口內(nèi)光療裝置及其使用方法
【專利摘要】在某些實施例中，一種裝置包括殼體、發(fā)射器和電路。殼體構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)。發(fā)射器至少部分地封裝在殼體內(nèi)。發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi)時將有效量的光發(fā)射至牙槽軟組織。電路操作性地耦合至發(fā)射器。電路構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝置的時候控制發(fā)射器。本文中公開了所述裝置以及所述裝置的用于調(diào)節(jié)牙齒移動或者保持或改善口腔組織健康的使用方法。
【專利說明】口內(nèi)光療裝置及其使用方法
[0001] 相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 本申請要求2012年4月19日提交的申請?zhí)枮?1/635, 684的美國臨時申請、2012 年6月13日提交的申請?zhí)枮?1/659, 168的美國臨時申請、2012年12月21日提交的申請 號為61/745, 374的美國臨時申請以及2013年3月14日提交的申請?zhí)枮?1/783, 516的美 國臨時申請的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，通過全文引用將每一篇上述的美國臨時申請并入本文。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003] 本發(fā)明主要涉及口內(nèi)光療裝置及其使用方法，包括用于調(diào)節(jié)正畸牙齒移動的方 法。

【背景技術(shù)】
[0004] 口腔正畸學(xué)涉及牙齒在骨骼中的移動。通過向牙齒施加壓力，能夠分解牙齒前緣 處的骨骼以便于牙齒移動。然后在牙齒的后緣處生成新的骨骼。在牙根和牙周組織之間的 壓力區(qū)域再吸收（例如分解）骨骼，然后在牙根和牙周組織之間的張力區(qū)域沉積（形成） 骨骼。與沿牙根表面在何處產(chǎn)生壓力和張力無關(guān)地，壓力能夠引起再吸收且張力能夠引起 沉積。當(dāng)牙齒經(jīng)歷常規(guī)的正畸治療時，基于重建過程的速度，牙齒在骨骼中的移動緩慢，由 此必須進(jìn)行長時間的治療以便實現(xiàn)期望的牙齒位置。成人的牙齒移動比青少年的牙齒移動 更慢。長期的正畸治療具有增加牙根吸收、牙齦炎癥和齲齒的風(fēng)險。另外，牙齒在骨骼中的 移動可能是不規(guī)則的，原因是牙齒可能由于被施加的校正力而"傾斜"，即，牙冠在期望的方 向上的移動可能比牙根更快，導(dǎo)致牙齒的傾斜移動。當(dāng)牙齒在骨骼中"整體"移動時，也就 是相對于骨骼大致以垂直的取向移動時，牙齒的移動中沒有傾斜移動或僅有低程度的傾斜 移動。
[0005] -直在尋求用于提高牙齒移動速度而不損傷牙齒和牙周組織的方法。例如，通過 在牙槽周圍局部注射前列腺素、活性維生素 D3和骨鈣素能夠?qū)崿F(xiàn)牙齒移動的加速。這些物 質(zhì)能夠提高牙齒移動速度，但是也會帶來副作用，例如在注射過程期間患者會感到局部疼 痛和不適。一種用于提高牙齒移動速度的可選策略是改善骨再生。例如，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)光療對 骨疾病的治療以及骨和軟組織的生物刺激都是有效的，而且能夠在加速牙槽骨的再生方面 有效。例如，光能夠通過刺激細(xì)胞色素 C氧化酶或一氧化氮合酶而刺激功能受損的細(xì)胞和 組織中的各種生物活性。
[0006] 通常由牙醫(yī)、正牙醫(yī)生、內(nèi)科醫(yī)生或治療專家給予光線療法或光療，醫(yī)生將來自手 持式發(fā)光裝置的光引導(dǎo)至接受治療的區(qū)域。發(fā)光裝置可能難以穩(wěn)定地定位在接受治療的區(qū) 域上。另外，光療通常涉及反復(fù)治療至少好幾天，這將要求接受光療的患者多次前往醫(yī)生的 辦公室或診所來完成整個療程。這樣反復(fù)去看醫(yī)生可能耗時或費用高。
[0007] 另外，在最近的一項研究中顯示在北美有65%以上的人表現(xiàn)為維生素 D的血清濃 度水平不足。在這些缺乏維生素 D的人當(dāng)中，骨的新陳代謝和骨的重建都可能受到不利影 響。
[0008] 對有效用于響應(yīng)正畸治療以提高牙齒在骨骼中的移動速度（或速率）或者改善牙 齒在骨骼中的移動質(zhì)量從而減少患者的治療時間且不會產(chǎn)生不適宜的副作用或疼痛的方 法和裝置存在需求。對能夠用于利用在口腔內(nèi)給予的光療實現(xiàn)牙齒在骨骼中的移動（例如 牙齒在骨骼中的整體移動）的期望模式或質(zhì)量的方法和裝置也存在需求，所述在口腔內(nèi)給 予的光療允許不太困難地將牙齒移動調(diào)節(jié)到患者口腔內(nèi)的一個或多個期望的特定位置處。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明提供的裝置包括：
[0010] 殼體，其構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)；
[0011] 發(fā)射器，其至少部分地封裝在殼體內(nèi)，該發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi) 的時候?qū)⒂行Я康墓獍l(fā)射至與牙槽軟組織相關(guān)聯(lián)的區(qū)域；以及
[0012] 電路，其操作性地耦合至發(fā)射器，該電路構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi)并且在 正畸治療期間使用所述裝置的時候控制發(fā)射器。
[0013] 所述裝置有利于調(diào)節(jié)牙齒移動或者有利于保持或改善口腔組織健康。
[0014] 本發(fā)明還提供了用于調(diào)節(jié)牙齒移動、保持口腔組織健康或改善口腔組織健康的方 法，所述方法包括：
[0015] 將來自所述裝置的發(fā)射器的有效量的光給予需要光療的患者。
[0016] 所述裝置有利于提高口腔手術(shù)后口腔組織愈合的速度。
[0017] 本發(fā)明還提供了用于提高口腔手術(shù)后口腔組織愈合速度的方法，所述方法包括：
[0018] 將來自所述裝置的發(fā)射器的有效量的光給予患者的已完成口腔手術(shù)并且需要愈 合的組織。
[0019] 本發(fā)明提供的裝置包括：
[0020] 殼體，其構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)；
[0021] 發(fā)射器，其光耦合至殼體，該發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂?效量的光發(fā)射至牙槽軟組織；以及
[0022] 電路，其操作性地耦合至發(fā)射器，該電路構(gòu)造成用以當(dāng)殼體設(shè)置在口腔內(nèi)并且在 正畸治療期間使用所述裝置的時候控制發(fā)射器。
[0023] 所述裝置有利于調(diào)節(jié)牙齒移動或者有利于保持口腔組織健康或改善口腔組織健 康。
[0024] 本發(fā)明還提供了用于調(diào)節(jié)牙齒移動、保持口腔組織健康或改善口腔組織健康的方 法，所述方法包括：
[0025] 將來自所述裝置的發(fā)射器的有效量的光給予需要光療的患者。
[0026] 本發(fā)明提供的系統(tǒng)包括：
[0027] 第一部分，其構(gòu)造成用以設(shè)置在患者的口腔內(nèi)；第一發(fā)射器，其耦合至第一部分并 且構(gòu)造成用以當(dāng)?shù)谝徊糠衷O(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒌谝徊ㄩL的有效量的光發(fā)射至牙槽軟組 織；電路，其操作性地耦合至第一發(fā)射器，該電路構(gòu)造成用以當(dāng)?shù)谝徊糠衷O(shè)置在口腔內(nèi)并且 在正畸治療的第一階段使用所述裝置的時候控制第一發(fā)射器，第一階段最初在時刻T tl開 始；以及
[0028] 第二部分，其不同于第一部分并且構(gòu)造成用以設(shè)置在患者的口腔內(nèi)；第二發(fā)射器， 其耦合至第二部分并且構(gòu)造成用以當(dāng)?shù)诙糠衷O(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒌诙ㄩL的有效量 的光發(fā)射至牙槽軟組織，第二波長不同于第一波長；電路，其操作性地耦合至第二發(fā)射器， 該電路構(gòu)造成用以當(dāng)?shù)诙糠衷O(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療的第二階段使用所述裝置的 時候控制第二發(fā)射器，第二階段在第一階段之后并且在時刻T xi開始。
[0029] 該系統(tǒng)有利于對患者的牙槽軟組織給予光療。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030] 圖1和圖2是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的透視圖。
[0031] 圖3A是圖1中的裝置沿線X-X截取的截面圖。
[0032] 圖3B是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的一部分的側(cè)視圖。
[0033] 圖4-8是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的示意圖。
[0034] 圖9是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的示意圖。
[0035] 圖10是圖9中的裝置的一部分的截面圖。
[0036] 圖11是圖9中的裝置的一部分的頂部透視圖。
[0037] 圖12是圖9中的裝置的一部分的截面圖。
[0038] 圖13是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的示意圖。
[0039] 圖14是圖13中的裝置的側(cè)視圖。
[0040] 圖15是圖13中的裝置以及充電站的側(cè)視圖。
[0041] 圖16和圖17是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的示意圖。
[0042] 圖18A是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的一部分的頂視圖。
[0043] 圖18B是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的一部分的前視圖。
[0044] 圖19是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的一部分的頂視圖。
[0045] 圖20是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的透視圖。
[0046] 圖21是圖20中的裝置沿線A-A截取的截面圖。
[0047] 圖22是圖20中的裝置的底視圖。
[0048] 圖23是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置在口腔內(nèi)使用時的側(cè)視圖。
[0049] 圖24和圖25分別是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的側(cè)視圖和前視圖。
[0050] 圖26是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的透視圖。
[0051] 圖27-29是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的頂視圖。
[0052] 圖30-33是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的透視圖。
[0053] 圖34和圖35分別是圖30-33中的裝置在通電（8卩"接通"）工作狀態(tài)下的頂視圖 和后視圖。
[0054] 圖36是圖34和圖35中的裝置耦合至電子設(shè)備的透視圖。
[0055] 圖37是圖30-36中的裝置設(shè)置在患者的口腔內(nèi)并且由患者使用時的圖像。
[0056] 圖38是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置設(shè)置在患者的口腔內(nèi)并且由患者使用 時的圖像。
[0057] 圖39是患者在使用圖38中的口內(nèi)光療裝置進(jìn)行光療之前的上牙弓的圖像。
[0058] 圖40是圖39中的患者的上牙弓在使用圖38中的口內(nèi)光療裝置進(jìn)行光療之后的 圖像。
[0059] 圖41是患者的上牙弓在使用圖38中的口內(nèi)光療裝置進(jìn)行光療之前的圖像。
[0060] 圖42是圖41中的患者的上牙弓在使用圖38中的口內(nèi)光療裝置進(jìn)行光療之后的 圖像。
[0061] 圖43是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的后視圖。
[0062] 圖44是圖43中的口內(nèi)光療裝置的前視圖。
