專利名稱：用于評估樣本中的光學(xué)深度的光學(xué)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
相應(yīng)的導(dǎo)管(catheter)、相應(yīng)的方法以及相應(yīng)的計算機程序產(chǎn)品。
背景技術(shù)：
當(dāng)前，病人的醫(yī)療狀況的光學(xué)表征是正在發(fā)展的領(lǐng)域，其部分原因 在于可以通過新興的光學(xué)技術(shù)檢測的可能的醫(yī)療狀況的數(shù)量正在增加。 具體來說，利用光學(xué)方法對例如癌癥進(jìn)行早期;險測可以增加改進(jìn)4企測的 機會，從而使得病人的生存機會增加。當(dāng)可以從非常小的組織體積中獲 得醫(yī)療相關(guān)信息時，甚至在組織形態(tài)學(xué)和生理學(xué)方面的惡化前的變化都 可以變得可識別。
所有癌癥中超過90%是源于上皮的。人體表面大部分覆蓋有 一層薄 的上皮組織。各種器官的上皮組織層的厚度范圍為從簡單的(單層)鱗 狀上皮中的小于10微米到復(fù)層(多細(xì)胞層)上皮中的數(shù)百微米。在上 皮層下面，存在各種其他組織層，比如結(jié)締組織、炎性細(xì)胞、神經(jīng)血管 結(jié)構(gòu)等等。因為光的滲透深度通常比上皮層的厚度大得多，所以從組織 反向散射的光包括疊加在源自更深的分層組織的大背景信號上的關(guān)于 上皮層變化的信息。這使得難以從該信號中直接提取相關(guān)信息。為了解 決該問題，需要一種其中可以將來自上皮層的信號從由所述更深層引起 的信號(即背景信號)中解開的方法。
V. Backman等人在IEEE J. Selected Topics Quantum Electron., 1999 年7月/8月，第5巻，第4期，第1019頁中公開了一種該問題的解決 方案。在由Backman等人提出的方法中，偏振光用于照射組織。隨后， 他們通過使用偏振分束器和兩個獨立的才全測器來分開地檢測具有相同 的偏振和垂直的偏振的散射光。因為來自上皮層的信號將典型地被散射 一次，所以所述偏振將在很大程度上被保持。來自所述更深層的散射光 (被多次散射)將放松原始偏振信息并且將變成各向同性地分布，由此 失去原始偏振。通過將這兩種信號彼此相減，能夠從自上皮層反向散射 的期望的信號中去除背景信號。Backman等人的方法的缺點在于，通常仍然存在來自比上皮層更深 的層的單散射的光子，因此這些更深層可能對期望的信號產(chǎn)生負(fù)面的影 響。而且，因為大背景信號從更小的實際信號中去除，所以在最終的信 號中將存在大量的噪聲，這限制了測量的精度。這又限制了關(guān)于可以多 早地檢測出組織中的癌癥的檢測極限。此外，如果病人處于 一 定物質(zhì)(例 如藥物)的暫時影響下，則上皮層的光學(xué)特性可能響應(yīng)于所述物質(zhì)而改
'、因此，二種改進(jìn)的光學(xué)設(shè)備將是有利的:特別口是一種更加高效和/
或可靠的光學(xué)設(shè)備將是有利的。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明優(yōu)選地尋求單獨地或以任何組合地緩和、減輕或消除 上述缺點中的一個或多個。特別地，可以視為本發(fā)明的目的的是，提供 一種光學(xué)設(shè)備，其通過從光學(xué)薄層獲得可靠信號來解決現(xiàn)有技術(shù)的上述問題。
在本發(fā)明的第一方面，通過提供用于評估關(guān)聯(lián)的樣本中的關(guān)聯(lián)的光 學(xué)深度的光學(xué)設(shè)備實現(xiàn)這個目的和若干其他目的，該設(shè)備包括 輻射源，其能夠發(fā)射具有初始偏振(P—0)的輻射， 第一和第二輻射波導(dǎo)，該第一輻射波導(dǎo)光學(xué)連接到輻射源以便向樣
本發(fā)射輻射，
笫 一和第二輻射波導(dǎo)具有其各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端部，這些端 部進(jìn)一 步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射，
檢測器，其光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)，該檢測器被設(shè)置用于 在光學(xué)子帶內(nèi)測量下面各項的指示
-反射的輻射的第一偏振(P—1),
畫反射的輻射的第二偏振(P—2),所述第二偏振(P—2)不同 于第一偏振(P—1 ),以及
-分別在第 一和第二輻射波導(dǎo)中的反射的輻射的第 一和第二強 度(1—1, I一2),以及
處理裝置，其可操作地連接到檢測器，該處理裝置適于在光學(xué)子帶 內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光語函數(shù)(f, g)基本 上指示樣本中的單散射事件
7-笫一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射的笫一 (P_l)偏振與反射
的輻射的第二 (P—2)偏振之間的偏振差的度量，以及
-第二光譜函數(shù)(g)是反射的輻射的笫一與第二強度(1—1，
1—2)之間的強度差的度量，
其中該處理裝置進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一 (f)與第二 (g)光譜函 數(shù)之間的相關(guān)性度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相 同的光學(xué)深度。
本發(fā)明特別地但非排他性地有利于獲得這樣的光學(xué)設(shè)備其中第一 和第二光譜函數(shù)之間的因果關(guān)系可以用于評估在所述光學(xué)子帶內(nèi)產(chǎn)生 這兩個光譜函數(shù)的單散射事件是否來自樣本內(nèi)基本上相同的光學(xué)深度 (D),即是否在第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之間存在顯著的相關(guān) 性(C)。對于例如上皮層的光學(xué)探測，在上皮層下面的層的區(qū)別提供 了這樣的優(yōu)點可以將相關(guān)性用作來自上皮層本身的可靠信號的指示。 特別地，對于病人的醫(yī)療狀況(例如惡化(前)的損傷)的評估，該相 關(guān)性可以是提供隨后可能導(dǎo)致正確診斷的信息或提供隨后可能導(dǎo)致錯 誤診斷的信息之間的差異，后者是例如假陽性診斷或假陰性診斷。
