專利名稱：帶材清洗裝置以及帶材清洗方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種清洗如TAB帶或者COF帶等電子部品封裝用薄膜載帶的帶材清洗裝置以及帶狀材料清洗方法。
背景技術：
近年，作為帶狀材料，熟知的例如用于平板顯示器以及打印機等的TAB帶及COF帶等電子部品封裝用薄膜載帶。
該電子部品封裝用薄膜載帶，在制造以及檢查時會附著空氣中的灰塵、與卷盤的摩擦生成的粉末以及從各裝置上產生的金屬粉等異物。附著在帶材上的這些異物是造成印刷電路板和半導體芯片接觸不良的原因，需要去除。
于是，專利文獻1公開了一種將帶材搬送的同時在中途將其浸泡在清洗槽中的清洗液中，通過對該清洗液施加超聲波振動去除附著在帶材上的異物的清洗裝置。
專利文獻1特開2003-24888號公報但是，在現有的清洗裝置中，通過超聲波振動從帶材上去除的異物殘留在清洗液中，因此，雖然從帶材上除去了異物，但是在帶材上又重新附著上了異物，洗凈度不好。

發(fā)明內容
本發(fā)明是借鑒現有課題而產生的，其目的在于提供一種能夠提高帶材洗凈度的帶材清洗裝置以及帶材清洗方法。
因此，本發(fā)明的發(fā)明人等經過潛心研究的結果，為解決現有技術的缺陷，提供了一種如下所述的帶材清洗裝置以及帶材清洗方法。
本發(fā)明的帶材清洗裝置本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，包括帶材搬送機構；浸泡搬送中的所述帶材的浸泡槽；為經過該浸泡槽浸泡后的所述帶材噴射經過施加超聲波振動的清洗液，去除附著在該帶材上的異物的超聲波清洗機構。
上述構成中，在浸泡時，附著在帶材上的異物膨脹，附著力減弱。另外由于對經過了浸泡槽的帶材進行異物的去除，可以防止從帶材上除去的異物重新附著在帶材上。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構，具有在搬送線中的利用所述超聲波清洗機構進行噴射的位置固定所述帶材的固定機構。
通過上述構成，即使利用超聲波清洗機構向帶材噴射清洗液，帶材也不會搖動，因此，能夠容易地從帶材上將異物除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，包括在利用超聲波清洗機構清洗前，去除附著在所述浸泡槽中經過浸泡的所述帶材上的異物的前清洗機構。
通過上述構成，減少了利用超聲波清洗機構清洗時附著在帶材上的異物的量，能夠容易地從帶材上將異物除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構具有將經過所述浸泡槽浸泡的所述帶材向上方引導的多個導向機構，所述前清洗機構對通過該多個導向機構搬送到上方的帶材上附著的異物進行去除。
通過上述構成，與將經過浸泡的帶材向水平方向搬送時相比，使前清洗機構的清洗距離變長。因此，進一步減少了在利用超聲波清洗機構清洗時附著在帶材上的異物數量，能夠更容易地從帶材上將異物除去。
再有，本發(fā)明的帶材清洗裝置，將通過所述多個導向機構向上方搬送的所述帶材的傾斜角度優(yōu)選設置為10°～170°。
這里，帶材的傾斜角度小于10°或者超過170°時，與將帶材向水平方向搬送時相比，利用前清洗機構的帶材的清洗距離基本相同，異物的去除處理性基本不變，不優(yōu)先考慮。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構，具有將在所述浸泡槽中經過浸泡的所述帶材向水平方向引導的多個導向機構，所述前清洗機構，將附著在通過該多個導向機構水平方向搬送的帶材上的異物除去。
上述構成，與將經過浸泡的帶材向上方引導時相比，能夠將裝置的高度降低。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構在所述多個導向機構中，位于所述超聲波清洗機構處的導向機構兼作所述固定機構，所述超聲波清洗機構向通過該導向機構固定在所述搬送線上的所述帶材噴射所述清洗液。
通過上述構成，能夠減少部件的數量。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，在利用所述超聲波清洗機構清洗后，具有去除附著在所述帶材上的異物的后清洗機構。
通過上述構成，即使利用超聲波清洗機構清洗后仍殘留異物，也能除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，具有對利用所述超聲波清洗機構或者所述后清洗機構清洗后的所述帶材進行干燥的干燥機構。
通過上述構成，與將帶材的清洗和干燥分別進行的場合相比，能夠縮短從帶材的清洗到干燥所需時間。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，在所述干燥機構前，具有去除附著在清洗后的所述帶材上的清洗液的除水機構。
通過上述構成，由于干燥時的清洗液的量減少了，使干燥時間得到縮短。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置是清洗重疊有隔離帶的所述帶材的裝置，其特征在于，所述搬送機構，包括邊分離所述隔離帶，邊向搬送線輸送所述帶材的帶材供給機構；邊向通過所述干燥機構干燥的清洗完后的所述帶材重疊另外的隔離帶，邊進行收納的帶材收納機構。
通過上述構成，可以很好地進行從帶材上的隔離帶的分離以及防止清洗后的帶材表面(例如帶材表面上的布線圖)損傷。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，具有對通過所述帶材收納機構收納的清洗完后的所述帶材，進行無塵捆包的無塵捆包室。
通過上述構成，可以防止清洗、干燥完后的帶材在捆包時附著異物。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，其特征在于，所述帶材為電子部品封裝用薄膜載帶，而所述帶材清洗裝置為，用于去除附著在該電子部品封裝用薄膜載帶上的異物的清洗裝置。
通過上述構成，對于電子部品封裝用薄膜載帶，可以得到與所述帶材清洗裝置具有的功能相同的功能。
本發(fā)明的帶材清洗方法本發(fā)明的帶材清洗方法，作為一種將帶材邊搬送邊清洗的帶材清洗方法，其特征在于，包括浸泡所述帶材的浸泡工序；向經過浸泡的所述帶材噴射施加了超聲波振動的清洗液，去除附著在該帶材上的異物的超聲波清洗工序。