[0063] 圖45和圖46是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的側(cè)視圖和頂視圖。
[0064] 圖47是圖45中的口內(nèi)光療裝置的一部分的透視圖。
[0065] 圖48A和48B是圖45中的口內(nèi)光療裝置的底側(cè)-后側(cè)透視圖和頂側(cè)-后側(cè)透視 圖。
[0066] 圖49和圖50是根據(jù)本發(fā)明實施例的圖45中的口內(nèi)光療裝置和外部工作臺的透 視圖和如視圖。
[0067] 圖51是圖49中的外部工作臺的前視圖。
[0068] 圖52是圖45中的口內(nèi)光療裝置的一部分的示意圖。
[0069] 圖53是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的頂視圖。
[0070] 圖54是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的一部分的側(cè)視圖。
[0071] 圖55和圖56是圖54中的口內(nèi)光療裝置的端視圖和透視圖。
[0072] 圖57是根據(jù)本發(fā)明實施例的包括圖54中的口內(nèi)光療裝置的系統(tǒng)的示意圖。
[0073] 圖58是根據(jù)本發(fā)明實施例的口內(nèi)光療裝置的示意圖。
[0074] 圖59是用于研究組參與者的個體上頜牙齒移動速度的圖表。
[0075] 圖60是用于研究組參與者的個體下頜牙齒移動速度的圖表。
[0076] 圖61是作為對比的口腔外光療裝置的透視圖。

【具體實施方式】
[0077] 文中與參照數(shù)值一起使用的術(shù)語"大約"表示參照數(shù)值最多加上或減去該參照數(shù) 值的10%。例如，用語"大約50"單位表示覆蓋了 45單位至55單位的范圍。
[0078] 文中使用的術(shù)語"周圍"表示在目標(biāo)周圍大約1厘米的范圍內(nèi)。例如，牙齒周圍的 口腔組織表示在牙齒周圍大約1厘米的范圍內(nèi)。在某些實施例中，本文公開的方法有利于 預(yù)防或最小化在牙齒周圍大約1厘米的范圍內(nèi)的炎癥。
[0079] 文中使用的術(shù)語"患者"表示能夠接受醫(yī)學(xué)治療（包括正畸治療）的任何有生命 的主體?；颊呃缈梢允遣溉閯游锲┤缡侨??；颊呖梢允浅扇嘶颊呋騼和颊?。在某些實 施例中，患者可以是接受光療的有生命的主體，例如使用本文所述的口內(nèi)光療裝置向患者 的口腔內(nèi)給予光療。
[0080] 文中使用的術(shù)語"根部區(qū)域"表示患者身體解剖結(jié)構(gòu)的一部分（其中包括牙根的 解剖長度和解剖寬度）、以及外圍組織的至少一部分（其便于將牙齒附接至牙槽骨，牙齒就 固定在牙槽骨內(nèi)）。外圍組織可以包括牙周韌帶和齒槽，牙周韌帶設(shè)置在齒槽中且齒槽圍 繞牙齒。根據(jù)牙齒的類型，根部區(qū)域可以包括從牙齦線延伸大約IOmm至大約22_深度的 組織。根部區(qū)域還可以包括在每一顆牙齒的根部區(qū)域的特定距離范圍以內(nèi)（例如在大約 0. Icm到大約3cm以內(nèi)）的區(qū)域，除非文中另有清楚的說明。根部區(qū)域的尺寸可以根據(jù)特定 的目標(biāo)牙齒而變化。本文中提到的根部區(qū)域可以包括根部區(qū)域的至少一部分或者整個根部 區(qū)域，除非文中另有清楚的說明。
[0081] 口內(nèi)光療裝置
[0082] 本文所述的某些實施例涉及將牙槽軟組織（如牙槽粘膜）暴露在光線（如，光強 度大致為10至200mW/cm2)下。給予光能改變牙齒移動速度、提高愈合速度、或帶來一種或 多種其他正畸優(yōu)點。例如，將光給予到拔牙部位能提高愈合速度、使牙齒移動到該部位的速 度減慢。本文所述的某些實施例包括一種口內(nèi)光療裝置，其構(gòu)造成用以將光給予到患者的 牙槽軟組織的一個或多個部分上。可在正畸治療之前、期間或之后，和/或在口腔手術(shù)之 前、期間或之后，使用這種裝置。在某些實施例中，正如本文所公開的那樣，可使用一種裝置 每天將光給予患者1分鐘至60分鐘。在其他實施例中，所述裝置接觸患者的口腔粘膜數(shù)分 鐘、數(shù)小時、數(shù)天、數(shù)周、數(shù)月或數(shù)年，在該時段的至少一些時間內(nèi)，所述裝置的一個或多個 發(fā)射器發(fā)射光。
[0083] 在某些實施例中，一種裝置構(gòu)造成用以適配于任何人患者的牙槽軟組織；在其他 實施例中，一種裝置構(gòu)造成用以適配于特定的人患者的牙槽軟組織。例如，通過使用從CT 掃描儀（如，錐束掃描儀）獲得的信息、患者頜部模型、口內(nèi)數(shù)字掃描模型、和/或患者頜部 照片，將所述裝置構(gòu)造成適配于任何人患者或特定人患者的特定的牙結(jié)構(gòu)。更具體而言，通 過使用CAD/CAM設(shè)計應(yīng)用軟件，例如，根據(jù)從前述的一個或多個方法獲得的信息，可定制設(shè) 計LED在將被定位在患者口內(nèi)的裝置內(nèi)的布置方式。在其他實施例中，可從一組構(gòu)造成用 以大致適配于人患者的口腔結(jié)構(gòu)特征的裝置中選擇一種標(biāo)準(zhǔn)裝置。在某些實施例中，調(diào)節(jié) 該標(biāo)準(zhǔn)裝置使其適配于特定人患者的特征。
[0084] 在某些實施例中，所述裝置構(gòu)造成用以根據(jù)定制的劑量（如，專門為特定患者定 制的劑量）給予光療。年輕患者的骨不如年老患者疏松?？稍诮o予光療之前，通過使用計 算機斷層掃描（CT)(在一個實施例中，使用錐束CT)測量患者的骨密度。在某些實施例中， 通過照射患者牙齒，測量出穿透牙齒的光量（例如，通過使用類似于圖18A所示的裝置或使 用圖18A所示的裝置），從而測量患者的骨密度。一旦測出患者的骨密度，就能確定能達(dá)到 合適的牙齒移動而所需的最優(yōu)光劑量。
[0085] 在某些實施例中，所述裝置包括咬墊，以在裝置接觸患者牙槽軟組織和/或?qū)⒀b 置定位在患者口內(nèi)時提高患者的舒適度。
[0086] 在某些實施例中，與矯治器相結(jié)合使用所述裝置，所述矯治器將力施加在患者牙 齒和/或肌肉組織（如，buccal and lanial cheek、舌頭等）上。在某些實施例中，本發(fā) 明的裝置與一種以上的矯治器相結(jié)合使用，該矯治器將力施加在患者身上。將一個或多個 力施加在牙齦區(qū)域，并在口腔內(nèi)將光給予到患者牙槽軟組織上，這樣，將能提高牙齒移動速 度、提高口腔組織愈合速度、并能帶來其他的正畸優(yōu)點。在某些實施例中，所施加的一個或 多個力是強矯正力。在某些實施例中，施加力的一個或多個矯治器是功能性矯治器。文中 公開了強矯正力和功能性矯治器。
[0087] 在其他實施例中，所述裝置與正畸矯治器相結(jié)合使用。
[0088] 在某些實施例中，所述裝置與矯治器或?qū)⒕S生素 D輸送給患者的其他合適輸送裝 置相結(jié)合使用。維生素 D治療將提高患者的血清維生素 D水平，這種治療與口內(nèi)光療相結(jié) 合時，能提高牙齒移動速度、提高口腔組織愈合速度并能帶來其他的正畸優(yōu)點。文中公開了 維生素 D治療。
[0089] 在某些實施例中，本發(fā)明的裝置能與一個或多個將力施加到患者口腔組織（如， 患者牙齒）上的矯治器或構(gòu)造成用以將維生素 D輸送給患者的矯治器（或其他合適的輸送 裝置）相結(jié)合使用。以這種方式，患者接受光療和維生素 D治療，并且也使力例如施加在患 者的一個或多個牙齒上。
[0090] 圖1和圖2是本發(fā)明的口內(nèi)光療裝置的示意圖。如圖1所示，所述裝置包括板 1，2, 3, 4, 5和6。板1，2和3構(gòu)造成用以設(shè)置在上頜的一個或多個牙齒的根部區(qū)域附近。在 某些實施例中，板1，2和3能構(gòu)造成用以鄰近上方的頰側(cè)牙槽軟組織布置。例如，在一個實 施例中，板1，2和3接觸上方的頰側(cè)牙槽；而在其他實施例中，板1，2和3不接觸上方的頰 側(cè)牙槽軟組織，但與上方的頰側(cè)牙槽軟組織之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在〇. Icm至 3cm的范圍內(nèi)）。牙槽軟組織例如包括牙槽粘膜。在其他實施例中，板1，2和3構(gòu)造成用以 鄰近上方的舌側(cè)牙槽軟組織布置。例如，在一個實施例中，板1，2和3接觸上方的舌側(cè)牙槽 軟組織；而在其他實施例中，板1，2和3不接觸上方的舌側(cè)牙槽軟組織，而與上方的舌側(cè)牙 槽軟組織之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在0.1cm至3cm的范圍內(nèi)）。與上述內(nèi)容類 似，在某些實施例中，板1，2和/或3構(gòu)造成用以設(shè)置在上頜根部區(qū)域后部，而在其他實施 例中，板1，2和/或3構(gòu)造成用以設(shè)置在上頜根部區(qū)域前部。類似地，板4, 5和/或6能構(gòu) 造成用以鄰近下頜根部區(qū)域前部和/或后部布置。
[0091] 在其他實施例中，板（或裝置的其他部分）能設(shè)置在本文所述的任何部位或區(qū)域 中。例如，盡管在某些實施例中描述板接觸上方的頰側(cè)或舌側(cè)牙槽軟組織或與其之間的距 離保持在一定范圍內(nèi)（如，在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)），但是，在其他實施例中，板構(gòu)造成用 以接觸下方的頰側(cè)或舌側(cè)牙槽軟組織或與其之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在〇. Icm 至3cm的范圍內(nèi)）。在其他實施例中，裝置包括一組板，至少該組板中的第一部分構(gòu)造成用 以接觸上方的頰側(cè)或舌側(cè)牙槽軟組織或與其之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在〇. Icm 至3cm的范圍內(nèi)）；至少該組板中的第二部分構(gòu)造成用以，在第一部分接觸上牙槽軟組織或 與上牙槽軟組織之間的距離保持在一定范圍內(nèi)時，接觸下方的頰側(cè)或舌側(cè)牙槽軟組織或與 其之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）。
[0092] 在某些實施例中，裝置構(gòu)造成用以僅鄰近上頜或下頜根部區(qū)域布置。例如，在一個 實施例中，所述裝置接觸上頜或下頜根部區(qū)域；而在其他實施例中，所述裝置不接觸上頜或 下頜根部區(qū)域，但與上頜或下頜根部區(qū)域之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在〇. Icm至 3cm的范圍內(nèi)）。與上述內(nèi)容類似，盡管圖1中示出裝置包括上部和下部，但是在其他實施 例中所述裝置僅具有上部或僅具有下部。盡管示出所述裝置具有六個板，但是在其他實施 例中所述裝置可具有一個或多個板。例如，單個板可構(gòu)造成用以至少覆蓋上頜和/或下頜 根部區(qū)域的一部分或覆蓋其全部部分。在其他實施例中，一個或多個板可鄰近每個牙齒的 根部區(qū)域布置。例如，在一個實施例中，一個或多個板接觸每個牙齒的根部區(qū)域；而在其他 實施例中，一個或多個板不接觸每個牙齒的根部區(qū)域，但與每個牙齒的根部區(qū)域之間的距 離保持在一定范圍內(nèi)（如，在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）。
[0093] 盡管在某些實施例中所述板覆蓋大部分牙根的至少一些解剖結(jié)構(gòu)范圍（如，長度 范圍），但是，個體患者的軟組織和骨結(jié)構(gòu)中的變化會阻止板覆蓋一些牙根的頂端范圍。在 這些情況下，牙齒頂端部分接收到的光能密度較低。但是，在某些實施例中，這些板包括嵌 入式LED陣列，該LED陣列構(gòu)造成用以將光引導(dǎo)到這些頂端部分的方向上或構(gòu)造成用以提 高板頂端部分中的光強度。
[0094] 在某些實施例（如，圖2所示的實施例）中，裝置構(gòu)造成用以包覆牙齒，使裝置的 第一部分鄰近前牙根區(qū)布置、裝置的第二部分鄰近后牙根區(qū)布置。在這類實施例中，減少裝 置施加在解剖牙冠上的壓力以讓牙齒在裝置操作時能自由移動。例如，在一個實施例中， 裝置的第一部分接觸前牙根區(qū)，和/或裝置的第二部分接觸后牙根區(qū)；而在其他實施例中， 裝置的第一部分不接觸前牙根區(qū)，和/或裝置的第二部分不接觸后牙根區(qū)，但是，裝置的第 一部分和/或第二部分分別與前牙根區(qū)或后牙根區(qū)之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如，在 0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）。
[0095] 圖3A是圖1中的裝置沿截面線X-X截取的截面圖。所述裝置10包括一根或多根 弓絲12、反射背襯20、電路30以及一個或多個發(fā)射器32,它們被封裝在板40中。在某些實 施例中，該一個或多個發(fā)射器32可被局部封裝在板40內(nèi)，使得該一個或多個發(fā)射器32中 的至少一部分暴露在外且在裝置位于患者口腔內(nèi)時例如接觸患者牙槽軟組織。板40可由 透明的、彈性和/或柔軟的聚合物（如，硅膠）構(gòu)造而成。在其他實施例中，板40可以是硬 質(zhì)塑料（如，丙烯酸）。板40可被制作成在患者佩戴所述裝置時覆蓋患者口腔的特定區(qū)域。 例如，板40具有能覆蓋患者的至少四個牙根的有效寬度和長度。板42的一部分可以是圓 形和/或淚滴形，可讓患者舒適并讓裝置適應(yīng)于翼緣區(qū)。板42的該部分可以為任何形狀， 但不包括尖形或尖銳邊緣，因為這類邊緣會讓患者口腔前庭最深處疼痛或不舒適。
