專利名稱：快速排水清洗槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型有關(guān)于一種快速排水清洗槽(Quick Dump Rinse Tank；QDR Tank)，特別是有關(guān)于一種具有導(dǎo)流板(Flow Regulator Plate)的快速排水清洗槽，可消除排水時(shí)所引發(fā)的晶圓粘貼效應(yīng)(Sticking Effect)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓的潔凈度對制造的合格率有很大的影響。有鑒于此，通常必須在每一道半導(dǎo)體工藝進(jìn)行之前，以及工藝完成之后，另外再進(jìn)行一道晶圓洗凈的步驟，借以清除附著在晶圓上的材料微粒和化學(xué)殘留物等。
目前，在晶圓洗凈的程序中，快速排水清洗法是相當(dāng)常見的一種晶圓清洗方式。所謂快速排水清洗法是先將放在晶圓座(Wafer Stand)上的晶圓完全浸泡于快速排水清洗槽里的去離子水中，再快速地排除快速排水清洗槽中的去離子水，與此同時(shí)，對晶圓座上的晶圓噴灑去離子水，用于沖洗晶圓。通常，在多槽式(Multi-bath)的濕式機(jī)臺(WetBench)上，晶圓于每一化學(xué)液槽程序后，一般會緊接著快速排水清洗槽步驟，借以去除上一道工序中，沾附于晶圓上的工藝微粒和化學(xué)殘留物。
請參照圖1，圖1為現(xiàn)有的快速排水清洗槽的剖面示意圖。晶圓106、晶圓106a、以及晶圓106b先通過機(jī)械手臂的傳送而擺放在晶圓座101的插槽上，其中晶圓座101已先設(shè)置在快速排水清洗槽100中，而此快速排水清洗槽100中已裝有去離子水。在此快速排水清洗槽100中，一個晶圓座101有區(qū)域108以及區(qū)域110，且區(qū)域108以及區(qū)域110各可放置一批晶圓。快速排水清洗槽100的槽體102的底部中央部分具有排水孔104。當(dāng)快速排水清洗槽100內(nèi)的清洗液體從排水孔104排出時(shí)，清洗液體于接近排水孔104處的流速大于快速排水清洗槽100內(nèi)其它區(qū)域。舉例來說，位于排水孔104上方的晶圓106a與晶圓106b之間清洗液體的流速大于較遠(yuǎn)離排水孔104的晶圓106間清洗液體的流速。根據(jù)伯努利定律(Bemoulli’s Law)，流速愈大的區(qū)域，其壓力就愈小。因此，晶圓106a與晶圓106b間的區(qū)域的壓力小于晶圓106間的區(qū)域的壓力。如此一來，晶圓106a與晶圓106b左右兩側(cè)的壓力差，不僅會造成晶圓106a與晶圓106b本身的振動，也會將晶圓106a與晶圓106b朝彼此推近，甚至使晶圓106a與晶圓106b的上側(cè)粘貼在一起。此外，在晶圓座101未放滿晶圓或晶圓座101中僅放一批晶圓(例如僅放置在區(qū)域108內(nèi))的情況下，不僅晶圓粘貼效應(yīng)更為顯著，而且各晶圓106左右兩側(cè)也會有壓力差產(chǎn)生，晶圓106兩側(cè)的壓力差也會導(dǎo)致晶圓振動現(xiàn)象。因此，在晶圓座101未放滿晶圓或晶圓座101僅放一批晶圓的情況下，上述的晶圓粘貼效應(yīng)與晶圓振動現(xiàn)象不僅僅只是發(fā)生在排水孔104上方。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是提供一種快速排水清洗槽，用以清洗晶圓。本實(shí)用新型的快速排水清洗槽具有導(dǎo)流板，且此導(dǎo)流板設(shè)置在槽體底部的排水孔上方，因此可將槽體內(nèi)的大噴流場轉(zhuǎn)變成數(shù)個小噴流場。
本實(shí)用新型的另一目的是提供一種具有導(dǎo)流板的快速排水清洗槽，可改變排水的流場，而將排出噴流場轉(zhuǎn)變成均勻流場。因此，不僅可改善晶圓振動現(xiàn)象，更可有效消除晶圓粘貼效應(yīng)。
本實(shí)用新型的又一目的是在提供一種快速排水清洗槽，可將槽體內(nèi)往排水孔的流體予以分流，使排水更為滑順。因此，可加快排水速度。
根據(jù)本實(shí)用新型的上述目的，提出一種快速排水清洗槽，可用以清洗晶圓，此快速排水清洗槽至少包括槽體，其中此槽體包括一個排水孔位于槽體的底部；以及一個使槽體的排出噴流場轉(zhuǎn)變成均勻流場的導(dǎo)流板，固定在排水孔上方的槽體上。