本發(fā)明特別地依賴于下述事實至少對于許多實際情況和應(yīng)用而 言，特別是對于醫(yī)療應(yīng)用而言，兩個光譜函數(shù)的潛在物理效應(yīng)基本上彼 此獨立。產(chǎn)生第一光譜函數(shù)(f)的樣本的去偏振強烈依賴于存在的分子 的類型，而產(chǎn)生第二光譜函數(shù)(g)的樣本中光子的平均自由行程強烈 依賴于樣本中的分子分布。
因此，如果第一和第二光譜函數(shù)在它們主要來源于單散射事件的意 義下是有效的(雖然以不同的方式獲得)，那么如果執(zhí)行適當(dāng)?shù)男Ｕ?例如標(biāo)準(zhǔn)化，則第 一 和第二光譜函數(shù)應(yīng)當(dāng)?shù)贸龌旧舷嗤墓忡捫盘枴?如果例如在樣本中存在強烈的去偏振并且此外光子的平均自由行程大 于第一和第二輻射波導(dǎo)的特有直徑，那么可能存在顯著的相關(guān)性。
因此，對于醫(yī)療應(yīng)用的情況，如果在第一和第二光"i普函數(shù)之間存在
強烈的相關(guān)性，那么可以以更好的置信度將所提供的信息與后來的診斷
結(jié)合使用。在弱相關(guān)的情況下，可以修改或調(diào)節(jié)本發(fā)明的參數(shù)和/或條件，
或者可替代地，使用另一種方法來提供用于醫(yī)療目的的信息。
在本發(fā)明的上下文中，應(yīng)當(dāng)理解的是，在樣本中的主要單散射事件 對第一和第二光譜函數(shù)產(chǎn)生貢獻(xiàn)的意義下，第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)基本上指示單散射事件。然而，還存在來自雙散射事件、三散射事
件等等的對第一和/或第二光譜函數(shù)的逐漸消失(dismissing)的貢獻(xiàn)， 一旦本發(fā)明的一般原理被承認(rèn)，技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)容易理解的是，這些更高 階散射事件的貢獻(xiàn)一般依賴于與輻射的特定的相互作用和光學(xué)特性。更 特別地，所述相互作用以及因此來自更高階散射事件的貢獻(xiàn)依賴于輻射 類型(例如單色、寬帶)、輻射的偏振(線性、橢圓、圓)、輻射的強 度(高功率、低功率)，并且當(dāng)然依賴于所討論的樣本的光學(xué)散射特性 (吸收、彈性散射、非彈性散射等等)?？偟恼f來，本發(fā)明涉及逆散射 問題，其中從樣本反射的光輻射用于提取關(guān)于樣本的信息。對于更多的 技術(shù)細(xì)節(jié)，讀者可以參考Biomedical Photonics Handbook, Editor-in-Chief TuanVo-Dinh, CRC Press LLC, Florida, ISBN 0-8493-1116-0,參見例 如第二章。
盡管本發(fā)明可以在醫(yī)療領(lǐng)域找到合適的應(yīng)用，但是本發(fā)明的教導(dǎo)不 限于該技術(shù)領(lǐng)域。相反地，本發(fā)明還可以在許多光學(xué)應(yīng)用和領(lǐng)域找到應(yīng) 用，其中所期望的是來自重疊在某些類型的襯底上的光學(xué)薄層的光學(xué)響 應(yīng)，條件是該光學(xué)薄層應(yīng)當(dāng)優(yōu)選地是不導(dǎo)電的(例如金屬的)，因為導(dǎo) 電層一般具有更高的反射率，即更深的層通常不會被照射的輻射束探測 到。因此，可以設(shè)想其他的應(yīng)用，其中將分析生物樣本的表面?？商娲?地，本發(fā)明可以分析半導(dǎo)電表面層，例如硅或其變型，如硅石。
有利地，第一光譜函數(shù)(f )可以是偏振光散射光語分析 (spectroscopy) (PLSS)函數(shù)。此外或可替代地，第二光譜函數(shù)(g) 可以是第一和第二輻射波導(dǎo)之間的差分路徑長度(DPL)的度量。
典型地，所述檢測器可以被設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量被第一輻射 波導(dǎo)捕獲的反射輻射的第一偏振(P—1 )和第二偏振(P—2),以便為偏 振輻射提供最簡單的光路。然而，可替代地或此外，所述檢測器可以被 設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量由第二輻射波導(dǎo)捕獲的反射輻射的第一偏 振(P_l )和第二偏振(P_2)。
在一個實施例中，附加的第三輻射波導(dǎo)可以被設(shè)置用于將具有初始 偏振(P—0)的輻射傳送到樣本，該第三輻射波導(dǎo)具有與笫一和第二輻 射波導(dǎo)的端部基本上對準(zhǔn)的端部。然而，該實施例需要用于第三輻射波 導(dǎo)的附加空間。通常，第三輻射波導(dǎo)可以被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的 輻射，該第三輻射波導(dǎo)光學(xué)連接到所述檢測器。特別地，該第三輻射波導(dǎo)提供了以下優(yōu)點可以在獨立的輻射波導(dǎo)中相互并行地執(zhí)行PLSS和 DPL測量。在另 一 個實施例中，所述檢測器可以被設(shè)置用于測量反射的輻射在 兩個基本上垂直的方向上的第一 (P_l )和第二 (P—2)偏振。因此，如 果所測量的偏振的相對取向垂直，則典型地將獲得最大的差分信號。此 外或可替代地，所述輻射源可以被設(shè)置用于發(fā)射具有在基本上平行于所 測量的第一 (P—1)或所測量的第二 (P—2)偏振的偏振平面的平面中線 性偏振的初始偏振(P—0)的輻射，以便提供所述光學(xué)設(shè)備的簡單而有 效的光學(xué)配置。在一些應(yīng)用中，可能更有利的是應(yīng)用圓偏振輻射，因為 該偏振在 一 些類型的輻射波導(dǎo)中被更好地保持。在一個實施例中，第一、第二和/或第三輻射波導(dǎo)可以是光纖。這些 光纖可以具有最大200微米的直徑(不考慮包層)，優(yōu)選地具有最大100 微米的直徑，或者甚至更優(yōu)選地具有最大50微米的直徑。然而，結(jié)合其中第三輻射波導(dǎo)可以被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻 射以便對其執(zhí)行偏振光散射光譜分析(PLSS)的實施例，第三輻射波導(dǎo) 于是可以具有100微米的最大直徑，優(yōu)選地具有最大50微米的直徑， 或者甚至更優(yōu)選地具有最大25微米的直徑，因為一般說來，輻射波導(dǎo) 的直徑越小，通過輻射波導(dǎo)所述偏振保持得越好。