專利名稱：光斷層圖像形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明 涉及一種基于OCT (Optical Coherence Tomography 光學相干斷層掃描) 測量的形成光斷層圖像的光斷層圖像形成方法。
背景技術(shù)：
近年來，如下電子內(nèi)窺鏡裝置作為觀察生物體的體腔內(nèi)的內(nèi)窺鏡裝置廣泛普及并利用于各種領(lǐng)域使用從被照射照明光的生物體反射的反射光拍攝生物體的像，并顯示在監(jiān)視器等。另外，大多數(shù)內(nèi)窺鏡具備鉗子口，利用從該鉗子口經(jīng)由鉗子通道被導入到體腔內(nèi)的探針能夠進行體腔內(nèi)的組織的活組織檢查、治療。作為上述內(nèi)窺鏡裝置已知使用超聲波的超聲波斷層圖像獲取裝置等，除此之外， 有時例如使用如下光斷層圖像化裝置，該光斷層圖像化裝置使用基于低相干光的光干涉。 在這種光斷層圖像化裝置中，從光源射出的低相干光被分割為測定光和參照光之后，測定光被照射到測定對象，來自測定對象的反射光被波導到合波單元。另一方面，為了變更測定對象內(nèi)的測定深度，參照光被變更光路長度之后被波導到合波單元。而且，通過合波單元將反射光和參照光進行合波，通過外差檢波等測定由于合波所產(chǎn)生的干涉光。并且，在向測定對象照射測定光時，使用從內(nèi)窺鏡的鉗子口經(jīng)由鉗子通道插入到體腔內(nèi)的探針。探針具備光纖以及被配置在光纖的前端的鏡，該光纖對測定光進行波導，該鏡以直角反射測定光。而且，從該探針向體腔內(nèi)的測定對象照射測定光，將來自測定對象的反射光再次經(jīng)由探針的光纖被波導到合波單元。此時，利用當測定光與反射光和參照光的光路長度一致時可檢測出干涉光的性質(zhì)，通過變更參照光的光路長度來變更對于測定對象的測定位置(測定深度)。將其稱為OCT測量(參照專利文獻1)。專利文獻1 日本特開2007-85931號公報

發(fā)明內(nèi)容
(發(fā)明要解決的問題)這種OCT測量是利用測定光的光路長度與參照光的光路長度之間的光路長度差來求出測定對象的深度方向的信息。然而，一般來說，作為OCT測量的測定對象的人體組織等的折射率與空氣的折射率不同，因此存在如下問題當測定光通過測定對象的內(nèi)部時，光路長度與其折射率相應(yīng)地發(fā)生變化。因而，如果使用OCT測定值本身形成斷層圖像，則由于折射率的差而光路長度與實際距離不一致，所形成的斷層圖像相對于實際組織發(fā)生畸變。本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種能夠得到更接近實際情況的斷層圖像的光斷層圖像形成方法。(用于解決問題的方案)方案1所述的光斷層圖像形成方法，將從光源射出的低相干光分割為測定光和參照光，通過檢測對如下反射光進行合波而得到的干涉光來形成測定對象的光斷層圖像經(jīng)由會聚透鏡將上述測定光照射到上述測定對象時來自該測定對象的反射光；以及將上述參照光照射到與分割位置相距規(guī)定的光路長度的參照鏡時來自該參 照鏡的反射光，該光斷層圖像形成方法的特征在于，輸入上述測定對象的折射率，根據(jù)所輸入的上述測定對象的折射率對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。根據(jù)本發(fā)明，輸入上述測定對象的折射率，根據(jù)所輸入的上述測定對象的折射率對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出，由此能夠得到畸變少且更接近實際情況的光斷層圖像。方案2所述的光斷層圖像形成方法的特征在于，在方案1所述的發(fā)明中，輸入已知數(shù)據(jù)作為上述測定對象的折射率?！