專利名稱：光學(xué)成像系統(tǒng)和方法
光學(xué)成像系鄉(xiāng)旅
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及一種用于確定向?qū)ο?、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影 劑的濃度相關(guān)量的設(shè)備，所述設(shè)備包括用于以激發(fā)波長(zhǎng)輻照對(duì)象的電磁輻 射源，以及至少一個(gè)用于探測(cè)由造影劑以熒光波長(zhǎng)發(fā)射的熒光電磁輻射的 第一探測(cè)裝置，所述第一探測(cè)裝置產(chǎn)生熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
本發(fā)明還涉及一種確定向?qū)ο?、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑 的濃度相關(guān)量的方法，所述方法包括使用激發(fā)波長(zhǎng)的電磁輻射而輻照對(duì)象， 并且探測(cè)由造影劑以熒光波長(zhǎng)發(fā)射的熒光電磁輻射，由此產(chǎn)生熒光強(qiáng)度數(shù) 據(jù)。
本發(fā)明還涉及一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其用于確定向?qū)ο?、尤其是混?介質(zhì)所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量，以及一種光學(xué)成像系統(tǒng)，其用于 通過監(jiān)測(cè)由向?qū)ο?、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑發(fā)射的熒光輻射 而成像所述對(duì)象。
用于成像混濁介質(zhì)的光學(xué)成像系統(tǒng)，尤其用于成像女性乳房組織的光 學(xué)乳腺攝影系統(tǒng)，通常采用向待成像的對(duì)象(例如女性乳房)所施加的熒 光造影劑。入射在對(duì)象上的電磁輻射穿透進(jìn)入對(duì)象，并且激發(fā)包括于其中 的熒光造影劑，所述熒光造影劑反過來(lái)又產(chǎn)生熒光輻射(在光譜的近紅外
(NIR)范圍中)。在相對(duì)于對(duì)象的若干取向或位置處探測(cè)從對(duì)象射出的熒 光輻射。
通常，所述造影劑將不均勻地分布在待成像的對(duì)象中。例如，在光學(xué) 熒光乳腺攝影中，腫瘤所吸收的造影劑在濃度上比周圍健康組織所吸收的 要高，即通過造影劑吸收的生理學(xué)建立病變(腫瘤)和背景之間的相對(duì)對(duì) 比度。通過改變注射進(jìn)入對(duì)象(向患者施予)的劑量或者通過改變注射之 后執(zhí)行成像的時(shí)間，可以改變?cè)煊皠┑慕^對(duì)濃度。
通過成像系統(tǒng)的探測(cè)靈敏度，給出有助于采集圖像的造影劑最小濃度。 然而，濃度存在上限，通過由于造影劑對(duì)輻射的自吸收而引起熒光信號(hào)的病變)之間的觀察對(duì)比度具有 重要的影響在低濃度狀況下，病變?cè)谙鄬?duì)暗的背景上表現(xiàn)為亮斑。在高 濃度狀況下，病變表現(xiàn)為相對(duì)暗斑。
發(fā)明目的
本發(fā)明的目的是提供一種通過使用熒光造影劑而成像對(duì)象的光學(xué)成像 系統(tǒng)，以及一種對(duì)應(yīng)的方法，該方法能夠確定所施加的造影劑的最佳劑量 和/或用于對(duì)對(duì)象執(zhí)行成像的最佳時(shí)間，其中^f述最佳劑量高到足夠被探測(cè) 到，但是為了避免非線性也不會(huì)太高。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供將所述 方法轉(zhuǎn)化為實(shí)踐的一種在光學(xué)成像系統(tǒng)中使用的設(shè)備和計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，通過提供一種上述限定類型的設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)所 述目的，所述設(shè)備包括具有至少一個(gè)第二探測(cè)裝置，其用于探測(cè)激發(fā)波長(zhǎng) 下的通過對(duì)象透射的電磁輻射，所述第二探測(cè)裝置產(chǎn)生透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)；所 述設(shè)備還包括評(píng)估裝置，其適于接收透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)和熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)并且根 據(jù)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)與透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)的比率而確定造影劑的所述濃度相關(guān)量。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，通過提供一種上述限定類型的光學(xué)成像系統(tǒng) 來(lái)實(shí)現(xiàn)所述目的，所述光學(xué)成像系統(tǒng)包括根據(jù)本發(fā)明的所述第一方面的設(shè) 備，其中，根據(jù)由所述設(shè)備確定的濃度相關(guān)量來(lái)控制系統(tǒng)的操作。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，通過提供一種上述限定類型的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn) 品來(lái)實(shí)現(xiàn)所述目的，所述計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括第一代碼序列，其用于接收 描述由對(duì)象發(fā)射的熒光電磁輻射的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)；第二代碼序列，其用于 接收描述通過對(duì)象透射的電磁輻射的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)；第三代碼序列，其用 于計(jì)算熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)與透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)的比率并且用于根據(jù)所述比率確定所 述濃度相關(guān)量。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，通過提供一種上述限定類型的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)所 述目的，所述方法還包括探測(cè)激發(fā)波長(zhǎng)下的通過對(duì)象透射的電磁輻射，由
