鍋具及電飯煲的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供了一種鍋具及電飯煲，其中，鍋具用于采用電磁加熱的烹飪器具，且電磁線圈為環(huán)形，鍋具的底板的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽。本實(shí)用新型提供的鍋具，底板的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，故而，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處,底板的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，進(jìn)而提高了熱量在底板上分布的均勻性，也提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
【專(zhuān)利說(shuō)明】鍋具及電飯賃

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及廚房用具領(lǐng)域，具體而言，涉及一種鍋具及具有該鍋具的電飯煲。

【背景技術(shù)】
[0002]電磁加熱方式因其加熱效率高、易于控制加熱時(shí)間等特點(diǎn)，已經(jīng)逐步成為家庭烹飪的主要加熱方式之一，在現(xiàn)有電磁加熱方式中，主要利用金屬鍋具的底部在電磁線圈產(chǎn)生的高頻交變磁場(chǎng)中感應(yīng)產(chǎn)生環(huán)狀加熱帶以對(duì)鍋具內(nèi)的食物進(jìn)行加熱，但是，由于電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)分布并不均勻，故鍋具底部感應(yīng)產(chǎn)生的熱量在鍋具底部的分布也不均勻，從而導(dǎo)致食物的受熱不均勻，進(jìn)而影響到鍋具對(duì)食物的烹飪效果，故而不利于提高產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題至少之一，本實(shí)用新型的一個(gè)目的在于提供一種用于采用電磁加熱，且熱量能夠均勻分布的鍋具。
[0004]本實(shí)用新型的另一個(gè)目的在于提供一種具有上述鍋具的電飯煲。
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型第一方面的實(shí)施例提供了一種鍋具，用于采用電磁加熱的烹飪器具，且電磁線圈為環(huán)形，具體地，所述鍋具的底板的下表面上相對(duì)于所述電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽。
[0006]本實(shí)用新型提供的鍋具，底板的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，故而，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，進(jìn)而提高了熱量在底板上分布的均勻性，也提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0007]具體而言，現(xiàn)有電磁加熱烹飪器具中，受電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的分布不均勻性影響，導(dǎo)致烹飪器具對(duì)食物的加熱不均勻，而本實(shí)用新型提供的鍋具，底板的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，也使得底板所感應(yīng)產(chǎn)生的熱量在底板上的分布也更為均勻，進(jìn)而提高了產(chǎn)品對(duì)食物的加熱均勻性，使產(chǎn)品更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
[0008]另外，本實(shí)用新型提供的上述實(shí)施例中的鍋具還可以具有如下附加技術(shù)特征:
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述底板的下表面上設(shè)置有多個(gè)環(huán)形的子凹槽，且多個(gè)所述子凹槽與所述基準(zhǔn)凹槽同心。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述子凹槽的寬度小于所述基準(zhǔn)凹槽的寬度。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述子凹槽的寬度沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞減。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，相鄰所述子凹槽之間的間隔沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞增。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述子凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離大于所述基準(zhǔn)凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述子凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞增。
[0015]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述底板的厚度為3?7_，所述基準(zhǔn)凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離為2?5mm。
[0016]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述底板的下表面上設(shè)置有發(fā)熱層，所述發(fā)熱層可導(dǎo)磁。
[0017]本實(shí)用新型第二方面的實(shí)施例提供了一種電飯煲，包括:煲體，所述煲體具有容納腔；和上述任一項(xiàng)中所述的鍋具，所述鍋具位于所述容納腔內(nèi)。
[0018]本實(shí)用新型第二方面的實(shí)施例提供的電飯煲通過(guò)設(shè)置有本實(shí)用新型第一方面的實(shí)施例提供的鍋具，由于鍋具的底板的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，也使得底板所感應(yīng)產(chǎn)生的熱量在底板上的分布也更為均勻，進(jìn)而提高了電飯煲對(duì)食物的加熱均勻性，使產(chǎn)品更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
[0019]本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述部分中變得明顯，或通過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0021]圖1是本實(shí)用新型所述鍋具的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2是圖1中A部的放大結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖3是本實(shí)用新型所述鍋具的仰視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]其中，圖1至圖3中的附圖標(biāo)記與部件名稱(chēng)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:
[0025]I底板，101基準(zhǔn)凹槽，102子凹槽。

【具體實(shí)施方式】
[0026]為了能夠更清楚地理解本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0027]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是，本實(shí)用新型還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來(lái)實(shí)施，因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施例的限制。
[0028]下面參照?qǐng)D1至圖3描述根據(jù)本實(shí)用新型一些實(shí)施例所述鍋具。
