴霧干燥的出風口溫度為80-100°C，噴霧干燥時間為20-30秒。
[0021]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其中，所述的低溫等離子體處理為輝光放電，包括:將基布放入等離子體處理設備的處理腔中，隨后抽真空使處理腔中的真空度小于10Pa，然后通入工作氣體Ar，在功率為120-150W和壓強為40-60Pa條件下對基布進行低溫等離子體處理40-100秒。
[0022]作為優(yōu)選方案，根據(jù)本發(fā)明所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其中，在做低溫等離子體處理前做60-70 V低溫預烘。
[0023]主要術語:羧化殼聚糖，又名水溶性殼聚糖、水溶性羧化殼聚糖、水溶性甲殼胺，CAS號:9012-76-4。
[0024]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是:
[0025]1、發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，將電氣石負離子粉用羧化殼聚糖包覆成微球后添加到底料中，可以緩慢釋放負離子，比較長久發(fā)揮負離子的保健凈化等功能；同時，經過低溫等離子體處理后的畫布，在粘合性、附著力等等方面有了大的改善和提尚，可解決水性的涂料在畫布附著力不夠的問題。
[0026]2、現(xiàn)有技術的油畫布由于吸收性的問題往往會導致繪畫所使用的顏料與畫布表面結合力比較差，干燥速度慢，造成使用不便;此外，由于油墨一般不溶于水，臟污很難清洗。而本發(fā)明因為添加了羧化殼聚糖，羧化殼聚糖由于其本身具有的特性，再結合等離子體處理對畫布表面的改性可有效解決這些問題。
[0027]3、本發(fā)明底料配方合理，不存在現(xiàn)有技術常見的無機料添加過多造成的底膠與布基粘結牢度差，底膠吸油、滲油、透油，涂層起皮、掉粉等問題。
[0028]4、本發(fā)明采用低氣壓等離子處理，進行的只是物理處理，沒有輻射，不影響周圍的環(huán)境和人體健康，方法環(huán)保。
[0029]5、經檢測，本發(fā)明負離子釋放濃度可達1200個/cm3以上。且緩釋效果明顯，3-5年之內都能維持負離子濃度1000個/cm3以上。
【具體實施方式】
[0030]下面結合實施例，更具體地說明本發(fā)明的內容。應當理解，本發(fā)明的實施并不局限于下面的實施例，對本發(fā)明所做的任何形式上的變通和/或改變都將落入本發(fā)明保護范圍。
[0031]在本發(fā)明中，若非特指，所有的份、百分比均為重量單位，所有的設備和原料等均可從市場購得或是本行業(yè)常用的。若無特別指明，實施例采用的方法為本領域通用技術。
[0032]實施例1
[0033]—種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理，按下述步驟制作而成:
[0034](I)備料
[0035]底料配方按重量份計為:PVA400g、去離子水200g、電氣石負離子粉10g、羧化殼聚糖15g、納米二氧化娃10g和超細碳酸I11^Og，
[0036](2)經噴霧干燥法制備羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球，粒徑在20-50微米之間，主要工藝參數(shù)為:電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，電氣石負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 1.5配比，噴霧干燥的進風口溫度為150-160°C，噴霧干燥的出風口溫度為80-90°C，噴霧干燥時間為30秒，
[0037](3)將配方下的PVA和去離子水混合并加熱(95°C )制成聚乙烯醇溶液，再加入步驟(2)制備的羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球、配方下的納米二氧化硅和超細碳酸鈣攪拌均勻，制成底料，
[0038](4)對基布做低溫等離子體處理，過程為:
[0039]首先做70°C低溫預烘，然后將基布放入等離子體處理設備的處理腔中，隨后抽真空使處理腔中的真空度小于10Pa，然后通入工作氣體Ar，在功率為150W和壓強為60Pa條件下對基布進行低溫等離子體處理40秒，
[0040](5)底料涂布在基布上(按本領域常規(guī)工藝)，得到具有負離子緩釋功能的畫布。
[0041]經測定，負離子釋放濃度達1200個/cm3以上;3-5年之內都能維持負離子濃度1000個/cm3以上。
[0042]實施例2
[0043]—種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理，按下述步驟制作而成:
[0044](I)備料
[0045]底料配方按重量份計為:PVASOOg、去離子水300g、電氣石負離子粉10g、羧化殼聚糖20g、納米二氧化娃200g和超細碳酸I1^lOOg,
[0046](2)經噴霧干燥法制備羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球，粒徑在20-50微米之間，主要工藝參數(shù)為:電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，電氣石負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 2配比，噴霧干燥的進風口溫度為165-180°C，噴霧干燥的出風口溫度為90-100°C，噴霧干燥時間為20秒，
[0047](3)將配方下的PVA和去離子水混合并加熱(100°C)制成聚乙烯醇溶液，再加入步驟(2)制備的羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球、配方下的納米二氧化硅和超細碳酸鈣攪拌均勻，制成底料，
[0048](4)對基布做低溫等離子體處理，過程為:
[0049]首先做60°C低溫預烘，然后將基布放入等離子體處理設備的處理腔中，隨后抽真空使處理腔中的真空度小于10Pa，然后通入工作氣體Ar，在功率為120W和壓強為40Pa條件下對基布進行低溫等離子體處理100秒，
[0050](5)底料涂布在基布上(按本領域常規(guī)工藝)，得到具有負離子緩釋功能的畫布。
[0051]經測定，負離子釋放濃度達1400個/cm3以上;3-5年之內都能維持負離子濃度1000個/cm3以上。
[0052]實施例3