7此產(chǎn)生透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)；計(jì)算熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)與透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)的比率；以及根 據(jù)所述比率確定造影劑的所述濃度相關(guān)量。
因而，根據(jù)本發(fā)明的總體思路，提出了一種簡(jiǎn)單的方法，其允許核實(shí) 對(duì)象中的平均造影劑濃度是否適用于光學(xué)成像目的。該方法利用熒光測(cè)量 和透射測(cè)量，即該方法可以直接應(yīng)用于由所述測(cè)量產(chǎn)生的原始數(shù)據(jù)或信號(hào):
作為源和探測(cè)器之間的距離的函數(shù)來(lái)確定熒光信號(hào)關(guān)于透射信號(hào)的比率。 如果造影劑濃度處于自吸收可忽略的范圍中，則對(duì)應(yīng)于所述比率的數(shù)據(jù)將 表現(xiàn)出與造影劑濃度過高的情況不同的性態(tài)。因此，通過分析所述熒光-透 射比率的性態(tài)，可以以定量方式確定對(duì)(例如女性乳房)中的平均造影劑
濃度。下文中，這將稱為濃度相關(guān)量(過高；合適)。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)實(shí)施例中，所述第一探測(cè)裝置和所述輻射 源以及所述第二探測(cè)裝置和所述輻射源之間的距離可變，以產(chǎn)生依賴于距 離的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)和透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)。這樣，可以作為源探測(cè)器距離的函數(shù)， 例如通過對(duì)應(yīng)描點(diǎn)圖的光學(xué)檢査或通過關(guān)于對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)執(zhí)行回歸(regression) 來(lái)分析所述比率。例如，如果造影劑濃度處于自吸收可忽略的范圍中，則 比率數(shù)據(jù)將位于一條線上，即表現(xiàn)出關(guān)于源探測(cè)器距離的線性性態(tài)。而且， 這條線的斜率與造影劑濃度成比例。因此，如果對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行適當(dāng)?shù)匦Ｕ?則可以導(dǎo)出絕對(duì)濃度值。另一方面，如果濃度過高，則比率數(shù)據(jù)將位于基 本上S形的曲線上。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的對(duì)應(yīng)實(shí)施例中，所述方法包括改變輻射源和探 測(cè)位置之間的距離，以產(chǎn)生依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)和熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)， 并且根據(jù)所述比率作為所述距離的函數(shù)的性態(tài)來(lái)確定所述濃度相關(guān)量。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的又一實(shí)施例中，所述設(shè)備包括多個(gè)位于距輻射 源相應(yīng)距離處的第一和第二探測(cè)裝置，其用于探測(cè)位于相對(duì)于對(duì)象的各個(gè) 位置處的熒光電磁輻射和透射電磁輻射。
這樣，通過從不同的第一和/或第二探測(cè)裝置搜集數(shù)據(jù)，可以產(chǎn)生依賴 于距離的熒光和透射數(shù)據(jù)。
為了捕獲來(lái)自對(duì)象的熒光輻射，至少一個(gè)第二探測(cè)裝置要在光譜的近 紅外范圍中靈敏。
如上所述，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的又一實(shí)施例中，評(píng)估裝置適于根據(jù)所述比率關(guān)于所述距離的性態(tài)而確定造影劑對(duì)輻射的自吸收量，以便確定 適于光學(xué)成像的濃度條件。
為了通過視覺檢查來(lái)確定所述濃度相關(guān)量，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的又 一設(shè)備中，所述設(shè)備包括顯示裝置，其用于顯示作為所述距離的函數(shù)所描 點(diǎn)繪制的所述比率的曲線。
如果使用多個(gè)探測(cè)裝置分析對(duì)象，則所述對(duì)象由于其幾何結(jié)構(gòu)，可能 不會(huì)與所有所述探測(cè)裝置適當(dāng)?shù)夭僮鬟B接。因此，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的 另一實(shí)施例中，所述設(shè)備包括用于說(shuō)明對(duì)象相對(duì)于所述多個(gè)第一和第二探 測(cè)裝置的位置的裝置，其用于根據(jù)所述相對(duì)位置確定在所述比率中將要包 括哪個(gè)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)和哪個(gè)透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的又一實(shí)施例中，評(píng)估裝置適于在所述比率關(guān)于 距離線性變化時(shí)通知造影劑的濃度相關(guān)量的第一類型，而造影劑的濃度相 關(guān)量的第二類型是所述比率隨距離非線性變化。這樣，可以使用評(píng)估裝置 來(lái)自動(dòng)控制光學(xué)成像系統(tǒng)的操作。
當(dāng)需要監(jiān)測(cè)造影劑的動(dòng)力學(xué)時(shí)，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的又一實(shí)施例中， 至少一個(gè)第一和第二探測(cè)裝置適于在預(yù)定時(shí)間間隔上持續(xù)地產(chǎn)生所述強(qiáng)度 數(shù)據(jù)。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的對(duì)應(yīng)實(shí)施例中，所述方法包括在預(yù)定時(shí)間間隔 上持續(xù)地確定所述濃度相關(guān)量。
