專利名稱：高頻疏解機(jī)盤和與其相關(guān)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體涉及用于減少纖維材料中絮片的系統(tǒng)和方法。例如，本發(fā)明可具有在硫酸鹽或機(jī)械紙漿中分解纖維束和用于回收的纖維以及在損紙?zhí)幚硐到y(tǒng)中減少絮片的特 定適用性。
背景技術(shù)：
將纖維材料(例如木質(zhì)纖維素材料)或紙(例如損紙)轉(zhuǎn)變?yōu)閱为毣睦w維通常 涉及在懸浮液環(huán)境中剪切力的作用下將纖維氈分解為纖維。這可在例如機(jī)械磨漿機(jī)中的兩 個磨盤之間實現(xiàn)。在存在水的情況下，剪切力的重復(fù)施加使纖維氈將纖維化合物溶解為越 來越小的片，直到其分解為單獨的纖維水平。此時，懸浮液可稱為完全“纖維化”。但是，紙漿攪拌機(jī)實現(xiàn)完全纖維化狀態(tài)所需的時間和能量通常抑制這樣的重要造 紙設(shè)備所需的產(chǎn)量。實際上，通常允許該制漿機(jī)進(jìn)行到完全纖維化之前的某個時刻。在該 時刻，保留在懸浮液中的非纖維化部分，其稱為“絮片”，通常通過后序的專業(yè)化方法去除。 該專業(yè)化方法可能比制漿更快并且更有效，直到完全纖維化。該專業(yè)化方法由于涉及高頻疏解機(jī)，因而被稱為高頻疏解。參見例如授予 Rosenfeld的美國專利No. 3，327，952。高頻疏解描述了一種方法，其中與一個或幾個靜止 元件相對旋轉(zhuǎn)的高頻疏解機(jī)的旋轉(zhuǎn)元件產(chǎn)生液壓剪切力場。該液壓剪切力可在制漿之后降 低懸浮液的絮片濃度。類似于制漿作用，可能存在對絮片上重復(fù)沖擊的需要，以使絮片可完 全溶解為獨個纖維。這些沖擊通常由高頻疏解機(jī)中轉(zhuǎn)子和定子盤上所謂的齒傳送，其通常(a)類似于 磨盤(例如可以是圓盤或圓錐形狀)沿機(jī)器的母線彼此經(jīng)過或掃過，或(b)以更復(fù)雜的模 式在由機(jī)器的母線形成的平面外部相互嚙合。形式(a)相對簡單，并且可通過蜘蛛網(wǎng)狀設(shè)計的磨盤或甚至包括孔的磨盤進(jìn)行。 例如，除了轉(zhuǎn)子和定子之間的大體平行的接觸平面之外，無需特殊要求。傳統(tǒng)上，方式(b) 的復(fù)雜幾何形狀需要高頻疏解機(jī)盤的磨損部分精確加工。迄今為止，該精確加工充分解決 了對這些盤的可靠性和可用性的需要。但是加工該盤涉及更高的制造成本，并且限制齒的 相對表面的特殊設(shè)計的能力。S卩，精確加工本質(zhì)上限制高頻疏解機(jī)盤的設(shè)計。例如，加工的高頻疏解機(jī)盤可能僅 具有環(huán)形圓環(huán)形狀的齒，因為車床可能僅在盤中切割出同心圓。當(dāng)切割出圓時，齒的內(nèi)和外 部分形成共用相同圓心的弧度。因此，本領(lǐng)域中可能存在對高頻疏解機(jī)盤的更有效結(jié)構(gòu)的需要。本領(lǐng)域中還可能 存在對不是機(jī)加工的高頻疏解機(jī)盤的需要。在一方面，本發(fā)明可能克服高頻疏解機(jī)盤技術(shù)的這些尚存的不足。例如，本發(fā)明的一些方面可能涉及以鑄造工藝制備高頻疏解機(jī)盤和/或改進(jìn)相互面對的盤表面的設(shè)計，以 利于改進(jìn)(例如更有效地)高頻疏解。

發(fā)明內(nèi)容
在一方面，本發(fā)明總體涉及用于高頻疏解機(jī)中來減少纖維漿料中的纖維絮片的高 頻疏解機(jī)盤。所述高頻疏解機(jī)盤可包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，所述環(huán)形圓環(huán)包括多個齒，其 中，至少一個齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面。所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面可適于在操作過程 中產(chǎn)生沖擊力，以使所述力對應(yīng)于將漿料沿徑向朝向所述高頻疏解機(jī)中心推動的第一矢量 和將漿料沿切向朝向所述前表面推動的第二矢量。