耙阎獢?shù)據(jù)”是指接近測定對象的組織的折射率、通過實驗等得到的折射率的數(shù)據(jù)。方案3所述的光斷層圖像形成方法的特征在于，在方案1或2所述的發(fā)明中，在上述測定光對上述測定對象的第一反射面傾斜入射的情況下，將上述測定光在上述第一反射面折射后在上述測定對象的第二反射面反射時所通過的光路長度設(shè)為如下光路長度設(shè)與在上述測定對象的第一反射面上的上述測定光的入射角無關(guān)地上述測定光在上述測定對象的內(nèi)部直線傳播時，從上述第一反射面至上述第二反射面的光路長度，根據(jù)上述第一反射面與上述第二反射面之間的折射率，對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。此外， 在本說明書中，設(shè)“第二反射面”是與“第一反射面”相比位于測定對象的里頭一側(cè)，包含測定對象的表面。方案4所述的光斷層圖像形成方法的特征在于，在方案1或2所述的發(fā)明中，在上述測定光對上述測定對象的第一反射面傾斜入射的情況下，根據(jù)在上述第一反射面上的上述測定光的入射角、相對于上述第一反射面的入射側(cè)的折射率、以及上述第一反射面與上述測定對象的第二反射面之間的折射率，決定上述測定光在上述第一反射面折射后在上述第二反射面反射時所通過的光路長度，對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。方案5所述的光斷層圖像形成方法的特征在于，在方案1 3中的任一項所述的發(fā)明中，根據(jù)第一位置與第二位置之差求出上述測定對象的折射率，該第一位置是以使從上述第一反射面反射的反射光與來自上述參照鏡的反射光的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡以及上述參照鏡的位置，該第二位置是以使從上述第二反射面反射的反射光與來自上述參照鏡的反射光的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡以及上述參照鏡的位置。方案6所述的光斷層圖像形成方法的特征在于，在方案1 5中的任一項所述的發(fā)明中，由以下式表示的上述低相干光的可干涉距離Δ 1小于等于30 μ m。ΔΙ= (21η (2 λ 02)) / ( ji Δ λ )其中，λ ^是上述低相干光的中心波長，Δ λ是上述低相干光的頻帶(最大強度的一半以上的強度的范圍)。(發(fā)明的效果)根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種能夠得到更接近實際情況的斷層圖像的光斷層圖像形成方法。


圖1是能夠使用本實施方式所涉及的光斷層圖像形成方法的光斷層圖像測定裝置的概要圖。圖2是表示由圖1所示的干涉光檢測單元DT得 到的斷層信號的圖。圖3的(a)概要性地示出測定對象S的實際的組織截面，圖3的(b)是表示根據(jù)斷層信號得到的測定對象S的光斷層圖像的圖。圖4是表示測定對象S的表面是曲面的情況下的第一校正方法的圖。圖5的(a)概要性地示出測定對象的實際的組織截面，圖5的(b)是表示根據(jù)斷層信號得到的測定對象S的光斷層圖像的圖。圖6是表示測定對象S的表面是曲面的情況下的第二校正方法的圖。圖7是說明求出測定對象S的折射率的方法的概要的概要圖。(附圖標記說明)BS 光分割單元；CLl 第一準直器；CL2 第二準直器；CNL 會聚透鏡；DT 干涉光檢測單元；FB 光纖；GM 電流計鏡；ID 輸入單元；L 低相干光；Ll 測定光L2 參照光； MT 監(jiān)視器；PC 個人計算機；RAM 參照鏡；S 測定對象；Sl S3 層；SAP2 點；SPl 點； SP2 點；SSl 表面；SS2 邊界面；SSA2 成像面；SLD 光源；WSUWS2 波形；tl t3 厚度。