至少所述輻射源和所述第一和第二探測(cè)裝置可以包括在手持單元中， 因而構(gòu)成用于確定造影劑或染料濃度的簡(jiǎn)單手持設(shè)備。
為了促進(jìn)實(shí)際使用根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備，在又一實(shí)施例中，所述設(shè)備還 包括中空單元，其用于圍繞待成像的對(duì)象。所述中空單元包括多根與所述 輻射源連接的第一光纖，其用于輻照中空單元內(nèi)的對(duì)象。而且，中空單元 包括多根與通用型探測(cè)器單元連接的第二光纖，其用于探測(cè)來(lái)自中空單元 內(nèi)的對(duì)象的輻射?？汕袚Q波長(zhǎng)選擇濾波器裝置被設(shè)置成與所述第二光纖和/ 或所述探測(cè)器單元連接，用于選擇性地分別提供所述第一和第二探測(cè)裝置。
為了實(shí)現(xiàn)均勻地輻射和探測(cè)各種形狀和尺寸的對(duì)象，在根據(jù)本發(fā)明的 設(shè)備的又一實(shí)施例中，所述第一和第二光纖以基本上均勻的方式分布在所 述中空單元的表面上。本文中，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實(shí)施例中，通過經(jīng)由所述第一光 纖之一提供用于選擇性輻射對(duì)象的多路復(fù)用裝置，可以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生依賴于距 離的透射和熒光數(shù)據(jù)，所述第一光纖之一有效地用作輻射源，并且位于距 所述第二光纖中相應(yīng)光纖的給定距離處。
在根據(jù)本發(fā)明的方法的又一實(shí)施例中，所述方法包括根據(jù)所述濃度相 關(guān)量的測(cè)量值輸出控制信號(hào)。隨后，可以使用所述控制信號(hào)以根據(jù)本發(fā)明 的所述方面控制光學(xué)成像系統(tǒng)。
參考附圖，僅作為實(shí)例給出的優(yōu)選實(shí)施例的說(shuō)明書，可以得到本發(fā)明 的其他優(yōu)點(diǎn)和特征。根據(jù)本發(fā)明，可以獨(dú)立或組合地使用上述以及下列特 征。所述的實(shí)施例不形成詳盡的列舉，而應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是與本發(fā)明的總體構(gòu)思 有關(guān)的實(shí)例。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像系統(tǒng)的示意方框圖，其包括用于確定向 對(duì)象所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量的設(shè)備；
圖2是圖1的設(shè)備中的圍繞對(duì)象的單元的示意圖3是示出了對(duì)于第一濃度的熒光造影劑、作為由圖1的設(shè)備測(cè)量和 計(jì)算的源探測(cè)器距離的函數(shù)所描點(diǎn)繪制的熒光強(qiáng)度與透射強(qiáng)度的比率的 圖4是示出了對(duì)于第二濃度的熒光造影劑、作為由圖1的設(shè)備測(cè)量和 計(jì)算的源探測(cè)器距離的函數(shù)所描點(diǎn)繪制的熒光強(qiáng)度與透射強(qiáng)度的比率的 圖；以及
圖5是根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例的流程圖。
具體實(shí)施例方式
圖1示出了光學(xué)成像系統(tǒng)1的示意方框圖，其包括一種根據(jù)本發(fā)明的 用于確定向?qū)ο笏┘拥臒晒庠煊皠┑臐舛认嚓P(guān)量的設(shè)備。光學(xué)成像系統(tǒng)1 被設(shè)計(jì)成通過對(duì)向?qū)ο?、尤其是混濁介質(zhì)(例如，諸如女性乳房組織的人 或動(dòng)物組織)所施加的熒光造影劑(未示出)所發(fā)射的熒光輻射進(jìn)行監(jiān)測(cè) 而對(duì)所述對(duì)象2進(jìn)行成像。所述對(duì)象大體被包括在圍繞對(duì)象的中空單元3
10中，所述單元經(jīng)由輻射導(dǎo)向裝置5連接至輻射源4。中空單元3還經(jīng)由另一 輻射導(dǎo)向裝置7連接至探測(cè)器單元6。輻射導(dǎo)向裝置5和另一輻射導(dǎo)向裝置 7都包括多根輻射導(dǎo)向纖維，優(yōu)選為256根直徑均為d二lmm的纖維，為 了簡(jiǎn)明，僅描繪出這些纖維中的一些5.1、 5.2、 ...； 7.1、 7.2、...。
探測(cè)器單元6包括多個(gè)探測(cè)器(未示出)，所述探測(cè)器的數(shù)量對(duì)應(yīng)于輻 射導(dǎo)向裝置7的纖維數(shù)量，所述探測(cè)器中的每一個(gè)與所述纖維中一根相連 接以探測(cè)在所述這根纖維上透射的輻射。探測(cè)器單元6還包括濾波器裝置 8。
探測(cè)器單元6連接至光學(xué)成像系統(tǒng)1的控制單元9，所述控制單元優(yōu)選 被設(shè)計(jì)成個(gè)人計(jì)算機(jī)(PC)的形式。控制單元9包括評(píng)估裝置10、激光控 制器ll、光閘控制器12和電動(dòng)機(jī)控制器13，這些部件的功能將在下文變 得顯然。評(píng)估裝置IO、激光控制器ll、光閘控制器12和電動(dòng)機(jī)控制器13 優(yōu)選被設(shè)計(jì)成軟件形式，并且借助于任何合適的編程語(yǔ)言而在控制單元9 上實(shí)現(xiàn)，所述編程語(yǔ)言例如是本領(lǐng)域技術(shù)人員己知的C、 C+ + 、 Java等。
評(píng)估裝置10還包括若干模塊10.1、 10.2、...，其優(yōu)選也被設(shè)計(jì)成軟件 形式，所述模塊功能將變得顯然。
而且，光學(xué)成像系統(tǒng)1包括顯示裝置14和連接至所述控制單元9的輸 入裝置15。
根據(jù)圖1的實(shí)施例，輻射源4還包括若干在操作上與相應(yīng)透鏡4.1a、 4.2a、 4.3a和光閘4.1b、 4.2b、 4.3b連接的激光二極管4.1、 4.2、 4.3，所述 光閘后跟有相應(yīng)長(zhǎng)度的、優(yōu)選直徑為d=0.4mm的輻射導(dǎo)向纖維4.1c、 4.2c、 4.3c。在所示的實(shí)施例中，第一激光二極管4.1發(fā)射以第一激發(fā)波長(zhǎng)且具有 第一發(fā)射功率(例如，X=680nm， P=50mW)的電磁輻射。第二激光二極 管4.2發(fā)射以第二激發(fā)波長(zhǎng)且具有第二發(fā)射功率(例如，X=780nm， P = 60mW)的電磁輻射。第三激光二極管4.2發(fā)射以第三激發(fā)波長(zhǎng)且具有第三 發(fā)射功率(例如，X=870nm， P=40mW)的電磁輻射。