圖1是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤的示意圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤的示意圖。圖3是根據(jù)本發(fā)明一方面的轉(zhuǎn)子盤和定子盤的示意圖。圖4是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖5是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖6是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖7是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖8是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖9是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖10是根據(jù)本發(fā)明一方面的高頻疏解機(jī)盤齒的示意圖。圖11是根據(jù)本發(fā)明一方面的轉(zhuǎn)子盤和定子盤的示意性剖視圖。圖12是根據(jù)本發(fā)明一方面的轉(zhuǎn)子盤和定子盤的示意性立體視圖。
具體實施例方式在一方面，本發(fā)明涉及齒的表面不平行(和垂直)于盤旋轉(zhuǎn)軸的高頻疏解機(jī)盤。 例如，高頻疏解機(jī)盤可具有基本上不是立方形的齒，而是基本上錐形或基本上三角形的齒。 艮口，齒可具有前和后表面，其每一個基本上為三角形或梯形形狀。這些在本發(fā)明某方面范圍 內(nèi)的形狀可影響轉(zhuǎn)子和定子齒掃略過程中液壓沖擊力的大小和方向。在一些實施例中，齒可圍繞轉(zhuǎn)子和定子盤的每一個形成一個、兩個、三個或多個 (例如五個或十個)環(huán)形圓環(huán)。通常，漿料從盤(其優(yōu)選可相對于彼此相反旋轉(zhuǎn)，和/或在 一些實施例中在不同頻率或速度下旋轉(zhuǎn))的中心流到外圓周，通常沿徑向路徑流動。當(dāng)纖 維絮狀物沿通常徑向路徑移動時，該絮狀物由相反旋轉(zhuǎn)的齒產(chǎn)生的壓力沖擊高頻疏解。相反旋轉(zhuǎn)指轉(zhuǎn)子相對于定子的旋轉(zhuǎn)，并且包括涉及相對靜止的轉(zhuǎn)子和旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)子的 任何結(jié)構(gòu)以及涉及轉(zhuǎn)子和“定子”都旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。在一些例子中，可能沿相同方向以不同速 度旋轉(zhuǎn)“定子”和轉(zhuǎn)子。當(dāng)絮狀物高頻疏解時，液壓沖擊可能產(chǎn)生與徑向運動不共線的力。即，可能產(chǎn)生具 有徑向矢量和切向矢量的力，該徑向矢量將漿料朝向高頻疏解機(jī)中心推回，該切向矢量將 漿料逆著旋轉(zhuǎn)方向推動。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，該合成矢量可垂直于齒的側(cè)表面。
在優(yōu)選實施例中，高頻疏解機(jī)可對濃度為4-5%的漿料進(jìn)行操作，但是可使用任何 可商購的濃度。即，本發(fā)明不限制需要高頻疏解和經(jīng)過高頻疏解機(jī)的漿料類型和濃度。例如，適用于多個實施例的其他纖維漿料包括(i)來自鍋爐出口的熱紙漿，其中 這些盤可用于實現(xiàn)一些碎片的減少；(ii)靠近混合盤的纖維束，其中液壓沖擊用于混合懸 浮液。合適的紙漿濃度可在和10-15%之間改變，取決于紙漿進(jìn)入高頻疏解機(jī)的原始位 置。由于設(shè)計自身，剪切力的產(chǎn)生需要紙漿的流動性。因而，可使用形成類似于流體的任何 紙漿。高頻疏解機(jī)盤可由任何合適的材料制成，例如鋼基合金。在優(yōu)選實施例中，根據(jù)本發(fā)明的某些方面，來自Andritz Pulp and Paper Mill Services的合金DC17和XP可特別 適用于鑄造高頻疏解機(jī)盤。原則上，可使用任何合適的合金，包括例如來自不銹鋼的合金、 低鉻白口鐵、鎳基耐磨合金等。在一些實施例中，該合金可具有以下性能30到60HRC平均 硬度，和/或80到350KSI平均四點彎曲測試彎曲強度。圖1示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的高頻疏解機(jī)盤102。如關(guān)于圖1所述，并且如貫 穿本說明書所用，術(shù)語“高頻疏解機(jī)”盤可指轉(zhuǎn)子盤或定子盤。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤 102包括中心110和基本上環(huán)形的圓環(huán)，其每一個包括多個齒，用于在粉碎纖維的漿料通常 沿徑向從中心110經(jīng)過到達(dá)高頻疏解機(jī)盤102的外圓周時分解纖維絮片。