通過上述構成，在浸泡工序時，附著在帶材上的異物膨脹，附著力減弱。另外，由于對完成浸泡工序的帶材進行超聲波清洗工序，可以防止從帶材上除下的異物再附著在帶材上。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序中，在設置在搬送線上的噴射位置固定所述帶材，噴射所述清洗液。
通過上述構成，即使在超聲波清洗工序向帶材噴射清洗液，帶材也不搖動，能夠容易地從帶材上將異物除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序前，設有去除附著在經過浸泡的所述帶材上的異物的前清洗工序。
通過上述構成，在超聲波清洗工序中附著在帶材上的異物的量減少了，能夠容易地從帶材上將異物除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述前清洗工序中，將經過浸泡的所述帶材向上方搬送。
通過上述構成，與將經過浸泡的帶材向水平方向搬送時相比，使在前清洗工序中的清洗距離變長。因此在超聲波清洗工序附著在帶材上的異物數進一步減少了，能夠更容易地從帶材上將異物除去。
再有，本發(fā)明的帶材清洗方法，將在所述前清洗工序中向上方搬送的所述帶材的傾斜角度優(yōu)選設置為10°～170°。
這里，帶材的傾斜角度小于10°或者超過170°時，與將帶材向水平方向搬送時相比，在前清洗工序中的帶材的清洗距離基本相同，因此，異物的去除處理性基本不變，不優(yōu)先考慮。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述前清洗工序中，將經過浸泡的所述帶材向水平方向搬送。
通過上述構成，與將經過浸泡的帶材向上方搬送時相比，能夠減少搬送區(qū)域。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序后，設有去除附著在所述帶材上的異物的后清洗工序。
通過上述構成，即使在超聲波清洗工序中清洗后的帶材上仍有殘留異物，也能除去。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序或者所述后清洗工序的任一工序后，設有對清洗完后的所述帶材進行干燥的干燥工序。
通過上述構成，與將帶材的清洗和干燥分別進行相比，能夠縮短從帶材的清洗到干燥所需時間。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述干燥工序前，設有去除附著在清洗完后的所述帶材上的清洗液的除水工序。
通過上述構成，由于干燥工序時的清洗液的量減少了，干燥時間得到縮短。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法是清洗重疊了隔離帶的所述帶材的方法，其特征在于，包括設置在所述浸泡工序前的，邊分離所述隔離帶邊將所述帶材向搬送線輸送的供給工序；設置在所述干燥工序后的，邊向被干燥的清洗完后的所述帶材重疊另外的隔離帶，邊進行收納的收納工序。
通過上述構成，可以很好地進行從帶材上的隔離帶的分離以及防止清洗后的帶材表面(例如帶材表面上的布線圖形)損傷。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，在所述收納工序后，設有將收納的所述帶材在無塵狀態(tài)下捆包的無塵捆包工序。
通過上述構成，可以防止清洗、干燥完后的帶材在捆包時附著異物。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其特征在于，所述帶材為電子部品用薄膜載帶，而所述帶材清洗方法為，去除附著在該電子部品用薄膜載帶上的異物的方法。
通過上述構成，對于電子部品封裝用薄膜載帶，可以得到與所述帶材清洗方法具有的作用相同的作用。
本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將帶材浸泡在液體(純水或者純水和清洗液的混合液)中，使附著在帶材上的異物膨脹，或者吸收水分使附著力減弱，因此能夠利用超聲波清洗機構容易地將異物除去。另外對經過了浸泡槽的帶材利用超聲波清洗機構進行異物的去除，可以防止從帶材上除去的異物再附著到帶材上。從而能夠提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，即使利用超聲波清洗機構向帶材噴射清洗液，通過固定機構使得帶材不產生搖動。因此可以從帶材上容易地將異物除去。從而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過預先利用前清洗機構去除異物，使得在利用超聲波清洗機構清洗時附著在帶材上的異物數量減少。因此從帶材上可以更容易地將異物除去。從而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將經過浸泡的帶材利用多個導向機構向上方搬送，與將帶材向水平方向搬送時的場合相比，使利用前清洗機構的帶材的清洗距離變長。因此在利用超聲波清洗機構清洗時，附著在帶材上的異物數量進一步減少了，可以更容易地將異物除去。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將向上方搬送的帶材的傾斜角度設置為10°～170°，與向水平方向搬送時相比充分確保了利用前清洗機構的帶材的清洗距離變長，能夠確實可靠地得到高洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將經過浸泡的帶材利用多個導向機構向水平方向搬送，與將帶材向上方搬送時相比，降低了裝置的高度。因而能夠縮小設置空間。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將位于超聲波清洗機構側的導向機構兼作固定機構，減少了部件的數量。因而能夠降低制造成本并提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，即使在利用超聲波清洗機構清洗后仍然殘留有異物，也可以通過后清洗機構將異物除去。