專利名稱：：滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法，特別涉及通過(guò)使含有將氧氣等離子體化而生成的活性氧以及將氧以外的其他氣體等離子體化再使該等離子體與氧氣接觸而生成的活性氧中的至少任一種活性氧的氣體與對(duì)象物接觸，而除去附著在該對(duì)象物上的菌的滅菌裝置及使用該滅菌裝置的滅菌方法。
背景技術(shù)：
：以往，作為對(duì)容器、醫(yī)療用器具等進(jìn)行滅菌的方法，使用紫外線、高壓水蒸汽等，但為了進(jìn)一步提高滅菌效果，還提出了將過(guò)氧化氳等離子體化而用于滅菌處理的方法。作為使用等離子體的滅菌處理，大致有使用等離子體自身高溫特性的方法和使用等離子體化了的氣體在恢復(fù)成正常氣體時(shí)暫時(shí)變異呈活性狀態(tài)的氣體的方法。在專利文獻(xiàn)l中，公開了在電極間施加高頻電壓，利用電弧放電產(chǎn)生等離子體的方法，特別是公開了利用該等離子體加熱成形注射針頭并對(duì)注射針頭進(jìn)行殺菌處理的方法。專利文獻(xiàn)l:日本特開平6-197930號(hào)乂>才艮電弧放電帶來(lái)的問題，可舉出在電極間產(chǎn)生的電子、離子撞擊電極，使電極自身溫度升高，導(dǎo)致電極受損，且構(gòu)成電極的金屬材料的一部分釋放到等離子體中，有可能使等離子體中混入雜質(zhì)。并且產(chǎn)生當(dāng)使用高溫的等離子體進(jìn)行滅菌時(shí)，被滅菌的對(duì)象物自身表面發(fā)生變質(zhì)等問題。與此相對(duì)，在公開于專利文獻(xiàn)2中的使用過(guò)氧化氫等離子體的方法中，公開了將過(guò)氧化氳與滅菌對(duì)象物一起裝入到具有微波透過(guò)性的袋子中，對(duì)其照射微波，從而將過(guò)氧化氫等離子體化而產(chǎn)生活性氧來(lái)進(jìn)行滅菌的方法。過(guò)氧化氫對(duì)操作者來(lái)說(shuō)存在安全性問題，使用高濃度(50%以上)的過(guò)氧化氫水溶液時(shí)存在毒性，并且會(huì)溶解衣物等。另外，為了防止過(guò)氧化氫氣體擴(kuò)散，需要在封閉容器內(nèi)進(jìn)行處理，存在難以連續(xù)處理的問題。專利文獻(xiàn)2:曰本特開2005—279042號(hào)7>氺艮作為本申請(qǐng)人之一的國(guó)立大學(xué)法人佐賀大學(xué)，在專利文獻(xiàn)3中公開了一種不使用過(guò)氧化氫而將氧氣等離子體化而生成氧自由基(oxygenfreeradical),/人而進(jìn)行滅菌處理的方法。另外，在專利文獻(xiàn)3中，為了產(chǎn)生高密度的氧自由基而將滅菌裝置內(nèi)部維持在低氣壓狀態(tài)。專利文南欠3:曰本凈寺開2006—20950號(hào)/>才艮在將等離子體中的電子、離子用于滅菌的方法中，由于電子、離子的壽命短至^:秒級(jí)，射程在mm級(jí)以下，因此滅菌不能達(dá)到復(fù)雜構(gòu)造的細(xì)小部位(瓶蓋等)，但如專利文獻(xiàn)3所述，利用氧放電得到的原子狀氧、即所謂的氧自由基的壽命為數(shù)十毫秒，射程為數(shù)cm，因此也能浸透到具有復(fù)雜構(gòu)造的容器的細(xì)小部位進(jìn)行滅菌。另外，氧自由基是活性氧的一種形態(tài)。然而，在使用上述等離子體生成的活性氧對(duì)盛裝飲料水、食品等的容器進(jìn)行大量滅菌時(shí)，在大氣壓中穩(wěn)定地生成等離子體的技術(shù)是不可缺的，并且，為了對(duì)PET容器等進(jìn)行滅菌處理，需要實(shí)現(xiàn)70。C以下的低溫處理。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明要解決的課題是消除上述問題，提供使用等離子體生成的活性氧，可高效率地對(duì)容器等對(duì)象物進(jìn)行滅菌處理的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法。特別是提供利用等離子體穩(wěn)定地產(chǎn)生活性氧的技術(shù)，提供可根據(jù)需要在大氣壓中穩(wěn)定地生成等離子體和生成活性氧，且可抑制等離子體給滅菌對(duì)象物帶來(lái)的熱損壞的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法。技術(shù)方案l所述的發(fā)明是一種滅菌裝置，該滅菌裝置通過(guò)使含有活性氧的氣體與對(duì)象物接觸而除去附著于該對(duì)象物上的細(xì)菌，該活性氧是將氧氣等離子體化而生成的活性氧以及將氧以外的其他氣體等離子體化再使該等離子體與氧氣接觸而生成的活性氧中的至少任一種，其特征在于，該滅菌裝置具有用于導(dǎo)入要等離子體化的氣體再將該氣體排放到大氣中的非導(dǎo)電性的氣體流路管和圍繞該氣體流路管的導(dǎo)電性的天線(antenna)管，在該天線管上沿著氣體流路管的管軸線方向形成有規(guī)定長(zhǎng)度的狹縫，對(duì)該天線管照射微波，從而將該氣體流路管中的氣體等離子體化。本發(fā)明中所使用的"活性氧"是指將氧氣等離子體化而生成的活性氧，或者將氧之外的其他氣體等離子體化再使該等離子體與氧氣接觸而生成的活性氧，是比通常的氧分子(02)活性強(qiáng)的狀態(tài)的原子狀或分子狀的氧或含氧分子。技術(shù)方案2的發(fā)明以技術(shù)方案l所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該狹縫在該氣體流路管的排出氣體一側(cè)具有開口端。技術(shù)方案3的發(fā)明以技術(shù)方案l所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該狹縫形成在天線管的內(nèi)部。技術(shù)方案4的發(fā)明以技術(shù)方案13中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該天線管在該氣體流路管的排出氣體一側(cè)的端部朝向該氣體流路管彎折。技術(shù)方案5的發(fā)明以技術(shù)方案1~4中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該狹縫的長(zhǎng)度設(shè)定為所照射的微波的半波長(zhǎng)的整數(shù)倍。