圖1顯示了第一 齒環(huán)104、第二齒環(huán)106和第三齒環(huán)108的三個環(huán)形圓環(huán)。每一個齒環(huán)由通常平直的表面 112或114分隔。該分隔不必須是平直的表面，而是可使用使相對的高頻疏解機(jī)盤成互補或 鏡像的任何結(jié)構(gòu)(例如使相對的高頻疏解機(jī)盤齒成鏡像或互補的頂部)。如圖1中所示，每一個環(huán)形齒環(huán)可具有更多或更少數(shù)量的齒，所述齒具有增大或 減小的規(guī)則或不規(guī)則頻數(shù)。在一些實施例中，內(nèi)環(huán)將默認(rèn)具有最少數(shù)量的齒，因為該環(huán)的半 徑最小，并且傾向于由最大的纖維材料“堵塞”。因而那些區(qū)域可僅具有少量單齒。由于增 大的半徑，例如更高的開放面積，因此外環(huán)可具有(明顯地)更多的齒。齒的數(shù)量最終取決 于相鄰的齒之間的間隙及其寬度。雖然在一些實施例中平衡高頻疏解機(jī)盤很重要，以使其具有最小的顫動，但不是 所有實施例需要高頻疏解機(jī)盤旋轉(zhuǎn)(例如固定到高頻疏解機(jī)的靜止的定子盤)。因此，在一 些實施例中可使用不規(guī)則設(shè)置的齒。即，在一些實施例中，基本上環(huán)形的圓環(huán)可包括一個或 多個偏置的齒，其不與大多數(shù)齒排成行。圖2示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的高頻疏解機(jī)盤202。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤 202包括中心210和基本上環(huán)形的圓環(huán)，該環(huán)形的圓環(huán)每一個包括多個齒。圖2示出兩個環(huán) 形圓環(huán)第一齒環(huán)204和第二齒環(huán)206。這些環(huán)由大體平直的表面212間隔開。圖3示出定子盤302和轉(zhuǎn)子盤320。如所顯示的，定子和轉(zhuǎn)子盤彼此互補或互為鏡 像，以使其各齒在高頻疏解機(jī)操作過程中彼此不接觸。通常在操作過程中，轉(zhuǎn)子和定子之間 可能存在小于5mm的間隙，并且優(yōu)選小于1. 5mm。在一些實施例中，可能獲得0. 3-0. 4mm或 甚至0.1mm的間隙尺寸。通常，在高頻疏解過程中，間隙越小，漿料受到的剪切力越大。艮口， 由小間隙造成的沖擊可提高高頻疏解操作效率。在一些實施例中，轉(zhuǎn)子和定子盤之間可能 存在小于0. Imm的間隙。(在確定間隙距離時，盤之間的距離可在盤靜止時測量)。圖4示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的高頻疏解機(jī)盤402上的高頻疏解機(jī)盤齒404。如 所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒404具有前表面480、后表面482和沖擊力產(chǎn)生側(cè)面484。每一個齒404由大體平直的表面464間隔開，該表面464為沿高頻疏解機(jī)盤402的徑向的大體 平面。如所示出的，前表面480和后表面482都基本上為梯形，具有基本上相似的從大體上 平直的表面464測量的高度。即，頂部表面462在基本上平行于大體上平直表面平面464 的平面中。沖擊力產(chǎn)生側(cè)面484具有產(chǎn)生將漿料沿徑向朝向高頻疏解機(jī)中心推回的力和將 漿料沿切向朝向前表面推動的力的表面。合成矢量可垂直于沖擊產(chǎn)生側(cè)面484表面。如所 示出的，頂部表面462雖然形狀相似，但是不是等同于梯形形狀。前表面和后表面可能每一 個單獨為基本上三角形形狀，并且前表面和后表面不需要彼此具有相同形狀。頂部表面462 的形狀主要由沖擊產(chǎn)生側(cè)面484表面的形狀決定。圖5示出高頻疏解機(jī)盤齒506。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒506具有前表面580、后表面582和沖擊產(chǎn)生側(cè)面584。如所示出的，前表面580和后表面582都基本上為梯形， 具有基本上相似的從大體上平直的表面570測量的高度。大體平直的表面570為沿高頻疏 解機(jī)盤的徑向的大體平面(無附圖標(biāo)記)。即，頂部表面562為基本上平行于大體平直的表 面570的平面。