依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例，上述的導(dǎo)流板至少包括一個分流板，其中此分流板上至少包括有多個分流孔；多個連接部分別固接在分流板的兩側(cè)，且這些連接部突出于分流板的底部；多個滑軌，其中這些滑軌與上述的連接部接合而固定在分流板的與連接部接合的兩側(cè)的下方，且這些滑軌與分流板的底部之間形成一個活動空間；多個伸縮部分別位于上述滑軌的兩端，且這些伸縮部可活動于滑軌與分流板的底部間所形成的活動空間中，而可依槽體的長度調(diào)整導(dǎo)流板的長度，以使導(dǎo)流板得以固定在槽體上；以及多個調(diào)整元件，用以將完成長度調(diào)整的伸縮部固定在分流板與滑軌之間。其中，上述之分流板還包括一個遮蔽部，當(dāng)導(dǎo)流板固定在槽體內(nèi)時(shí)，此遮蔽部優(yōu)選為位于排水孔的正上方。
由于，導(dǎo)流板的分流孔可將槽體內(nèi)往排水孔的沖洗流體先行予以分流，且大部分的排水孔也被分流板的遮蔽部所遮住。如此一來，可將排水的大噴流流場轉(zhuǎn)變成數(shù)個小噴流流場，而使快速排水清洗槽內(nèi)的流場更為均勻。因此，不僅可有效消除晶圓粘貼效應(yīng)，改善晶圓振動現(xiàn)象，更可使排水更為順暢，進(jìn)而提升排水速度。


圖1為現(xiàn)有快速排水清洗槽的剖面示意圖。
圖2為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的導(dǎo)流板的立體圖。
圖3為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的俯視圖。
圖4為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的剖面圖。
元件代表符號簡單說明100快速排水清洗槽101晶圓座102槽體104排水孔106晶圓106a晶圓106b晶圓108區(qū)域110區(qū)域200導(dǎo)流板
202分流板204分流孔206連接部208滑軌210伸縮部212調(diào)整元件214遮蔽部216間隔300槽體301晶圓座302排水孔304晶圓306快速排水清洗槽308區(qū)域310區(qū)域具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型揭示一種快速排水清洗槽，具有導(dǎo)流板。此導(dǎo)流板設(shè)置于快速排水清洗槽的排水孔上方的槽體內(nèi)，可將排出流場從大噴流轉(zhuǎn)變成數(shù)個小噴流，而使快速排水清洗槽的排出流場更為均勻。因此，可消除晶圓粘貼效應(yīng)，改善晶圓振動問題，并加速排水的速率。為了使本實(shí)用新型的敘述更加詳盡與完備，可參照下列描述并配合圖2至圖4的圖標(biāo)。
當(dāng)快速排水清洗槽排出清洗液體時(shí)，由于快速排水清洗槽的排水孔處的流速較大，造成晶圓左右兩側(cè)產(chǎn)生壓力差，而引發(fā)晶圓粘貼效應(yīng)與晶圓振動現(xiàn)象。晶圓粘貼效應(yīng)會使粘貼在一起的晶圓部分，無法有效清洗。如此一來，會導(dǎo)致晶圓潔凈度下降。因此，本實(shí)用新型提供一種具有導(dǎo)流板的快速排水清洗槽，可消除晶圓粘貼效應(yīng)，并改善晶圓振動問題。
請參照圖2，圖2為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的導(dǎo)流板的立體圖，且請一并參照圖3，圖3為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的俯視圖。導(dǎo)流板200至少包括分流板202、多個連接部206、多個滑軌208、以及多個伸縮部210。其中，分流板202可為整片式結(jié)構(gòu)，亦可為多片組合結(jié)構(gòu)，以利導(dǎo)流板200設(shè)置于快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)。其中，快速排水清洗槽306可例如為KAIJO公司所提供的濕式機(jī)臺的快速排水清洗槽。分流板202上至少包括多個分流孔204以及遮蔽部214，其中這些分流孔204可供液體流過，而遮蔽部214則可用以遮蔽位于快速排水清洗槽306的槽體300底部的排水孔302，如圖3所示。
