一種清洗裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種清洗裝置，屬于清洗【技術(shù)領(lǐng)域】，其可解決現(xiàn)有的清洗基板的技術(shù)存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問(wèn)題。本實(shí)用新型的清洗裝置包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對(duì)基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進(jìn)行抽吸，所述清洗裝置還包括至少一個(gè)用于形成渦旋流體的筒狀元件，其兩端均設(shè)開(kāi)口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。本實(shí)用新型可用于對(duì)基板進(jìn)行清洗。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于基板清洗【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-LCD)生產(chǎn)過(guò)程中，玻璃基板表面通常會(huì)殘留很多顆粒(如玻璃碎屑、灰塵、微小有機(jī)物或纖維等)，如果不及時(shí)有效地清除這些顆粒，將會(huì)產(chǎn)生如金屬層之間短路、大面積脫落等不良現(xiàn)象，從而影響液晶顯示器的各種性能。在TFT-LCD生產(chǎn)過(guò)程中，清洗工藝是重復(fù)次數(shù)最多的工藝，直接決定了 TFT的良品率。
[0003]當(dāng)前，對(duì)于玻璃基板的清洗，針對(duì)不同的顆粒采用不同的清洗技術(shù)。一般地，等離子體(Plasma)清洗用于清除玻璃基板上的有機(jī)物殘留；毛刷噴淋(brush+shower)用于清除玻璃基板上粒徑為10微米以上的顆粒；壓力噴射用于清除玻璃基板上粒徑為1-10微米的顆粒；雙流體噴射用于清除玻璃基板上粒徑為1-5微米的顆粒；超聲波清洗技術(shù)則可以用于清除玻璃基板表面上的不同粒徑的顆粒。
[0004]超聲波清洗技術(shù)是在清洗液中使用超聲波對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗。相對(duì)于其他清洗裝置的物理沖擊的清洗原理，超聲波清洗技術(shù)利用了空蝕作用，空蝕作用是指利用清洗液中的微型氣泡的內(nèi)爆裂進(jìn)行玻璃基板表面的清洗。其中微型氣泡的內(nèi)爆裂是由于清洗液中的液體的壓力變化導(dǎo)致的，當(dāng)液體處于負(fù)壓狀態(tài)時(shí)，液體的沸點(diǎn)會(huì)降低，從而產(chǎn)生許多小氣泡；當(dāng)液體處于正壓狀態(tài)時(shí)，小氣泡就會(huì)發(fā)生猛烈的內(nèi)爆裂，因此空蝕現(xiàn)象使清洗液產(chǎn)生了攪拌和洗滌作用，這樣可以較好的清洗玻璃基板的表面。
[0005]發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:而目前的玻璃基板的清洗裝置存在以下的不足:
[0006]1、當(dāng)采用物理沖擊清洗時(shí)，針對(duì)不同粒徑的顆粒采用不同的清洗機(jī)臺(tái)，造成了機(jī)臺(tái)的高成本投入，并在各種機(jī)臺(tái)的轉(zhuǎn)換過(guò)程中會(huì)浪費(fèi)較多的工時(shí)且易引入新的顆粒。
[0007]2、當(dāng)采用物理沖擊清洗時(shí)，對(duì)于尺寸較小并頑固附著的顆粒的清洗效果并不明顯，且對(duì)清洗需要使用的蒸餾水和添加溶劑消耗較大。
[0008]3、采用超聲波對(duì)玻璃基板表面進(jìn)行清洗時(shí)，超聲波頻率發(fā)生器的振子發(fā)出的超聲波容易在清洗液中產(chǎn)生駐波等相干效應(yīng)而影響超聲波對(duì)玻璃基板表面的清洗。
[0009]因此，有必要提供一種高效、低成本的玻璃基板的清洗裝置以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0010]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題包括，針對(duì)現(xiàn)有的清洗基板的技術(shù)存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問(wèn)題，提供一種效率高且成本低的清洗裝置。
[0011]解決本實(shí)用新型技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對(duì)基板待清洗表面外清洗液體或氣體進(jìn)行抽吸，還包括至少一個(gè)用于保持真空度并形成渦旋氣流的筒狀元件，其兩端均設(shè)開(kāi)口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
[0012]優(yōu)選的是，所述筒狀元件為圓錐臺(tái)形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端朝向基板。
[0013]進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設(shè)于第一筒狀元件內(nèi)。