輻射源4還包括在操作上連接至多路復(fù)用裝置4.5的電動(dòng)機(jī)裝置4.4， 所述多路復(fù)用裝置采取纖維選擇器的形式，其適于選擇第一輻射導(dǎo)向裝置5 的所述多根輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、...中之一。
下文將描述光學(xué)成像系統(tǒng)1的操作-一般地，經(jīng)由輻射導(dǎo)向裝置5，即經(jīng)由圖1中箭頭I所示的輻射導(dǎo)向纖 維5.1、 5.2、...，使用來(lái)自輻射源4的至少一個(gè)激發(fā)波長(zhǎng)的電磁輻射，輻照 施加有熒光造影劑的對(duì)象2。然后，對(duì)象2中的造影劑吸收部分所述輻射， 并且以不同于所述激發(fā)波長(zhǎng)的波長(zhǎng)發(fā)射熒光輻射，所述熒光輻射經(jīng)由輻射 導(dǎo)向裝置7，即輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...，借助于探測(cè)器單元6，即包括 于所述探測(cè)器單元中的各個(gè)探測(cè)器進(jìn)行探測(cè)。通過采用被設(shè)計(jì)成有效地阻 擋所述激發(fā)波長(zhǎng)的濾波器裝置8，來(lái)實(shí)現(xiàn)選擇性地僅探測(cè)所述熒光輻射。在 圖1中，借助于箭頭F示出了來(lái)自對(duì)象2的所述熒光輻射。下文中，附圖 標(biāo)記F還將用于指示由探測(cè)單元6響應(yīng)于所述熒光輻射而產(chǎn)生的對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)， 即熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)。
由于對(duì)象2中的不同結(jié)構(gòu)將包括不同濃度的熒光造影劑，因此對(duì)所述 熒光輻射的空間分辨探測(cè)允許分辨對(duì)象2的結(jié)構(gòu)特征。正如本領(lǐng)域技術(shù)人 員已知的，所述結(jié)構(gòu)分辨率可以通過將輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...適當(dāng)?shù)囟?位在包括對(duì)象2的中空單元3的表面(參見附圖2)上而實(shí)現(xiàn)。
隨后，將對(duì)應(yīng)的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)從探測(cè)器單元6提供至控制單元9，以在 顯示裝置14、例如監(jiān)視器或打印機(jī)上進(jìn)行顯示。
根據(jù)對(duì)象2和/或所使用的熒光造影劑的物理特性，激光控制器11可以 命令由一個(gè)或多個(gè)所述激光二極管4.1-4.3發(fā)射輻射。因此，借助于光閘控 制器12控制光閘4.1b、 4.2b、 4.3b以經(jīng)由相應(yīng)纖維4.1c、 4.2c、 4.3c將所 述已發(fā)射的輻射導(dǎo)向至纖維選擇器4.5。隨后，將至少一個(gè)選定的激發(fā)波長(zhǎng) 依次提供至輻射導(dǎo)向裝置5中的所述輻射導(dǎo)向纖維5.1、5.2、...中的每一根， 以便以空間分辨方式輻照對(duì)象2。為此，如圖1中所示，輻射導(dǎo)向裝置5 的各個(gè)輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、...適當(dāng)?shù)胤植荚诎▽?duì)象2的所述中空單元 3 (參見圖2)的表面上，正如本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。
這樣，根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例，每次僅激活所述輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、…中的一根用于輻照對(duì)象2，然而同時(shí)激活所有所述輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...用于捕獲來(lái)自對(duì)象2的輻射，并且用于將所述捕獲的輻射導(dǎo)向探測(cè) 器單元6，因而有效地構(gòu)成多個(gè)用于探測(cè)所述熒光輻射的探測(cè)裝置。
為了確定對(duì)象2內(nèi)熒光造影劑的至少一個(gè)濃度相關(guān)量，進(jìn)一步確定所 述熒光輻射F，圖1的系統(tǒng)被設(shè)計(jì)成測(cè)量通過所述對(duì)象2的透射輻射。這由圖1中的箭頭T指示。應(yīng)當(dāng)注意到，還將使用附圖標(biāo)記T來(lái)指定由探測(cè)
器單元6產(chǎn)生的對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)。換句話說(shuō)除了所述熒光輻射F之外，探測(cè)器
單元6還探測(cè)所述輻射I中通過對(duì)象2透射的而不與熒光造影劑有任何互 相影響的分量T。為此，在探測(cè)器單元6中未采用濾波器裝置8，并且將對(duì) 應(yīng)的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)T提供至控制單元9。
同樣，由于中空單元3、.輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...和探測(cè)器單元6的 設(shè)計(jì)，有效地提供多個(gè)用于探測(cè)所述透射輻射的探測(cè)裝置。
如從圖2中最佳所示，上述借助于纖維選擇器4.5對(duì)輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、...的多路復(fù)用與借助于輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...進(jìn)行空間分辨探測(cè) 一同，等效于改變圖1的光學(xué)成像系統(tǒng)1中的源探測(cè)器距離。
圖2示出了圖1的設(shè)備中的圍繞對(duì)象的中空單元3的示意圖。中空單 元3被設(shè)計(jì)成杯形，其內(nèi)部3.1至少局部填充有輻射透射流體，如本領(lǐng)域技 術(shù)人員已知的。所述杯的內(nèi)部3.1的其他部分包括對(duì)象2。在圖2的實(shí)施例 中，中空單元3被特別設(shè)計(jì)成在乳腺攝影成像的背景中固定女性乳房。