連接部206固接在分流板202兩側(cè)，并向下延伸而突出于分流板202的底部。兩個滑軌208分別接合在連接部206上，并使這兩個滑軌208位于分流板202兩側(cè)底部下方，且使每一個滑軌208均與分流板202的底部間具有間隔216，而形成活動空間。四個伸縮部210分別位于每一個滑軌208的兩端，并可活動于滑軌208與分流板202的底部間的間隔216中，其中伸縮部210的剖面結(jié)構(gòu)優(yōu)選為套桶結(jié)構(gòu)，而可套接于每一個滑軌208的兩端。但是，伸縮部210的剖面結(jié)構(gòu)亦可為其它可行的結(jié)構(gòu)，例如L型結(jié)構(gòu)或ㄇ字型結(jié)構(gòu)等可使伸縮部210滑動于滑軌208與分流板202的底部間的間隔216中的結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型并不在此限。
導(dǎo)流板200還至少包括有多個調(diào)整元件212，其中這些調(diào)整元件212可為螺絲等可用以調(diào)整物品間接合的松緊度的元件。調(diào)整元件212可僅連接分流板202與伸縮部210，也可連接分流板202、伸縮部210、與滑軌208。當(dāng)調(diào)整元件212松開分流板202與伸縮部間的連接時(shí)，伸縮部210可活動于滑軌208與分流板202的底部間的間隔216，以調(diào)整導(dǎo)流板200的長度。當(dāng)導(dǎo)流板200的長度調(diào)整完成后，可利用調(diào)整元件212將伸縮部210固定在分流板202上或固定在分流板202與滑軌208上。其中，構(gòu)成導(dǎo)流板200的分流板202、連接部206、滑軌208、伸縮部210、以及調(diào)整元件212等的材料優(yōu)選為高硬度、耐高溫、耐酸堿、且抗靜電的材料，例如聚醚醚酮(Polyetheretherkefone；PEEK)。
將導(dǎo)流板200設(shè)置在快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)時(shí)，依據(jù)快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)部的長度，并配合排水孔302的位置，調(diào)整伸縮部210伸出分流板202的長度，借以使導(dǎo)流板200的長度約略等于快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)部的長度，而使導(dǎo)流板200卡置于快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)，并使分流板202的遮蔽部214位于排水孔302的上方，如圖3所示。在設(shè)置導(dǎo)流板200于快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)時(shí)，不需更動原先的快速排水清洗槽306的結(jié)構(gòu)，相當(dāng)易于安裝。
請參照圖4，圖4為依照本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種快速排水清洗槽的剖面圖。晶圓座301位于快速排水清洗槽306的槽體300內(nèi)，晶圓304借由機(jī)械手臂的傳送而擺放在晶圓座301的插槽上，且晶圓304位于導(dǎo)流板200上方。在此晶圓座301中，可至少包括區(qū)域308以及區(qū)域310兩個部分，而區(qū)域308以及區(qū)域310各可用以放置一批晶圓。完成設(shè)置的導(dǎo)流板200，其遮蔽部214位于快速排水清洗槽306的排水孔302的正上方，以避免槽體300內(nèi)的清洗流體直接且快速地從排水孔302排出。導(dǎo)流板200的分流板202中的分流孔204，可先將欲排出的清洗流體予以分流，再于導(dǎo)流板200與槽體300底部間匯流而經(jīng)由排水孔302排出。
由于導(dǎo)流板200的分流板202可將槽體300內(nèi)的清洗流體的大噴流流場轉(zhuǎn)變成數(shù)個小噴流流場，因此可使槽體300內(nèi)的流場分布更為均勻，而使排出噴流場轉(zhuǎn)變成為均勻流場。如此一來，可有效縮減每一片晶圓304左右兩側(cè)的壓力差。
由上述本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例可知，本實(shí)用新型的一個優(yōu)點(diǎn)就是因?yàn)楸緦?shí)用新型的快速排水清洗槽具有設(shè)置在槽體底部的排水孔上方的導(dǎo)流板。因此，可將槽體內(nèi)的排出流場從大噴流場轉(zhuǎn)變成小噴流場，而使槽體內(nèi)的排出流場更為均勻。