[0053]一種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理，按下述步驟制作而成:
[0054](I)備料
[0055]底料配方按重量份計為:PVA500g、去離子水220g、電氣石負離子粉10g、羧化殼聚糖20g、納米二氧化娃150g和超細碳酸媽8(^，
[0056](2)經噴霧干燥法制備羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球，粒徑在20-50微米之間，主要工藝參數(shù)為:電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，電氣石負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 2配比，噴霧干燥的進風口溫度為170-180°C，噴霧干燥的出風口溫度為90-100°C，噴霧干燥時間為25秒，
[0057](3)將配方下的PVA和去離子水混合并加熱(95°C )制成聚乙烯醇溶液，再加入步驟(2)制備的羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球、配方下的納米二氧化硅和超細碳酸鈣攪拌均勻，制成底料，
[0058](4)對基布做低溫等離子體處理，過程為:
[0059]首先做70°C低溫預烘，然后將基布放入等離子體處理設備的處理腔中，隨后抽真空使處理腔中的真空度小于10Pa，然后通入工作氣體Ar，在功率為140W和壓強為55Pa條件下對基布進行低溫等離子體處理60秒，
[0060](5)底料涂布在基布上(按本領域常規(guī)工藝)，得到具有負離子緩釋功能的畫布。
[0061]經測定，負離子釋放濃度達1300個/cm3以上;3-5年之內都能維持負離子濃度1000個/cm3以上。
[0062]比較例I
[0063]其他同實施例1，不同之處在于直接將電氣石負離子粉添加到底料中，未做包覆處理。
[0064]經測定，負離子濃度達1500個/cm3，但是，負離子有效濃度只能持續(xù)數(shù)月，基本上五六個月以后，負離子濃度降至400-600個/cm3。
[0065]比較例2
[0066]其他同實施例1，不同之處在于直接將電氣石負離子粉添加到底料中，未做包覆處理和低溫等離子體處理。
[0067]經測定，負離子濃度達1400個/cm3，但是，負離子有效濃度只能持續(xù)數(shù)月，基本上五六個月以后，負離子濃度降至400-600個/cm3。畫布繪畫所使用的顏料與畫布表面結合力與實施例比較比較差且干燥速度慢。實施例與之比較，附著力提高10倍以上。
【主權項】
1.一種具有負離子緩釋功能的畫布，其組成包括基布以及涂布在基布上的底料層，其特征在于，所述的底料層的底料中添加有電氣石負離子粉，且畫布經過低溫等離子體處理。2.根據(jù)權利要求1所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其特征在于，所述的底料配方按重量份計為:PVA40-80份、去離子水20-30份、電氣石負離子粉I份、羧化殼聚糖1.5-2份、納米二氧化硅10-20份和超細碳酸鈣5-10份。3.根據(jù)權利要求1所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其特征在于，所述的電氣石負離子粉是經羧化殼聚糖包覆而成的微球，粒徑在20-50微米之間。4.根據(jù)權利要求1所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其特征在于，所述的電氣石負離子粉是經羧化殼聚糖包覆而成的微球，電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，包覆采用噴霧干燥法，主要工藝參數(shù)是:負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1:1.5?2配比，噴霧干燥的進風口溫度為150-180 V，噴霧干燥的出風口溫度為80-100 °C，噴霧干燥時間為20-30秒。5.根據(jù)權利要求1所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布，其特征在于，所述的低溫等離子體處理為輝光放電，主要工藝參數(shù)有:氣體介質Ar，功率為120-150W、壓強為40-60Pa和處理時間為40-100秒。6.—種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其特征在于包括以下步驟: (1)備料 底料配方按重量份計為:PVA40-80份、去離子水20-30份、電氣石負離子粉I份、羧化殼聚糖1.5-2份、納米二氧化硅10-20份和超細碳酸鈣5-10份， (2)經噴霧干燥法制備羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球， (3)將配方下的PVA和去離子水混合并加熱制成聚乙烯醇溶液，再加入步驟(2)制備的羧化殼聚糖包覆電氣石負離子粉微球、納米二氧化硅和超細碳酸鈣攪拌均勻，制成底料， (4)對基布做低溫等離子體處理， (5)底料涂布在基布上，得到具有負離子緩釋功能的畫布。7.根據(jù)權利要求6所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其特征在于，步驟(2)的主要工藝參數(shù)包括:電氣石負離子粉粒徑為1500-2500目，羧化殼聚糖的粘度為5?15mPa.s，電氣石負離子粉與羧化殼聚糖按照質量比1: 1.5?2配比，噴霧干燥的進風口溫度為150-180°C，噴霧干燥的出風口溫度為80-100°C，噴霧干燥時間為20-30秒。8.根據(jù)權利要求6所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其特征在于，所述的低溫等離子體處理為輝光放電，包括:將基布放入等離子體處理設備的處理腔中，隨后抽真空使處理腔中的真空度小于10Pa，然后通入工作氣體Ar，在功率為120-150W和壓強為40-60Pa條件下對基布進行低溫等離子體處理40-100秒。9.根據(jù)權利要求6所述的一種具有負離子緩釋功能的畫布的制作方法，其特征在于，在做低溫等離子體處理前做60-7(TC低溫預烘。
【文檔編號】C09D7/12GK106012569SQ201610421391
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年6月13日
【發(fā)明人】黃凱
【申請人】浙江鑫龍彩印包裝有限公司