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將帶材的清洗和干燥在同一個裝置上進行，與將帶材的清洗和干燥分別進行時相比，縮短了從帶材的清洗到干燥所需的時間。因而能夠提高帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過將附著在清洗后的帶材上的清洗液預先利用除水機構去除，使干燥時的清洗液的殘余量減少了。通過其可以縮短干燥時間，從帶材的清洗到干燥所需的時間也得到進一步縮短。因而能夠進一步提高帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，為邊供給帶材邊隔離帶分離，邊重疊隔離帶邊收納清洗后的帶材。因此，可以很好地進行從帶材上的隔離帶的分離以及防止清洗后的帶材表面(例如帶材表面上的布線圖)損傷。因而能夠提高重疊了隔離帶的帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，通過具備無塵捆包室，可以防止在捆包清洗、干燥完后的帶材時附著異物。因而能夠提高帶材的品質。
另外，本發(fā)明的帶材清洗裝置，作為電子部品封裝用薄膜載帶用的清洗裝置，在清洗電子部品封裝用薄膜載帶時，能夠得到與所述帶材清洗裝置所具有的效果相同的效果。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過將帶材浸泡在液體(純水或者純水和清洗液的混合液)中，使附著在帶材上的異物膨脹潤滑或者吸收水分而附著力減弱，因此能夠在超聲波清洗工序時容易地將異物除去。另外由于對經過了浸泡工序的帶材進行超聲波清洗工序，可以防止從帶材上除去的異物再附著到帶材上。因而能夠提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，在超聲波清洗工序中即使向帶材噴射清洗液，也使帶材不產生晃動，可以從帶材上容易地將異物除去。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過預先利用前清洗工序將異物除去，使得在超聲波清洗工序時，附著在帶材上的異物數量減少了，可以更容易地從帶材上去除異物。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過將經過浸泡的帶材向上方搬送，與將帶材向水平方向搬送時相比，確保在前清洗工序中的帶材的清洗距離變長。因此在超聲波清洗工序時，附著在帶材上的異物數量進一步減少了，可以從帶材上更容易地將異物除去。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過將經過浸泡向上方搬送的帶材的傾斜角度設置為10°～170°，與向水平方向搬送時相比，由于充分確保了在前清洗工序中的帶材的清洗距離變長，能夠確實可靠地得到高洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過將經過浸泡的帶材向水平方向搬送，與將帶材向上方搬送時相比，降低了搬送區(qū)域的高度。因而能夠縮小搬送區(qū)域。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，即使在超聲波清洗工序清洗后的帶材上異物仍有殘留，也可通過后清洗工序將其去除。因而能夠進一步提高帶材的洗凈度。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過對清洗完后的帶材接著進行干燥，與將帶材的清洗和干燥分別進行時相比，縮短了從帶材的清洗到干燥所需的時間。因而能夠提高帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過將附著在清洗完后的帶材上的清洗液預先利用除水工序去除，干燥工序時的清洗液的殘余量減少了。由于利用其可以縮短干燥時間，從帶材的清洗到干燥所需的時間也得到進一步縮短。因而能夠進一步提高帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，邊供給帶材邊分離隔離帶，邊重疊其他的隔離帶邊收納清洗后的帶材。因此，可以有效地進行帶材的隔離帶的分離以及防止清洗后的帶材表面(例如帶材表面上的布線圖)損傷。因而能夠提高重疊了隔離帶的帶材的生產率。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，通過設有無塵捆包工序，可以防止在捆包清洗、干燥完后的帶材時附著異物。因而能夠提高帶材的品質。
另外，本發(fā)明的帶材清洗方法，其構造是作為電子部品封裝用薄膜載帶用的清洗方法，在清洗電子部品封裝用薄膜載帶時，能夠得到與所述帶材清洗方法所具有的效果相同的效果。


圖1為本發(fā)明的第具體實施方式
的帶材清洗裝置示意圖。
圖2為上述具體實施方式
的帶材清洗裝置的俯視圖。
圖3為圖1的要部放大圖。
圖4為本發(fā)明的第具體實施方式
的帶材清洗裝置要部示意圖。
圖5為本發(fā)明的第具體實施方式
的帶材清洗裝置要部示意圖。
圖6為本發(fā)明的第具體實施方式
的帶材清洗裝置的要部示意圖。
附圖標記1 帶材清洗裝置3 帶材供給機構5 帶材收納機構24 捆包室43 暖風加熱器47 第3導向輪48 第4導向輪100 帶材
110 搬送線110a 噴射位置200 帶材清洗裝置240 導向輪241 導向輪300 帶材清洗裝置348 導向輪400 帶材清洗裝置411 浸泡槽422 吹拂器448 固定機構4131 前清洗機構4132 超聲波清洗機構4133 后清洗機構α傾斜角度具體實施方式
下面，參照附圖對本發(fā)明的具體實施方式
進行詳細說明。
第具體實施例方式圖1為根據本發(fā)明第具體實施方式
的帶材清洗裝置1的示意圖。該清洗裝置1是用于TAB帶的薄膜載帶100的清洗裝置。其中在具體實施方式
中，以下將薄膜載帶100簡稱為帶材100進行說明。
所述帶材清洗裝置1，裝置1整體設置在凈化房R內，包括設置在凈化房R的地板F上的凈化室2；依次排列設置在凈化室2內的地板F上的帶材供給機構3、帶材清洗機構4、帶材收納機構5；設置在凈化室2外的地板F上的控制裝置(省略圖示)。另外，也可以不設置凈化室2，直接在凈化房R內分別設置帶材供給機構3、帶材清洗機構4、帶材收納機構5以及所述控制裝置構成帶材清洗裝置。
