專利名稱：一種水基電子清洗制劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是一種水基電子清洗制劑，屬于電子工業(yè)清洗生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
眾所周知，半導(dǎo)體工藝中的清洗，主要是清除有機物和金屬離子的沾污，尤其要求最大限度地不殘留任何金屬離子。當(dāng)今在傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工業(yè)中所用的清洗劑，通常是含有強酸或三氯乙烯等具有強腐蝕性和毒性的化學(xué)試劑，利用這類清洗劑存有清洗成本高，腐蝕性很強，危害操作人員的安全和健康，污染環(huán)境的缺點。
本發(fā)明的目的是復(fù)合配制一種制劑，用這種制劑對半導(dǎo)體工藝中的材料和器件，薄膜工藝中的玻璃和金屬的表面的清洗，使之比傳統(tǒng)清洗工藝有更好的清洗效果。
本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的它是以乙二胺四醋酸鈉和可溶性氟化物為主劑，以醇醚和酚醚表面活性劑為清洗劑，以胺皂和酰胺為增效劑，醇類和去離子水為溶劑，各組分的重量百分比為乙二胺四醋酸鈉 0.1-1%醇醚表面活性劑 6-15%酚醚表面活性劑 3-5%
烷基醇酰胺 3-5%三乙醇胺油酸皂 5-10%醇類 1-5%可溶性氟化物 0.1-1%去離子水 58-81.8%按照上述的比例，在60℃的去離子水中，先加入乙二胺四醋酸鈉，在攪拌的條件下，再依次加入酚醚表面活性劑、醇醚表面活性劑，烷基醇酰胺、三乙醇胺油酸皂，然后加入醇類，繼續(xù)攪拌，直到上述加入的各組分完全溶解，最后將水溶性氟化物加入到這些制劑中去，以形成濃度均勻的制劑，然后將該制劑來清洗各種電子器件，該制劑的用量按重量百分比是所用清洗液的總量的2-5%。本發(fā)明具有操作簡便，成本低，無毒、無害，對皮膚無腐蝕，無刺激作用，對人體無危害，對環(huán)境無污染。清洗效果優(yōu)于常規(guī)清洗，成本僅為常規(guī)半導(dǎo)體清洗成本的10%以下。本發(fā)明用于電子器件的清洗原理是依據(jù)乙二胺四醋酸鈉(EDTA)是一種很強的螯合劑，它具有很強的螯合能力，可有效地螯合水中微量的多價金屬離子，如鈣、鎂、鉛、鋅、鎳、鐵、銅、錳。在20℃的條件下，100克乙二胺四醋酸鈉可以螯合13.4克鈣離子，對鈣離子的螯合作用如一所示。水溶性氟化物對半導(dǎo)體硅、鍺的雜質(zhì)有特殊的清潔作用，因此，被水基電子清洗制劑進行表面處理后的電子器件可以完全達到無離子水平。同時，清洗制劑使用的成分是非離子表面活性劑，如醇醚、酚醚表面活性劑，胺皂、酰胺、乙醇、去離子水，這些組分本身不帶任何離子成分，由它們組成的水基電子清洗制劑對半導(dǎo)體工藝中的材料和器件，薄膜工藝中的玻璃和金屬的表面清洗，使之比傳統(tǒng)清洗工藝有更好的清洗效果。
一、EDTA對鈣離子的螯合作用實施例選取的螯合劑為乙二胺四醋酸鈉，其分子結(jié)構(gòu)為
以下同。
可溶性氟化物為氫氟酸[HF，以下同];脂肪醇聚氧乙烯(9)醚[R(OCH2CH2)9OH，R＝C12H25-C18H37，以下同]為醇醚表面活性劑;壬基酚聚氧乙烯(10)醚[
，以下同]為酚醚表面活性劑;醇類為乙醇[CH3CH2OH，以下同];三乙醇胺油酸皂[