沖擊產(chǎn)生側(cè)面584具有鋸齒狀表面，其產(chǎn)生將漿料沿徑向朝向高頻疏解機(jī) 中心推回的力和將漿料沿切向朝向前表面推動的力。該鋸齒狀結(jié)構(gòu)可有利于由每一個齒產(chǎn) 生微沖擊力。圖6示出高頻疏解機(jī)盤齒606。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒606具有前表面680、 后表面686和沖擊產(chǎn)生側(cè)面684。如所示出的，前表面680和后表面686都基本上為梯形， 具有基本上相似的從大體上平直的表面670測量的高度。即，頂部表面662處于基本上平 行于大體平直的表面平面670的平面中。沖擊產(chǎn)生側(cè)面684具有產(chǎn)生將漿料沿徑向朝向高 頻疏解機(jī)中心推回的力和將漿料沿切向朝向前表面推動的力的表面。頂部表面662，其形狀 大體上與本發(fā)明的某些方面無關(guān)，基本上為梯形(并且近似為三角形)。如所示出的，沖擊 產(chǎn)生側(cè)面684可包括多于一個部分，以使沖擊產(chǎn)生側(cè)面由相交的平面表面形成。圖7示出高頻疏解機(jī)盤齒706。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒706具有前表面780、 后表面786和沖擊產(chǎn)生側(cè)面784。如所示出的，前表面780和后表面786都基本上為梯形， 具有基本上相似的從大體上平直的表面770測量的高度。即，頂部表面762處于基本上平 行于大體平直的表面平面770的平面中。沖擊產(chǎn)生側(cè)面784具有產(chǎn)生將漿料沿徑向朝向高 頻疏解機(jī)中心推回的力和將漿料沿切向朝向前表面推動的力的表面。如所示出的，沖擊產(chǎn)生側(cè)表面784具有曲線表面，包括第一彎曲部分785、第二彎 曲部分787和第三彎曲部分789。這些部分一起限定沖擊產(chǎn)生側(cè)面的單個表面。在一些例 子中，這些表面可基本上為拋物線狀。 高頻疏解機(jī)盤齒706還具有底部791，其可以是基本上梯形或立方形(并且也可能 存在于其他實施例中)。該底部可提高高頻疏解機(jī)盤齒的耐久性和/或穩(wěn)定性。該底部可 以是任何形狀(例如基本上為矩形)。如果盤是鑄造的，則可能底部和齒為相同的材料。但是如果齒粘合或焊接到底部， 則在多個實施例中不同的材料是可能的。齒的高度可由幾毫米到25或30mm(或在其他實 施例中更大)。最大可用齒高度取決于高頻疏解機(jī)的設(shè)計(調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、總盤厚度)和所用材 料的斷裂抵抗性。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解，齒的尺寸變化量取決于具體應(yīng)用。圖8示出高頻疏解機(jī)盤齒806。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒806具有前表面880、 后表面886和沖擊產(chǎn)生側(cè)面884。如所示出的，前表面880和后表面886都基本上為梯形，具有基本上相似的從大體上平直的表面870測量的高度。沖擊產(chǎn)生側(cè)面884具有產(chǎn)生將漿 料沿徑向朝向高頻疏解機(jī)中心推回的力和將漿料沿切向朝向前表面推動的力的表面。沖擊 產(chǎn)生側(cè)面884具有三個部分與前表面880相鄰的第一部分887、與后表面886相鄰的第三 部分889和與第一及第三部分相鄰的第二部分887。第一和第三部分基本上為沿前表面880 和后表面886的邊緣的平面，而第三部分形成從該平面表面切出的半圓柱形。在該實施例 中，齒806的頂部表面基本上不是平面，但是齒806的有些部分平行于大體平直的表面870。圖9示出高頻疏解機(jī)盤齒906。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒906具有前表面980、 后表面986和沖擊產(chǎn)生側(cè)面984。如所示出的，前表面980和后表面986都基本上為梯形， 具有基本上相似的從大體上平直的表面970測量的高度。沖擊產(chǎn)生側(cè)面984具有產(chǎn)生將漿 料沿徑向朝向高頻疏解機(jī)中心推回的力和將漿料沿切向朝向前表面推動的力的表面。沖擊 產(chǎn)生側(cè)面984具有類似于圖4中示出的沖擊產(chǎn)生側(cè)面表面，并且圖9顯示了兩個環(huán)形高頻 疏解機(jī)齒環(huán)。如所示出的，前表面980的表面積小于后表面986的表面積。即，后表面986 大于前表面980。