具體實施例方式下面，參照附圖來詳細說明本發(fā)明的實施方式。圖1是能夠使用本實施方式所涉及的光斷層圖像形成方法的光斷層圖像測定裝置的概要圖。光斷層圖像測定裝置具有光源SLD，其射出低相干光L ；光分割單元BS，其將從光源SLD射出的低相干光L分割為測定光Ll和參照光L2 ；第一準直器(collimatoiOCLl，其將由光分割單元BS分割得到的測定光 Ll變換為平行光束；電流計鏡(galvanometer mirror) GM，其反射從第一準直器CLl射出的測定光Ll ；會聚透鏡CNL，其將由電流計鏡GM反射的測定光Ll對測定對象S會聚；第二準直器CL2，其將由光分割單元BS分割得到的參照光L2變換為平行光束；參照鏡RAM，其對從第二準直器CL2射出的參照光L2進行全反射；干涉光檢測單元DT，來自測定對象S的測定光Ll的反射光和參照鏡RAM的反射光再次返回到光分割單元BS并被合波，對所合波的干涉光進行檢測；以及個人計算機PC，其根據(jù)來自輸入單元ID的數(shù)據(jù)和來自干涉光檢測單元 DT的信息，在監(jiān)視器MT上形成光斷層圖像。此外，光源SLD、第一準直器CL1、第二準直器 CL2、干涉光檢測單元DT之間通過光纖FB相連接，光在其內(nèi)部傳播。在此，光源SLD由例如SLD(Super Luminescent Diode 超輻射發(fā)光二極管)、 ASE(Amplified Spontaneous Emission 放大自發(fā)輻射光源)等的射出低相干光的激光光源構(gòu)成。此外，光斷層圖像測定裝置獲取將體腔內(nèi)等生物體作為測定對象S時的斷層圖像， 因此使用能夠?qū)⑼高^測定對象S內(nèi)時由于散射 吸收所引起的光衰減抑制為最小限度的光源。優(yōu)選的是例如使用具有寬光譜頻帶且透過生物體內(nèi)的中心波長為1.3μπι的超短脈沖激光光源等。另外，在生物體的測定中，測定的空間分辨率優(yōu)選為小于等于30 μ m，因此優(yōu)選的是低相干光的可干涉距離△ 1小于等于30 μ m。Δ 1 = (21η (2 λ 02)) / ( ji Δ λ )其中，λ ^是低相干光的中心波長，Δ λ是低相干光的頻帶(最大強度的一半以上強度的范圍)。光分割單元BS例如由2X2的光纖耦合器構(gòu)成，將從光源SLD經(jīng)由光纖FB被波導的低相干光L分割為測定光Ll和參照光L2。 參照光L2被參照鏡RAM反射，作為反射光L4再次入射到光分割單元BS。另外，測定光Ll從測定對象S的內(nèi)部組織的折射率邊界面反射過來的反射光L3也再次入射到光分割單元BS。在測定光Ll和反射光L3的合計光路長度與參照光L2和反射光L4的合計光路長度大致相等時，入射到光分割單元BS的反射光L3和L4被合波并發(fā)生干涉。合波得到的合波光L5入射到檢測器DT而被轉(zhuǎn)換為電信號并被檢測。說明光斷層圖像測定裝置1的動作。在圖1中，從光源SLD射出的低相干光L在光纖FB的內(nèi)部傳播，通過光分割單元BS被分割為測定光Ll和參照光L2。通過光分割單元 BS分割得到的測定光Ll在光纖FB的內(nèi)部傳播，從光纖端面朝向第一準直器CLl射出并在電流計鏡GM反射，從會聚透鏡CNL朝向測定對象S會聚。在測定對象S的內(nèi)部組織反射的測定光L3再次通過會聚透鏡CNL并在電流計鏡GM反射，經(jīng)由第一準直器CLl從光纖FB的端面進入其內(nèi)部并到達干涉光檢測單元DT。另一方面，通過光分割單元BS分割得到的參照光L2在光纖FB的內(nèi)部傳播，從光纖端面朝向第二準直器CL2射出并在參照鏡RAM反射，再次經(jīng)由第二準直器CL2從光纖FB的端面被波導到其內(nèi)部并到達干涉光檢測單元DT。