在其底部區(qū)域3.2，所述杯包括用于流入和流出所述流體的通道3.3。 輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、...(參見圖l)終止于所述杯的側(cè)壁3.4的對(duì)應(yīng)開 口中，使得通過纖維5.1、 5.2、...導(dǎo)向的電磁輻射可以進(jìn)入所述杯的內(nèi)部 3.1,并且隨后可以由輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...捕獲所述電磁輻射并將其 導(dǎo)向探測(cè)器單元6 (圖1)。
如前所述，多路復(fù)用所述輻射導(dǎo)向裝置5.K 5.2、...有效地對(duì)應(yīng)于改變 源探測(cè)器距離，如圖2中所示雖然輻射導(dǎo)向纖維5.1的終端位于距輻射導(dǎo) 向纖維7.1的終端的距離dl處，但是輻射導(dǎo)向纖維5.2的終端位于距輻射 導(dǎo)向纖維7.1的終端的距離d2處，d2>dl。因而，通過首先借助于輻射導(dǎo) 向纖維5.1并且隨后借助于輻射導(dǎo)向纖維5.2，輻照所述杯的內(nèi)部3.1 (即對(duì) 象2)，借助于輻射導(dǎo)向纖維7.1探測(cè)的透射強(qiáng)度和/或熒光強(qiáng)度，有效地分 別地提供對(duì)兩個(gè)不同的源探測(cè)器距離(即距離dl和d2)的測(cè)量數(shù)據(jù)。通過 在所述多根輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、...上進(jìn)行多路復(fù)用(圖1)，可以從大 范圍的源探測(cè)器距離(通常指示為SD或dij)收集依賴于距離的測(cè)量數(shù)據(jù)。
根據(jù)系統(tǒng)幾何結(jié)構(gòu)，即所述輻射導(dǎo)向纖維5.1、 5.2、 ...； 7.1、 7.2、... 在中空單元3的表面或側(cè)壁3.4上空間分布，可以得知源探測(cè)器距離dij; i、
13j = l、 2、 ...、 n，其中n是輻射導(dǎo)向裝置5、 7中使用的各個(gè)輻射導(dǎo)向纖維 的數(shù)量，即在本實(shí)例中n二256。換句話說(shuō)，對(duì)于給定激活的輻照纖維5.1、 5.2、...，所有的源探測(cè)器距離，即探測(cè)纖維7.1、 7.2、...至所述激活纖維 的距離，可根據(jù)系統(tǒng)幾何結(jié)構(gòu)得知，并且可以將所述距離存儲(chǔ)在控制單元9 (圖l)的適當(dāng)存儲(chǔ)裝置(未示出)中并且由所述存儲(chǔ)裝置提供所述距離。 換句話說(shuō)對(duì)于給定輻照纖維，探測(cè)器單元6中的每個(gè)探測(cè)器提供關(guān)于己 知源探測(cè)器距離SD的數(shù)據(jù)。
如上已經(jīng)所述，對(duì)于給定激活的輻照纖維5.1、 5.2、...，可以由探測(cè)器 單元6經(jīng)由選擇性地采用濾波器裝置8確定依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)T 和熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)F。隨后，將依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)和熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù) 發(fā)射至控制單元9的評(píng)估裝置10，以供進(jìn)一步分析。
如上述圖1中所述的示范性方式中所示，評(píng)估裝置IO包括若干(軟件) 模塊10.1， 10.2，...。借助于一個(gè)所述模塊，例如，模塊10.1，評(píng)估裝置 10適于從探測(cè)器單元6接收依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)T和依賴于距離的 熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)。借助于另一個(gè)所述模塊，例如，模塊10.2，評(píng)估裝置10還 適于計(jì)算所述依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)與所述依賴于距離的熒光強(qiáng)度數(shù) 據(jù)的比率。如果R指示所述比率，F(xiàn)指示所述依賴于距離的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)， 而T指示所述依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)，則所述比率R被定義為R二F/T。 應(yīng)當(dāng)注意到，根據(jù)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)和透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)兩者對(duì)上述限定的源探測(cè) 器距離的依賴關(guān)系，所述比率R也依賴于所述源探測(cè)器距離。
評(píng)估裝置10的所述模塊10.1、 10.2、…中的另一個(gè)模塊可以適于說(shuō)明 對(duì)象2相對(duì)于所述多個(gè)第一和第二探測(cè)裝置的位置，所述另一個(gè)模塊用于 根據(jù)所述相對(duì)位置確定在所述比率R中將要包括哪個(gè)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)F和哪 個(gè)透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)T。
評(píng)估裝置10的所述模塊10.1、 10.2、...中的又一個(gè)模塊可以適于在顯 示裝置14 (圖l)上顯示所述比率R作為源探測(cè)器距離的函數(shù)的描點(diǎn)圖。
應(yīng)當(dāng)注意到，根據(jù)圖1和2的實(shí)施例，使用通用型輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...測(cè)量透射T和熒光F，使得為了確定給定源探測(cè)器距離的所述比率 R，即給定輻射導(dǎo)向纖維7.1、 7.2、...的所述比率R，需要在所述纖維上關(guān) 于相應(yīng)的測(cè)量值進(jìn)行簡(jiǎn)單的除法運(yùn)算。這有利于進(jìn)行校正。然而，在根據(jù)
14本發(fā)明的另一實(shí)施例中，可以分別使用不同的輻射導(dǎo)向纖維來(lái)測(cè)量透射T
和熒光F。為了確定所述比率R，然后必須將來(lái)自第一組輻射導(dǎo)向纖維(例 如用于測(cè)量透射T)的對(duì)應(yīng)信號(hào)內(nèi)插到第二組輻射導(dǎo)向纖維(例如用于測(cè) 量透射T)的位置。