[0014]更進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述第二筒狀元件的外壁設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)流槽。
[0015]優(yōu)選的是，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用于調(diào)節(jié)所述筒狀元件與基板之間的距離。
[0016]優(yōu)選的是，所述清洗裝置還包括排出單元，其用于將所述抽吸裝置旋轉(zhuǎn)吸附的清洗液體和/或空氣排出。
[0017]優(yōu)選的是，所述抽吸裝置包括渦輪。
[0018]進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述抽吸裝置還包括驅(qū)動(dòng)單元。
[0019]更進(jìn)一步優(yōu)選的是,所述驅(qū)動(dòng)單元包括電動(dòng)機(jī)。
[0020]再進(jìn)一步優(yōu)選的是,所述電動(dòng)機(jī)為調(diào)速電動(dòng)機(jī)。
[0021]本實(shí)用新型的清洗裝置的抽吸裝置對(duì)基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進(jìn)行連續(xù)的抽吸，配合使用圓錐臺(tái)形狀的筒狀元件形成強(qiáng)力渦旋流體，渦旋流體對(duì)基板表面具有強(qiáng)大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板表面上的顆?；蚱渌s質(zhì)，從而能夠產(chǎn)生較好的清洗效果。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]圖1為本實(shí)用新型的實(shí)施例1的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例1第一筒狀元件和第二筒狀元件的透視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]其中附圖標(biāo)記為:1、回收裝置；2、玻璃基板；3、清洗液體；4、筒狀元件；41、第一筒狀元件；42、第二筒狀元件；421、導(dǎo)流槽；5、抽吸裝置；6、排出單元；7、支撐柱。
【具體實(shí)施方式】
[0025]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更清楚地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0026]實(shí)施例1:
[0027]本實(shí)施例提供一種清洗裝置，可對(duì)液晶顯示器生產(chǎn)過(guò)程中的玻璃基板進(jìn)行清洗，本實(shí)施例以玻璃基板處于無(wú)清洗液體的環(huán)境中對(duì)玻璃基板進(jìn)行清洗為例進(jìn)行說(shuō)明，顯然，本實(shí)施例的清洗裝置也可以對(duì)其他的基板進(jìn)行清洗或者干燥等。
[0028]如圖1和圖2所示，清洗裝置包括抽吸裝置5，抽吸裝置5用于對(duì)玻璃基板2待清洗表面外的區(qū)域抽真空，玻璃基板2由支撐柱7進(jìn)行支撐。清洗裝置還包括至少一個(gè)用于保持真空度并形成渦旋氣流的筒狀元件4，所述筒狀元件4的兩端均設(shè)開(kāi)口，一端朝向抽吸裝置5，即抽吸裝置5設(shè)在筒狀元件4的上部，另一端朝向玻璃基板2。
[0029]本實(shí)施例的清洗裝置的抽吸裝置5對(duì)玻璃基板2待清洗表面外的區(qū)域進(jìn)行連續(xù)地抽真空，配合使用筒狀元件4保持真空度，形成強(qiáng)力渦旋氣流，渦旋氣流對(duì)玻璃基板2表面具有強(qiáng)大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆?；蚱渌s質(zhì)，具有較好的清洗效果。另外，渦旋氣流對(duì)玻璃基板2還具有干燥的作用。
[0030]抽吸裝置5可以為真空泵以及渦輪等。優(yōu)選的，抽吸裝置5包括渦輪等，這樣便于制作抽吸裝置5。
[0031]進(jìn)一步優(yōu)選的，抽吸裝置5還包括驅(qū)動(dòng)單元(附圖中未示出)，用于驅(qū)動(dòng)渦輪，更進(jìn)一步優(yōu)選的，驅(qū)動(dòng)單元包括電動(dòng)機(jī)，再進(jìn)一步優(yōu)選的，電動(dòng)機(jī)為調(diào)速電動(dòng)機(jī)。使用調(diào)速電動(dòng)機(jī)更容易實(shí)現(xiàn)對(duì)抽吸裝置5的轉(zhuǎn)速的調(diào)節(jié)，也即更容易實(shí)現(xiàn)對(duì)真空度和渦旋氣流的強(qiáng)度的調(diào)節(jié)。
[0032]筒狀元件4的形狀可以為圓筒狀、棱錐臺(tái)狀或圓錐臺(tái)狀等。優(yōu)選的，在本實(shí)施例中筒狀元件4優(yōu)選為圓錐臺(tái)狀，其半徑較小的一端的上部設(shè)有抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。這樣設(shè)置筒狀元件4有利于在筒狀元件4內(nèi)形成真空，也有利于保持