類似地，結(jié)合第三輻射波導(dǎo)的所述實施例，第一和/或第二輻射波導(dǎo) 于是可以具有100微米的最小直徑，優(yōu)選地具有最小200微米的直徑， 甚至更優(yōu)選地具有最小300微米的直徑，或者最優(yōu)選地具有400微米的 直徑，以便執(zhí)行差分路徑長度(DPL)光譜分析，因為一般地輻射波導(dǎo) 的直徑設(shè)定了利用DPL可以滲透到樣本中多遠(yuǎn)的上限。在另 一個實施例中，所述處理裝置可以進(jìn)一步被設(shè)置用于確定光學(xué) 子帶內(nèi)不止一個區(qū)域的相關(guān)性，該處理裝置于是可以適于隨后選擇用于 隨后的光學(xué)測量的最優(yōu)相關(guān)性(C)區(qū)域，以便選擇用于例如對病人的 醫(yī)療狀況的隨后測量的最優(yōu)設(shè)置?？商娲鼗虼送?，該處理裝置可以進(jìn) 一步被設(shè)置用于根據(jù)所找到的相關(guān)性改變光學(xué)子帶。有利地，所述光學(xué)設(shè)備可以包括致動裝置，該致動裝置被設(shè)置用于 根據(jù)所述相關(guān)性至少改變第 一和第二輻射波導(dǎo)各自的端部之間的距離。 可能地，該致動裝置還可以相對于彼此和/或相對于樣本調(diào)節(jié)它們的相對 位置。在一個實施例中，第一、第二和/或第三輻射波導(dǎo)可以形成導(dǎo)管的一 部分，該導(dǎo)管適用于病人的體內(nèi)表征。在第二方面，本發(fā)明涉及被設(shè)置用于與關(guān)聯(lián)的光學(xué)設(shè)備協(xié)作的導(dǎo)管，該導(dǎo)管包括第一和第二輻射波導(dǎo)，第一輻射波導(dǎo)光學(xué)連接到輻射源以便向樣本 發(fā)射輻射，第一和第二輻射波導(dǎo)具有它們各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端 部，這些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射。所述關(guān)聯(lián)的光學(xué)設(shè)備包括輻射源，其能夠發(fā)射具有初始偏振(P—0)的輻射， 檢測器，其光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)，該檢測器被設(shè)置用于 在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示-反射的輻射的第一偏振(P—1)，-反射的輻射的第二偏振(P—2)，所述第二偏振(P—2)不同 于第一偏振(P_l )，以及-分別在第 一和第二輻射波導(dǎo)中的反射的輻射的第 一和第二強 度(I—1, 1—2),以及處理裝置，其可操作地連接到所述檢測器，該處理裝置適于在光學(xué) 子帶內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f, g) 基本上指示樣本中的單散射事件-第一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射的第一 (P—1)偏振與反射 的輻射的第二 (P—2)偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是反射的輻射的第一與第二強度(1—1, 1—2)之間的強度差的度量，該處理裝置進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一 (f)與第二 (g)光語函數(shù)之 間的相關(guān)性度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的 光學(xué)深度。有利地，在所述導(dǎo)管內(nèi)，第三輻射波導(dǎo)可以被設(shè)置用于將具有初始 偏振(P一0)的輻射傳送到樣本，該第三輻射波導(dǎo)具有與第一和第二波 導(dǎo)的端部基本上對準(zhǔn)的端部。該第三輻射波導(dǎo)于是可以被設(shè)置用于捕獲 從樣本反射的輻射，該第三輻射波導(dǎo)也可以光學(xué)連接到所述檢測器以便 執(zhí)行偏振光散射光譜分析(PLSS )。特別地，該第三輻射波導(dǎo)提供了以 下優(yōu)點可以在獨立的輻射波導(dǎo)中相互并行地扭j行PLSS和差分路徑長度(DPL)光譜分析測量。因此，本發(fā)明可以減輕在PLSS與DPL之間 對于輻射波導(dǎo)的直徑的相反的要求，在PLSS中，典型地希望輻射波導(dǎo) 的直徑較低，而在DPL中，通常希望輻射波導(dǎo)的直徑較高。有利地，第一、第二和/或第三輻射波導(dǎo)可以具有偏振保持特性，以 便有助于基本上無失真地測量第一 (P一l)和第二 (P—2)偏振。在第三方面，本發(fā)明涉及操作用于評估樣本中的光學(xué)深度(D)的 光學(xué)設(shè)備的方法，該方法包括利用輻射源發(fā)射具有初始偏振(P—0)的輻射，相對于樣本設(shè)置第一和笫二輻射波導(dǎo)，第一輻射波導(dǎo)光學(xué)連接到輻 射源以便向樣本發(fā)射輻射，第一和第二輻射波導(dǎo)具有其各自的基本上彼 此對準(zhǔn)的端部，這些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射，提供光學(xué)連接到第 一和第二輻射波導(dǎo)的檢測器，該檢測器被設(shè)置用 于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示-反射的輻射的第一偏振(P—1)，-反射的輻射的第二偏振(P—2),所述第二偏振(P—2)不同 于第一偏振(P—1 ),以及-分別在第 一和第二輻射波導(dǎo)中的反射的輻射的第 一和第二強 度(1—1， 1—2),以及提供處理裝置，其可操作地連接到所述檢測器，該處理裝置適于在 光學(xué)子帶內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f, g)基本上指示樣本中的單散射事件-第一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射的第一 (P—1)偏振與反射 的輻射的第二 (P—2)偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是反射的輻射的第一與第二強度(1—1, I一2)之間的強度差的度量，由該處理裝置計算第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之間的相關(guān)性度 量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的光學(xué)深度。