圖3和4示意性示出了分別對(duì)于第一/第二濃度的熒光造影劑，作為由 圖1的設(shè)備測(cè)量和計(jì)算的源探測(cè)器距離的函數(shù)所描點(diǎn)繪制的熒光強(qiáng)度與透 射強(qiáng)度的比率的圖。在圖3和圖4中，繪制出所述比率R-F/T與源探測(cè)器 距離(其指示為SD)的關(guān)系曲線。
圖3示出了其中熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)由于造影劑對(duì)所發(fā)射的熒光強(qiáng)度的自吸 收而表現(xiàn)出非線性性態(tài)的情況。這一性態(tài)發(fā)生在高濃度條件下，其中，對(duì) 象2中某些結(jié)構(gòu)包含的造影劑濃度高于對(duì)象中周圍部位(例如，在諸如女 性乳房組織的人類組織中的腫瘤)，所述對(duì)象的這些結(jié)構(gòu)與背景強(qiáng)度相比將 顯示為暗斑。根據(jù)圖3，在描點(diǎn)繪制R關(guān)于SD的變化時(shí)可以借助于大致S 形的曲線來(lái)表示這種類型的不期望性態(tài)的特征。
圖4示出了針對(duì)為實(shí)現(xiàn)圖像而基本上最佳造影劑濃度的情況的R與SD 關(guān)系曲線的另一描點(diǎn)圖，其中對(duì)象2的病變(例如人類組織中的腫瘤)，與 背景相比將顯示為亮斑。通過基本為函數(shù)R (SD)的線性性態(tài)來(lái)表示這一 條件的特征。
通過在顯示裝置14 (圖l)上繪制出如圖3和4中所示的比率R與源 探測(cè)器距離SD的關(guān)系曲線，本發(fā)明光學(xué)成像系統(tǒng)1的用戶可以實(shí)時(shí)判斷 對(duì)象2中的熒光造影劑濃度對(duì)于光學(xué)成像系統(tǒng)1的期望操作，例如對(duì)于提 供可能患癌的女性乳房組織的精確圖像而言是否可接受。然而，如本領(lǐng)域 技術(shù)人員將意識(shí)到，本發(fā)明不局限于這一特定用途。
作為替代或附加地，評(píng)估裝置10的又一模塊10.1、 10.2、...可以適于 在比率R關(guān)于距離線性變化(參見圖4)時(shí)通知造影劑濃度條件為第一類 型。因此，所述模塊還可以適于在所述比率關(guān)于距離非線性變化時(shí)通知造 影劑濃度條件為第二類型。隨后，可以由控制單元9使用所述通知、例如 以適當(dāng)控制信號(hào)的形式(未示出)，以控制本發(fā)明光學(xué)成像系統(tǒng)1的操作。 例如，在圖3中所示的情況下，可以使用所述控制信號(hào)來(lái)暫停本發(fā)明系統(tǒng)1 的操作，直到已經(jīng)到達(dá)用于成像操作的最佳時(shí)間點(diǎn)。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識(shí)到的，借助于根據(jù)本發(fā)明的方法進(jìn)行的進(jìn)一步濃度測(cè)量，可以持續(xù) 地執(zhí)行以確定用于成像的最佳時(shí)間點(diǎn)。這樣，根據(jù)本發(fā)明的方法可以用于 測(cè)量造影劑動(dòng)力學(xué)。這樣，還可以使用該方法以確定注射入將成像的對(duì)象 中的造影劑的最佳注射劑量。
應(yīng)當(dāng)注意到，根據(jù)本發(fā)明的上述方法直接作用于探測(cè)器單元6所提供 的原始數(shù)據(jù)，從而使得所需要的圖像重建不再耗時(shí)且耗費(fèi)資源，這進(jìn)一步 有利于所提出系統(tǒng)和方法的實(shí)時(shí)能力。
如本領(lǐng)域技術(shù)人員將進(jìn)一步意識(shí)到的，根據(jù)本發(fā)明的方法能夠在由一
組測(cè)量值校準(zhǔn)時(shí)通過確定圖4中曲線的斜率，而給出造影劑的絕對(duì)濃度值。 為此，可以由所述模塊10.1、 10.2、...中的又一個(gè)模塊來(lái)實(shí)現(xiàn)。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，通過顯示裝置14向用戶或操作者顯示如附 圖3和4中以示范性方式示出的描點(diǎn)圖，從而使得用戶或操作者可以通過 經(jīng)由輸入裝置15 (例如鍵盤等)提供適當(dāng)?shù)妮斎雭?lái)對(duì)控制系統(tǒng)1作出反應(yīng)。
作為替代或附加地，借助于評(píng)估裝置10的所述模塊10.1、 10.2、...中 的又一個(gè)模塊，可以關(guān)于探測(cè)器單元6提供的依賴于距離的數(shù)據(jù)連同某些 預(yù)定閾值來(lái)執(zhí)行線性回歸算法，以便根據(jù)圖3和4來(lái)判斷曲線是線性形狀 還是非線性形狀。此外，如果比率R-F/T表現(xiàn)出作為源探測(cè)器距離SD的 函數(shù)的線性性態(tài)，則可以發(fā)射控制信號(hào)，并且控制單元9、即評(píng)估裝置10 相應(yīng)地命令激光控制器11、光閘控制器12和電動(dòng)機(jī)控制器13，來(lái)執(zhí)行對(duì) 象2的輻照以采集光學(xué)圖像，如前所述。與此相對(duì)比，如果所述比率R的 性態(tài)作為源探測(cè)器距離SD的函數(shù)表現(xiàn)為非線性形式，則停止光學(xué)成像系 統(tǒng)1的操作一除重復(fù)濃度測(cè)量之外一直到到達(dá)用于成像所述對(duì)象的最佳時(shí) 間點(diǎn)。
應(yīng)當(dāng)注意到，上述(軟件)模塊IO.I、 10.2、...可以實(shí)現(xiàn)在具有適當(dāng)?shù)?控制單元(例如控制單元9)的現(xiàn)有光學(xué)成像系統(tǒng)中，因而將所述系統(tǒng)升級(jí) 為執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例的流程圖。該方法以步驟S100 為開始。在隨后的步驟S102中，將計(jì)數(shù)變量i設(shè)置為初始值，即i-l，所
述計(jì)數(shù)變量用于多路復(fù)用所述輻照纖維5.1、 5.2.....5.n，其中n指示纖
維總數(shù)量。然后，在隨后步驟S104中，如前所述激活對(duì)應(yīng)于i的當(dāng)前值的輻照纖 維，以輻照包括熒光造影劑的對(duì)象。在隨后步驟S106中，通過與探測(cè)器單 元6相連接的輻射導(dǎo)向裝置7所提供的n個(gè)探測(cè)裝置收集依賴于距離的透 射強(qiáng)度數(shù)據(jù)。然后，在隨后步驟S108中，采用濾波器裝置8以便收集熒光 強(qiáng)度數(shù)據(jù)，如前所述。
在下一歩驟SllO，判斷變量i是否已經(jīng)到達(dá)其最大值n。如果對(duì)步驟 S110中問題的回答是肯定(是)的，則在隨后步驟S112中，從由探測(cè)器 單元6提供至評(píng)估裝置10的原始數(shù)據(jù)全體中，作為源探測(cè)器距離的函數(shù)來(lái) 計(jì)算比率R二F/T。如果對(duì)步驟S110中回答的問題是否定(否)的，則在 隨后步驟S112'中，使變量i遞增(i二i+l)，并且重復(fù)方法步驟S104-S110， 如前所述。