[0029]如圖1至圖3所示，本實(shí)用新型第一方面的實(shí)施例提供的鍋具，用于采用電磁加熱的烹飪器具，且電磁線圈為環(huán)形，具體地，鍋具的底板I的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽101。
[0030]本實(shí)用新型提供的鍋具，底板I的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽101，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，故而，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板I的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，進(jìn)而提高了熱量在底板I上分布的均勻性，也提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0031]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1、圖2和圖3所示，底板I的下表面上設(shè)置有多個(gè)環(huán)形的子凹槽102，且多個(gè)子凹槽102與基準(zhǔn)凹槽101同心。
[0032]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，子凹槽102的寬度小于基準(zhǔn)凹槽101的寬度。
[0033]在該實(shí)施例中，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，并分別向電磁線圈的內(nèi)環(huán)和外環(huán)方向逐漸減弱，故而，在底板I的下表面上設(shè)置有多個(gè)環(huán)形的子凹槽102，并設(shè)置子凹槽102的寬度小于基準(zhǔn)凹槽101的寬度，使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度在底板I的徑向上更為均勻，從而進(jìn)一步提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0034]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1、圖2和圖3所示，子凹槽102的寬度沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞減。
[0035]在該實(shí)施例中，由于凹槽的寬度越寬，則凹槽對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用越明顯，故而，與交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的分布規(guī)律相適應(yīng)，設(shè)置子凹槽102的寬度沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞減，以使得子凹槽102對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用隨著磁場(chǎng)強(qiáng)度的減弱而降低，從而使分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度在底板I的徑向上更為均勻，從而進(jìn)一步提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0036]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1、圖2和圖3所示，相鄰子凹槽102之間的間隔沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞增。
[0037]在該實(shí)施例中，由于凹槽的分布越密集，凹槽對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用越明顯，故而，設(shè)置相鄰子凹槽102之間的間隔沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞增，使得子凹槽102在遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向上的分布密度降低，以使得子凹槽102對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用隨著磁場(chǎng)強(qiáng)度的減弱而降低，從而使分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度在底板I的徑向上更為均勻，從而進(jìn)一步提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0038]具體地，子凹槽102的分布規(guī)律可為:子凹槽102的寬度與相鄰子凹槽102之間的距離的和為2?25mm，其中，子凹槽102的寬度比相鄰子凹槽102之間的距離大0.5?20mmo
[0039]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，子凹槽102的底壁面與底板I的上表面之間的距離大于基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離。
[0040]在該實(shí)施例中，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，并分別向電磁線圈的內(nèi)環(huán)和外環(huán)方向逐漸減弱，故而，設(shè)置子凹槽102的底壁面與底板I的上表面之間的距離大于基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離，即子凹槽102的深度小于基準(zhǔn)凹槽101的深度，使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度在底板I的徑向上更為均勻，從而進(jìn)一步提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0041]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，子凹槽102的底壁面與底板I的上表面之間的距離沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞增。
[0042]在該實(shí)施例中，由于凹槽的底壁面與底板I的上表面之間的距離越小，則凹槽對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用越明顯，故而，設(shè)置子凹槽102的底壁面與底板I的上表面之間的距離沿遠(yuǎn)離基準(zhǔn)凹槽101的方向依次遞增，以使得子凹槽102對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的削弱作用隨著磁場(chǎng)強(qiáng)度的減弱而降低，從而使分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度在底板I的徑向上更為均勻，從而進(jìn)一步提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0043]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，優(yōu)選地，底板I的厚度為3?7mm，基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離為2?5mm。
[0044]在該實(shí)施例中，由于鍋具的底板I的厚度不同，在同一電磁線圈中產(chǎn)生的熱量不同，對(duì)于底板I厚度為3?7mm的鍋具，將基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離限制在2?5mm，一方面，設(shè)置基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離不小于2mm，避免鍋具的底板I上基準(zhǔn)凹槽101處過(guò)薄而降低鍋具的強(qiáng)度，另一方面，設(shè)置基準(zhǔn)凹槽101的底壁面與底板I的上表面之間的距離不大于5mm，以確?；鶞?zhǔn)凹槽101能夠有效地對(duì)分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)進(jìn)行削弱，從而使分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，從而在保證鍋具使用強(qiáng)度的前提下，提高了熱量在底板I上分布的均勻性，進(jìn)而提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0045]在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例中，鍋具的鍋體由不導(dǎo)磁材料制成，在鍋具底板的下表面上設(shè)置有發(fā)熱層(圖中未示出)。