圖10示出高頻疏解機(jī)盤齒1006。如所示出的，高頻疏解機(jī)盤齒1006具有前表面 1080、后表面1086、沖擊產(chǎn)生側(cè)面1084和頂部表面1044。如所示出的，前表面1080和后表 面1086都基本上為梯形，具有基本上相似的從大體上平直的表面1070測量的高度。沖擊產(chǎn) 生側(cè)面1084具有產(chǎn)生將漿料沿徑向朝向高頻疏解機(jī)中心推回的力和將漿料沿切向朝向前 表面推動的力的表面。如所示出的，前表面1080的表面積小于后表面1086的表面積。艮口， 后表面1086大于前表面1080。頂部表面1044 —側(cè)為曲線(即由與沖擊產(chǎn)生側(cè)面1084相 交限定的側(cè))，其余三側(cè)基本上是直的，并且由與前表面1080、后表面1086和外表面(無附 圖標(biāo)記)相交限定。高頻疏解機(jī)盤齒1006示出在高頻疏解機(jī)盤的最外環(huán)形圓環(huán)中。圖11示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的定子盤1120和轉(zhuǎn)子盤1102的側(cè)視圖。轉(zhuǎn)子盤 1102包括齒1160，定子盤1120包括齒1180。間隙1192 (其可小于1. 5mm，并且最優(yōu)選約 0. Imm或更小)存在于轉(zhuǎn)子盤1102和定子盤1120之間。間隙1192運送纖維漿料穿過高頻 疏解機(jī)。齒1180具有由第一前邊緣1194 (其連接到?jīng)_擊產(chǎn)生側(cè)面)、頂部邊緣1144(其連 接到齒1180的頂部表面)和第二前邊緣1196(其連接到另一個沖擊產(chǎn)生側(cè)面)限定的前表 面。第一角度1130 (由邊緣1194和邊緣1144限定)大于或等于90°，第二角度1132(由 邊緣1144和邊緣1196限定)也大于或等于90°。這些角度優(yōu)選大于100°，大于110°， 大于120°，大于130°或小于180°的任何角度。圖12示出根據(jù)本發(fā)明一個方面的定子盤1220和轉(zhuǎn)子盤1202的立體視圖。轉(zhuǎn)子 盤1202包括齒1260，定子盤1220包括齒1280。如所示出的，轉(zhuǎn)子盤1202沿箭頭1299方 向相對于定子盤1220運動。因此，在一個方面，由于定子和轉(zhuǎn)子盤的接合表面的傾斜度，高頻疏解機(jī)盤促成沖 擊矢量的新方向。根據(jù)具體預(yù)期用途(例如要求高頻疏解的纖維絮片類型)，這可有利于修 改高頻疏解剪切力。在掃略過程中改變沖擊方向的能力可使得具有將沖擊導(dǎo)向到相交區(qū)域 中正在處 理的纖維處的能力，導(dǎo)致與當(dāng)前可得設(shè)計不同的攪拌程度。鑄造技術(shù)的應(yīng)用可有利于相對于傳統(tǒng)的精加工設(shè)計拉長相交長度，這通常要求直齒腹垂直于高頻疏解機(jī)中心處的徑向出發(fā)點。這可提高齒的穩(wěn)定性，并且還可能提高其耐 久性。例如，鑄造齒可具有提高的抗斷裂性。在一些實施例中，鑄造可有利于齒的側(cè)腹之間 間隙的具體調(diào)節(jié)(例如通過墊木片)。這反之可根據(jù)具體漿料成分和濃度提高修改或調(diào)節(jié) 高頻疏解工藝的能力?？墒褂帽绢I(lǐng)域中技術(shù)人員已知的任何合適的鑄造工藝。例如，適合的熔模鑄造工 藝可包括以下一個或多個步驟(1)形成母模型；(2)由母模型制造母模具(或直接制造母 模具而無需首先形成母模型)；(3)制造澆鑄用模具(例如“蠟”模)；(4)形成“熔模”模具 (例如陶瓷模具)，包括去除殘余蠟和/或雜質(zhì)；(5)將熔化的金屬倒入模具中，例如通過重 力、真空(例如負(fù))壓力、正壓力、離心力等；和(6)從鑄件取出固化的金屬，然后根據(jù)需要 打磨/拋光。但是，應(yīng)可理解，本發(fā)明不受鑄造工藝限制或限定。即，任何制造技術(shù)可用于制備 如本文描述的高頻疏解機(jī)盤。雖然本發(fā)明已經(jīng)對關(guān)于目前認(rèn)為是最實用和優(yōu)選的 實施例進(jìn)行了描述，但是應(yīng)理 解的是，本發(fā)明不限于所公開的實施例，而是相反，旨在覆蓋包括在所附權(quán)利要求的精神和 范圍內(nèi)的多種修改形式和等同布置。
權(quán)利要求