在步驟S112中已經(jīng)計(jì)算所述比率R之后，方法繼續(xù)進(jìn)行步驟S114， 其中分析所述比率R作為源探測(cè)器距離的函數(shù)的性態(tài)，以便確定所述比率 R關(guān)于源探測(cè)器距離的性態(tài)的類型。如前所述，這可以通過在顯示裝置上 顯示所述比率R與源探測(cè)器距離SD的關(guān)系的描點(diǎn)圖以供操作者進(jìn)行視覺 檢査，或者通過關(guān)于所述數(shù)據(jù)執(zhí)行數(shù)學(xué)回歸以便確定其(非)線性而實(shí)現(xiàn)。
如果對(duì)隨后步驟S116中問題的回答是肯定(是)的，即所述比率表現(xiàn) 出關(guān)于距離呈線性性態(tài)，則在隨后步驟S118中，開始操作根據(jù)本發(fā)明的光 學(xué)成像系統(tǒng)，以便采集所述對(duì)象、尤其女性乳房組織的熒光成像數(shù)據(jù)，以 將其在隨后步驟S120中輸出至所述顯示裝置或任何其他適當(dāng)?shù)妮敵鼋橘|(zhì)， 例如(磁)光學(xué)數(shù)據(jù)載體。
然后，根據(jù)本發(fā)明的方法終止于步驟S122。
如果對(duì)步驟S116中問題的回答是否定(否)的，則根據(jù)本發(fā)明的方法 重新以S102開始，優(yōu)選在步驟S124中等待一定時(shí)間量之后重新以S102 開始，以便對(duì)于最佳成像操作可能過高的造影劑濃度能夠下降(在步驟S116 中回答(否)，即比率R作為源探測(cè)器距離SD的函數(shù)的非線性性態(tài))。
權(quán)利要求
1、一種用于確定向?qū)ο?2)、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量的設(shè)備，所述設(shè)備包括—電磁輻射源(4)，其用于以激發(fā)波長(zhǎng)輻照所述對(duì)象(2)；—至少一個(gè)第一探測(cè)裝置(6、7.1、7.2、...、8)，其用于探測(cè)由所述造影劑以熒光波長(zhǎng)發(fā)射的熒光電磁輻射，所述第一探測(cè)裝置產(chǎn)生熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)；其特征在于，至少一個(gè)第二探測(cè)裝置(6、7.1、7.2、...)，其用于探測(cè)所述激發(fā)波長(zhǎng)下的通過所述對(duì)象(2)透射的電磁輻射，所述第二探測(cè)裝置產(chǎn)生透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)，所述設(shè)備還包括評(píng)估裝置(10)，所述評(píng)估裝置適于接收所述透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)和所述熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)，并且適于根據(jù)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)與透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)的比率(R)而確定所述造影劑的所述濃度相關(guān)量。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述第一探測(cè)裝置(6、 7.1、7.2.....8)和所述輻射源(4、 5、 5.1、 5.2、…)之間以及所述第二探測(cè)裝置(6、 7.1、 7.2、...)和所述輻射源之間的距離(SD)可變，以產(chǎn)生依 賴于距離的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)和透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括多個(gè)位于距所述輻射源(4、 5、 5.1、 5.2、...)相應(yīng)距離(SD)處的第一和第二探測(cè)裝置(6、 8、 7.1、 7.2、...； 6、 7.1、 7.2、...)，其用于探測(cè)位于相對(duì)于所述對(duì)象(2)的各個(gè)位置處的 熒光電磁輻射和透射電磁輻射。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述評(píng)估裝置(10)適于根據(jù) 所述比率(R)關(guān)于所述距離(SD)的性態(tài)，而確定所述造影劑對(duì)輻射的 自吸收量。
5、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，還包括顯示裝置(14)，其用于顯示 作為所述距離(SD)的函數(shù)所描點(diǎn)繪制的所述比率(R)的曲線。
6、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，還包括用于說(shuō)明所述對(duì)象(2)相對(duì) 于所述多個(gè)第一和第二探測(cè)裝置(6、 8、 7.1、 7.2、 ...； 6、 7.1、 7.2、...)的位置的裝置，其用于根據(jù)所述相對(duì)位置確定在所述比率(R)中將要包括 哪個(gè)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)和哪個(gè)透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求2所示的設(shè)備，其中，所述評(píng)估裝置(10)適于在所 述比率(R)關(guān)于所述距離(SD)線性變化時(shí)通知所述造影劑的濃度相關(guān) 量為第一類型，而在所述比率(R)關(guān)于所述距離(SD)非線性變化時(shí)通 知所述造影劑的濃度相關(guān)量為第二類型。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)第一和第二探測(cè) 裝置(6、 8、 7.1、 7.2、 ...； 6、 7.1、 7.2、…)適于在預(yù)定時(shí)間間隔上持續(xù) 地產(chǎn)生所述強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F、 T)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括圍繞所述對(duì)象(2)的中空單 元(3)，所述中空單元包括多根與所述輻射源(4)連接的第一光纖(5.1、 5.2、...)，其用于輻照所述中空單元(3)內(nèi)的所述對(duì)象(2)，所述中空單 元還包括多根與通用型探測(cè)器單元(6)連接的第二光纖(7.1、 7.2、...)， 其用于探測(cè)來(lái)自所述中空單元(3)內(nèi)的所述對(duì)象(2)的輻射，其中，可 切換波長(zhǎng)選擇濾波器裝置(8)被設(shè)置成與所述第二光纖(7.1、 7.2、...) 和/或所述探測(cè)器單元(6)連接，用于選擇性地分別提供所述第一和第二 探測(cè)裝置。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，所述第一和第二光纖(5.1、 5.2、 ...； 7.1、 7.2、...)以基本上均勻的方式分布在所述中空單元(3)的 表面(3.4)上。