在本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明涉及計算機程序產(chǎn)品，其適于使得包 括至少 一個具有與其關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)存儲裝置的計算機的計算機系統(tǒng)能夠 根據(jù)本發(fā)明的第三方面控制光學(xué)設(shè)備。本發(fā)明的這個方面是特別地但非排他性地有利的，因為可以由能夠 使得計算機系統(tǒng)執(zhí)行本發(fā)明的第二方面的操作的計算機程序產(chǎn)品來實現(xiàn)本發(fā)明。因此，可以預(yù)期，通過在控制某個已知的光學(xué)設(shè)備的計算機 系統(tǒng)上安裝計算機程序產(chǎn)品可以將所述已知的光學(xué)設(shè)備改變?yōu)楦鶕?jù)本 發(fā)明操作。這種計算機程序產(chǎn)品可以在任何類型的計算機可讀介質(zhì)(例 如基于磁或光的介質(zhì))上或通過基于計算機的網(wǎng)絡(luò)(比如因特網(wǎng))提供。 本發(fā)明的第一、第二、笫三和第四方面中的每一個方面都可以與其 他任何一方面組合，本發(fā)明的這些和其他方面根據(jù)下面描述的實施例將 是清楚明白的，并且將參照這些實施例進(jìn)行闡述。


現(xiàn)在將僅通過實例并參照附圖來闡釋本發(fā)明，其中 圖1是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備的示意圖，圖2是PLSS和DPL的光路的示意圖， 圖3是單散射事件的關(guān)聯(lián)樣本內(nèi)的光路的示意圖， 圖4是多散射事件的關(guān)聯(lián)樣本內(nèi)的光路的示意圖， 圖5示意性示出了具有第一 (f)和第二 (g)光語函數(shù)的曲線圖和 所計算的這兩個函數(shù)的相關(guān)性(C)的兩個實例， 圖6是根據(jù)本發(fā)明的可替代光學(xué)設(shè)備的示意圖， 圖7是根據(jù)本發(fā)明的可替代光學(xué)設(shè)備的示意圖，以及 圖8是根據(jù)本發(fā)明的方法的流程圖。
具體實施方式
圖1是可以用于評估關(guān)聯(lián)的樣本100中的光學(xué)深度D (參照下面的 圖3和圖4)的光學(xué)設(shè)備的示意圖。該光學(xué)設(shè)備包括能夠發(fā)射具有初始 偏振PJ)的輻射20的輻射源10。該輻射源IO可以例如是常規(guī)的激光器 或鎢絲燈，適當(dāng)?shù)钠駷V波器在沿著朝向樣本的光路的任意位置處與其 光學(xué)連接。關(guān)于術(shù)語"輻射"，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的上下文中可以 應(yīng)用任意類型的合適的輻射，例如可以應(yīng)用紅外(IR)光、可見光、紫 外(UV)光以及(軟)X輻射。此外，第一30a和第二30b輻射波導(dǎo)包括在所述光學(xué)設(shè)備中，第一 和第二輻射波導(dǎo)可以例如是光纖或其他合適的波導(dǎo)裝置。如圖i所示，第一輻射波導(dǎo)30a光學(xué)連接到輻射源10以便向樣本IOO發(fā)射輻射20， 第一輻射波導(dǎo)30a具有基本上保持偏振的特性。輻射源IO可以通過輔助輻射波導(dǎo)11光學(xué)連接到第一輻射波導(dǎo)30a如圖1示意性所示，第一和第二輻射波導(dǎo)具有其各自的基本彼此對 準(zhǔn)的端部30a，和30b，，這些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本100反射 的輻射25a和25b。根據(jù)第一和第二輻射波導(dǎo)的這種光學(xué)配置，可以利 用依照本發(fā)明的光學(xué)設(shè)備執(zhí)行差分路徑長度光譜分析(DPL)。關(guān)于DPL 的進(jìn) 一 步的細(xì)節(jié)，讀者可以參考WO2005/029051 ( Amelink和 Sterenborg),其通過引用全部合并于此。所述光學(xué)設(shè)備還包括檢測器40,其光學(xué)連接到第一 30a和第二 30b 輻射波導(dǎo)。檢測器40被設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示 -反射的輻射25的第一偏振P—1,-反射的輻射25的第二偏振P—2,所述第二偏振P一2不同于笫 一偏振P—1,以及-分別在第一 30a和第二 30b輻射波導(dǎo)中的反射的輻射25a和 25b的第一I—1和第二強度I—2。檢測器40可以例如是具有適當(dāng)?shù)钠駲z測裝置的一個或多個光譜 儀，所述偏振檢測裝置例如偏振濾波器或?qū)?yīng)的光學(xué)單元。因此，所測 量的第一 1—1和第二強度1—2可以是如由所述光學(xué)子帶定義的某個輻射 帶的光譜圖(spectrograph)。通過檢測反射的輻射25的第一偏振P_l 和第二偏振p一2 (所述第二偏振P—2不同于第一偏振P—1 ),可以用所 述光學(xué)設(shè)備執(zhí)行偏振光散射光譜分析(PLSS )。關(guān)于PLSS的進(jìn)一步的 細(xì)節(jié)，讀者可以參考V. Backman等人在IEEE J. Selected Topics Quantum Electron.,第5巻第4期，1999年7月/8月，第1019頁的論文，該文 獻(xiàn)通過引用全部合并于此。此外，處理裝置60可操作地連接到檢測器40,該處理裝置適于在 光學(xué)子帶內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f, g)基本上指示樣本中的單散射事件。然而，如上面所解釋的，還可能 存在來自雙散射事件、三散射事件等等的對第一 (f)和/或第二 (g)光 譜函數(shù)的逐漸消失的貢獻(xiàn)。