專利名稱：一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑。
背景技術：
PCB的內層制作流程包括裁板、前處理、涂布、曝光、顯影、蝕刻、去膜等步驟，現(xiàn)有 技術中，碳酸鈉、碳酸鉀廣泛用于干膜綠漆顯影去膜過程，由于槽液中含有大量的碳酸根離 子，當其和水中的鈣鎂離子結合時，便會生成沉淀，隨著設備使用時間的延長，又不及時清 槽時，大量的沉淀附著于槽壁等易結垢的地方，堵塞在管路與噴嘴中，影響設備正常工作甚 至降低設備的壽命，然而，現(xiàn)有洗槽劑的清洗效果并不理想。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑。本發(fā)明所采取的技術方案是
一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其包括以下質量百分比的原料20-35%的鹽酸、 10-20%的磷酸三鈉、2-7%的PMA、5-15%的檸檬酸。其包括以下質量百分比的原料25-32%的鹽酸、12-18%的磷酸三鈉、3_6%的PMA、 8-12%的檸檬酸。所述的磷酸三鈉為無水級磷酸三鈉。所述鹽酸的濃度為37%。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明所提供的洗槽劑清洗效果好，能有效清除附著在槽 壁上、管路以及噴嘴等處的附著物。


圖1是未經清洗的主槽內的滾輪的實物圖。圖2是使用本發(fā)明的洗槽劑清洗后滾輪的實物圖。圖3為未經清洗的濾網實物圖。圖4為經過本發(fā)明的洗槽劑清洗后的濾網實物圖。
具體實施例方式下面結合具體實施例來說明本發(fā)明的配方 實施例1
本發(fā)明的顯影去膜槽用酸性洗槽劑的配方組成如下表1 表1 顯影去膜槽用酸性洗槽劑的原料組成
權利要求
1.一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其特征在于其包括以下質量百分比的原料: 20-35%的鹽酸、10-20%的磷酸三鈉、2-7%的PMA、5_15%的檸檬酸。
2.根據權利要求1所述的一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其特征在于其包括以下質 量百分比的原料25-32%的鹽酸、12-18%的磷酸三鈉、3_6%的PMA、8-U%的檸檬酸。
3.根據權利要求1所述的一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其特征在于所述的磷酸三 鈉為無水級磷酸三鈉。
4.根據權利要求1所述的一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其特征在于所述鹽酸的濃 度為37%。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種顯影去膜槽用酸性洗槽劑，其包括以下質量百分比的原料20-35%的鹽酸、10-20%的磷酸三鈉、2-7%的PMA、5-15%的檸檬酸。本發(fā)明所提供的洗槽劑清洗效果好，能有效清除附著在槽壁上、管路以及噴嘴中的附著物。
文檔編號C11D7/10GK102127492SQ20111008038
公開日2011年7月20日 申請日期2011年3月31日 優(yōu)先權日2011年3月31日
發(fā)明者胡先萍 申請人:珠海順澤電子實業(yè)有限公司