11、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，包括多路復(fù)用裝置(4.4、 4.5)，其 用于通過所述第一光纖(5.1、 5.2、...)之一選擇性地輻照所述對(duì)象(2)。
12、 一種通過對(duì)由向?qū)ο?2)、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑 所發(fā)射的熒光輻射進(jìn)行監(jiān)測(cè)而成像所述對(duì)象(2)的光學(xué)成像系統(tǒng)(1)，其 特征在于，所述系統(tǒng)(1)包括根據(jù)權(quán)利要求1至11中任意一項(xiàng)所述的設(shè) 備，其中，根據(jù)由所述設(shè)備確定的所述濃度相關(guān)量來(lái)控制所述系統(tǒng)(1)的 操作。
13、 一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其用于確定向?qū)ο?2)、尤其是混濁介質(zhì) 所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量，所述計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品包括一第一代碼序列，其用于接收描述由所述對(duì)象(2)發(fā)射的熒光電磁輻射的熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F);一第二代碼序列，其用于接收描述通過所述對(duì)象(2)透射的電磁輻射的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T);一第三代碼序列，其用于計(jì)算所述熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)與所述透射強(qiáng)度 數(shù)據(jù)(T)的比率(R)，以及用于根據(jù)所述比率(R)確定所述濃度相關(guān)量。
14、 一種確定向?qū)ο?2)、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量的方法，所述方法包括一用激發(fā)波長(zhǎng)的電磁輻射輻照所述對(duì)象(2);一探測(cè)由所述造影劑以熒光波長(zhǎng)發(fā)射的熒光電磁輻射，由此產(chǎn)生熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F);其特征在于以下步驟-探測(cè)所述激發(fā)波長(zhǎng)下的通過所述對(duì)象(2)透射的電磁輻射，由此產(chǎn)生透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T);計(jì)算所述熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)與所述透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)的比率(R); 根據(jù)所述比率(R)確定所述造影劑的所述濃度相關(guān)量。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，包括改變輻射源(4、 5、 5.1、 5.2、...) 和探測(cè)位置之間的距離(SD)，以產(chǎn)生依賴于距離的透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)和 熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)，并且根據(jù)所述比率(R)作為所述距離(SD)的函數(shù)的性態(tài)，確定所述濃度相關(guān)量。
16、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括在預(yù)定時(shí)間間隔上持續(xù)地確 定所述濃度相關(guān)量。
17、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括根據(jù)所述濃度相關(guān)量的測(cè)量 值，輸出控制信號(hào)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于確定向?qū)ο?2)、尤其是混濁介質(zhì)所施加的熒光造影劑的濃度相關(guān)量的設(shè)備。所述設(shè)備通常包括用于以激發(fā)波長(zhǎng)輻照對(duì)象(2)的電磁輻射源(4)和至少一個(gè)用于探測(cè)由造影劑以熒光波長(zhǎng)發(fā)射的熒光電磁輻射的第一探測(cè)裝置(6、7.1、7.2、…、8)，所述第一探測(cè)裝置產(chǎn)生熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)(F)。所提出的設(shè)備還包括至少一個(gè)用于探測(cè)激發(fā)波長(zhǎng)下的通過對(duì)象(2)透射的電磁輻射的第二探測(cè)裝置(6、7.1、7.2、…)，所述第二探測(cè)裝置產(chǎn)生透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)(T)，所述設(shè)備還包括評(píng)估裝置(10)，其適于接收透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)和熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)以及根據(jù)熒光強(qiáng)度數(shù)據(jù)與透射強(qiáng)度數(shù)據(jù)的比率(R)確定造影劑的所述濃度相關(guān)量。
文檔編號(hào)A61B5/00GK101484067SQ200780025580
公開日2009年7月15日 申請(qǐng)日期2007年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月7日
發(fā)明者T·克勒, T·尼爾森 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司