[0096] 在某些實施例中，板40至少被局部封裝在所述裝置中，其形狀類似于咬合板或透 明的牙齒矯治器，可由適于使用在口腔中的任何材料制成。以這種方式，封裝在板40中的 部件也可至少被局部封裝在所述裝置中。在某些實施例中，板40可被完全封裝在所述裝置 中。板40以及被封裝在其中的部件能被密封在裝置內(nèi)防止流體浸入，使得唾液或其他流體 不能接觸板40。以這種方式密封板40能帶來安全益處、延長該口內(nèi)光療裝置的使用壽命、 和/或要求更少的維護(hù)。例如，如果不將板40密封在裝置內(nèi)防止流體浸入，那么所述裝置 要求頻繁的維護(hù)以從板40中清除掉流體和其他堆積物。
[0097] 發(fā)射器32可以是能被操作以發(fā)射光的任何合適裝置。發(fā)射器32例如可以是發(fā) 光二極管（LED)。在某些實施例中，發(fā)射器32是發(fā)射光的光學(xué)纖維（或光學(xué)纖維的一些部 分）。在某些實施例中，發(fā)射器32是耦合至一個或多個光學(xué)纖維上并從所述光學(xué)纖維接收 光輸入的裝置。板40可以包括文中所公開的LED和光纖發(fā)射器的任何組合形式。在某些實 施例中，發(fā)射器32能發(fā)射波長大致為620nm的單色光。在其他實施例中，發(fā)射器32能發(fā)射 波長大致為850nm的單色光。在其他實施例中，發(fā)射器32能構(gòu)造成用以發(fā)射波長范圍大致 為600nm至1200nm的光，發(fā)射一種以上波長的光，發(fā)射一系列波長的光，和/或發(fā)射廣譜光 或任何合適波長的光。發(fā)射器32能構(gòu)造成用以發(fā)射本文所述的任何波長或特性的光。文 中將更詳細(xì)描述光的這些波長和特性。
[0098] 發(fā)射器32可以任何合適方式定位和設(shè)置在板40內(nèi)。發(fā)射器32例如被設(shè)置成在患 者佩戴所述裝置時能讓光線覆蓋或照射口腔的特定區(qū)域。在一個實施例中，各發(fā)射器32定 位在不同牙根上方并將光照射到該不同牙根上。在另一實施例中，把發(fā)射器32歸為多組， 使其中一組發(fā)射器定位在患者口腔的第一區(qū)域（如，某一牙根）上方并將光照射到該第一 區(qū)域中，而使另一組發(fā)射器定位在患者口腔的不同的第二區(qū)域（如，另一牙根）上方并將光 照射到該第二區(qū)域中。以這種方式，可為特定患者定制所述裝置以及各相應(yīng)板40內(nèi)的發(fā)射 器32,從而能滿足正畸治療的特定需要。如上所述，板可接觸牙槽軟組織或牙根或與其之 間的距離保持在一定范圍內(nèi)，從而發(fā)射器32可接觸牙槽軟組織或牙根或與之間的距離保 持在一定范圍內(nèi)。由于在發(fā)射器32與軟組織或牙根之間的距離范圍內(nèi)會出現(xiàn)能量損失，因 此，發(fā)射器32越靠近牙槽軟組織或牙根，發(fā)射器32發(fā)射的光劑量就能越有效地用于調(diào)整牙 齒移動。但是，在某些實施例中，通過定位發(fā)射器32使其接觸軟組織或牙根，或使其與軟組 織或牙根之間的距離保持在一定范圍內(nèi)（如上所述），這樣可使發(fā)射器32發(fā)射的光能密度 達(dá)到最大。
[0099] 在某些實施例中，如圖3B所示，發(fā)光陣列1001具有第一部分1002和第二部分 1003。發(fā)光陣列1001的第一部分1002構(gòu)造成用以其包括的光發(fā)射器密度大于第二部分 1003中的光發(fā)射器密度。在某些實施例中，發(fā)光陣列1001的第一部分1002包括位于光毯 的一部分上的更密實的編織結(jié)構(gòu)。發(fā)光陣列1〇〇1(或光毯）的第一部分1002可設(shè)置在該 陣列的頂端部分處。光毯頂端部分的結(jié)構(gòu)更密實會讓頂端部分的能量密度提高，從而可更 小范圍地向翼緣延伸，原因在于能量密度提高可至少部分地補償更小范圍的延伸。
[0100] 再次參見圖3A，電路30例如可以是柔性電路。在某些實施例中，電路30包括可 操作用于控制一個或多個發(fā)射器32的操作的控制器（未示出）。在其他實施例中，電路30 可耦合至控制器（如，口內(nèi)或口外控制器）上。在其他實施例中，電路30可單獨控制該一 個或多個發(fā)射器32中的每個發(fā)射器。例如，通過使用電路30,控制器能集體和/或單獨控 制該一個或多個發(fā)射器32的開/關(guān)狀態(tài)、頻率、脈沖、占空因數(shù)、和/或任何其他合適參數(shù)。 正在使用所述裝置時，可改變這些參數(shù)中的任何一個參數(shù)。通過電力開啟一個或多個發(fā)射 器32,控制器能讓該一個或多個發(fā)射器32發(fā)光，從而加速骨重建和/或牙齒移動。通過電 力關(guān)閉一個或多個發(fā)射器32,控制器能讓該區(qū)域中的牙齒移動程度降低到最小，同時骨重 建不將被光加速。在某些實施例中，板40內(nèi)的一個或多個發(fā)射器32開啟，同時板40內(nèi)的 一個或多個發(fā)射器32關(guān)閉。在某些實施例中，當(dāng)正在使用裝置時，一個或多個發(fā)射器32開 始處于開啟狀態(tài)，一段時間之后，轉(zhuǎn)換成關(guān)閉狀態(tài)。通過增加或降低光強度，控制器能增加 或降低提供給患者的光劑量。光劑量是基于強度和時間而定的，因此，在一些情況下，增加 光強度可降低光需要被給予患者所花費的時間。實際情況是，為達(dá)到治療效果，最少時間和 強度均存在生物學(xué)閾值?？刂破髂茉谠撻撝祷虺^該閾值的情況下操作發(fā)射器32。在某些 實施例中，能增加從板40內(nèi)的一個或多個發(fā)射器32發(fā)射的光強度，同時，可降低從板40內(nèi) 的一個或多個其他發(fā)射器32發(fā)射的光強度。例如在使用所述裝置時能出現(xiàn)這種增加和降 低。
[0101] 控制器能控制頻率和占空因數(shù)，以至能達(dá)到更高的峰值強度。在更厚的組織中和/ 或需要將光劑量給予到更深部位時，高的峰值強度是有益的。在某些實施例中，板40內(nèi)的 第一發(fā)射器能鄰近某骨區(qū)域布置并瞄準(zhǔn)該骨區(qū)域，其中，該骨區(qū)域在牙槽軟組織下方的位 置比被板40內(nèi)的第二發(fā)射器瞄準(zhǔn)的骨區(qū)域要更深。在這些實施例中，控制器能命令或控制 第一發(fā)射器發(fā)射峰值強度比第二發(fā)射器要高的光。通過控制占空因數(shù)還能保護(hù)發(fā)射器以免 過熱。例如，控制器能在占空因數(shù)為25%、頻率為IOOHz下操作一個或多個發(fā)射器32,使發(fā) 射器32處于開啟狀態(tài)四百分之一秒，然后使發(fā)射器32處于關(guān)閉狀態(tài)四百分之三秒。關(guān)閉 時間可讓發(fā)射器32冷卻，從而可避免出現(xiàn)由于溫度較高而導(dǎo)致的任何潛在的性能退化。
[0102] 正如本文所公開的那樣，控制器可選擇性地單獨控制板40內(nèi)的每個發(fā)射器32的 各種發(fā)光特性，因此，每個發(fā)射器32能獨立于板40內(nèi)的其他發(fā)射器32運行。具體而言，如 果需要，板40內(nèi)的每個發(fā)射器32能發(fā)射不同特性的光。因此，板40能發(fā)射一種以上波長 的光或發(fā)射多種不同特性的光。在其他實施例中，控制器能集體控制板40內(nèi)的發(fā)射器32 的各種發(fā)光特性。在一些情況下，能控制板40內(nèi)的所有發(fā)射器32,使它們能發(fā)射相同特性 的光。但是，這些發(fā)射器32能獨立于裝置的其他板內(nèi)的控制器被單獨操作和控制。例如， 發(fā)射器32能發(fā)射波長為850nm的光，同時，另一板（如，圖1中所示的板3)內(nèi)的發(fā)射器發(fā) 射波長為650nm的光。因此，所發(fā)射的光特性因裝置內(nèi)的板不同而不同。在其他情況下，板 40內(nèi)的發(fā)射器32可構(gòu)成組，每組內(nèi)的發(fā)射器能被集體控制。例如，板40包括可兩組發(fā)射器 32 :第一組發(fā)射器能發(fā)射第一波長的光，第二組發(fā)射器能發(fā)射不同的第二波長的光。能為特 定患者定制板40及其中的發(fā)射器32,從而能將有效量或劑量的光給予患者，口內(nèi)特定區(qū)域 被瞄準(zhǔn)。例如，當(dāng)對口腔的一個區(qū)域進(jìn)行的光治療不同于口腔的另一區(qū)域時，這種定制是有 益的。
[0103] 在某些實施例中，裝置包括內(nèi)部電源，如電池（未示出）。在其他實施例中，所述裝 置包括端口，這樣電路30能耦合至外部電源上。
[0104] 在某些實施例中，電路30包括一個或多個傳感器（未示出），其可檢測裝置、患者 牙槽軟組織和/或患者根部區(qū)域的溫度。例如，熱敏電阻或類似的溫度測量裝置可布置在 電路30中以檢測發(fā)射器32 (如，LED陣列）和板40的溫度，并測量患者口腔內(nèi)的溫度。該 信息能用作獲取溫度相關(guān)信息和檢測患者適應(yīng)性的方法。當(dāng)電路（即，電路30和裝置的剩 余板中的電路）布置在口腔中且裝置發(fā)射光時，發(fā)射器的溫度將從預(yù)處理環(huán)境溫度上升至 更接近正常體溫。通過檢測溫度變化，根據(jù)提高溫度使其接近體溫所花費的時間，控制器能 檢測發(fā)射器32保持在口腔內(nèi)的時間?？晒┻x擇地，如參照圖18A-18C更詳細(xì)所述，光探測 器能布置在電路30中和/或與發(fā)射器32布置在一起，以測量光從牙槽軟組織上反射的反 射系數(shù)。這種布置結(jié)構(gòu)可用作一種檢測患者適應(yīng)性的方法，也用作一種故障保護(hù)機制，能確 保裝置不在患者口腔內(nèi)時發(fā)射器32不運行。
[0105] 反射背襯20是一種金屬箔或其他合適的反光材料，其可被操作成使發(fā)射器20發(fā) 射的光被引導(dǎo)到合適方向上，在一個實施例中，基本上被引導(dǎo)到一個方向（如，某特定方向 的大致1至10度的范圍內(nèi)）上。例如，反射背襯20界定裝置的背面，以至光朝向患者牙槽 軟組織或根本區(qū)域（如，牙槽軟組織下方的區(qū)域，包括骨和根部）。
[0106] 弓絲12可以是超彈性弓絲，可被操作成讓裝置適應(yīng)于牙槽軟組織和/或牙齦。在 某些實施例中，弓絲12可產(chǎn)生相當(dāng)大的正畸力和/或矯形力，如，可被操作成促使一個或多 個牙齒移動的力。該力例如大致為10至1000克的力。在某些實施例中，該力是強矯正力。 在其他實施例中，所述裝置是單獨的口內(nèi)光療裝置（如，牙套、正畸保持器和/或其他合適 的功能性矯治器）的一部分和/或耦合至單獨的口內(nèi)光療裝置（如，牙套、正畸保持器和/ 或其他合適的功能性矯治器）上。在一些這樣的實施例中，該單獨的口內(nèi)光療裝置能與弓 絲12 (其產(chǎn)生力）相互協(xié)同產(chǎn)生力，或代替弓絲12 (其產(chǎn)生力）產(chǎn)生力。
[0107] 圖4-6是本發(fā)明的裝置的示意圖。如圖4所示，在某些實施例中，一個或多個發(fā)射 器132可設(shè)置在一個或多個牙齒160的根部區(qū)域上。在其他實施例中，如圖5所示，一個或 多個發(fā)射器232可設(shè)置在一個或多個牙齒260的牙根之間。在這類實施例中，保護(hù)罩可應(yīng) 用到裝置上和/或每個牙齒260的根部區(qū)域上以防止牙齒260的根部區(qū)域暴露在光下。正 如本文所公開的那樣，保護(hù)罩阻擋從一個或多個發(fā)射器132發(fā)射的光，以至很少的光或沒 有光到達(dá)保護(hù)罩覆蓋的區(qū)域。保護(hù)罩可以是牙罩。該保護(hù)罩可以是透明和/或反光的。在 某些實施例中，該保護(hù)罩包括粘性表面，這樣保護(hù)罩可在需要阻擋光的位置上被安置和耦 合至裝置的外表面上。在某些實施例中，保護(hù)罩為粘結(jié)劑的形式。保護(hù)罩的粘性表面可接 觸和/或覆蓋一個或多個板（或板的一部分）。在某些實施例中，當(dāng)保護(hù)罩粘結(jié)到裝置上且 裝置在患者口腔中時，保護(hù)罩的相對外表面（或其一部分）可接觸牙槽軟組織（如，牙槽粘 膜）。在某些實施例中，一個以上的保護(hù)罩可應(yīng)用到所述裝置和/或每個牙齒260的根部區(qū) 域上，以防止牙齒260的根部區(qū)域暴露在光下。在一些這樣的實施例中，可應(yīng)用一種以上類 型的保護(hù)罩。例如，可將透明保護(hù)罩和反射保護(hù)罩同時應(yīng)用到所述裝置上。
[0108] 在其他實施例中，如圖6所示，一個或多個發(fā)射器332可被操作成照射上頜骨縫 (例如，上頜骨縫中線）。在某些實施例中，在將矯形力施加在上頜骨縫上之前、期間和/或 之后，該一個或多個發(fā)射器332朝向上頜骨縫發(fā)射光線?？赏ㄟ^正畸矯治器（如，上頜快速 擴弓（RME)裝置）施加矯形力。RME裝置能將矯形力施加在患者磨牙上以打開或擴展上頜 骨縫，從而擴展上頜骨骼（這與僅在牙齒移動情況下進(jìn)行正畸擴展相反）。光療法可使用在 這些實施例中以加速上頜骨生長的速度和填充骨骼擴展引起的間隙的速度。在某些實施例 中，本方法有利于加速骨填充和/或降低正畸矯治器被拆卸之后復(fù)發(fā)或上頜牙弓變窄的可 能性。在某些實施例中，一個或多個發(fā)射器332朝上牙膛中線發(fā)射光，這樣可通過光療法來 模擬骨再生。在某些實施例中，圖6中所示的裝置可被定制以裝配在RME裝置或其他類似 的固定正畸擴張器周圍。在某些實施例中，圖6中所示的裝置包括一個或多個照射上頜骨 縫的發(fā)射器332以及一個或多個照射牙槽軟組織的其他發(fā)射器。