一種用于高頻疏解機(jī)中來減少纖維漿料中纖維絮片的高頻疏解機(jī)盤，所述高頻疏解機(jī)盤包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，其包括多個齒，所述至少一個環(huán)形圓環(huán)包括至少一個齒，所述齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面，其中，所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面適于產(chǎn)生沖擊力，所述沖擊力具有將漿料沿徑向朝向所述高頻疏解機(jī)中心推動的第一力矢量和將漿料沿切向朝向前表面推動的第二力矢量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述至少一個齒具有底部，其將所述至 少一個齒支撐在所述高頻疏解機(jī)盤上，以提高所述至少一個齒的耐久性或穩(wěn)定性，所述底 部基本上為立方體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述前表面或所述后表面基本上為梯形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述前表面具有第一表面積，所述后表 面具有第二表面積，并且其中，所述第二表面積大于所述第一表面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述前表面或所述后表面基本上為三 角形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面具有鋸齒形表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面具有曲線表面，其包 括至少一個彎曲部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述曲線表面包括三個彎曲部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面包括與前表面相鄰 的第一部分、與后表面相鄰的第三部分和與所述第一和第三部分相鄰的第二部分，并且其 中，所述第一和第三部分基本上為沿所述前表面和所述后表面的邊緣的平面，并且其中，所 述第三部分包括從由所述第一和第三部分限定的平面切出的部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述齒的頂部表面基本上不是平面。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述至少一個齒包括由所述前表面與 所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面的交叉線限定的第一前邊緣，和由所述至少一個齒的頂部表面交叉線限 定的頂部邊緣，其中，所述第一角度限定在所述第一前邊緣和所述頂部邊緣的相交處，并且 其中，所述第一角度大于或等于90°。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述第一角度小于180°。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的高頻疏解機(jī)盤，其中，所述第一角度大于110°。
14.一種用于高頻疏解機(jī)中來減少纖維漿料中的纖維絮片的互補的高頻疏解機(jī)盤組， 所述互補的高頻疏解機(jī)盤組包括轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和定子高頻疏解機(jī)盤，其中，所述轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和所述定子高 頻疏解機(jī)盤每一個包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，所述環(huán)形圓環(huán)包括多個齒，其中，所述轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和定子高頻疏解機(jī)盤中的至少一個的環(huán)形圓環(huán)包括至少 一個齒，所述齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面，其中，所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面適于產(chǎn)生沖擊力，所述沖擊力具有將漿料沿徑向朝向所述高 頻疏解機(jī)中心推動的第一力矢量和將漿料沿切向朝向所述前表面推動的第二力矢量，其中，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤安裝在所述高頻疏解機(jī)中時，間隙限定在所述轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤之間，并且 其中，所述間隙距離為5. 0mm或更小。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的互補的高頻疏解機(jī)盤組，其中，所述間隙距離為1. 5mm或更