如圖2所示，凈化室2包括在一排連續(xù)設置的三個收納室21～23和；與一端的收納室23的側面鄰接的捆包室24。
三個收納室21～23以分別獨立狀態(tài)收容帶材供給機構3、帶材清洗機構4和帶材收納機構5。帶材供給機構3的收納室21的側面設置為可以開啟，以便操作者可以進行帶材100的安裝等。
另外，捆包室24，設置為使操作者可以進行清洗完后的帶材100的捆包作業(yè)的大小。為使操作者可以進出，側面設置為可以開啟。再有，該捆包室24具有比其他的收納室21～23更高的防塵功能。
另外，所述帶材供給機構3，是將清洗前的帶材100向帶材清洗機構4輸送的裝置。該帶材供給機構3包括設置在收納室21內的地板F上的支撐體(省略圖示)；設置在該支撐體的上部通過回轉軸31可拆卸的帶材供給卷盤33；設置在所述支撐體的下部，通過另外的回轉軸32可拆卸的隔離帶卷取卷盤34；配置在所述支撐體上的兩個導向輪35、36；與雙方的回轉軸31、32連接的驅動機構(省略圖示)。
帶材供給卷盤33，通過回轉軸31可旋轉地支撐在所述支撐體上。并且該卷盤33上卷有端部連接有引帶的帶材100；和重疊在該帶材100的布線圖面100a側的隔離帶101。
另外，隔離帶卷取卷盤34，通過回轉軸32可旋轉地支撐在所述支撐體上。并且該卷盤34能夠將卷在帶材供給卷盤33上的隔離帶101卷出，清洗前設為空的狀態(tài)。
另外，多個導向輪35、36，包括在雙方的卷盤33、34之間設置在所述支撐體上的用于纏繞隔離帶的導向輪35；比帶材供給卷盤33更靠近帶材清洗機構4一端并設置在所述支撐體上的用于供給帶材的導向輪36。
隔離帶卷取用導向輪35，向從帶材供給卷盤33出來的隔離帶101給與牽引力的同時，將該隔離帶101向隔離帶卷取卷盤34引導。
另外，帶材供給用導向輪36，向從帶材供給卷盤33出來的帶材100給與牽引力的同時，將該帶材100向帶材清洗機構4引導。
另外，所述驅動機構，使上端的回轉軸31向帶材100的供給方向A旋轉，使得帶材供給卷盤33將帶材100輸送至帶材清洗機構4。
再有，所述驅動機構，使下端的回轉軸32向隔離帶101的取出方向B(與供給方向A相反的方向)旋轉，使得隔離帶卷取卷盤34能夠從帶材供給卷盤33將隔離帶101分離并纏繞。
另外，所述帶材清洗機構4是將從帶材供給機構3傳送來的帶材100清洗，然后除水以及使其干燥的裝置。該帶材清洗機構4包括設置在收納室22內的地板F上的清洗部41；設置在清洗部41的上端的除水部42；與除水部42相鄰，設置在收納室22內的本發(fā)明的干燥機構，即暖風加熱器43；在收納室22內呈略U字形配置的多個導向輪44～49。
多個的導向輪44～49，包括在除水部42的帶材供給機構3側設置的第1導向輪44、45；在該導向輪44、45的下方，在清洗部41內的下部設置的第2導向輪46；在第2導向輪46的帶材收納機構5側水平設置的第3導向輪47；在清洗部41內，在從第3導向輪47向帶材供給機構3側斜上方設置的第4導向輪48；在第4導向輪48的上方，與除水部42相鄰設置的第5導向輪49。
第1導向輪44、45，將從帶材供給用導向輪36傳送來的帶材100夾持的同時朝第2導向輪46方向向下引導。
另外，第2導向輪46，將從第1導向輪44、45傳送來的帶材100朝第3導向輪47方向水平引導。
另外，第3導向輪47，將從第2導向輪46傳送來的帶材100朝第4導向輪48方向向斜上方引導。
另外，第4導向輪48，將從第3導向輪47傳送來的帶材100朝第5導向輪49方向向上引導。
另外，第5導向輪49，將從第4導向輪48傳送來的帶材100向帶材收納機構5水平方向引導。
另外，所述清洗部41包括設置在地板F上的浸泡槽411；與浸泡槽411連接的循環(huán)系統412；設置在浸泡槽411內的清洗部本體413。
浸泡槽411，如圖3所示，內部具有收納空間411a。另外，在浸泡槽411的上面，在與帶材供給機構3以及除水部42的重合部分，設有使帶材100通過的穿插口(省略圖示)。
并且，在所述收納空間411a內，為埋沒第2導向輪46以及第3導向輪47存留有浸泡水411b，利用其浸泡搬送中的帶材100。其中，用于浸泡水411b的液體，是純水或者純水與清洗劑的混合物，其可以根據帶材100的種類適當改變。
另外，在浸泡槽411的底面，設有排水口以及進水口(省略圖示)，該排水口和進水口連接有循環(huán)系統412。
循環(huán)系統412，包括通過排水管412a與浸泡槽411的所述排水口連接的泵412b；連接在泵412b的出口側的過濾器412c；連接在過濾器412c的出口側的殺菌機構412d，殺菌機構412d的出口側通過進水管412e與浸泡槽411的所述進水口連接。
并且，循環(huán)系統412利用泵412b將浸泡槽411內的浸泡水411b抽上來，利用過濾器412c過濾，將灰塵等異物除去，接著利用殺菌機構412d進行殺菌，使浸泡水411b循環(huán)。
另外，所述清洗部本體413，包括在第3導向輪47和第4導向輪48之間設置的一對前清洗機構4131、4131；與第4導向輪48相對設置的超聲波清洗機構4132；在第4導向輪48的上方設置的一對后清洗機構4133、4133。
前清洗機構4131、4131，隔著穿過第3導向輪47和第4導向輪48間的帶材100而相向設置，包括用于存儲清洗液的存儲箱(省略圖示)；與該箱連接，向帶材100的兩面噴射所述清洗液的噴嘴4131a。
另外，超聲波清洗機構4132，包括用于存儲清洗液的存儲箱(省略圖示)；與該箱連接，向帶材100的布線圖形面100a噴射膜狀清洗液的噴嘴4132a；為該清洗液施加超聲波振動的振動板4132b；使該振動板4132b產生超聲波振動的超聲波發(fā)生器(省略圖示)。
另外，后清洗機構4133、4133，隔著穿過第4導向輪48的帶材100而相向的位置上設置，包括用于存儲清洗液的存儲箱(省略圖示)；與該存儲箱連接，向帶材100的兩面噴射所述清洗液的噴嘴4133a。
另外，除水部42，包括在浸泡槽411上設置的收納部421；在收納部421內設置的本發(fā)明的除水機構的兩組吹拂器422、422。
收納部421，在內部具有收納空間421a，在上下面，面向浸泡槽411的所述穿插口，分別設有使帶材100通過的穿插口(省略圖示)。
另外，吹拂器422、422，隔著帶材100，相向設置，包括存儲壓縮空氣的存儲箱(省略圖示)；與該箱連接，向帶材100的兩面吹拂空氣的噴嘴422a。
