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技術(shù)編號：3420074

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本發(fā)明涉及一種薄膜的制備方法及裝置，特別是涉及到利用濺射制備薄膜。背景技術(shù)磁控濺射儀是制備薄膜的一種常用設(shè)備，其主要工作機(jī)理是利用輝光放電。正如尚世鉉等人在“近代物理實(shí)驗(yàn)技術(shù)，高等教育出版社，1993年6月，P345”中描述的那樣磁控濺射儀設(shè)備中有一對電極，其中一個(gè)用作鍍膜材料的靶，它處于負(fù)高壓。被鍍基片放在靶對面的另一電極——陽極上，一般使陽極接地。對于直流濺射，兩電極之間的電壓可高達(dá)數(shù)千伏。為了防止工作室內(nèi)殘余氣體的污染，工作室應(yīng)首先抽成10-4Pa以...
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