技術(shù)人員能夠容易實現(xiàn)的是，該處理裝置可 以實現(xiàn)為運行在一個或多個數(shù)據(jù)處理器和/或數(shù)字信號處理器上的計算 機軟件。第一光語函數(shù)(f)是反射的輻射25的第一P—1偏振和反射的輻射 25的第二P 2偏振之間的偏振差的度量。如圖1中P—1和P—2的相對位14輻射波導(dǎo)25a捕獲的反射光25a 中檢測，但是可替代地或此外，第一和第二偏振可以從^^皮第二輻射波導(dǎo) 25b捕獲的反射光25b檢測(圖1中未示出)。第二光譜函數(shù)(g)是在第一 25a和第二 25b輻射束中的反射的輻 射的第一 I—1和第二強度1—2之間的強度差的度量。處理裝置60進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之 間的相關(guān)性(C)度量，以便評估所述單散射事件是否來源于樣本100 內(nèi)的基本上相同的光學(xué)深度(D)。圖2是PLSS (上部)和DPL (下部)的光路的示意圖。對于PLSS，入射光20的初始偏振用P—0表示。在反向散射時，反 射光25將具有帶有至少兩個分量P—1和P—2的特有偏振，檢測器40(圖 2中未示出)被設(shè)置用于測量該偏振。反射的輻射25的第一P—1和第二 P一2偏振被表示為指向兩個基本上垂直的方向，因為這可以有利地導(dǎo)致 這兩個測量的偏振方向之間的最大差異，但是其他相對取向也是可能 的。典型地，輻射源10 (例如固態(tài)激光器)發(fā)射具有初始偏振P一0的輻 射，該初始偏振P一0在基本上平行于所測量的第一偏振P一1 (如圖2所 示)或所測量的第二 P—2偏振的偏振平面的平面中線性偏振。對于DPL,反射的輻射25a和25b各自的第一 1—1與第二強度1—2 之間的強度差用于進(jìn)一步分析。在根據(jù)強度的差分信號將獲得什么類型 的信息方面，第一和第二輻射波導(dǎo)30a和30b (未示出)的相對位置當(dāng) 然十分重要。同樣，對于DPL光語分析來說，輻射波導(dǎo)(例如光纖)的 有效直徑具備較高的重要性。 一般來說，對于DPL,光纖的直徑大約是 進(jìn)入組織的探測深度的兩倍。圖3是單散射事件的關(guān)聯(lián)樣本100內(nèi)的光路的示意圖。如圖3所示， 入射輻射20以特定光學(xué)深度D透入樣本100中，并且在樣本100內(nèi)的 一定位置發(fā)生光學(xué)相互作用時在一定方向上存在反射的輻射25。為了用 所述光學(xué)設(shè)備測量反射的輻射25，如圖3所示，通常必需的是，反射的 輻射25近似地或者精確地沿著入射輻射20的方向反向散射。然而，通 過透鏡和/或更寬直徑的輻射波導(dǎo)30,可以增加捕獲反射的輻射25的立 體角。圖4是多散射事件的關(guān)聯(lián)樣本100內(nèi)的光路的示意圖。與圖3類似， 入射輻射20在樣本100內(nèi)一定位置處被散射，并且隨后反射的輻射25在樣本100內(nèi)被散射兩次，如由在標(biāo)記反射的輻射25的光路的箭頭25 中的兩個轉(zhuǎn)折點(break)所示。因此，所檢測的輻射25已經(jīng)透入到光 學(xué)深度D，，并且相應(yīng)地反射的輻射25包括關(guān)于該深度內(nèi)樣本的信息， 該信息是三散射事件的總體貢獻(xiàn)，并且?guī)缀醪豢赡芙忾_來自每個散射事 件的各個貢獻(xiàn)。圖5示意性示出了具有沿著豎直軸的第一 (f)和第二 (g)光譜函 數(shù)和沿著水平軸的波長(L,單位為微米)的曲線圖。在從L1到L2的光學(xué)子帶內(nèi)示出這兩個光譜函數(shù)。第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之間的相關(guān)性C被如下歸一化地計算<formula>formula see original document page 16</formula>
因此，當(dāng)存在高相關(guān)性時，c等于或接近于零，并且如果相關(guān)性低，那么對于大部分光譜，C近似為2。對于技術(shù)人員來說，計算相關(guān)性C 的其他方法可輕易獲得。在圖5中的兩個光鐠函數(shù)下面，所計算的相關(guān)性C(L1,L2)被示出為 常數(shù)。相關(guān)性C(L1,L2)可以與預(yù)定的值比較，所述預(yù)定的值定義了導(dǎo)致 這兩個光譜函數(shù)(f， g)的散射事件來源于樣本100內(nèi)相同的光學(xué)深度 D的可接受的置信水平。如果與預(yù)定值比較相關(guān)性水平不可接受，則處 理裝置60可以調(diào)節(jié)檢測器40的光學(xué)子帶L1、 L2,改變輻射源10的輻 射20(功率、波長、重復(fù)頻率等等)，修改第一25a和第二25b輻射波 導(dǎo)的相對位置，建議改變第一 25a和/或第二 25b輻射波導(dǎo)的直徑，和/ 或改變檢測器40的設(shè)置(采樣率、靈敏度等等)。處理裝置60可以被 設(shè)置為在沒有得到控制所述光學(xué)設(shè)備的操作者同意的情況下啟動這些 改變或修改，或者處理裝置可以請求操作者的批準(zhǔn)，可能的是，該處理 裝置可以向操作者建議進(jìn)行一些修改，例如通過使用另一組輻射波導(dǎo)來 改變所述輻射波導(dǎo)的直徑。/0必(1)可替代地，可以在光學(xué)子帶內(nèi)的不止一個區(qū)域中由處理裝置60計 算相關(guān)性C,如四個相關(guān)性C1、 C2、 C3和C4所示。為了清楚起見， 這四個區(qū)域被顯示為不重疊，但是這些區(qū)域也可以彼此重疊。隨后，處 理裝置可以為隨后使用所述光學(xué)設(shè)備進(jìn)行的光學(xué)測量選擇具有最優(yōu)相 關(guān)性(C)的區(qū)域，特別是可以選擇用于以后的診斷目的的最優(yōu)相關(guān)性 (C)。在另一個實施例中，處理裝置60可以將來自光學(xué)子帶L1、 L2內(nèi)的 所述不止一個區(qū)域(例如圖5中的四個)的相關(guān)性加在一起，以便獲得 相關(guān)性C的總體值?？赡艿氖?，可以將這些相關(guān)性加在一起且每個相關(guān) 性具有特定權(quán)重，該權(quán)重取決于所找到的特定相關(guān)性(例如C1、 C2等 等)、預(yù)定的光譜特性(例如f的上限值和下限值)和/或光譜區(qū)域(波 長L)。