真空度。
[0033]進(jìn)一步優(yōu)選的，如圖2所示，筒狀元件4包括第一筒狀元件41和第二筒狀元件42，第二筒狀元件42設(shè)于第一筒狀元件41內(nèi)，且第二筒狀元件42的半徑較小的一端的上部朝向抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。第二筒狀元件42可通過(guò)條狀物與第一筒狀元件41膠結(jié)在一起，也可通過(guò)支架結(jié)構(gòu)與和抽吸裝置5連接在一起。這樣，第一筒狀元件41和第二筒狀元件42就形成了雙筒狀結(jié)構(gòu)，更有利于真空度的保持和渦旋氣流的形成，而且通過(guò)選擇第一筒狀元件41和第二筒狀元件42的大小以形成不同的配合，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)真空度和渦旋氣流的強(qiáng)度的調(diào)節(jié)。
[0034]更進(jìn)一步優(yōu)選的，第二筒狀元件42的外壁設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)流槽421，設(shè)置多個(gè)導(dǎo)流槽421更有利于渦旋氣流的形成。
[0035]優(yōu)選的，本實(shí)施例的清洗裝置還包括支架(附圖中未示出)，其與第一筒狀元件41連接，這樣可以調(diào)節(jié)第一筒狀元件41與玻璃基板2之間的距離，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)真空度和渦旋氣流的強(qiáng)度的調(diào)節(jié)。
[0036]優(yōu)選的，本實(shí)施例的清洗裝置還包括排出單元6，排出單元6可由軟管等組成，抽吸裝置5旋轉(zhuǎn)吸附的氣體經(jīng)由排除單元6排放到回收裝置I中。
[0037]需要說(shuō)明的是，以上是以對(duì)玻璃基板2的表面外的區(qū)域持續(xù)抽真空為例說(shuō)明如何清洗玻璃基板2的。顯然，當(dāng)玻璃基板2表面上噴淋有清洗液體3時(shí)，本實(shí)施例中的清洗裝置也可以在筒狀元件4內(nèi)形成渦旋氣流體，從而對(duì)玻璃基板2的表面形成強(qiáng)力吸附，清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆粒或其他雜質(zhì)，或者當(dāng)玻璃基板2處于清洗液體3中時(shí)，清洗裝置亦可以在筒狀元件4內(nèi)形成渦旋液流體，渦旋液流體對(duì)玻璃基板2的表面形成吸附以及攪拌，從而達(dá)到清洗玻璃基板2的目的。
[0038]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用于對(duì)基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進(jìn)行抽吸，其特征在于， 所述清洗裝置還包括至少一個(gè)用于形成渦旋流體的筒狀元件，所述筒狀元件的兩端均設(shè)開(kāi)口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述筒狀元件為圓錐臺(tái)形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端靠近基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設(shè)于第一筒狀元件內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，所述第二筒狀元件的外壁設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)流槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用于調(diào)節(jié)所述筒狀元件與基板之間的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括排出單元，其用于將所述抽吸裝置旋轉(zhuǎn)吸附的清洗液體和/或空氣排出。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述抽吸裝置包括渦輪。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清洗裝置，其特征在于，所述抽吸裝置還包括用于驅(qū)動(dòng)渦輪的驅(qū)動(dòng)單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括電動(dòng)機(jī)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清洗裝置，其特征在于，所述電動(dòng)機(jī)為調(diào)速電動(dòng)機(jī)。
【文檔編號(hào)】B08B11/04GK203635584SQ201320599735
【公開(kāi)日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】劉利萍, 劉俊豪, 孔益, 葉超前, 管禮志 申請(qǐng)人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司