[0109] 發(fā)射器132, 232和/或332能以類似于圖3A中所示的發(fā)射器32的方式運行。
[0110] 圖7是根據(jù)實施例的裝置的示意圖。所述裝置包括四個板401，402, 403, 404、光源 410、一個或多個光纖電纜420以及控制器430。板401,402,403和/或404可構(gòu)造成用以 鄰近上頜和/或下頜的根部區(qū)域布置。例如，在一個實施例中，板401，402, 403和/或404 接觸上頜和/或下頜的根部區(qū)域；而在其他實施例中，板401，402, 403和/或404不接觸上 頜和/或下頜的根部區(qū)域，但與上頜和/或下頜的根部區(qū)域之間的距離保持在一定范圍內(nèi) (如，在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）。這種布置結(jié)構(gòu)可消除將電子設(shè)備放置在口腔中的需要。
[0111] 光源410可操作用雅虎發(fā)射光。例如，在某些實施例中，光源410能輸出單色光。 例如，光源可以是激光器、LED和/或任何其他合適的光源。光源410可構(gòu)造成用以發(fā)射波 長大致為600nm至1200nm的光，發(fā)射出一種以上波長的光，發(fā)射一系列波長的光，和/或發(fā) 射出廣譜光或任何合適波長的光。光源410能輸出在此所述的任何波長或特性的光。
[0112] 光能夠通過一個或多個光纖420從光源410被傳遞到控制器430?？刂破?30例 如可以是光開關(guān)。可操作控制器430來通過一個或多個光纖420選擇性地將光從光源410 傳遞到板401，402, 403和/或404上。例如，控制器430可集體地和/或單獨控制被傳遞 給板401，402, 403和/或404的光的開關(guān)狀態(tài)、強度、頻率、脈沖、占空因數(shù)、和/或其他合 適參數(shù)?？刂破?30能類似于圖3A中所示的控制器那樣運行。
[0113] 在某些實施例中，一個以上的光纖420能夠?qū)?zhǔn)每個板。光纖能夠在根部區(qū)域附 近（例如與根部區(qū)域相距〇. Icm至3cm的范圍內(nèi)）或根部區(qū)域處終止，類似與參照圖4和5 所示和所述的裝置。因此，每個光纖能將光從光源410導(dǎo)向根部區(qū)域。通過提供一個以上的 光纖420,可引導(dǎo)和/或控制從光源410發(fā)射的光照射根部區(qū)域的特定部分。以這種方式， 控制器430能選擇性地將光應(yīng)用到一個或多個牙齒的牙根區(qū)域中，類似于文中參照圖3, 4 和5所示和所述的發(fā)射器32, 132和/或232。
[0114] 圖8是根據(jù)實施例的裝置的示意圖。所述裝置包括板501，502、光源510、光纖帶 520和控制器530。板501和502可構(gòu)造成用以鄰近上頜根部區(qū)域和下頜根部區(qū)域布置。正 如本文所公開的那樣，板501和502例如可以首先鄰近上頜根部區(qū)域布置，在對上頜進(jìn)行的 正畸矯治結(jié)束之后，然后將板501和502從上頜上移走，將其放置在下頜上使它們鄰近下頜 根部區(qū)域布置。在一個實施例中，板501，502接觸上頜和/或下頜根部區(qū)域；而在其他實施 例中，板501，502不接觸上頜和/或下頜根部區(qū)域，但與上頜和/或下頜根部區(qū)域之間的距 離保持在一定范圍內(nèi)（如在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）。這種布置結(jié)構(gòu)能消除將電子設(shè)備放 置在口腔中的需要。
[0115] 板501，502能夠界定上部部分542。上部部分542的截面是圓形或淚滴形（類似 于圖3A中所示的板42的部分），以讓患者感覺舒適并讓裝置適于上下頜的翼緣區(qū)。例如， 正如本文所公開的那樣，所述裝置可被佩戴在上頜上，使板501，502的上部部分542適于上 翼緣區(qū)，然后，可將所述裝置從上頜上移走，翻轉(zhuǎn)裝置使其倒置，然后將所述裝置安裝在下 頜上，使上部部分542現(xiàn)在布置在下翼緣區(qū)中。以這種方式，板501，502的上部部分542構(gòu) 造成用以適配于患者口腔的上下翼緣區(qū)。在某些實施例中，板501，502還界定其截面為圓 形和/或淚滴形的下部部分541，這樣，所述裝置可從上頜上移走，然后不需轉(zhuǎn)動所述裝置 就可被安裝在下頜上。在此，與上部部分542相對的下部部分541被設(shè)置和構(gòu)造成裝配在 下翼緣區(qū)中。
[0116] 板501，502的部分541，542可具有任何形狀，但不包括尖形或尖銳邊緣，原因在 于這類邊緣會讓患者口腔前庭最深處感覺疼痛或不舒服。在某些實施例中，部分541和/ 或542的形狀或截面形狀會分散力，將患者感覺不舒適的壓痛點減小到最小。在某些實施 例中，部分541和/或542的截面比板501，502的剩余部分的截面要厚。以這種方式，部分 541和/或542能使嬌嫩的粘膜軟組織偏斜，讓翼緣完全延伸，而患者感覺輕微的不舒適感 或不會感覺不舒適。更具體而言，部分541和/或542能使頰部組織遠(yuǎn)離牙槽偏斜。
[0117] 可操作光源510以與參照圖7所述的光源410相同的方式發(fā)射光。通過光纖帶將 光從光源510傳送到控制器530?？刹僮骺刂破?30通過光纖帶530將光從光源510傳遞 給板501和/或502,其方式與參照圖7所述的控制器430相同。例如，控制器530可集體 和/或單獨控制被傳遞給板501和/或502的光的開/關(guān)狀態(tài)、強度、頻率、脈沖、占空因數(shù) 和/或任何其他合適參數(shù)。
[0118] 光纖帶520能夠耦合至裝置，如圖8所示，使得光纖帶520的一個或多個光纖可電 耦合至和/或被引導(dǎo)到每個板501，502上。例如，光纖帶520中的一個或多個光纖能在根部 區(qū)域附近（如，與根部區(qū)域相距〇. Icm至3cm的范圍內(nèi)）或根部區(qū)域處終止，類似于參照圖 4和5所示和所述的裝置。因此，光纖帶520中的每個光纖以與參照圖7所述的光纖420相 同的方式將光從光源510引導(dǎo)到根部區(qū)域。光纖帶520的光纖能構(gòu)造成用以將板501，502 光耦合在一起。光纖帶520可具有一個或多個光纖，它們例如成一捆或多捆。例如，根據(jù)特 定的發(fā)光技術(shù)或治療所用的方式，用于每個板501，502的光纖帶520可具有1至500根光 纖。光纖帶520可具有任何合適的形狀和/或尺寸，以至光纖帶能讓患者感覺舒適地從裝 置延伸到患者口腔外部。光纖帶520的寬度例如大致為0.5cm至I. Ocm。盡管示出和描述 圖8中的裝置具有一個電耦合至板501和502上的光纖帶，但是在其他實施例中，所述裝置 包括一個以上的光纖帶。例如，在一個實施例中，所述裝置包括兩個光纖帶。在某些實施例 中，一個光纖帶可電耦合至板501上，另一光纖帶可單獨電耦合至板502上。在某些實施例 中，光纖帶520是光纖織物。更具體而言，該實施例中的光纖帶520可包括一個或多個被編 織成織物的光纖。在某些實施例中，以大致90度的角度從光纖織物發(fā)射光，或垂直于織物 發(fā)射光。能夠與圖8中的裝置一起使用的光纖織物的例子是可以從Lumitex公司（http:// www. Iumitex. com/)購得的 IightlMal.ll.,.。
[0119] 正如本文所公開的那樣，圖8中的裝置可安裝在上頜或下頜上。在某些實施例中， 在正畸治療期間安裝圖8中的裝置。例如，在治療開始時，將所述裝置安裝在上頜上，使所 述裝置的上部部分542布置在上翼緣區(qū)中。然后，在治療期間的稍后時間，患者將裝置從上 頜移走，將其安裝在下頜上以完成該治療的剩余部分。在一個實施例中，所述裝置可安裝在 下頜上，使所述裝置的下部部分541設(shè)置在下翼緣區(qū)內(nèi)。在該實施例中，所述裝置保持右側(cè) 朝上。但是在另一實施例中，所述裝置安裝在下頜上，使裝置的上部部分542設(shè)置在下翼緣 區(qū)內(nèi)。換句話說，在患者將裝置從其上頜移走之后，患者可旋轉(zhuǎn)所述裝置180度使其倒置， 然后將裝置安裝在下頜上。在該實施例中，上部部分542適配于上下翼緣區(qū)。
[0120] 在某些實施例中，所述裝置包括電子設(shè)備例如位置傳感器，其能夠檢測裝置相對 于患者口腔的位置或方位。更具體地，在轉(zhuǎn)動裝置使其倒置（例如旋轉(zhuǎn)180度）以將裝置 安裝在下頜上的實施例中，所述裝置可以包括在正畸治療期間檢測裝置在患者口腔中的位 置和方位的電子設(shè)備。例如，該傳感器能檢測出所述裝置是被佩戴在上頜上還是被佩戴在 下頜上。這種電子設(shè)備有利于在正畸治療期間檢測適應(yīng)性。在某些實施例中，該電子設(shè)備 可以是一個或多個開關(guān)、傳感器和/或類似構(gòu)件。
[0121] 在文中參照圖1-8所示和所述的任何裝置可以具有任意數(shù)量的板，所述板可以本 文所述的任何方式運行和起作用。在某些實施例中，板連接在一起和/或被封裝在一個或 多個裝置中，但是圖中不一定示出。例如，圖7中的板403和404可連接在一起和/或被封 裝在類似于適配于上頜牙的咬合板的單一裝置中。板401和402同樣可連接在一起和/或 被封裝在類似于適配于下頜牙的咬合板的單一裝置中。圖30-37和圖43-50中示出了包括 發(fā)光板的咬合板的示例。請注意，盡管在圖37中示出咬合板相對于患者上頜牙定位，但是， 咬合板也構(gòu)造成用以相對于患者下頜牙定位。在另一實施例中，板403和404可連接在一 起，使板403的至少一部分疊蓋板404的一部分。該示例中的板403發(fā)射的光波長可與板 404發(fā)射的光波長相同或不同。另外，通過布置或疊置一個或多個板可提高能量輸出和光療 強度。
[0122] 在某些實施例中，本文所述的任何口內(nèi)光療裝置包括手持式控制器，其容裝有微 處理器、菜單驅(qū)動式軟件和LED顯示屏中的一個或多個部件。將控制器被程序化以計算和/ 或檢測一個或多個光療療程及其持續(xù)時間。用戶界面能將療程信息顯示給患者，這樣，例如 患者能知道已完成的療程數(shù)量以及每個療程的剩余時間?？刂破髂苁褂萌魏魏线m的電源， 例如包括UL認(rèn)證的電源。在某些實施例中，口內(nèi)光療裝置包括四個治療陣列，每個陣列包 括柔性印刷電路板和一組LED ;該組LED安裝到波形散熱器和可傳播紅外線的透鏡（在一 個實施例中，為塑料透鏡）上，具有耦合至控制器上的導(dǎo)電線纜。
[0123] 圖9是根據(jù)實施例的裝置的示意圖。所述裝置可構(gòu)造成用于為患者進(jìn)行口腔內(nèi) 光療。所述裝置包括四個板601，602, 603和604(原文可能漏掉了標(biāo)記）、光源610和光纖 620。板601，602, 603和604可構(gòu)造成用以例如以類似于參照圖1-8所述的方式鄰近上頜根 部區(qū)域和下頜根部區(qū)域布置。更具體而言，板601和602鄰近上頜（或下頜）的前根區(qū)布 置，板603和604鄰近上頜（或下頜）的后根區(qū)布置。換句話說，板601，602, 603, 604構(gòu)造 成用以分別設(shè)置在各上頜根區(qū)和下頜根區(qū)的前部（對于板601，602而言）和后部（對于板 603, 604而言）。以這種方式，使用時，板601，602構(gòu)造成用以在朝向板603, 604的方向上發(fā) 射光，板603, 604構(gòu)造成用以在朝向板601，602的方向上發(fā)射光。板601，602, 603和604例 如可以首先分別鄰近上頜根區(qū)前部或后部布置；然后，在對上頜進(jìn)行的正畸治療完成之后， 將板601，602, 603和604從上頜上移走，將它們放置在下頜上使它們分別鄰近下頜根區(qū)前 部或后部布置。在一個實施例中，板601，602, 603和604接觸上頜和/或下頜的根部區(qū)域； 而在其他實施例中，板601，602, 603和604不接觸上頜和/或下頜的根部區(qū)域，但與上頜和 /或下頜的根部區(qū)域之間的間距保持在一定范圍內(nèi)（如在0.1cm至3cm的范圍內(nèi)）。在某 些實施例中，板601，602構(gòu)造成用以鄰近上方和/或下方的頰舌側(cè)牙槽軟組織布置（如，接 觸上方和/或下方的頰舌側(cè)牙槽軟組織或與其之間的距離保持在一定范圍內(nèi)），板603, 604 構(gòu)造成用以鄰近上方和/或下方的舌側(cè)牙槽軟組織布置。這種結(jié)構(gòu)消除了將電子設(shè)備布置 在口腔中的需要。
[0124] 這些板在一個或多個方面類似于本文所述的任何板（如，包括參照圖1-8所 述的板），或者與本文所述的任何板（如，包括參照圖1-8所述的板）相同。每個 板601，602, 603, 604與延伸到光源601上的一捆光纖620連接。更具體而言，每個板 601，602, 603, 604通過一捆光纖620與光源610的發(fā)射器632連接。以這種方式，每個板 601，602, 603, 604和各板耦合至其上的任何殼體（圖9中未示出）可光耦合到光源610的 發(fā)射器632上。
[0125] 可操作光源610以與參照圖7所述的光源410和/或參照圖8所述的光源 510相同的方式發(fā)射光。光源610例如包括一個、兩個、三個、四個或更多個（如，十個） LED(例如，包括圖9中所示的LED 612, 614, 616, 618)。至少光源610的一部分（如，包 括LED 612, 614, 616, 618)可設(shè)置在裝置的外部殼體中；該外部殼體可構(gòu)造成用以，當(dāng)板 601，602, 603, 604設(shè)置在口腔中鄰近根部區(qū)域（如本文所述）時，其至少一部分布置在口腔 夕卜。例如，當(dāng)板601，602, 603, 604設(shè)置在口腔中鄰近根部區(qū)域（如本文所述）時，裝置的外 部殼體穿過患者唇部形成的開口。