通過光分割單元BS合波的測定光的反射光L3和參照光的反射光L4被干涉光檢測單元DT所檢測，生成與其相應(yīng)的斷層信號。此外，通過將電流計鏡GM旋轉(zhuǎn)掃描，能夠獲取測定對象S的規(guī)定范圍內(nèi)的斷層信息。圖2是表示通過圖1所示的干涉光檢測單元DT得到并進行了信號處理后的斷層信號的圖。在此，測定光Ll按照測定對象S的內(nèi)部組織的折射率邊界面在不同位置處產(chǎn)生反射光。即，測定光Ll的反射光包含以不同的光路長度傳播的多個光，其成為測定對象S 的斷層信息。在此，圖3的(a)概要性地示出測定對象S的實際的組織截面，圖3的(b)表示從 OCT裝置等得到的測定對象S的光斷層圖像。如圖3的(a)所示，在設(shè)測定對象S由三層的組織Sl S3構(gòu)成的情況下，當向測定對象S照射測定光Ll時，在空氣與第一層Sl之間的邊界面、第一層Sl與第二層S2之間的邊界面、第二層S2與第三層S3之間的邊界面、第三層S3的背面這四個位置處發(fā)生反射。因此，當根據(jù)圖2所示的斷層信號的峰值的間隔直接求出各層的厚度tl t3并使電流計鏡GM旋轉(zhuǎn)來形成測定對象的光斷層圖像時，成為如圖3的(b)所示，但是光斷層圖像中的各層的厚度tl t3與實際值不同，因此所述光斷層圖像與實際組織不同，導致畸變成在深度方向上變長。在此，當將空氣的折射率設(shè)為nO、將第一層Sl的折射率設(shè)為 nl ( Φ nO、η2)、將第二層S2的折射率設(shè)為η2 ( Φ nO、nl、η3)、將第三層S3的折射率設(shè)為 η3(^η0,η2)時，通過第一層Sl的測定光Ll的光路長度為在空氣中測定光Ll通過的光路長度的(nl/nO)倍，另外，通過第二層S2的測定光Ll的光路長度為在空氣中測定光Ll 通過的光路長度的(n2/n0)倍，通過第三層S3的測定光Ll的光路長度為在空氣中測定光 Ll通過的光路長度的(n3/n0)倍。因此，在本實施方式中，對得到的光斷層圖像進行校正以使其與實際組織接近(即，對在測定對象中通過的光的光路長度和實際距離的長度進行校正，將光斷層圖像換算為實際距離來進行輸出)。更具體地說，經(jīng)由輸入單元ID輸入第一層Sl S3的折射率nl π3，在個人計算機PC內(nèi)對根據(jù)斷層信號得到的光斷層圖像進行如下校正使通過第一層Sl的測定光Ll的光路長度成為(nO/nl)倍，另外，使通過第二層S2的測定光Ll的光路長度成為(n0/n2)倍，使通過第三層S3的測定光Ll的光路長度成為 (n0/n3)倍。關(guān)于第一層Sl S3的折射率nl π3，能夠使用在通過手術(shù)取出的組織等中實際測定得到的折射率，或者能夠使用成分等類似的物質(zhì)的折射率。特別是，如圖5的(a)所示，在由折射率nl的第一層Sl和折射率n2的第二層S2 構(gòu)成的組織中存在折射率ηΧ的小的異物X，在從組織的表面起深度為3mm的位置處存在異物X與第一層Sl之間的邊界面的情況下，在斷層圖像中產(chǎn)生3X(nX-nl)mm的畸變。在此， 當將OCT測量的分辨率設(shè)為10ym = 0.01mm時，在層間的折射率差(nX-nl)為大于等于 3/0. 01 = 0. 003的情況下，該畸變有可能對斷層圖像產(chǎn)生影響。以具體例進行說明，在實際組織中，即使如圖5的(a)所示那樣第一層Sl與第二層S2之間的邊界面平滑連續(xù)，由于畸變的影響，也有可能如圖5的(b)所示的斷層圖像那樣顯示成如同在異物X的里頭一側(cè)第一層Sl與第二層S2的邊界面位移。與此相對，根據(jù)本發(fā)明，通過使用上述校正，能夠顯示接近實際情況的組織的斷層圖像。