[0046]在該實(shí)施例中，對(duì)于由不導(dǎo)磁材料制成的鍋體，如陶瓷鍋體，可在底板I的下表面，包括基準(zhǔn)凹槽101和子凹槽102的底壁上設(shè)置導(dǎo)磁發(fā)熱層，以使不導(dǎo)磁鍋體可采用電磁加熱的方式進(jìn)行烹飪，具體地，可將導(dǎo)磁材料采用涂布或噴涂的方式固定在底板的下表面上，故而，基準(zhǔn)凹槽101和子凹槽102的設(shè)置則使得分布于底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，從而進(jìn)一步提高了不導(dǎo)磁鍋體的加熱均勻性。當(dāng)然，也可以把發(fā)熱層做成具有基準(zhǔn)凹槽101和子凹槽102的結(jié)構(gòu)，復(fù)合于鍋具底部。
[0047]本實(shí)用新型第二方面的實(shí)施例提供的電飯煲(圖中未示出)，包括:煲體(圖中未示出)和上述任一項(xiàng)實(shí)施例所述的鍋具，煲體具有容納腔；鍋具位于所述容納腔內(nèi)。
[0048]本實(shí)用新型第二方面的實(shí)施例提供的電飯煲通過(guò)設(shè)置有本實(shí)用新型第一方面的實(shí)施例提供的鍋具，由于鍋具的底板I的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽101，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板I的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，也使得底板I所感應(yīng)產(chǎn)生的熱量在底板I上的分布也更為均勻，進(jìn)而提高了電飯煲對(duì)食物的加熱均勻性，使產(chǎn)品更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
[0049]綜上所述，本實(shí)用新型提供的鍋具，底板I的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽101，由于環(huán)形電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)在其寬度的二分之一處最強(qiáng)，故而，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板I的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，進(jìn)而提高了熱量在底板I上分布的均勻性，也提高了鍋具對(duì)食物的加熱均勻性。
[0050]具體而言，現(xiàn)有電磁加熱烹飪器具中，受電磁線圈產(chǎn)生的交變磁場(chǎng)的分布不均勻性影響，導(dǎo)致烹飪器具對(duì)食物的加熱不均勻，而本實(shí)用新型提供的鍋具，底板I的下表面上相對(duì)于電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽101，該結(jié)構(gòu)的設(shè)置增加了磁場(chǎng)強(qiáng)度最強(qiáng)處底板I的下表面與電磁線圈之間的距離，從而使得分布在底板I的下表面上的交變磁場(chǎng)的強(qiáng)度更為均勻，也使得底板I所感應(yīng)產(chǎn)生的熱量在底板I上的分布也更為均勻，進(jìn)而提高了產(chǎn)品對(duì)食物的加熱均勻性，使產(chǎn)品更具市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
[0051]在本實(shí)用新型中，術(shù)語(yǔ)“多個(gè)”則指兩個(gè)或兩個(gè)以上，除非另有明確的限定。術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語(yǔ)均應(yīng)做廣義理解，例如，“連接”可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；“相連”可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。
[0052]本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或單元必須具有特定的方向、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此，不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
[0053]在本說(shuō)明書(shū)的描述中，術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“具體實(shí)施例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或?qū)嵗６?，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0054]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種鍋具，用于采用電磁加熱的烹飪器具，且電磁線圈為環(huán)形，其特征在于，所述鍋具的底板的下表面上相對(duì)于所述電磁線圈的寬度的二分之一處設(shè)置有一個(gè)環(huán)形的基準(zhǔn)凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍋具，其特征在于， 所述底板的下表面上設(shè)置有多個(gè)環(huán)形的子凹槽，且多個(gè)所述子凹槽與所述基準(zhǔn)凹槽同心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍋具，其特征在于， 所述子凹槽的寬度小于所述基準(zhǔn)凹槽的寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍋具，其特征在于， 所述子凹槽的寬度沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞減。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍋具，其特征在于， 相鄰所述子凹槽之間的間隔沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞增。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍋具，其特征在于， 所述子凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離大于所述基準(zhǔn)凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍋具，其特征在于， 所述子凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離沿遠(yuǎn)離所述基準(zhǔn)凹槽的方向依次遞增。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的鍋具，其特征在于， 所述底板的厚度為3?7mm，所述基準(zhǔn)凹槽的底壁面與所述底板的上表面之間的距離為2?5mm ο
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鍋具，其特征在于， 所述底板的下表面上設(shè)置有發(fā)熱層。
10.一種電飯煲，其特征在于，包括: 煲體，所述煲體具有容納腔；和 如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的鍋具，所述鍋具位于所述容納腔內(nèi)。
【文檔編號(hào)】A47J36/00GK204260534SQ201420800511
【公開(kāi)日】2015年4月15日 申請(qǐng)日期:2014年12月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月15日
【發(fā)明者】徐騰飛, 吳培洪, 雷大法 申請(qǐng)人:佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司, 美的集團(tuán)股份有限公司