圖6是根據(jù)本發(fā)明的可替代光學(xué)設(shè)備的示意圖，其中第三輻射波導(dǎo) 30c被設(shè)置用于將具有初始偏振P—0的輻射20，傳送到樣本100。圖6中 示出的光學(xué)設(shè)備在其他方面類似于圖l所示的光學(xué)設(shè)備。第三輻射波導(dǎo) 30c還可以具有分別與第一和第二輻射波導(dǎo)的端部30a，和30b，基本上對 準(zhǔn)的端部30c，。平行于通過第三輻射波導(dǎo)25a的輻射20，，第一輻射波 導(dǎo)將輻射20傳送到樣本100，輻射20不一定需要偏振，因為如圖6所 示可以通過使用反射光25c在附加的第三輻射波導(dǎo)3Oc中排他性地執(zhí)行 PLSS。在該實施例中，輻射源10也可以被劃分為兩個分離的且相互獨 立的輻射源(圖6中未示出)。光學(xué)設(shè)備的該實施例具有以下優(yōu)點隨 后PLSS和DPL可以彼此獨立地執(zhí)行，從而使得在沒有下述限制的情況 下設(shè)計所述光學(xué)設(shè)備成為可能第一 30a和/或第二 30b輻射波導(dǎo)必須能 夠執(zhí)行者兩種光譜分析。圖7是可替代光學(xué)設(shè)備的示意圖，該光學(xué)設(shè)備包括致動裝置(未示 出)，該致動裝置被設(shè)置用于根據(jù)相關(guān)性C改變第一30a與第二30b輻 射波導(dǎo)各自的端部30a，和30b，之間的距離d (用雙箭頭表示)。因此， 可以將相關(guān)性C優(yōu)化為距離d的函數(shù)。第一和第二光鐠函數(shù)通?？梢员?當(dāng)前可用的光學(xué)裝置快速找到(少于若干分之一秒)，并且相似地，相 關(guān)性C可以被常規(guī)的計算裝置甚至更快速地找到，這意味著即使所述光 學(xué)設(shè)備應(yīng)用在病人上，也通常有時間執(zhí)行對相關(guān)性和輻射波導(dǎo)距離d的所示的光學(xué)設(shè)備在其他方面與圖1所示的光學(xué)設(shè)備相似，為了清楚起見，檢測器40與處理裝置60被省略。圖8是根據(jù)本發(fā)明的方法的流程圖。該方法允許操作用于評估樣本 100中的光學(xué)深度D的光學(xué)設(shè)備，該方法包括Sl利用輻射源10發(fā)射具有初始偏振P—0的輻射20,S2相對于樣本設(shè)置第一 30a和第二 30b輻射波導(dǎo)，該第一輻射波 導(dǎo)30a光學(xué)連接到輻射源以便向樣本發(fā)射輻射20，第一和第二輻射波導(dǎo) 具有其各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端部30a，和30b'，這些端部進(jìn)一步被設(shè) 置用于捕獲從樣本反射的輻射25a和25b,S3提供光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)的檢測器40,該檢測器被 設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示 -反射的輻射25的第一偏振P—1，-反射的輻射25的第二偏振P—2，所述第二偏振P—2不同于第 一偏振P—1,以及-分別在第一 30a和第二輻射30b波導(dǎo)中的反射的輻射25a和 25b的第一和第二強度I—1和1—2,以及S4提供處理裝置60，其可操作地連接到所述檢測器，該處理裝置 適于計算在光學(xué)子帶內(nèi)的第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f, g)基本上指示樣本中的單散射事件-第一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射25的第一P—1偏振與反射 的輻射25的第二P—2偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是反射的輻射的第一與第二強度I—1和1—2 之間的強度差的度量，S5由處理裝置60計算第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之間的相關(guān) 性C度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的光學(xué)深 度D。本發(fā)明可以以包括硬件、軟件、固件或這些的任意組合的任何適當(dāng) 的形式實現(xiàn)。本發(fā)明或本發(fā)明的一些特征可以實現(xiàn)為運行在一個或多個 數(shù)據(jù)處理器和/或數(shù)字信號處理器上的計算機軟件。本發(fā)明的實施例的元 件和部件可以以任何合適的方式物理地、功能地和邏輯地實現(xiàn)。事實上， 所述功能可以在單個單元、多個單元中實現(xiàn)或作為其他功能單元的一部 分而實現(xiàn)。同樣，本發(fā)明可以在單個單元中實現(xiàn)，或可以物理地和功能18地分布在不同單元與處理器之間。雖然已經(jīng)結(jié)合特定實施例描述了本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于本文中 所提出的特定形式。確切地說，本發(fā)明的范圍僅由所附權(quán)利要求限制。 在權(quán)利要求中，措詞"包括/包含"不排除其他元件或步驟的存在。此外， 雖然單獨的特征可以包括在不同權(quán)利要求中，但是這些特征可以有利地 組合，并且包括在不同權(quán)利要求中并不意味著特征的組合不是可行的和 /或有利的。此外，單數(shù)引用并沒有排除復(fù)數(shù)。因此，對于"一"、"第一"、 "第二，，等的引用并沒有排除復(fù)數(shù)。