作為另一變形例，在測定對象S的至少進深方向上具有兩個反射面(第一反射面和第二反射面)的情況下，能夠根據(jù)第一位置和第二位置之差求出測定對象S的折射率，其中，上述第一位置是以使從測定對象S的第一反射面反射的反射光L3和參照光L2的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡和上述參照鏡的位置，上述第二位置是以使從上述測定對象的第二反射面反射的上述測定光和上述參照光的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡和上述參照鏡的位置。在這種情況下，能夠在OCT 裝置中一邊測定折射率一邊測定斷層圖像，還能夠同時進行折射率圖像校正。更具體地說明求出測定對象S的折射率的方法。圖7是說明求出測定對象S的折射率的方法的概要的概要圖。求出測定對象S的折射率的方法由第一步驟和第二步驟這兩個步驟構(gòu)成。首先說明第一步驟。如該圖中單點劃線所示，使用未圖示的致動器控制會聚透鏡 CNL的位置或測定對象S的位置以使來自會聚透鏡CNL的射出光在第一層與空氣之間的界面的地點A處會聚。當來自會聚透鏡CNL的射出光在地點A處會聚時，返回到光纖FB的反射光L3的光強度最大，因此由個人計算機PC —邊監(jiān)視返回到光纖FB的反射光L3的光強度，一邊控制會聚透鏡CNL的位置或測定對象S的位置。接著，如該圖中實線所示，使用未圖示的致動器控制會聚透鏡CNL的位置或測定對象S的位置以使來自會聚透鏡CNL的射出光在第一層與第二層之間的界面的地點B處會聚。當來自會聚透鏡CNL的射出光在地點B處會聚時，返回到光纖FB的反射光L3的光強度最大，因此由個人計算機PC —邊監(jiān)視返回到光纖FB的反射光L3的光強度，一邊控制會聚透鏡CNL的位置或測定對象S的位置。這樣，使來自會聚透鏡CNL的射出光在地點A和地點B處會聚之后，個人計算機PC求出Δ d。在此，將從會聚透鏡CNL射出的光的會聚角設(shè)為θ，將第一層Sl的折射率設(shè)為η， 將第一層Sl的厚度設(shè)為ΔΧ。將第一層Sl與空氣之間的界面和在第一層Sl的折射率為 1的情況下從會聚透鏡CNL射出的光的會聚點之間的距離設(shè)為Ad。將第一層Sl與空氣之間的界面處的從會聚透鏡CNL射出的光的光徑的半徑設(shè)為Ay。設(shè)θ為充分小的值，如該圖所示，將第一層Sl內(nèi)的會聚角表示為θ/η。基于以上前提，成立ΔΧ= Ay/tan(9/ η) Ay/(θ/n)以及Ay = AdXtane ^ AdX θ的式子。從該兩個式子，能夠得到Δ χ= IiXAd的式子。此外，Ad是如上所述那樣能夠由個人計算機PC求出的已知量。接著說明第二步驟。使來自會聚透鏡CNL的射出光例如在地點A處會聚。接著， 在該狀態(tài)下移動參照鏡RAM以使合波光L5的光強度最大。將參照鏡RAM的位置存儲在個人計算機PC的存儲部中。來自光源SLD的射出光是低相干光，因此僅在反射光L3和L4的光路長度一致的情況下合波光L5的光強度成為最大。接著，使來自會聚透鏡CNL的射出光在地點B處會聚。在該狀態(tài)下移動參照鏡RAM 以使合波光L5的光強度最大，并在個人計算機PC的存儲部中存儲該位置。由個人計算機 PC求出該存儲的兩個位置的距離Ad’。關(guān)于該Ad’，Ad’ =ηΧΔχ的關(guān)系成立。根據(jù) Ad，= ηΧ ΔΧ的式子和上述求出的Δχ = ηΧΔ(1的式子，n= (Ad，/ Ad)1/2的式子成立。因而，通過求出Ad’和Δ d，能夠算出折射率η。接著，說明測定對象S的表面是曲面等且測定光傾斜入射到表面的情況下的斷層圖像的校正。圖4是表示測定對象S的表面是曲面的情況下的第一校正方法的圖。