另外，暖風加熱器43隔著穿過第5導向輪49的帶材100，相向設置，包括暖風加熱器本體43a；向帶材100的兩面分別吹拂暖風的吹風口43b。
另外，如圖1所示，所述帶材收納機構5是收納經過清洗、除水以及干燥后的帶材100的裝置。該帶材收納機構5包括設置在收納室23內的地板F上的支撐體(省略圖示)；通過回轉軸51可拆卸地設置在該支撐體的下部的隔離帶供給卷盤53；通過另外的回轉軸52可拆卸地設置在所述支撐體的上部的帶材卷取卷盤54；配置在所述支撐體上的多個導向輪55～57；與兩個回轉軸51、52連接的驅動機構(省略圖示)。
隔離帶供給卷盤53，通過回轉軸51可以旋轉地支撐在所述支撐體上，在該卷盤53上卷有與所述隔離帶101不同的隔離帶102。
另外，帶材卷取卷盤54，可旋轉地支撐在所述支撐體上。并且，在該卷盤54上，將經過了暖風加熱器43傳送過來的帶材100，與卷取在隔離帶供給卷盤53上的隔離帶101重疊纏繞，清洗前設置為空的狀態(tài)。
另外，多個的導向輪55～57，包括在兩個卷盤53、54之間，在隔離帶供給卷盤53側設置的隔離帶供給用導向輪55；在帶材卷取卷盤54側設置的隔離帶卷取用導向輪56；在帶材卷取卷盤54的上方設置的帶材卷取用導向輪57。
隔離帶供給用的導向輪55，向從隔離帶供給卷盤53出來的隔離帶102施加牽引力的同時，將該隔離帶102向隔離帶卷取用導向輪56引導。
另外，隔離帶卷取用導向輪56，向從隔離帶供給用導向輪55傳送來的隔離帶102進一步施加牽引力的同時，將該隔離帶102向帶材卷取卷盤54引導。
另外，帶材卷取用導向輪57，向穿過暖風加熱器43后傳送過來的帶材100施加牽引力的同時，將該帶材100向帶材卷取卷盤54引導。
另外，所述驅動機構使下端的回轉軸51向隔離帶102的供給方向C旋轉。使得隔離帶供給卷盤53向帶材卷取卷盤54輸送隔離帶102。
再有，所述驅動機構使上端的回轉軸52向帶材100以及隔離帶102的卷取方向D旋轉。使得帶材卷取卷盤54將帶材100和卷在隔離帶供給卷盤53上的隔離帶101重疊纏繞。
另外，所述帶材卷取用導向輪57，與所述帶材供給用導向輪36以及收納室22內的多個的導向輪44～49，構成帶材100的搬送線110。
該搬送線110，在收納室22內呈略U字狀，從第3導向輪47向第4導向輪48，將帶材100向斜上方搬送時的帶材100的傾斜角度設置為45°。
再有，上述導向輪36、44～49、57和所述帶材供給機構3以及所述帶材收納機構5的驅動機構，和設置在兩個機構3、5上的卷盤33、34、53、54構成帶材100的搬送機構。
另外，所述控制裝置分別與帶材供給機構3的驅動機構、帶材收納機構5的驅動機構、循環(huán)系統412、清洗部本體413、吹拂器422、422以及暖風加熱器43等連接，控制這些機構的動作。
基于上述構成，下面對帶材100的清洗方法進行說明。首先，操作者從帶材供給卷盤33將帶材100和隔離帶101拽出，將隔離帶101的端頭固定到隔離帶卷取卷盤34上。
對拽出的帶材100，在端頭連接引帶(省略圖示)的一端，將該引帶順次穿過各導向輪36、44、45、46～49、57。然后，從隔離帶供給卷盤53將隔離帶102拽出，并穿過兩個導向輪55、56，與所述引帶重疊并連接到帶材卷取卷盤54上。
接著，打開所述控制裝置，啟動帶材供給機構3的驅動機構以及帶材收納機構5的驅動機構，將帶材100向搬送方向A搬送的同時，啟動連接在該控制裝置上的所述各機構以及所述各設備，順序執(zhí)行如下所述工序。
供給工序帶材供給卷盤33向搬送方向A旋轉，帶材100被拽出，從帶材供給用導向輪36進入搬送線110。另外與此同時，隔離帶卷取卷盤34也向卷取方向B旋轉，，隔離帶101從帶材100上分離并通過隔離帶卷取用導向輪35被纏繞到隔離帶卷取卷盤34上。
浸泡工序從帶材供給機構3進入到搬送線110上的帶材100，如圖3所示，通過第1導向輪44、45被搬送至下方，進入浸泡槽411的浸泡水411b中，并通過第2導向輪46向前方(帶材收納機構5側)改變方向，到第3導向輪47為止，水平搬送的同時被浸泡。
前清洗工序搬送來的帶材100通過第3導向輪47被向后方(帶材供給機構3一側)折返，到第4導向輪48為止，向斜上方搬送的同時，通過前清洗機構4131、4131向搬送中的帶材100的兩面噴射清洗液。
超聲波清洗工序搬送來的帶材100通過第4導向輪48被固定的同時，通過超聲波清洗機構4132向布線圖形面100a噴射清洗液。
后清洗工序經過了超聲波清洗機構4132的帶材100，到第5導向輪49為止，向上方搬送的同時，在浸泡槽411內，通過后清洗機構4133、4133向帶材100的兩面噴射清洗液。
除水工序經過了后清洗機構4133、4133的帶材100，進入除水部42的收納部421，通過兩組的吹拂器422、422向帶材100的兩面吹拂壓縮空氣。
干燥工序經過了吹拂器422、422的帶材100通過第5導向輪49向右方(帶材收納機構5側)改變方向，在暖風加熱器43內水平搬送。此時，從吹出口43b、43b向帶材100的兩面吹拂暖風。
收納工序經過了暖風加熱器43的帶材100，如圖1所示，通過帶材卷取用導向輪57被輸送到帶材卷取卷盤54。與此同時，隔離帶供給卷盤53向供給方向C旋轉，隔離帶102通過兩個導向輪55、56被輸送到帶材卷取卷盤54。
然后，帶材卷取卷盤54，通過向卷取方向D旋轉，使經過清洗、干燥的帶材100與從隔離帶供給卷盤53輸送來的隔離帶102重疊并纏繞到卷盤54上。
無塵捆包工序
帶材100在與隔離帶102重疊的狀態(tài)下，全部纏繞到卷取卷盤54上后，操作者將該卷取卷盤54從回轉軸52上拆下運往捆包室24(參照圖2)，執(zhí)行捆包作業(yè)。
如上所述，在帶材100的清洗中，在清洗前，在浸泡工序將帶材100浸泡在浸泡水411b中。這樣，由于附著在帶材100上的異物發(fā)生膨脹或者吸收水分，相對于帶材的異物的附著力被減弱。
因此，在超聲波清洗工序中，可以通過超聲波清洗機構4132容易地將異物從帶材100上除去。另外，通過超聲波清洗機構4132的異物的去除方法與現有技術不同，由于是對經過浸泡的帶材100進行的，因此可以防止從帶材100上除去的異物重新附著在帶材100上。因而，本具體實施方式
的帶材清洗裝置1以及帶材清洗方法，能夠提高帶材100的洗凈度。