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的互補的高頻疏解機(jī)盤組，其中，所述間隙距離為0. 4mm或更
17.—種制造用于高頻疏解機(jī)中來減少纖維漿料中纖維絮片的高頻疏解機(jī)盤的方法， 所述方法包括以下步驟形成適用于用作所述高頻疏解機(jī)盤的熔化的合金；將所述熔化的合金鑄造為所述高頻疏解機(jī)盤的形狀；其中，所述鑄造的高頻疏解機(jī)盤包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，所述環(huán)形圓環(huán)包括多個齒，所 述至少一個環(huán)形圓環(huán)包括至少一個齒，所述齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面，其中， 所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面適于產(chǎn)生沖擊力，所述沖擊力具有將所述漿料沿徑向朝向所述高頻疏解 機(jī)中心推動的第一力矢量和將所述漿料沿切向朝向所述前表面推動的第二力矢量。
18.一種用于減少纖維漿料中纖維絮片的方法，所述方法包括以下步驟將所述漿料進(jìn)料到所述高頻疏解機(jī)中，所述高頻疏解機(jī)包括互補的高頻疏解機(jī)盤組， 所述互補的高頻疏解機(jī)盤包括轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和定子高頻疏解機(jī)盤，其中，所述轉(zhuǎn)子高 頻疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤每一個包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，所述環(huán)形圓環(huán)包括多 個齒，其中，所述轉(zhuǎn)子高頻疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤中的至少一個的所述至少一 個環(huán)形圓環(huán)包括至少一個齒，所述齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面，其中所述沖擊產(chǎn) 生側(cè)面適于產(chǎn)生沖擊力，所述沖擊力具有將漿料沿徑向朝向所述高頻疏解機(jī)中心推動的第 一力矢量和將所述漿料沿切向朝向所述前表面推動的第二力矢量，其中，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子高頻 疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤安裝在所述高頻疏解機(jī)中時，間隙限定在所述轉(zhuǎn)子高頻 疏解機(jī)盤和所述定子高頻疏解機(jī)盤之間，并且其中，所述間隙具有0. 4mm或更小的間隙距 罔；與所述定子高頻疏解機(jī)盤相反地旋轉(zhuǎn)所述定子高頻疏解機(jī)盤，以產(chǎn)生所述沖擊力；和從所述高頻疏解機(jī)取出第二漿料，其中，所述第二漿料包含比進(jìn)料到所述高頻疏解機(jī) 中的所述漿料更少的纖維絮片。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于高頻疏解機(jī)中來減少纖維漿料中的纖維絮片的高頻疏解機(jī)盤。所述高頻疏解機(jī)盤可包括至少一個環(huán)形圓環(huán)，其包括多個齒，其中至少一個齒具有前表面、后表面和沖擊產(chǎn)生側(cè)面。所述沖擊產(chǎn)生側(cè)面可適于在操作過程中產(chǎn)生沖擊力，以使所述力對應(yīng)于將漿料沿徑向朝向所述高頻疏解機(jī)中心推動的第一力矢量和將所述漿料沿切向朝向所述前面推動的第二力矢量。
文檔編號D21B1/32GK101871175SQ20101015537
公開日2010年10月27日 申請日期2010年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月23日
發(fā)明者彼得·安泰施泰納 申請人:安德里茲有限公司