而且，權(quán)利要求中的附圖標(biāo)記不應(yīng)當(dāng)被解釋為限制了本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種用于評估關(guān)聯(lián)的樣本(100)中的光學(xué)深度(D)的光學(xué)設(shè)備，該設(shè)備包括輻射源(10)，其能夠發(fā)射具有初始偏振(P_0)的輻射(20)，第一(30a)和第二(30b)輻射波導(dǎo)，該第一輻射波導(dǎo)(30a)光學(xué)連接到輻射源以便向樣本發(fā)射輻射(20)，第一和第二輻射波導(dǎo)具有其各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端部(30a’，30b’)，這些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射(25a，25b)，檢測器(40)，其光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)，該檢測器被設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示-反射的輻射(25)的第一偏振(P_1)，-反射的輻射(25)的第二偏振(P_2)，所述第二偏振(P_2)不同于第一偏振(P_1)，以及-分別在第一(30a)和第二(30b)輻射波導(dǎo)中的反射的輻射(25a，25b)的第一和第二強度(I_1，I_2)，以及處理裝置(60)，其可操作地連接到檢測器，該處理裝置適于在所述光學(xué)子帶內(nèi)計算第一(f)和第二(g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f，g)基本上指示樣本中的單散射事件-第一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射(25)的第一(P_1)偏振與反射的輻射(25)的第二(P_2)偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是所述反射的輻射的第一與第二強度(I_1，I_2)之間的強度差的度量，其中處理裝置(60)進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一(f)與第二(g)光譜函數(shù)之間的相關(guān)性(C)度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的光學(xué)深度(D)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中第一光譜函數(shù)(f)是偏振光 散射光譜分析(PLSS)函數(shù)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的光學(xué)設(shè)備，其中第二光譜函數(shù)(g)是第 一 (30a)與第二 (30b)輻射波導(dǎo)之間的差分路徑長度(DPL)的度量。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中所述檢測器被設(shè)置用于在所迷 光學(xué)子帶內(nèi)測量被第一輻射波導(dǎo)(30a)捕獲的反射的輻射(25)的第 一偏振(PI)和第二偏振(P_2)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中第三輻射波導(dǎo)(30c)被設(shè)置 用于將具有初始偏振(P—0)的輻射(20)傳送到樣本，該第三輻射波 導(dǎo)具有與第一和第二輻射波導(dǎo)的端部(30a，， 30b，)基本上對準(zhǔn)的端部(30c，)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的光學(xué)設(shè)備，其中第三輻射波導(dǎo)(30c)被設(shè)置 用于捕獲從樣本反射的輻射(25c)，該第三輻射波導(dǎo)(30c)光學(xué)連接 到所述檢測器。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中所述檢測器被設(shè)置用于測量反 射的輻射(25a, 25b, 25c)在兩個基本上垂直的方向上的第一 (P_l ) 和第二 (p_2)偏振。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1或7的光學(xué)設(shè)備，其中輻射源(10 )被設(shè)置用于 發(fā)射具有初始偏振(P—0)的輻射，該初始偏振在基本上平行于所測量 的第一 (P—1)或所測量的第二 (P—2)偏振的偏振平面的平面中是線性 偏振的。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1或5的光學(xué)設(shè)備，其中第一、第二和/或第三輻 射波導(dǎo)是光纖，其具有最大200微米的直徑，優(yōu)選地具有最大100微米 的直徑，或者甚至更優(yōu)選地具有最大50微米的直徑。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中所述處理裝置進(jìn)一步被設(shè)置 用于確定所述光學(xué)子帶內(nèi)不止一個區(qū)域的相關(guān)性(C)，該處理裝置適 于隨后為隨后的光學(xué)測量選擇具有最優(yōu)相關(guān)性(C)的區(qū)域。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1或10的光學(xué)設(shè)備，其中所述處理裝置進(jìn)一步被 設(shè)置用于根據(jù)所找到的相關(guān)性(C)改變所述光學(xué)子帶。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中所述光學(xué)設(shè)備包括致動裝置， 該致動裝置被設(shè)置用于根據(jù)相關(guān)性(C)至少改變第一與笫二輻射波導(dǎo) 的各自端部(30a，， 30b，)之間的距離(d)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)設(shè)備，其中第一、第二和/或第三輻射波 導(dǎo)形成導(dǎo)管的一部分。