[0126] 所述裝置包括歧管650,歧管650界定貫穿其中的一個或多個孔652。歧管650的 每個孔652包括錐形面部分654,使得孔652的至少一部分為漏斗形。在光源610 (如，LED 612, 614, 616, 618之一）和一個板（如，板601)之間延伸的一捆光纖620可穿過歧管650 的孔652。如圖10所示，成捆光纖620的端部固定在LED 612上方或附近。例如，在某些 實施例中，成捆光纖620的端部固定在LED包（LED封裝組件）（如，LED包632,如圖12所 示，其例如包括LED 612)或其他合適光源上方。歧管650的孔652的最接近LED包（或其 他發(fā)射器）632的部分和LED包（或其他發(fā)射器）632中的至少一個的直徑等于或小于光纖 捆的直徑。例如，如圖12所示，光纖捆620和歧管650的最接近LED包632的孔652均具 有直徑D。使用漏斗形的歧管可將光纖620 -起布置成更小的捆，從而消除了笨重的隨行 箍結(jié)構(gòu)（牙本質(zhì)肩領(lǐng)）的任何需要。通過歧管650將光纖620布置在一起，還能滿足各板 601，602, 603, 604的需要（addressing)，正如本文更詳細(xì)介紹的那樣。
[0127] 可通過光纖620將光從光源610的LED(如，LED 612, 614, 616, 618)傳遞給板 601，602, 603和/或604。例如，控制器（圖9中未示出）能集體和/或單獨控制被傳遞給 板601，602, 603和/或604的光的開/關(guān)狀態(tài)、強度、頻率、脈沖、占空因數(shù)和/或任何其他 合適參數(shù)。
[0128] 光纖620可耦合至裝置，如圖9所示，以至多捆光纖620可被電耦合至和/或被引 導(dǎo)到每個板601，602, 603, 604上。例如，可這樣連接光纖620 :使光纖620的近端耦合至光 源610和歧管650中的至少一個上或鄰近光源610和歧管650中的至少一個，且使光纖620 的遠(yuǎn)端耦合至一個或多個板601，602, 603和/或604上或鄰近一個或多個板601，602, 603 和/或604。一個或多個光纖620(即，一個或多個光纖的遠(yuǎn)端）在根部區(qū)域附近（如，與根 部區(qū)域相距在0. Icm至3cm的范圍內(nèi)）或在根部區(qū)域處終止，這類似于參照圖4和5所示 和所述的裝置。因而，每個光纖620能以與參照圖7所述的光纖420相同的方式將光從光 源610引導(dǎo)到根部區(qū)域。光纖620可構(gòu)造成用以以光學(xué)方式將板601，602, 603和/或604 連接在一起。能使任何合適數(shù)量的光纖620成捆布置。例如，每個板601，602, 603和/或 604與任何一捆光纖連接，根據(jù)特定的發(fā)光技術(shù)或治療所用的方式，一捆光纖包括1至500 根光纖。光纖620可具有任何合適的形狀和/或尺寸，以至光纖能讓患者感覺舒適地從板 向布置在患者口腔外部的光源610延伸。光纖620的總寬度例如大致為0. 5cm至I. 0cm。 箍環(huán)622設(shè)置在一捆或多捆光纖620周圍以將光纖捆在一起。圖9-12中所示的裝置例如 在正畸治療期間可安裝在上頜或下頜上。
[0129] 圖13是根據(jù)實施例的示意圖。所述裝置構(gòu)造成用于給患者進(jìn)行口腔內(nèi)光療。所 述裝置在一個或多個方面類似于本文所述的其他口內(nèi)光療裝置（例如，包括參照圖9-12所 述的裝置）或與其相同。所述裝置包括口內(nèi)殼體780和外部殼體790,該外部殼體790從口 內(nèi)殼體的前部分延伸，從而，當(dāng)口內(nèi)殼體布置在口腔內(nèi)時，該外部殼體的至少一部分位于口 腔外。
[0130] 口內(nèi)殼體780包括一個或多個板701，702, 703, 704。板701，702, 703, 704包括發(fā) 光陣列、光纖毯、有機LED (" OLED "）或前述部件的任何合適組合形式。板701，702, 703, 704 可構(gòu)造成用以以文中參照板601，602, 603, 604所述的任何方式設(shè)置在患者口腔內(nèi)。
[0131] 口內(nèi)殼體780可以連接在板701，702和板703, 704之間，板701，702構(gòu)造成用以 鄰近頜根區(qū)前部（或頰側(cè)牙槽軟組織）定位，板703, 704構(gòu)造成用以鄰近頜根區(qū)后部（或 舌側(cè)牙槽軟組織）定位。在某些實施例中，口內(nèi)殼體780包括下部部分；該下部部分構(gòu)造成 用以在板701的下部（圖13中未示出）和板704的下部（圖13中未示出）之間延伸，同 樣也在板702的下部（圖13中未示出）和板703的下部（圖13中未示出）之間延伸。以 這種方式，口內(nèi)殼體780可包括凹陷部分782, 783,凹陷部分782, 783由口內(nèi)殼體的下部和 口內(nèi)殼體的包括板701，702, 703, 704的上部界定。凹陷部分782, 783可構(gòu)造成用以接收患 者牙列的至少一部分或設(shè)置在其周圍。更具體而言，凹陷部分782, 783構(gòu)造成用以具有足 夠的深度，能讓患者牙列的至少一部分容納在口內(nèi)殼體的下部中，從而，口內(nèi)光療裝置的包 括板701，702, 703, 704的上部鄰近牙槽軟組織或上頜/或下頜根部區(qū)域布置、和/或接觸 牙槽軟組織或上頜/或下頜根部區(qū)域。
[0132] 光纖720在板701，702, 703, 704和設(shè)置在外部殼體790中的光源（圖13中未示 出；例如，光源位于外部殼體前部分處，該外部殼體構(gòu)造成用以在使用裝置時保持在口腔 外）之間延伸，以至一個或多個光纖被電耦合至和/或被引導(dǎo)到每個板701，702, 703, 704 上。例如，一個或多個光纖720可在根部區(qū)域附近（如，與根部區(qū)域相距0. Icm至3cm的范 圍內(nèi)）或根部區(qū)域處終止，類似與參照圖4和7所示和所述的裝置。因此，每個光纖720可 以與參照圖7所述的光纖420相同的方式將光從光源引導(dǎo)到根部區(qū)域。光纖720可構(gòu)造成 用以以光學(xué)方式將板701，702, 703, 704任意組合地連接在一起。所述裝置可具有任何合適 數(shù)量的光纖。例如，根據(jù)特定的發(fā)光技術(shù)或治療所用的方式，所述裝置具有1至500根用于 每個板701，702, 703, 704的光纖。光纖720可通過歧管750耦合至光源上。歧管在一個或 多個方面類似于參照圖10-12所述的歧管650或與其相同，因此在此不將詳細(xì)對歧管750 進(jìn)行描述。
[0133] 該光源在一個或多個方面類似于參照圖9-12所述的光源610或與其相同，因此在 此也不將對該光源進(jìn)行詳細(xì)描述?？刹僮髟摴庠窗l(fā)射光。例如，在某些實施例中，光源能輸 出單色光。例如，該光源可以是或包括激光器、LED和/或任何其他合適光源中的一個或多 個。光源可構(gòu)造成用以發(fā)射波長大致為600nm至1200nm的光，或發(fā)射文中所公開的任何波 長或波長范圍的光；發(fā)射出一種以上波長的光；發(fā)射一系列波長的光；和/或發(fā)射出廣譜光 或任何合適波長的光。光源可輸出本文所述的任何波長或特性的光。
[0134] 外部殼體790包括電源792和電路794,如圖14所示。電源792可以是電池，例如 包括可充電電池。電路794包括電路板。電路794以及任何相關(guān)電子設(shè)備構(gòu)造成用以在正 畸治療期間控制所述裝置。例如，電路構(gòu)造成用以控制光源和/或光纖720的工作狀態(tài)、光 發(fā)射的波長、強度、頻率或持續(xù)時間中的至少一種。因為所述裝置不要求在治療期間物理耦 合至外部元件上（如，不要求耦合至外部光源、外部控制器或外部電源上），因此，所述裝置 具有獨立特性。
[0135] 所述裝置可構(gòu)造成用以檢測所述裝置是處于直立還是倒置（如，旋轉(zhuǎn)180度）的 位置或方位（即，所述裝置是相對于上頜定位還是相對于下頜定位）。例如，在某些實施例 中，外部殼體790包括位置傳感器、回轉(zhuǎn)儀和加速度計中的至少一個?；剞D(zhuǎn)儀和/或加速度 計可包括一個或多個構(gòu)造成用以檢測裝置的位置（或方位）的傳感器。
[0136] 在某些實施例中，所述裝置被包含在一種系統(tǒng)中，該系統(tǒng)還包括充電站770,如圖 15所示。充電站770界定接收部分774、連接組件772和顯示器776。接收部分774構(gòu)造成 用以接收裝置的至少一部分（如，口內(nèi)殼體780和/或外部殼體790的至少一部分）。連接 組件772構(gòu)造成用以便于給設(shè)置在外部殼體790中的電源792充電（或再充電）。在某些 實施例中，連接組件772可物理或有線耦合至裝置的連接組件796上以便于給電源792充 電。例如，連接組件772包括設(shè)置在裝置和充電站770之一上的插座、以及設(shè)置在裝置和充 電站770中的另一個上的相應(yīng)插頭。在某些實施例中，連接組件772構(gòu)造成用以給電源792 無線充電。例如，連接組件772可構(gòu)造成用以給電源792感應(yīng)充電。充電站770的顯示器 776構(gòu)造成用以顯示與裝置和/或充電站相關(guān)的信息。例如，顯示器776構(gòu)造成用以顯示與 電源792的充電狀態(tài)或充電量相關(guān)的信息、與治療方案有關(guān)的參數(shù)、和/或用于使用充電站 770和裝置之一的指令。在某些實施例中，充電站770構(gòu)造成用于與裝置單向或雙向通信。 以這種方式，在裝置和充電站之間傳遞與治療方案和/或治療記錄（如，患者使用情況或遵 從指定治療方案的情況）相關(guān)的信息，包括一些最新情況（其包括自最近信息之后對治療 方案和/或治療記錄進(jìn)行的任何改變）。
[0137] 圖16是根據(jù)實施例的裝置的示意圖。所述裝置構(gòu)造成用于對患者進(jìn)行口腔內(nèi)光 療。所述裝置在一個或多個方面類似于本文所述的裝置（包括文中參照圖13-15所述的裝 置），包括在一個或多個方面與本文所述的相關(guān)部件（包括文中參照圖13-15所述的這些部 件）相似的部件；或者所述裝置與本文所述的裝置（包括文中參照圖13-15所述的裝置） 相同。例如，所述裝置包括口內(nèi)殼體880和外部殼體890?？趦?nèi)殼體880構(gòu)造成用以設(shè)置在 口腔內(nèi)。外部殼體890從口內(nèi)殼體880的前部延伸，以至外部殼體的至少一部分可穿過患 者唇部形成的開口，且口內(nèi)殼體設(shè)置在口內(nèi)時外部殼體的至少一部分位于口腔外部。
[0138] 口內(nèi)殼體880構(gòu)造成用以以本文所述的任何合適方式定位在口腔內(nèi)?？趦?nèi)殼體 880包括第一發(fā)光陣列801和第二發(fā)光陣列802 ;第一發(fā)光陣列801構(gòu)造成用以鄰近上頜和 /或下頜的前根區(qū)（和/或頰側(cè)牙槽軟組織）布置，第二發(fā)光陣列802構(gòu)造成用以鄰近上 頜和/或下頜舌根區(qū)（和/或舌側(cè)牙槽軟組織）布置。例如，從頂部角度所示，如圖16簡 要所示，口內(nèi)殼體880的形狀類似于U形或馬蹄形。因此，以另一種方式來說，第一發(fā)光陣 列801設(shè)置在口內(nèi)殼體880的U形結(jié)構(gòu)的外部分上，第二發(fā)光陣列802設(shè)置在口內(nèi)殼體的 U形結(jié)構(gòu)的內(nèi)部分上。以這種方式，使用時，發(fā)光陣列801，802可構(gòu)造成用以在朝向發(fā)光陣 列803, 804的方向上發(fā)射光，發(fā)光陣列803, 804構(gòu)造成用以在朝向發(fā)光陣列801，802的方 向上發(fā)射光。
[0139] 發(fā)光陣列801，802至少被局部嵌入在構(gòu)成口內(nèi)殼體880的材料中。口內(nèi)殼體880 可由任意合適的材料制成，例如包括硅膠或其他軟質(zhì)材料（如，具有延展性的材料）。例如， 發(fā)光陣列801，802包括LED、0LED、發(fā)光半導(dǎo)體或上述構(gòu)件的任何合適組合形式，至少被局 部嵌入在構(gòu)成口內(nèi)殼體880的材料中。在某些實施例中，發(fā)光陣列801，802完全嵌入在口 內(nèi)殼體880的材料中。
[0140] 口內(nèi)殼體880界定凹陷部分882,其方式類似于參照圖13中的凹陷部分782所述 的方式，因此在此不詳細(xì)描述凹陷部分782。
[0141] 外部殼體890包括電源892、電路894和方位傳感機構(gòu)（圖16中未示出）。以這 種方式，所述裝置具有獨立特性。電源892(如，電池）構(gòu)造成用以通過電路894提供電能 給發(fā)光陣列801，802。電路894構(gòu)造成用以例如在正畸治療期間控制所述裝置。方位傳感 機構(gòu)構(gòu)造成用以檢測裝置的位置或方位，如，檢測裝置是相對于上頜處于直立位置還是相 對于下頜處于倒置位置。方位傳感機構(gòu)可包括位置傳感器、回轉(zhuǎn)儀（如，半回轉(zhuǎn)儀）和加速 度計中的至少一個。
[0142] 所述裝置構(gòu)造成用以與充電站（如充電站770) -起使用，其方式與文中參照圖 13-15所述的裝置類似。