其中，為浸泡搬送中的帶材100，配置在浸泡槽411內的第2導向輪46和第3導向輪47間的距離110L(參照圖3)，優(yōu)先設置為附著在帶材100上的異物在浸泡水411b中能夠充分膨脹或者吸收水分的適當距離(300mm～2000mm)。
另外，在超聲波清洗工序中，在向帶材100噴射清洗液時，由于帶材100通過第4導向輪48被固定在搬送線110的噴射位置110a，不會有任何搖動。因此，可以從帶材上更容易地將異物除去，能夠進一步提高帶材100的洗凈度。
其中，超聲波清洗機構4132，將噴嘴4132a的前端和帶材100的布線圖面110a間的距離，一般優(yōu)選設置為1mm～50mm，進一步優(yōu)選設置為10mm～30mm。
這里，如果噴嘴4132a的前端和帶材100的布線圖面110a間的距離太近，當布線圖形面100a中含有內部引線時，由于噴嘴4132a的噴射壓力，內部引線可能會彎曲，故不推薦。另一方面，如果噴嘴4132a的端頭和帶材100的布線圖形面110a間的距離太遠，從噴嘴4132a噴射出來的清洗液，由于不能充分到達布線圖面100a而使洗凈度降低，故不推薦。
因此，通過將噴嘴4132a的前端和帶材100的布線圖面110a間的距離設置為所述適當距離，防止內部引線彎曲的同時，可以防止帶材100的洗凈度降低。例如，為防止具有元器件孔的3層構成帶上的內部引線彎曲，通過將噴嘴4132a的前端和帶材100的布線圖面110a間的距離設置在10mm～30mm的范圍內來解決。
另外，在超聲波清洗工序前，在前清洗工序中，由于通過前清洗機構4131、4131向帶材100噴射清洗液，在此時已經對附著在帶材100上的異物進行去除。
因此，在超聲波清洗工序中，與沒有前清洗工序時相比，附著在帶材100上的異物數量減少了，異物的去除處理變得更容易，可以進一步提高帶材100的洗凈度。
另外，在前清洗工序中，將經過浸泡的帶材100向斜上方搬送。這樣與將經過浸泡的帶材100向水平方向搬送時相比，由于前清洗機構4131、4131的清洗距離4131L變長，可以更多地去除附著在帶材100上的異物。
因此，在超聲波清洗工序中，由于附著在帶材100上的異物數量變得更少了，異物的去除處理變得更容易，可以進一步提高帶材100的洗凈度。
在本
具體實施例方式
中，在前清洗工序，雖然將向上方搬送的帶材100的傾斜角度α設置為45°，但傾斜角度不必限定為該角度，優(yōu)選設置為10°～170°的范圍，進一步優(yōu)選設置為10°～89°或者91°～170°的范圍。
這里，當帶材100的傾斜角度低于10°或者超過170°時，無法確保前清洗機構4131、4131的設置場所，另外，與將帶材100向水平方向搬送時相比，前清洗機構4131、4131的清洗距離基本相同，因此異物的去除處理性基本不變，故不予考慮。
另外，當帶材100的傾斜角度為90°時，與傾斜角度為10°～89°或者91°～170°時相比，由于第4導向輪48和帶材100形成點接觸，導向輪48很難將帶材100固定到搬送線110，不能充分發(fā)揮作為導向輪48的作用，故不予考慮。
因此，通過將帶材100的傾斜角度設置在10°～170°的范圍內，與將帶材100向水平方向搬送的場合相比，前清洗機構4131、4131的清洗距離4131L，具體地說，是從前清洗機構4131、4131噴射到帶材100上的清洗液流下的距離4131L確保足夠長度，能夠確實可靠地得到高洗凈度。
另外，在本具體實施方式
的帶材清洗裝置1中，使帶材100傾斜的兩個導向輪47、48中，將超聲波清洗機構側的導向輪48兼作本發(fā)明的固定機構。這樣，在減少部件數量，確保足夠的前清洗機構4131、4131清洗距離的同時，即使有清洗液從超聲波機構4132噴射也可以防止帶材100的搖動。因此，本具體實施方式
的帶材清洗裝置1，能夠降低制造成本并提高帶材100的洗凈度。
另外，超聲波清洗工序完后的帶材100，在后清洗工序中，通過后清洗機構4133、4133噴射清洗液。因此，在進行了超聲波清洗工序后，即使在帶材100上仍殘留異物，或者在超聲波清洗工序與第4導向輪48接觸，造成在帶材100的布線圖面100a和背面上重新附著上異物，也可以將這些異物除去。因而能夠進一步提高帶材100的洗凈度。其中在超聲波清洗工序中，只要能夠去除到附著在帶材100上的異物數不至于導致帶材100的品質降低的程度，可以不執(zhí)行該后清洗工序。
另外，對于后清洗工序完后的帶材100，進入干燥工序前在除水工序中，通過吹拂器被吹拂壓縮空氣。這樣可以吹飛附著在帶材100上的清洗液，到干燥工序時清洗液的量變少。因此，與沒有除水工序時相比，能夠縮短帶材100的干燥時間，可以進一步提高帶材100的生產率。
另外，在本具體實施方式
中，由于在帶材100的清洗后接著還通過暖風加熱器43進行干燥，與帶材100的清洗和干燥分別進行的場合相比，能夠縮短帶材100的生產所需時間。從而可以提高帶材100的生產率。
其中，暖風加熱器43，為了蒸發(fā)附著在帶材100上的清洗液，優(yōu)選設置為全長(沿帶材100的搬送方向的長度)為500mm～3000mm，暖風溫度為60℃～140℃。
另外，本具體實施方式
中，供給帶材100的同時將隔離帶101分離，并且向清洗、干燥后的帶材100重疊另外的隔離帶102并進行收納。因此能夠圓滑地進行從帶材100的隔離帶101的分離，以及防止清洗后的帶材表面100a(如在帶材表面110a上的布線圖)損傷。因而，如本具體實施方式
所述，可以提高重疊了隔離帶并作為產品的帶材100的生產率。
再有，本具體實施方式
中，通過具備無塵狀態(tài)的捆包室24，可以防止清洗、干燥完后的帶材100在捆包時附著異物。因而，可以提高帶材100的品質。
第具體實施例方式圖4為本發(fā)明的第具體實施方式
的帶材清洗裝置200的局部示意圖。在本具體實施方式
中，與第具體實施方式
相同的部分標有相同的標記，以不同的部分為中心進行說明。
本具體實施方式
的帶材清洗裝置200，具有將通過浸泡槽411浸泡后的帶材100向水平方向折返引導的三個導向輪47、240、241，前清洗機構4131、4131清洗通過這些導向輪47、240、241搬送到水平方向的帶材100。
通過上述構成，與將經過浸泡的帶材100向上方搬送相比，可以將帶材100的搬送區(qū)域，換言之，可以將清洗裝置200的高度200h，比在第具體實施方式