在測定對象S的第一層Sl的表面是曲面的情況下，當從會聚透鏡CNL射出的光束相對于測定對象 S的第一層Sl的表面(第一反射面)的法線以角度θ傾斜入射時，以基于第一層Sl的折射率nl與空氣的折射率ηΟ之差的角度θ ’發(fā)生折射。在這種情況下，與測定光Ll直線傳播而在第二層S2的表面(第二反射面)反射的情況相比，光路長度發(fā)生變化。因此，對發(fā)生變化的光路長度進行校正。更具體地說，n0-sin θ = nl -sin θ，成立，因此在圖4中，當將光軸方向設(shè)為ζ方向，將與光軸正交的方向設(shè)為χ方向，將從會聚透鏡CNL射出的光束通過從第一層Sl的表面至第二層S2的表面之間的長度(不是光路長度，而是實際距離)設(shè)為d時，第二層S2的表面的反射點在-X方向上變化d*sin(e-e，)，在-y方向上變化nl .d-d-cos(0-0，)， 因此只要以與此相應(yīng)地使光路長度發(fā)生變化的方式在個人計算機PC上進行校正即可。在本例中，能夠以更高的精度形成斷層圖像，但是除了折射率差之外，還必需求出測定光Ll 的入射角，因此在處理中花費時間。另一方面，根據(jù)以下的圖像處理，僅根據(jù)折射率差能夠在短時間內(nèi)進行校正。圖6表示測定光Ll以入射角θ傾斜入射到測定對象S的第一層Sl的表面(第一反射面)SSl上并在表面SSl上折射而通過第一層Sl并在第一層Sl與第二層S2之間的邊界面(第二反射面)SS2反射或散射為止的結(jié)構(gòu)圖。點SPl是測定光Ll與表面SSl的交點，點SP2是測定光Ll與邊界面SS2的交點。將點SPl和點SP2為止的測定光Ll通過的光路長度設(shè)為Dl。也就是說，Dl = dl Xnl (其中，dl是測定光Ll通過第一層Sl的長度)。 在此，將入射到表面SSl的光不折射而直線傳播并從點SPl移動了光路長度Dl的點設(shè)為點 SAP2。另外，在用測定光Ll掃描測定對象S的表面SSl的情況下，將點SAP2的集合設(shè)為成像面SSA2。例如，在通過OCT裝置進行了測定的情況下，與表面的折射、介質(zhì)的折射率無關(guān)地，關(guān)于從測定光在介質(zhì)中的反射面反射或散射而來的光，視為測定光在介質(zhì)中直線傳播且介質(zhì)的折射率與空間折射率相同而進行觀測。也就是說，導致邊界面SS2被觀測成成像面SSA2。這成為實際的測定物與所觀測的斷層圖像之間的畸變誤差。根據(jù)本實施方式，根據(jù)作為表面SSl的入射側(cè)的空氣的折射率ηΟ和第一層Sl的折射率nl，對點SPl和點SAP2的位置進行圖像校正。更具體地說，將從點SPl在測定光直線傳播的方向上前進了距離dl’的位置(X)設(shè)為在點SP2處反射，從而在個人計算機PC 上進行圖像校正。在此，距離dl’成為更接近實際測定對象的形狀的長度，計算為dl’ = Dl X (nO/nl)。這樣，求出更接近實際測定對象的光路長度dl’，在整個掃描范圍內(nèi)使成像面 SSA2更接近邊界面SS2，由此能夠顯示與實際組織接近的斷層圖像。此外，以上校正并不限于對組織的表面和第一層進行，對第二層與第三層之間的邊界面也能夠同樣地進行。
此外，本發(fā)明能夠應(yīng)用于 TD (Time Domain 時域)-OCT 測定、FD (Fourier Domain 傅里葉域)-OCT測定中的任一個測定中。
權(quán)利要求