[0143] 盡管描述參照圖13-16所述的裝置構(gòu)造成用以與充電站（如，充電站770) -起使 用，但是在其他實施例中，獨立裝置可被不同地構(gòu)造成用于給電源充電和/或控制裝置發(fā) 光。例如，參照圖17,裝置包括口內(nèi)殼體980和外部殼體990, 口內(nèi)殼體980構(gòu)造成用以設(shè) 置在口腔內(nèi)，外部殼體990構(gòu)造成用以穿過患者唇部形成的開口，以至口內(nèi)殼體設(shè)置在口 內(nèi)時外部殼體的至少一部分位于口腔外部。口內(nèi)殼體980在一個或多個方面類似于本文所 述的用于口腔內(nèi)光療的任何口內(nèi)光療裝置，其包括的部件與本文所述的用于口內(nèi)光療的任 何口內(nèi)殼體或裝置的部件相似或相同。外部殼體990在一個或多個方面類似于本文所述的 外部殼體790和890,其包括的部件與本文所述的外部殼體790和890的部件相似或相同。
[0144] 外部殼體990中的電源（圖17中未示出）構(gòu)造成用以通過連接器972(如， USB迷你型或微型插頭）。所述裝置可與外部電子設(shè)備（如，手機,包括基于iPhone?. 或Android?系統(tǒng)的設(shè)備等智能手機）電連接或配成對。所述裝置構(gòu)造成用于通過 Bluetooth?.或其他無線連接與外部電子設(shè)備雙線無線通信。例如,所述裝置構(gòu)造成用以 將與患者使用情況和/或治療方案適應(yīng)性相關(guān)的信息傳遞給外部電子設(shè)備，可構(gòu)造成用以 從外部電子設(shè)備接收與藥物相關(guān)的信息（如，正畸術(shù)、治療）。裝載在外部電子設(shè)備上的應(yīng) 用軟件可用于通過使用裝置檢測和控制治療、和/或記錄和檢查患者使用歷史和/或指定 治療方案的遵從歷史。
[0145] 在某些實施例中，根據(jù)實施例的裝置構(gòu)造成用以檢測裝置照射在患者牙周組織 (如，上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織的一部分）處、被牙周組織吸收或反射的 光量（如，光強度或持續(xù)時間）。以這種方式，例如，根據(jù)實施例的裝置可構(gòu)造成用以評估 患者對指定正畸治療方案的適應(yīng)性，如本文所述。參照圖18A，根據(jù)實施例的裝置包括發(fā)光 陣列1101、以及一個或多個光電探測器1102,該發(fā)光陣列1101與本文所述的任何發(fā)光陣列 相似或相同。在某些實施例中，發(fā)光陣列1101包括一個或多個發(fā)射器，可操作所述發(fā)射器 照射上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織或與所述部位的一部分相關(guān)的區(qū)域。光電 探測器1102的至少一部分（如，光電探測器的一個或多個傳感器）構(gòu)造成用以定位在口腔 內(nèi)，以檢測發(fā)光陣列1101發(fā)射的光（即，光子）離開牙槽軟組織（以及相關(guān)牙槽）時的透 射或反射。例如，光電探測器1102或其傳感器可定位在口腔內(nèi)的腭表面上，可與設(shè)置在口 腔外部的光電探測器的一部分電通信。在正畸治療期間通過光電探測器1102檢測光透射 可每隔幾秒致動光電探測器。所述裝置可構(gòu)造成用以，如果光電探測器在預(yù)定時段內(nèi)未檢 測出光衰減，裝置就關(guān)機。所述裝置構(gòu)造成用以存儲光檢測的歷史記錄和所述裝置由于未 檢測到光衰減而被關(guān)機的歷史記錄。這種使用信息可用于檢測患者是否遵從指定正畸治療 方案。這種布置結(jié)構(gòu)還可用作一種安全保險機制，可確保如果所述裝置不在患者口腔內(nèi)時 發(fā)光陣列1101不運行。這種布置結(jié)構(gòu)還可用于獲得關(guān)于患者骨密度的信息，從而該信息可 用于定制給予患者的光療劑量（如本文所述）。前述的適應(yīng)性評估機制可包含在或組合到 本文所述的用于口腔內(nèi)光療的任何裝置中。
[0146] 在另一示例中，參照圖18B，根據(jù)實施例的裝置構(gòu)造成用以檢測所述裝置照射在患 者牙周組織（上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織的一部分）處、被牙周組織吸收 或反射的光量（如，光強度或持續(xù)時間）。例如，所述裝置可構(gòu)造成用以檢測一定量或劑量 的光照射在根部區(qū)域處、被根部區(qū)域吸收或反射時的能量密度，其中，所述根部區(qū)域暴露在 該一定量或劑量的光下。所述裝置還構(gòu)造成用以判斷裝置發(fā)射的光量是否應(yīng)該根據(jù)被照射 在患者牙周組織處、被患者牙周組織吸收或反射的光的檢測量、密度和/或持續(xù)時間（或能 量密度）來調(diào)整，如本文所述。
[0147] 在某些實施例中，所述裝置包括具有第一凸緣1110和第二凸緣1116的口狀部件。 第一凸緣1110包括一個或一組光發(fā)射器1111，構(gòu)造成用以當(dāng)口狀部件設(shè)置在患者口內(nèi)時 鄰近上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織（通常標(biāo)注為組織T)的第一部分的頰側(cè)布 置。在某些實施例中，該一個或一組光發(fā)射器111可至少局部或完全被封裝在第一凸緣中。 在某些實施例中，該一個或一組光發(fā)射器1111設(shè)置在第一凸緣的表面上。該一個或一組光 發(fā)射器111被定位成，以至從其發(fā)射的光被引導(dǎo)到上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟 組織的第一部分。該一個或一組光發(fā)射器構(gòu)造成用以例如通過通路1113與控制器1114電 通信。以這種方式，控制器1114可控制對該一個或一組光發(fā)射器111的光發(fā)射有影響的參 數(shù)（如，持續(xù)時間、強度和波長）。
[0148] 口狀部件的第二凸緣1116包括一個或多個光電探測器1112,構(gòu)造成用以在口狀 部件設(shè)置在患者口腔內(nèi)（且第一凸緣鄰近上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織的第 一部分的頰側(cè)布置）時，鄰近上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽軟組織的第二部分（其 與第一部分相對）的腭側(cè)或舌側(cè)布置。光電探測器1112可至少局部或完全被封裝在第二 凸緣1116內(nèi)。光電探測器1112構(gòu)造成用以接收穿過上頜和/或下頜根部區(qū)域和/或牙槽 軟組織的第一部分和第二部分之間的部位的光。光電探測器1112構(gòu)造成用以例如通過通 路1118與控制器1114電通信。光電探測器1112構(gòu)造成用以將與光電探測器1112接收到 的光相關(guān)的信息傳送給控制器1114。例如，光電探測器1112將與接收到的光強度相關(guān)的信 息傳送給控制器1114。
[0149] 控制器1114構(gòu)造成用以執(zhí)行算法以確定該一個或一組光發(fā)射器111的光發(fā)射參 數(shù)是否應(yīng)該調(diào)節(jié)以例如讓穿過患者組織的光透射達(dá)到目標(biāo)值。例如，控制器1114能根據(jù)與 被光電探測器1112接收到且被傳送給控制器1114的光相關(guān)的信息、以及一個或多個與該 一個或該組光發(fā)射器1111的光發(fā)射相關(guān)的公知參數(shù)（如，持續(xù)時間、強度和波長），來執(zhí)行 算法?？刂破?114可構(gòu)造成用以根據(jù)上述確定信息來調(diào)節(jié)該一個或該組光發(fā)射器1111的 光發(fā)射的一個或多個參數(shù)。可通過控制器1114調(diào)節(jié)或控制的光發(fā)射參數(shù)包括該一個或該 組發(fā)射器1111發(fā)射的光強度、該一個或該組發(fā)射器1111的光發(fā)射持續(xù)時間、光的一種或多 種波長、或強度、持續(xù)時間和波長中的一個或多個特性。
[0150] 在某些實施例中，控制器1114構(gòu)造成用以判斷所述裝置的口狀部件是相對于 (如，鄰近）上頜根部區(qū)域還是下頜根部區(qū)域定位。例如，控制器1114可引起該一個或該組 光發(fā)射器1111在強度、持續(xù)時間或波長公知的情況下發(fā)射光?？刂破?114然后從光電探 測器1112接收與穿過根部區(qū)域的光透射相關(guān)的信息，然后根據(jù)接收到的信息判斷光是穿 過上頜根部區(qū)域還是穿過下頜根部區(qū)域。換句話說，控制器1114判斷在光電探測器1112 接收到的光透射在第一取值范圍內(nèi)的情況下口狀部件是否相對于上頜定位，或者判斷光電 探測器1112接收到的光透射在第二取值范圍內(nèi)的情況下口狀部件是否相對于下頜定位。
[0151] 在某些實施例中，所述裝置構(gòu)造成用以開始針對上頜和下頜執(zhí)行指定治療方案時 或之前被校準(zhǔn)。以這種方式，使口狀部件相對于上頜骨定位，然后該一個或一組光發(fā)射器 1111發(fā)射光，光電探測器1112檢測基于穿過上頜根部區(qū)域的光的能量密度。針對上頜骨而 言，透射率或反射率在此稱之為I Mti。，其計算如下：
[0152]

【權(quán)利要求】
1. 一種裝置，所述裝置包括： 殼體，所述殼體構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)； 發(fā)射器，所述發(fā)射器至少部分地封裝在所述殼體內(nèi)，所述發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼 體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂行Я康墓獍l(fā)射至牙槽軟組織；以及 電路，所述電路操作性地耦合至所述發(fā)射器，所述電路構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在 口腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝置的時候控制所述發(fā)射器。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述電路構(gòu)造成用以控制所述發(fā)射器的工作狀 態(tài)、從所述發(fā)射器發(fā)射出的光的波長、從所述發(fā)射器發(fā)射出的光的強度、從所述發(fā)射器發(fā)射 出的光的頻率或者來自所述發(fā)射器的光發(fā)射的持續(xù)時間中的至少一種。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述發(fā)射器包括至少一個發(fā)光二極管。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述有效量的光的波長是從大約600nm到大約 1200nm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述光是單色光。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述殼體構(gòu)造成用以包裹患者牙齒的至少一部 分。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述裝置構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在口腔內(nèi) 的時候，使患者的頰組織的至少一部分根向移位離開牙槽軟組織。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，還包括： 反光材料，所述反光材料耦合至所述殼體并且構(gòu)造成用以將從所述發(fā)射器發(fā)射出的光 引導(dǎo)至牙槽軟組織。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述發(fā)射器是第一發(fā)射器，牙槽軟組織具有第一 區(qū)域，所述裝置還包括： 第二發(fā)射器，所述第二發(fā)射器至少部分地封裝在所述殼體內(nèi)，所述第二發(fā)射器構(gòu)造成 用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂行Я康墓獍l(fā)射至牙槽軟組織的第二區(qū)域，所述第 二發(fā)射器操作性地耦合至所述電路，以使得當(dāng)所述殼體設(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療期間 使用所述裝置的時候，所述電路控制所述第二發(fā)射器。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述殼體是第一殼體，所述第一殼體的至少一 部分構(gòu)造成用以接觸口腔的上頜牙槽軟組織；所述裝置還包括： 第二殼體，所述第二殼體構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)，所述第二殼體的至少一部 分構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候接觸口腔的下頜牙槽軟組織； 所述第二殼體耦合至電路并且構(gòu)造成用以至少部分地封裝操作性地耦合至所述電路 的發(fā)射器，所述第二殼體的發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂行?量的光發(fā)射至下頜牙槽軟組織的區(qū)域，所述第二殼體的電路構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè) 置在口腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝置的時候控制所述第二殼體的發(fā)射器。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述殼體是口內(nèi)殼體，所述裝置還包括： 外部殼體，所述外部殼體從所述口內(nèi)殼體的前部延伸并且構(gòu)造成當(dāng)所述口內(nèi)殼體位于 患者口腔內(nèi)的時候設(shè)置在患者口腔的外部，所述電路的至少一部分和電源設(shè)置在所述外部 殼體內(nèi)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述殼體包括至少一個形狀保持構(gòu)件，所述形 狀保持構(gòu)件朝向打開結(jié)構(gòu)或關(guān)閉結(jié)構(gòu)中的一種偏置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述電路構(gòu)造成用于與外部電子設(shè)備無線通 f目。
