技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于分析物質(zhì)(100)的方法和系統(tǒng)。所述方法包括以下步驟:將光學介質(zhì)(10)布置在物質(zhì)表面上,使得所述光學介質(zhì)(10)的表面(12)的至少一個區(qū)域與所述物質(zhì)表面接觸;發(fā)射具有激發(fā)波長的激發(fā)光束,其通過與所述物質(zhì)表面相接觸的所述光學介質(zhì)(10)的表面(12)的區(qū)域到所述物質(zhì)表面;發(fā)射測量光束,其通過所述光學介質(zhì)(10)到與所述物質(zhì)表面直接接觸的所述光學介質(zhì)(10)的表面(12)的區(qū)域,使得所述測量光束和所述激發(fā)光束在所述光學介質(zhì)(10)和物質(zhì)表面的界面上重疊,在所述界面處所述測量光束被反射;根據(jù)所述激發(fā)光束的波長直接或間接地檢測反射的測量光束的偏轉(zhuǎn);以及基于所檢測的所述測量光束的偏轉(zhuǎn),根據(jù)所述激發(fā)光束的波長來分析所述物質(zhì)(100)。
技術(shù)研發(fā)人員:維爾納·曼特勒;米古勒·安吉爾·普雷特茲拉斐爾;托拜厄斯·利布萊恩;奧托·赫茨伯格;亞力山大·鮑爾;赫爾曼·馮利利恩菲爾德-托爾;阿恩·庫德勒;塔貝亞·普富爾
受保護的技術(shù)使用者:迪亞蒙泰克有限公司
文檔號碼:201580031895
技術(shù)研發(fā)日:2015.06.16
技術(shù)公布日:2017.03.22