1.一種光斷層圖像形成方法，將從光源射出的低相干光分割為測定光和參照光，通過檢測對如下反射光進行合波而得到的干涉光來形成測定對象的光斷層圖像經(jīng)由會聚透鏡將上述測定光照射到上述測定對象時來自該測定對象的反射光；以及將上述參照光照射到與分割位置相距規(guī)定的光路長度的參照鏡時來自該參照鏡的反射光，該光斷層圖像形成方法的特征在于，輸入上述測定對象的折射率，根據(jù)所輸入的上述測定對象的折射率對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光斷層圖像形成方法，其特征在于，輸入已知數(shù)據(jù)作為上述測定對象的折射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光斷層圖像形成方法，其特征在于，在上述測定光對上述測定對象的第一反射面傾斜入射的情況下，將上述測定光在上述第一反射面折射后在上述測定對象的第二反射面反射時所通過的光路長度設(shè)為如下光路長度設(shè)與在上述測定對象的第一反射面上的上述測定光的入射角無關(guān)地上述測定光向上述測定對象的內(nèi)部直線傳播時，從上述第一反射面至上述第二反射面的光路長度，根據(jù)上述第一反射面與上述第二反射面之間的折射率校正上述光路長度，對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光斷層圖像形成方法，其特征在于，在上述測定光對上述測定對象的第一反射面傾斜入射的情況下，根據(jù)在上述第一反射面上的上述測定光的入射角、相對于上述第一反射面的入射側(cè)的折射率、以及上述第一反射面與上述測定對象的第二反射面之間的折射率，決定上述測定光在上述第一反射面折射后在上述第二反射面反射時所通過的光路長度，對上述第一反射面與上述第二反射面之間的折射率以及上述光路長度進行校正，對上述光斷層圖像進行圖像校正并進行輸出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中的任一項所述的光斷層圖像形成方法，其特征在于，根據(jù)第一位置與第二位置之差求出上述測定對象的折射率，該第一位置是以使從上述第一反射面反射的反射光與來自上述參照鏡的反射光的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡以及上述參照鏡的位置，該第二位置是以使從上述第二反射面反射的反射光與來自上述參照鏡的反射光的干涉光強度最大的方式移動上述測定對象或上述會聚透鏡以及上述參照鏡的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1 5中的任一項所述的光斷層圖像形成方法，其特征在于，由以下的式表示的上述低相干光的可干涉距離△ 1小于等于30 μ m,ΔΙ = (21η(2λ02))/(π Δ λ)其中，λ ^是上述低相干光的中心波長，Δ λ是上述低相干光的頻帶，即最大強度的一半以上的強度的范圍。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠得到更接近實際情況的斷層圖像的光斷層圖像形成方法。經(jīng)由輸入單元(ID)輸入第一層(S1～S3)的折射率n1～n3，在個人計算機(PC)內(nèi)對根據(jù)斷層信號得到的光斷層圖像進行如下校正使通過第一層(S1)的測定光(L1)的光路長度成為(n0/n1)倍，另外，使通過第二層(S2)的測定光(L1)的光路長度成為(n0/n2)倍，使通過第三層(S3)的測定光(L1)的光路長度成為(n0/n3)倍。關(guān)于第一層(S1～S3)的折射率n1～n3，能夠使用在通過手術(shù)取出的組織等中實際測定得到的折射率，或者能夠使用成分等類似的物質(zhì)的折射率。
文檔編號A61B1/00GK102197298SQ200980142130
公開日2011年9月21日 申請日期2009年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月29日
發(fā)明者大澤聰, 長井史生 申請人:柯尼卡美能達精密光學株式會社