14. 一種被設(shè)置用于與關(guān)聯(lián)的光學(xué)設(shè)備協(xié)作的導(dǎo)管， 該導(dǎo)管包括第一 (30a)和第二 (30b)輻射波導(dǎo)，第一輻射波導(dǎo)(30a)可光 學(xué)連接到輻射源以便向樣本(100)發(fā)射輻射(20),該第一和第二輻 射波導(dǎo)具有其各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端部(30a'， 30b，)，這些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射(25a， 25b)， 所述關(guān)聯(lián)的光學(xué)設(shè)備包括輻射源(10),其能夠發(fā)射具有初始偏振(P_0)的輻射(20), 檢測器(40),其光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)，該檢測器被設(shè) 置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示 -反射的輻射(25)的第一偏振(P_l),畫反射的輻射(25)的第二偏振(P—2),所述第二偏振(P—2)不 同于第一偏振(P—1 ),以及-分別在第一 (30a)和第二 ( 30b )輻射波導(dǎo)中的反射的輻射(25a, 25b)的第一和第二強度(I_l, I_2)，以及處理裝置(60)，其可操作地連接到所述檢測器，該處理裝置適于 在所述光學(xué)子帶內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光語函數(shù)，這兩個光譜函 數(shù)(f, g)基本上指示樣本中的單散射事件-第一光鐠函數(shù)(f)是反射的輻射(25)的第一 (P_l )偏振與反 射的輻射(25)的第二 (P—2)偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是所述反射的輻射的第一與第二強度(I一l, I一2)之間的強度差的度量，該處理裝置(60)進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一 (f)與第二 (g)光鐠 函數(shù)之間的相關(guān)性(C)度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi) 基本上相同的光學(xué)深度(D)。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14的導(dǎo)管，其中第三輻射波導(dǎo)(30c)被設(shè)置用 于將具有初始偏振(P—0)的輻射(20)傳送到樣本，該第三輻射波導(dǎo) 具有與第一和第二輻射波導(dǎo)的端部(30a，， 30b，)基本上對準(zhǔn)的端部(30c，)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15的導(dǎo)管，其中第三輻射波導(dǎo)(30c)被設(shè)置用 于捕獲從樣本反射的輻射(25c),該第三輻射波導(dǎo)(30c)可光學(xué)連接 到所述檢測器。
17. 根據(jù)權(quán)利要求14-16中任一項的導(dǎo)管，其中第一 (25a)、第二 (25b)和/或第三(25c)輻射波導(dǎo)具有偏振保持特性。
18. —種操作用于評估樣本(100)中的光學(xué)深度(D)的光學(xué)設(shè)備 的方法，該方法包4舌利用輻射源(10)發(fā)射具有初始偏振(P 0)的輻射(20),相對于樣本設(shè)置第一 (30a)和第二 (30b)輻射波導(dǎo)，第一輻射波 導(dǎo)(30a)光學(xué)連接到所述輻射源以便向樣本發(fā)射輻射(20)，第一和 第二輻射波導(dǎo)具有其各自的基本上彼此對準(zhǔn)的端部(30a，， 30b，)，這 些端部進(jìn)一步被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射(25a, 25b),提供檢測器(40),其光學(xué)連接到第一和第二輻射波導(dǎo)，該檢測器 被設(shè)置用于在光學(xué)子帶內(nèi)測量下列各項的指示-反射的輻射(25)的第一偏振(P_l)，-反射的輻射(25)的第二偏振(P_2),所述第二偏振(P_2)不 同于第一偏振(P_l ),以及-分別在第一 (30a)和第二 ( 30b )輻射波導(dǎo)中的反射的輻射(25a, 25b)的笫一和第二強度(1—1， I_2),以及提供處理裝置(60),其可操作地連接到所述檢測器，該處理裝置 適于在所述光學(xué)子帶內(nèi)計算第一 (f)和第二 (g)光譜函數(shù)，這兩個光 譜函數(shù)(f, g)基本上指示樣本中的單散射事件-第一光譜函數(shù)(f)是反射的輻射(25)的第一 (P—1)偏振與反 射的輻射(25)的第二 (P—2)偏振之間的偏振差的度量，以及-第二光譜函數(shù)(g)是所述反射的輻射的第一與第二強度(I—1, I_2)之間的強度差的度量，由該處理裝置(60)計算第一 (f)與第二 (g)光譜函數(shù)之間的相 關(guān)性(C)度量，以便評估單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的 光學(xué)深度(D)。
19. 一種計算機程序產(chǎn)品，其適于使得包括至少一個具有與其關(guān)聯(lián) 的數(shù)據(jù)存儲裝置的計算機的計算機系統(tǒng)能夠根據(jù)權(quán)利要求18控制光學(xué) 設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于評估被來自輻射源(10)的偏振輻射照射的樣本(100)中的光學(xué)深度(D)的光學(xué)設(shè)備。第一和第二輻射波導(dǎo)的端部(30a’，30b’)被設(shè)置用于捕獲從樣本反射的輻射(25a，25b)。檢測器(40)測量反射的輻射(25)的第一偏振(P1)和第二偏振(P2)，以及分別在第一(30a)和第二(30b)輻射波導(dǎo)中的反射輻射(25a，25b)的第一和第二強度(I1，I2)。隨后，處理裝置(60)計算第一(f)和第二(g)光譜函數(shù)，這兩個光譜函數(shù)(f，g)表示樣本中的單散射事件。該處理裝置(60)進(jìn)一步被設(shè)置為計算第一(f)與第二(g)光譜函數(shù)之間的相關(guān)性(C)度量，以便評估所述單散射事件是否來源于樣本內(nèi)基本上相同的光學(xué)深度(D)。因此，第一和第二光譜函數(shù)之間的因果關(guān)系可以用于評估產(chǎn)生這兩個光譜函數(shù)的所述單散射事件是否來自樣本內(nèi)的基本上相同的光學(xué)深度(D)。本發(fā)明特別有利于光學(xué)探查病人的上皮層。
文檔編號A61B5/00GK101616627SQ200880005548
公開日2009年12月30日 申請日期2008年2月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月20日
發(fā)明者A·T·M·范戈夫, B·H·W·亨德里克斯, H·周 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司