專利名稱：薄膜表面清潔系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于薄膜生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種薄膜表面清潔系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
隨著聚酰亞胺薄膜應(yīng)用的領(lǐng)域的不斷擴(kuò)展，對于聚酰亞胺薄膜的要求也不斷提高，過去聚酰亞胺主要用于電機(jī)電器絕緣行業(yè)，聚酰亞胺薄膜在該行業(yè)的應(yīng)用主要被關(guān)注的是其耐熱性及絕緣性能。隨著科技不斷進(jìn)步聚酰亞胺在電子行業(yè)的應(yīng)用越來越廣泛，如電腦、手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)及高溫標(biāo)簽等許多電子產(chǎn)品。電子行業(yè)應(yīng)用的聚酰亞胺薄膜除了關(guān)注其耐熱性、絕緣性、厚度均勻性等性能之外，薄膜表面的一些物理性能也是特別被關(guān)注的一如薄膜表面是否潔凈、是否有劃痕、隔痕等表面瑕疵，此類瑕疵對于非常精細(xì)的線路將造成嚴(yán)重影響。因此制造出表面潔凈沒有瑕疵的薄膜是非常重要的。在聚酰亞胺薄膜生產(chǎn)過程中，由于在雙向拉伸聚酰亞胺薄膜的生產(chǎn)過程中，薄膜需要在橫拉機(jī)中通過針板夾具橫向拉著薄膜向前運(yùn)行，拉著薄膜的針板固定在鏈條上，鏈條是靠軸承在兩條軌道上運(yùn)行，由于軌道和鏈條軸承之間產(chǎn)生摩擦，久而久之就會產(chǎn)生一些很細(xì)微的金屬末被帶出軌道，由于在生產(chǎn)的薄膜表面靜電很強(qiáng)，產(chǎn)生的這些金屬末中部分會被吸到薄膜表面。。薄膜的邊緣被壓在針板上，針板固定著薄膜在橫拉機(jī)中運(yùn)行進(jìn)行高溫亞胺化及拉伸，薄膜在出口處剝離開針板進(jìn)入切邊及收卷工序之時，部分細(xì)微的薄膜碎片會從針尖上掉下來，由于薄膜表面具有很強(qiáng)的靜電，這些細(xì)微的薄膜碎片會被吸到薄膜表面。被吸入薄膜表面的金屬末及薄膜碎片，如果不能被及時的去除而隨薄膜進(jìn)入收卷工序，將會導(dǎo)致薄膜表面產(chǎn)生更多的劃痕及隔痕，嚴(yán)重影響了產(chǎn)品的質(zhì)量，因此亟需一種能夠薄膜表面清潔裝置。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種薄膜表面清潔系統(tǒng)，尤其適用于流水線式的薄膜生產(chǎn)工藝過程中。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種薄膜表面清潔系統(tǒng)，包括位于薄膜拉伸機(jī)和薄膜收卷機(jī)之間的吸塵裝置和磁鐵裝置，所述吸塵裝置懸空于所述薄膜拉伸機(jī)產(chǎn)出的薄膜之上，所述磁鐵裝置非接觸的位于所述薄膜下側(cè)。進(jìn)一步的，所述吸塵裝置包括一硬塑管和一引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管一端封閉，其另一端連接所述引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管位于所述薄膜正上方的部位開有一進(jìn)風(fēng)口。進(jìn)一步的，所述磁鐵裝置包括至少一塊磁鐵片和一角鐵，所述磁鐵片鑲嵌在所述角鐵上。進(jìn)一步的,所述進(jìn)風(fēng)口的尺寸為10*520mm。本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案，薄膜在進(jìn)入收卷工序之前其表面的金屬末和薄膜碎片等雜質(zhì)可以被清理干凈，避免了這些雜質(zhì)在收卷過程中對薄膜表面進(jìn)行的傷害；本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、維修方便、除雜質(zhì)效率高等優(yōu)點(diǎn)。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:1、薄膜拉伸機(jī) 2、薄膜收卷機(jī) 3、硬塑管4、引風(fēng)機(jī)5、磁鐵裝置
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型提供一種薄膜表面清潔系統(tǒng)，包括位于薄膜拉伸機(jī)I和薄膜收卷機(jī)2之間的吸塵裝置和磁鐵裝置，吸塵裝置懸空于所述薄膜拉伸機(jī)產(chǎn)出的薄膜之上，吸塵裝置由一根位于薄膜上方的硬塑管和引風(fēng)機(jī)組成，硬塑管3 —端封閉，另一端連接所述引風(fēng)機(jī)4，硬塑管3位于薄膜正上方的部位開有一 10*520mm的進(jìn)風(fēng)口 ；磁鐵裝置非接觸的位于薄膜下側(cè)，磁鐵裝置5包括七塊磁鐵片和一塊角鐵，七塊磁鐵片鑲嵌在角鐵上。本實(shí)例的工作過程:當(dāng)雙向拉伸機(jī)生產(chǎn)出來的薄膜從本實(shí)施例中穿過時，開啟引風(fēng)機(jī)，引風(fēng)機(jī)的吸力將薄膜表面的各種雜質(zhì)通過薄膜上方的硬塑管進(jìn)風(fēng)口吸離薄膜上表面，薄膜下表面的金屬末被本實(shí)施例中的磁 鐵裝置吸離薄膜下表面，從而保證了薄膜表面的清潔。以上對本實(shí)用新型的一個實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型申請范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本實(shí)用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種薄膜表面清潔系統(tǒng)，其特征在于:包括位于薄膜拉伸機(jī)和薄膜收卷機(jī)之間的吸塵裝置和磁鐵裝置，所述吸塵裝置懸空于所述薄膜拉伸機(jī)產(chǎn)出的薄膜之上，所述磁鐵裝置非接觸的位于所述薄膜下側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜表面清潔系統(tǒng)，其特征在于:所述吸塵裝置包括一硬塑管和一引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管一端封閉，其另一端連接所述引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管位于所述薄膜正上方的部位開有一進(jìn)風(fēng)口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜表面清潔系統(tǒng)，其特征在于:所述磁鐵裝置包括至少一塊磁鐵片和一角鐵，所述磁鐵片鑲嵌在所述角鐵上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜表面清潔系統(tǒng)，其特征在于:所述進(jìn)風(fēng)口的尺寸為10*520111111。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種薄膜表面清潔系統(tǒng)，包括位于薄膜拉伸機(jī)和薄膜收卷機(jī)之間的吸塵裝置和磁鐵裝置，所述吸塵裝置懸空于所述薄膜拉伸機(jī)產(chǎn)出的薄膜之上，所述磁鐵裝置非接觸的位于所述薄膜下側(cè)；所述吸塵裝置包括一硬塑管和一引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管一端封閉，其另一端連接所述引風(fēng)機(jī)，所述硬塑管位于所述薄膜正上方的部位開有一進(jìn)風(fēng)口。本實(shí)用新型的有益效果是能夠有效清除從雙向拉伸機(jī)中出來的薄膜表面的多種雜質(zhì)。
文檔編號B08B5/04GK202986085SQ201220729690
公開日2013年6月12日 申請日期2012年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月25日
發(fā)明者陳玉明, 戴恒 申請人:天津市天緣電工材料有限責(zé)任公司