中記述的清洗裝置1的高度1h(參照圖3)控制到更低。因而，本具體實施方式
的帶材清洗裝置200，能夠縮小設置空間。
再有，超聲波清洗機構4132側的導向輪241，兼作本發(fā)明的固定機構，從而能夠減少部件數量。因而，本具體實施方式
的清洗裝置200，和第具體實施方式
的帶材清洗裝置1一樣，可以降低制造成本并提高帶材100的洗凈度。
第具體實施例方式圖5為本發(fā)明的第具體實施方式
所示帶材清洗裝置300的局部示意圖。在本具體實施方式
中，與第具體實施方式
相同的部分標有相同的標記，以不同的部分為中心進行說明。
在本具體實施方式
的帶材清洗裝置300中，本發(fā)明的固定機構由沿著搬送線100a上下分離設置的三個導向輪348構成。
通過上述構成，與第具體實施方式
的導向輪48以及第具體實施方式
的導向輪241相比，由于增加了導向輪的數量，可以確保與帶材100的接觸距離變長，能夠將帶材100穩(wěn)定地固定在搬送線100a上。
因此，即使從超聲波機構4132向帶材100噴射清洗液，也可以可靠地防止帶材100的搖動。因而，本具體實施方式
的帶材清洗裝置300，能夠提高帶材100的洗凈度。
再有，位于最下側的導向輪348，由于是構成將經過浸泡的帶材100向斜上方搬送的兩個導向機構之一(超聲波清洗機構4132側)，因此與所述各具體實施方式
一樣，可以降低制造成本并提高帶材100的洗凈度。
第具體實施例方式
圖6為本發(fā)明的第具體實施方式
中的帶材清洗機構400的局部示意圖。在本具體實施方式
中，與第具體實施方式
相同的部分標有相同的標記，以不同的部分為中心進行說明。
在本具體實施方式
的帶材清洗裝置400中，本發(fā)明的固定機構448呈傳送帶形狀構成，包括沿著搬送線110上下分離設置的一對滑輪448a、448a；掛在兩個滑輪448a、448a上的環(huán)狀傳動帶448b。
上述構成中，該固定機構448與第具體實施方式
的導向輪48以及第具體實施方式
的導向輪241相比，帶材100的接觸面積及接觸距離更大，能夠將帶材100安定地固定在搬送線110上。
因此，即使從超聲波機構4132向帶材100噴射清洗液，也可以可靠防止帶材100的搖動。從而，本具體實施方式
的帶材清洗裝置400，能夠提高帶材100的洗凈度。
再有，該固定機構448，由于是構成將經過浸泡的帶材100向斜上方搬送的兩個導向機構之一(超聲波清洗機構4132側)，因此與所述各具體實施方式
一樣，可以降低制造成本并提高帶材100的洗凈度。
其中，在具體實施方式
中，關于清洗TAB帶、COF帶、BGA帶、CSP帶等電子部品封裝用薄膜載帶的情況進行了記述，但關于在具體實施方式
中記述的隔離帶以及如FPC等寬卷狀帶材適用本發(fā)明時，也可以得到與在具體實施方式
中記述的效果同樣的效果。另外，帶材清洗裝置，可以根據所清洗的帶材的種類改換清洗液的類型，也可以改變搬送機構、各清洗機構、除水機構、干燥機構的構成，以及它們的控制方法。
另外，在具體實施方式
中，對在凈化室2內設置了一臺帶材清洗裝置1的情況進行了記述，但能設置的帶材清洗裝置1的數量不限于此，例如也可以在凈化室2內，將多臺帶材清洗裝置1并排設置。再有，在具體實施方式
中，將超聲波清洗機構4132設置在了浸泡水411b的上方，也可以將包括該超聲波清洗機構4132、如圖4所示，另外的超聲波清洗機構500(以雙點劃線圖示)或者與所述超聲波清洗機構4132同樣的機構，將噴嘴插入浸泡水411b中設置。
以下，通過列舉實施例以及比較例對本發(fā)明進行詳細說明。但是，本發(fā)明并不僅僅限于以下實施例。
實施例1帶材100的清洗使用在第具體實施方式
中記述的帶材清洗裝置1。但是，為了明確與比較例的效果的差別，沒有使用前清洗機構4131、4131。在本實施例中使用的帶材100的種類以及帶材清洗裝置1的各種條件如下所示。
(1)作為清洗對象的帶材100使用了兩層結構的COF用薄膜載帶。該帶由厚度為38μm的基本薄膜層，和厚度為8μm的銅層構成。
(2)搬送機構將搬送速度設置為3m/min。
(3)浸泡槽411使用純水，水溫設置為25℃。
(4)超聲波清洗機構4132使用Kaizyo(株)制產品(超聲波發(fā)生器型號68101，振動板型號6879BK)。并且設定振動頻率950kHz、水流量25L/分、噴射壓力0.2MPa。
(5)后清洗機構4133、4133設定水流量4L/分、噴射壓力0.2MPa。
(6)暖風加熱器43全長2000mm，溫度設定為100℃±5℃。
殘余在清洗后的帶材100上的異物數的測定將附著在出廠前的帶材卷取卷盤54上卷取的帶材100最外面的異物數，使用實體顯微鏡(光學顯微鏡)在10倍的放大倍數下觀察，統計50μm以上大小的異物。
實施例2帶材100的清洗使用在第具體實施方式
中記述的帶材清洗裝置200。其他條件與殘余在清洗后的帶材100上的異物數的測定用與實施例1同樣的方法測定異物數。
實施例3帶材100的清洗如圖4所示，使用具有Kaizyo(株)制型號為6281A的振動板501的超聲波清洗機構500(以雙點劃線圖示)。具體地，在第具體實施方式
中記述的帶材清洗裝置200上，將浸泡水411b中設置了與搬送的帶材100上下相對的將噴嘴502插入浸泡水411b中的超聲波清洗機構500。其他條件與實施例2相同設置。
殘余在清洗后的帶材100上的異物數的測定
用與實施例1同樣的方法測定異物數。
比較例帶材100的清洗記載在專利文獻1中的帶材清洗裝置上，使用了與實施例3相同的超聲波清洗機構5。
殘余在清洗后的帶材100上的異物數的測定用與實施例1同樣的方法測定異物數。
<實施例和比較例的比較>
表1中，列出在各實施例和比較例中最終附著在帶材100上的異物數的統計結果。其中異物數為在1m范圍內的平均值。表1中，“白”被認為是由帶材100或者卷盤產生的塑料類有機物?！昂凇笔潜徽J為相當于隔離帶102的導電性涂料成分的無機物?！熬€”可能是由操作者的防塵服等產生的線狀物質?！敖饘佟笨赡苁窃谥圃旃ば蛞约皺z查工序中使用的設備產生的鐵以及鋁等。
表1 從表1可以清楚地看出，本發(fā)明的帶材清洗裝置與現有的帶材清洗裝置相比，有著優(yōu)異的去除附著在帶材100上的異物的能力。
如上所述，本發(fā)明的帶材清洗裝置以及帶材清洗方法，能夠提高帶材的洗凈度，可以在該技術領域充分利用。