14. 一種用于調(diào)節(jié)牙齒移動的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予有需要的患者。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括： 在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情 況下施加矯正力。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，通過所述裝置或正畸矯治器中的至少一種施 加矯正力。
17. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述裝置的發(fā)射器的至少一部分在給予光的 時候接觸牙槽軟組織。
18. -種用于保持或改善口腔組織健康的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予需要光療的患者。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，還包括： 在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情 況下施加矯正力。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括減少、預(yù)防或最 小化牙根吸收。
21. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括減少牙根或牙 周組織的骨吸收、發(fā)炎性牙本質(zhì)吸收或牙骨質(zhì)吸收。
22. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括預(yù)防或最小化 正在被施加矯正力或曾經(jīng)被施加過矯正力的一個或多個牙齒周圍的組織的炎癥。
23. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情況下給予 維生素D。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中，所述有效量的維生素D是從大約2000IU/天到 大約12000IU/天。
25. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中，所述有效量的維生素D提高患者的維生素D血 清濃度水平。
26. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中，通過口服、經(jīng)皮、注射或暴曬中的一種方式來 給予所述有效量的維生素D。
27. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之 后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
28. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在施加矯正力之前、期間或之后中的至少一種情況下 給予維生素D。
29. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在施加矯正力之前、期間 或之后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
30. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情況下給予 維生素D。
31. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之 后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
32. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
33. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
34. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
35. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
36. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
37. -種用于正畸治療的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予佩戴正畸矯治器或需 要正畸治療的患者。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，患者佩戴正畸矯治器，所述正畸矯治器在患者 的一個或多個牙齒上施加矯正力。
39. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
40. 根據(jù)權(quán)利要求38所述的方法，其中，矯正力對于調(diào)節(jié)牙齒移動、保持口腔組織健康 或改善口腔組織健康是有效的。
41. 根據(jù)權(quán)利要求38所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
42. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，患者佩戴相同或不同的正畸矯治器，在正畸治 療的保持階段期間，所述相同或不同的正畸矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加第二矯 正力。
43. 根據(jù)權(quán)利要求42所述的方法，其中，第二矯正力是強矯正力。
44. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，患者佩戴正畸矯治器并且需要進(jìn)行正畸治療。
45. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，正畸治療包括牙齒移動。
46. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的方法，其中，牙齒移動是牙齒排齊。
47. 根據(jù)權(quán)利要求46所述的方法，其中，利用前牙不齊指數(shù)（LII)測量牙齒排齊。
48. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的方法，其中，牙齒移動速度超過通過使用正畸矯治器但不 使用光療進(jìn)行正畸治療所造成的牙齒移動速度。
49. 根據(jù)權(quán)利要求38所述的方法，其中，所述正畸矯治器包括圓弓絲。
50. 根據(jù)權(quán)利要求42所述的方法，其中，所述相同或不同的正畸矯治器包括方形弓絲。
51. -種裝置，所述裝置包括： 殼體，所述殼體構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)； 發(fā)射器，所述發(fā)射器光耦合至所述殼體，所述發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在口 腔內(nèi)的時候?qū)⒂行Я康墓獍l(fā)射至牙槽軟組織；以及 電路，所述電路操作性地耦合至所述發(fā)射器，所述電路構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在 口腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝置的時候控制所述發(fā)射器。
52. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述電路構(gòu)造成用以控制所述發(fā)射器的工作 狀態(tài)、從所述發(fā)射器發(fā)射出的光的波長、從所述發(fā)射器發(fā)射出的光的強度、從所述發(fā)射器發(fā) 射出的光的頻率或者來自所述發(fā)射器的光發(fā)射的持續(xù)時間中的至少一種。
53. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述發(fā)射器包括至少一個發(fā)光二極管。
54. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述有效量的光的波長是從大約600nm到大約 1200nm。
55. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述光是單色光。
56. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述殼體構(gòu)造成用以包裹患者牙齒的至少一 部分。
57. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述裝置構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼體設(shè)置在口腔 內(nèi)的時候，使患者的頰組織的至少一部分根向移位離開牙槽軟組織。
58. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，還包括： 反光材料，所述反光材料耦合至所述殼體并且構(gòu)造成用以將從所述發(fā)射器發(fā)射出的光 引導(dǎo)至牙槽軟組織。
59. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述發(fā)射器是第一發(fā)射器，牙槽軟組織具有第 一區(qū)域，所述裝置還包括： 第二發(fā)射器，所述第二發(fā)射器光耦合至所述殼體，所述第二發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)所述 殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂行Я康墓獍l(fā)射至牙槽軟組織的第二區(qū)域，所述第二發(fā)射器操 作性地耦合至所述電路，以使得當(dāng)所述殼體設(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝 置的時候，所述電路控制所述第二發(fā)射器。
60. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述殼體是第一殼體，所述第一殼體的至少一 部分構(gòu)造成用以接觸口腔的上頜牙槽軟組織；所述裝置還包括： 第二殼體，所述第二殼體構(gòu)造成用以安裝在患者的口腔內(nèi)，所述第二殼體的至少一部 分構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候接觸口腔的下頜牙槽軟組織； 所述第二殼體耦合至電路并且構(gòu)造成用以光耦合至操作性地耦合到所述電路的發(fā)射 器，所述第二殼體的發(fā)射器構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒂行Я康墓?發(fā)射至下頜牙槽軟組織的區(qū)域，所述第二殼體的電路構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二殼體設(shè)置在口 腔內(nèi)并且在正畸治療期間使用所述裝置的時候控制所述第二殼體的發(fā)射器。
61. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述殼體是口內(nèi)殼體，所述裝置還包括： 外部殼體，所述外部殼體從所述口內(nèi)殼體的前部延伸并且構(gòu)造成用以當(dāng)所述口內(nèi)殼體 位于患者口腔內(nèi)的時候設(shè)置在患者口腔的外部，所述電路的至少一部分和電源設(shè)置在所述 外部殼體內(nèi)。
62. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述殼體包括至少一個形狀保持構(gòu)件，所述形 狀保持構(gòu)件朝向打開結(jié)構(gòu)或關(guān)閉結(jié)構(gòu)中的一種偏置。
63. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述電路構(gòu)造成用于與外部電子設(shè)備無線通 f目。
64. -種用于調(diào)節(jié)牙齒移動的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予需要光療的患者。
65. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，還包括： 在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情 況下施加矯正力。
66. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，其中，通過所述裝置或正畸矯治器中的至少一種施 加矯正力。
67. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其中，所述裝置的發(fā)射器的一部分或耦合至所述裝 置的發(fā)射器的光纖的一部分中的至少一者在給予光的時候接觸牙槽軟組織。
68. -種用于保持或改善口腔組織健康的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予需要光療的患者。
69. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，還包括： 在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情 況下施加矯正力。
70. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括減少、預(yù)防或最 小化牙根吸收。
71. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括減少牙根或牙 周組織的骨吸收、發(fā)炎性牙本質(zhì)吸收或牙骨質(zhì)吸收。
72. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，其中，保持或改善口腔組織健康包括預(yù)防或最小化 正在被施加矯正力或曾經(jīng)被施加過矯正力的一個或多個牙齒周圍的組織的炎癥。
73. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情況下給予 維生素D。
74. 根據(jù)權(quán)利要求73所述的方法，其中，所述有效量的維生素D是從大約2000IU/天到 大約12000IU/天。
75. 根據(jù)權(quán)利要求73所述的方法，其中，所述有效量的維生素D提高患者的維生素D血 清濃度水平。
76. 根據(jù)權(quán)利要求73所述的方法，其中，通過口服、經(jīng)皮、注射或暴曬中的一種方式來 給予所述有效量的維生素D。
77. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之 后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
78. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在施加矯正力之前、期間或之后中的至少一種情況下 給予維生素D。
79. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在施加矯正力之前、期間 或之后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
80. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，還包括： 將有效量的維生素D給予患者，在給予光之前、期間或之后中的至少一種情況下給予 維生素D。
81. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，還包括： 允許功能性矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加矯正力，在給予光之前、期間或之 后中的至少一種情況下通過所述功能性矯治器施加矯正力。
82. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
83. 根據(jù)權(quán)利要求69所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
84. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
85. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
86. 根據(jù)權(quán)利要求68所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
87. -種用于正畸治療的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予佩戴正畸矯治器或需 要正畸治療的患者。
88. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，患者佩戴正畸矯治器，所述正畸矯治器在患者 的一個或多個牙齒上施加矯正力。
89. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，牙槽軟組織是牙槽粘膜。
90. 根據(jù)權(quán)利要求88所述的方法，其中，矯正力對于調(diào)節(jié)牙齒移動、保持口腔組織健康 或改善口腔組織健康是有效的。
91. 根據(jù)權(quán)利要求88所述的方法，其中，矯正力是強矯正力。
92. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，患者佩戴相同或不同的正畸矯治器，在正畸治 療的保持階段期間，所述相同或不同的正畸矯治器在患者的一個或多個牙齒上施加第二矯 正力。
93. 根據(jù)權(quán)利要求92所述的方法，其中，第二矯正力是強矯正力。
94. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，患者佩戴正畸矯治器并且需要進(jìn)行正畸治療。
95. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，正畸治療包括牙齒移動。
96. 根據(jù)權(quán)利要求95所述的方法，其中，牙齒移動是牙齒排齊。
97. 根據(jù)權(quán)利要求96所述的方法，其中，利用前牙不齊指數(shù)（LII)測量牙齒排齊。
98. 根據(jù)權(quán)利要求95所述的方法，其中，牙齒移動速度超過通過使用正畸矯治器但不 使用光療進(jìn)行正畸治療所造成的牙齒移動速度。
99. 根據(jù)權(quán)利要求88所述的方法，其中，所述正畸矯治器包括圓弓絲。
100. 根據(jù)權(quán)利要求92所述的方法，其中，所述相同或不同的正畸矯治器包括方形弓 絲。
101. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述發(fā)射器位于患者口腔的外部。
102. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述發(fā)射器獨立于所述殼體并與所述殼體分 開。
103. 根據(jù)權(quán)利要求57所述的裝置，還包括施加矯正力的弓絲。
104. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，還包括施加矯正力的弓絲。
105. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述殼體的至少一部分構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼 體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候接觸口腔的牙槽軟組織。
106. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的裝置，其中，所述殼體的至少一部分構(gòu)造成用以當(dāng)所述殼 體設(shè)置在口腔內(nèi)的時候接觸口腔的牙槽軟組織。
107. -種用于對患者的牙槽軟組織給予光療的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括： 第一部分，所述第一部分構(gòu)造成用以設(shè)置在患者的口腔內(nèi)；第一發(fā)射器，所述第一發(fā)射 器耦合至所述第一部分并且構(gòu)造成用以當(dāng)所述第一部分設(shè)置在口腔內(nèi)的時候?qū)⒌谝徊ㄩL 的有效量的光發(fā)射至牙槽軟組織；和電路，該電路操作性地耦合至所述第一發(fā)射器，該電路 構(gòu)造成用以當(dāng)所述第一部分設(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療的第一階段期間使用所述裝置 的時候控制所述第一發(fā)射器，所述第一階段最初在時刻I開始；以及 第二部分，所述第二部分不同于所述第一部分并且構(gòu)造成用以設(shè)置在患者的口腔內(nèi)； 第二發(fā)射器，所述第二發(fā)射器耦合至所述第二部分并且構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二部分設(shè)置在 口腔內(nèi)的時候?qū)⒌诙ㄩL的有效量的光發(fā)射至牙槽軟組織，所述第二波長不同于所述第一 波長；和電路，該電路操作性地耦合至所述第二發(fā)射器，該電路構(gòu)造成用以當(dāng)所述第二部分 設(shè)置在口腔內(nèi)并且在正畸治療的第二階段期間使用所述裝置的時候控制所述第二發(fā)射器， 所述第二階段在所述第一階段之后并且在時刻T>(l開始。
108. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述裝置的至少一部分構(gòu)造成用以接觸患者 的牙槽軟組織。
109. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中，所述裝置的至少一部分構(gòu)造成用以接觸患者 的牙槽軟組織。
110. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的方法，其中，所述裝置的至少一部分構(gòu)造成用以接觸患者 的牙槽軟組織。
111. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其中，所述裝置的至少一部分構(gòu)造成用以接觸患者 的牙槽軟組織。
112. 根據(jù)權(quán)利要求87所述的方法，其中，所述裝置的至少一部分構(gòu)造成用以接觸患者 的牙槽軟組織。
113. -種用于提高口腔手術(shù)后口腔組織愈合速度的方法，包括： 將來自根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置的發(fā)射器的有效量的光給予患者的已完成口腔手 術(shù)并且需要愈合的組織。
114. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，所述發(fā)射器包括至少一個發(fā)光二極管。
115. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，所述有效量的光的波長是從大約600nm到大 約 1200nm。
116. 根據(jù)權(quán)利要求115所述的方法，其中，所述有效量的光的波長是大約850nm。
117. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，給予光療在完成口腔手術(shù)后的24小時內(nèi)進(jìn) 行。
118. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，給予光療在完成口腔手術(shù)后的6小時內(nèi)進(jìn) 行。
119. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，給予光療在完成口腔手術(shù)后的1小時內(nèi)進(jìn) 行。
120. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，給予所述有效量的光持續(xù)大約1分鐘到大約 10分鐘。
121. 根據(jù)權(quán)利要求113所述的方法，其中，口腔手術(shù)包括植入至少一個種植牙。
【文檔編號】A61C19/04GK104379087SQ201380032437
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2013年4月19日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月19日
【發(fā)明者】P·布朗, R·布雷登, T·G·肖內(nèi)西, K·斯特朗格, P·馬修斯 申請人:碧奧魯克斯研究有限公司