由上述本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例可知，本實(shí)用新型另一優(yōu)點(diǎn)就是因?yàn)榭蓪⒉垠w內(nèi)的排出流場分流成數(shù)個較小的排出流場，使槽體內(nèi)的流場更為均勻，而改善每一片晶圓左右兩側(cè)的壓力差問題。因此，不僅可改善晶圓振動現(xiàn)象，更可有效消除晶圓粘貼效應(yīng)，進(jìn)而達(dá)到提高晶圓清洗效率的目的。
由上述本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例可知，本實(shí)用新型還有一個優(yōu)點(diǎn)就是因?yàn)楸緦?shí)用新型的快速排水清洗槽可將槽體內(nèi)流向排水孔的流體先行予以分流。如此一來，可使排水更為順暢，而可達(dá)到提高排水速率的目的。
雖然本實(shí)用新型已用一優(yōu)選實(shí)施例在上面作了說明，然而該實(shí)施例并非用以限定本實(shí)用新型，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，可進(jìn)行各種變化與修改，因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求所界定。
權(quán)利要求1.一種快速排水清洗槽，其特征在于至少包含槽體，其中該槽體至少包括一個位于該槽體底部排水孔；以及一個使該槽體的排出噴流場轉(zhuǎn)變成均勻流場的導(dǎo)流板，其被固定在該排水孔上方的該槽體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板包括分流板，其中該分流板上至少包括多個分流孔；多個連接部分別固接在該分流板的兩側(cè)，且該些連接部從該分流板的底部向下突出；多個滑軌，其中該些滑軌與該些連接部接合而固定在該分流板的該些側(cè)的下方，且該些滑軌與該分流板的該底部之間形成活動空間；多個伸縮部分別位于該些滑軌的兩端，且該些伸縮部可活動于該活動空間中，以調(diào)整該導(dǎo)流板的長度；以及多個調(diào)整元件，用以將該些伸縮部固定在該分流板與該些滑軌之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的快速排水清洗槽，其特征在于該分流板還至少包括一個遮蔽部，且該遮蔽部位于該排水孔的上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的快速排水清洗槽，其特征在于固定于該槽體中的該導(dǎo)流板的該長度等于該槽體的內(nèi)部的長度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的快速排水清洗槽，其特征在于該些調(diào)整元件為多個螺絲。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板的材質(zhì)為一種高硬度材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板的材質(zhì)為一種耐高溫材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板的材質(zhì)為一種耐酸堿材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板的材質(zhì)為一種抗靜電材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征在于該導(dǎo)流板的材質(zhì)為聚醚醚酮。
專利摘要一種快速排水清洗槽，至少包含槽體與一個導(dǎo)流板。其中，此槽體的底部至少包括一個排水孔，且導(dǎo)流板固定在排水孔上方的槽體內(nèi)。此導(dǎo)流板可用以將槽體內(nèi)的流場從大噴流轉(zhuǎn)變成小噴流，而消除晶圓粘貼效應(yīng)。
文檔編號B08B3/04GK2741679SQ20042008459
公開日2005年11月23日 申請日期2004年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月10日
發(fā)明者許國堂, 潘逸平, 楊仁淵, 張日寶, 俞臺勇 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司