，以下同]為胺皂;十二烷基二乙醇酰胺[
，以下同]為烷基醇酰胺。各組分的重量百分比為乙二胺四醋酸鈉 0.2 %脂肪醇聚氧乙烯(9)醚 6 %壬基酚聚氧乙烯(10)醚 5 %十二烷基醇酰胺 3 %三乙醇胺油酸皂 5 %醇類 2 %氟氫酸 0.5 %
去離子水 78.3 %按照上述的比例，在裝有60℃的去離子水的容器中，先加入乙二胺四醋酸鈉，在攪拌的條件下，再依次加入壬基酚聚氧乙烯(10)醚、脂肪醇聚氧乙烯(9)醚、十二烷基醇酰胺、三乙醇胺油酸皂，然后加入醇類，繼續(xù)攪拌，直到上述加入的各組分完全溶解，最后將水溶性氟化物氟氫酸加入到這些制劑中去，以形成濃度均勻的制劑，然后將該制劑按照總液體重量的2-5%配成清洗劑溶液，在溫度為50±5℃下，應(yīng)用250瓦、17KC超聲波發(fā)生器，然后利用上述制劑對硅器件進行超聲波清洗操作，清洗時間為10分鐘或更長一些。用上述制劑和方法對半導(dǎo)體工藝中的材料和器件，薄膜工藝中的玻璃和金屬的表面清洗，使之比傳統(tǒng)清洗工藝有更好的清洗效果。例如對擊穿電壓100伏的硅PN結(jié)進行處理，可使其提高為120-150伏左右。再例如，對雜質(zhì)濃度為1018CM-3的P型硅材料表面清洗后，進行試驗分析結(jié)果是用該清洗制劑比傳統(tǒng)清洗劑的清洗后的鈉離子濃度降低半個數(shù)量級。
權(quán)利要求
1.一種水基電子清洗制劑，屬于電子工業(yè)清洗生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，它是以乙二胺四醋酸鈉和可溶性氟化物為主劑，以醇醚和酚醚表面活性劑為清洗劑，以胺皂和酰胺為增效劑，醇類和去離子水為溶劑，各組分的重量百分比為乙二胺四醋酸鈉 0.1-1%醇醚表面活性劑 6-15%酚醚表面活性劑 3-5%烷基醇酰胺 3-5%三乙醇胺油酸皂 5-10%醇類1-5%可溶性氟化物0.1-1%去離子水58-81.8%
2.按照權(quán)利要求1所述的水基電子清洗制劑，其特征是所述的主劑為可溶性氟化物，其分子式為HF，H2F2，NH4F。
3.按照權(quán)利要求1所述的水基電子清洗制劑，其特征是所述的主劑為乙二胺四醋酸鈉。其分子式為
4.按照權(quán)利要求1所述的水基電子清洗制劑，其特征是用這種制劑對半導(dǎo)體工藝中的材料和器件，薄膜工藝中的玻璃和金屬的表面清洗，使之比傳統(tǒng)清洗工藝有更好的清洗效果。
全文摘要
一種水基電子清洗制劑，屬于電子工業(yè)清洗生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，它是以乙二胺四醋酸鈉和可溶性氟化物為主劑，以醇醚和酚醚表面活性劑為清洗劑，以胺皂和酰胺為增效劑，醇類和去離子水為溶劑，各組分的重量百分比為乙二胺四醋酸鈉0.1-1％、醇醚表面活性劑6-15％、酚醚表面活性劑3-5％、烷基醇酰胺3-5％、三乙醇胺油酸皂5-10％、醇類1-5％、可溶性氟化物0.1-1％、去離子水58-81.8％、用這種制劑對半導(dǎo)體工藝中的材料和器件，薄膜工藝中的玻璃和金屬的表面清洗，使之有更好的清洗效果。
文檔編號C11D1/835GK1051756SQ8910685
公開日1991年5月29日 申請日期1989年11月11日 優(yōu)先權(quán)日1989年11月11日
發(fā)明者孫啟基, 丁永發(fā), 戴群, 陳子俊 申請人:孫啟基