權利要求
1.一種帶材清洗裝置，其特征在于，包括，帶材搬送機構；浸泡搬送中的所述帶材的浸泡槽；對在該浸泡槽中經過浸泡的所述帶材噴射施加了超聲波振動的清洗液，以去除附著在該帶材上的異物的超聲波清洗機構。
2.如權利要求1所述帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構包括固定機構，以使所述帶材固定在搬送線上的由所述超聲波清洗機構噴射的噴射位置上。
3.如權利要求1或2中的任一項所述帶材清洗裝置，其特征在于，具有在利用超聲波清洗機構清洗之前，去除附著在在所述浸泡槽中經過浸泡的所述帶材上的異物的前清洗機構。
4.如權利要求3所述帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構具有將在所述浸泡槽中經過浸泡的所述帶材向上方引導的多個導向機構，所述前清洗機構去除附著在通過該多個導向機構搬送到上方的帶材上的異物。
5.如權利要求4所述帶材清洗裝置，其特征在于，將通過所述多個導向機構向上方搬送的所述帶材的傾斜角度設置為10°～170°。
6.如權利要求3所述帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構具有將在所述浸泡槽中經過浸泡的所述帶材向水平方向引導的多個導向機構，所述前清洗機構去除附著在通過該多個導向機構搬送到水平方向的帶材上的異物。
7.如權利要求4至6中的任一項所述帶材清洗裝置，其特征在于，所述搬送機構，在所述多個導向機構中位于所述超聲波清洗機構處的導向機構兼作所述固定機構，所述超聲波清洗機構，向通過該導向機構固定在所述搬送線上的所述帶材噴射所述清洗液。
8.如權利要求1至7中的任一項所述帶材清洗裝置，其特征在于，具有在利用所述超聲波清洗機構清洗后，去除附著在所述帶材上的異物的后清洗機構。
9.如權利要求1至8中的任一項所述帶材清洗裝置，其特征在于，具有使通過所述超聲波清洗機構或者所述后清洗機構清洗后的所述帶材干燥的干燥機構。
10.如權利要求9所述帶材清洗裝置，其特征在于，在所述干燥機構之前，具有去除附著在清洗后的所述帶材上的清洗液的除水機構。
11.如權利要求9或10中的任一項所述帶材清洗裝置，為清洗重疊了隔離帶的所述帶材的裝置，其特征在于，所述搬送機構，包括邊分離所述隔離帶，邊向搬送線輸送所述帶材的帶材供給機構；邊向通過所述干燥機構干燥的經過清洗的所述帶材上重疊另外的隔離帶，邊進行收納的帶材收納機構。
12.如權利要求11所述帶材清洗裝置，其特征在于，具有對通過所述帶材收納機構收納的經過清洗的所述帶材進行無塵捆包的無塵捆包室。
13.如權利要求1至12中的任一項所述帶材清洗裝置，其特征在于，所述帶材為電子部品封裝用薄膜載帶，所述帶材清洗裝置為去除附著在該電子部品封裝用薄膜載帶上的異物的清洗裝置。
14.一種帶材清洗方法，為將帶材邊搬送邊清洗的帶材清洗方法，其特征在于，包括浸泡所述帶材的浸泡工序；向經過浸泡的所述帶材噴射施加了超聲波振動的清洗液，以去除附著在該帶材上的異物的超聲波清洗工序。
15.如權利要求14所述帶材清洗方法，其特征在于，所述超聲波清洗工序中，在設置在搬送線上的噴射位置固定所述帶材，噴射所述清洗液。
16.如權利要求14或15中的任一項所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序前，設有去除附著在經過浸泡的所述帶材上的異物的前清洗工序。
17.如權利要求16所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述前清洗工序中，將經過浸泡的所述帶材向上方搬送。
18.如權利要求17所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述前清洗工序中，將向上方搬送的所述帶材的傾斜角度設置為10°～170°。
19.如權利要求16所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述前清洗工序中，將經過浸泡的所述帶材向水平方向搬送。
20.如權利要求14至19中的任一項所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序后，設有去除附著在所述帶材上的異物的后清洗工序。
21.如權利要求14至20中的任一項所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述超聲波清洗工序或者所述后清洗工序的任一工序后，設有對經過清洗的所述帶材進行干燥的干燥工序。
22.如權利要求21所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述干燥工序前，設有去除附著在經過清洗的所述帶材上的清洗液的除水工序。
23.如權利要求21或22中的任一項所述帶材清洗方法，所述帶材清洗方法為清洗重疊了隔離帶的所述帶材的方法，其特征在于，包括設置在所述浸泡工序之前，邊分離所述隔離帶邊將所述帶材向搬送線輸送的供給工序；設置在所述干燥工序之后，邊向被干燥的經過清洗的所述帶材重疊另外的隔離帶，邊進行收納的收納工序。
24.如權利要求23所述帶材清洗方法，其特征在于，在所述收納工序后，設有將收納的所述帶材在無塵狀態(tài)下捆包的無塵捆包工序。
25.如權利要求14至24中的任一項所述帶材清洗方法，其特征在于，所述帶材為電子部品用薄膜載帶，所述帶材清洗方法是去除附著在該電子部品用薄膜載帶上的異物的方法。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種能夠提高帶材洗凈度的帶材清洗裝置以及帶材清洗方法。在帶材清洗裝置(1)的清洗部(41)中，在浸泡槽(411)內，為埋沒第2導向輪(46)以及第3導向輪(47)，存留有浸泡水(411b)，以此浸泡搬送中的帶材(100)。另外，在該浸泡槽(411)內，與第4導向輪(48)相向設置有超聲波清洗機構(4132)。
文檔編號B08B13/00GK1824397SQ200610008038
公開日2006年8月30日 申請日期2006年2月23日 優(yōu)先權日2005年2月25日
發(fā)明者楢林哲之, 國本慎治, 厚海裕之 申請人:三井金屬礦業(yè)株式會社