技術(shù)方案6的發(fā)明以技術(shù)方案1~5中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特4正在于，該氣體流路管在氣體流路方向的下游側(cè)自該天線管的端部突出，該突出部分的長(zhǎng)度比等離子體焰炬長(zhǎng)。技術(shù)方案7的發(fā)明以技術(shù)方案1~6中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該氣體流路管與該天線管可相對(duì)移動(dòng)。技術(shù)方案8的發(fā)明以技術(shù)方案1~7中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，在該氣體流路管的內(nèi)部或氣體流路管的周圍配置有用于導(dǎo)入氧氣的氧氣管，使在該氣體流路管內(nèi)生成的等離子體與由該氧氣管導(dǎo)入的氧氣相接觸。技術(shù)方案9的發(fā)明以技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器或容器技術(shù)方案IO的發(fā)明以技術(shù)方案9所述的滅菌裝置為基礎(chǔ)，其特征在于，該滅菌裝置具有使該對(duì)象物相對(duì)于該氣體流路管相對(duì)移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)旋轉(zhuǎn)部件。技術(shù)方案11的發(fā)明是使用技術(shù)方案10所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，該方法包括如下工序?qū)⒃摎怏w流路管的前端插入到該容器內(nèi)部最深部附近的插入工序；在進(jìn)行該插入工序的狀態(tài)下，將從該氣體流路管排出的氣體填充到該容器內(nèi)部的填充工序；在該填克工序之后，將該氣體流路管從該容器內(nèi)部的最深部附近抽出到該容器口部附近的抽出工序。技術(shù)方案12的發(fā)明以技術(shù)方案ll所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，該插入工序和該抽出工序通過(guò)使該氣體流路管和該容器沿該氣體流路管的管軸線方向相對(duì)移動(dòng)來(lái)進(jìn)行。技術(shù)方案13的發(fā)明以技術(shù)方案12所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，該氣體流;各管與該容器的相對(duì)移動(dòng)速度在該抽出工序中比在該插入工序中慢。技術(shù)方案14的發(fā)明是使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，將該氣體流路管和該天線管的一部分收容到該容器內(nèi)部，并且配置包圍該容器的密封部件，一邊將氣體從該氣體流路管排出到該容器內(nèi)，一邊對(duì)該天線管照射微波。技術(shù)方案15的發(fā)明以技術(shù)方案14所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，在該密封部件的一部分上形成有用于將該密封部件內(nèi)的氣體排出到外部的排出口，一邊從該排出口排出氣體，一邊向該氣體流路管內(nèi)供給氣體。技術(shù)方案16的發(fā)明使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，形成使從該氣體流路管排出的氣體暫時(shí)滯留的空間，使該容器貫通該空間地輸送該容器。技術(shù)方案17的發(fā)明以技術(shù)方案16所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，該空間為隧道形狀的空間，該氣體流路管的排出口與該空間相連接。技術(shù)方案18的發(fā)明是使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，面向該容器的外表面吹拂從該氣體流路管排出的氣體，并且使該容器以大致垂直于氣體流路管的管軸線的方向?yàn)橹行倪M(jìn)行旋轉(zhuǎn)。技術(shù)方案19的發(fā)明以技術(shù)方案18所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，在該氣體流路管的排出口附近配置用于使從該氣體流路管排出的氣體與該容器相接觸的罩。技術(shù)方案20的發(fā)明是使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將該氣體流路管的排出口配置為朝向該蓋的內(nèi)側(cè)，從該氣體流路管向該蓋供給氣體，并且使該蓋進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。技術(shù)方案21的發(fā)明以技術(shù)方案20所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，該蓋的旋轉(zhuǎn)速度或旋轉(zhuǎn)方向與時(shí)間同時(shí)改變。技術(shù)方案22的發(fā)明是使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將該蓋放入真空容器內(nèi)，一邊對(duì)該真空容器內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊從該氣體流路管的排出口向該真空容器內(nèi)供給氣體。技術(shù)方案23的發(fā)明是使用技術(shù)方案1~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其特征在于，該方法包括將比氧氣更容易等離子體化的氣體供給到該氣體流路管內(nèi)，照射微波而點(diǎn)燃等離子體的等離子體點(diǎn)火工序；該等離子體點(diǎn)火工序之后，同時(shí)供給氧氣與上述比氧氣更容易等離子體化的氣體，將氧氣等離子體化的工序。技術(shù)方案24的發(fā)明以技術(shù)方案23所述的滅菌方法為基礎(chǔ)，其特征在于，在該等離子體點(diǎn)火工序中供給的氣體為氬氣。采用技術(shù)方案l的發(fā)明，將要進(jìn)行等離子體化的氣體導(dǎo)入到非導(dǎo)電性的氣體流路管內(nèi)，配置有圍繞該氣體流路管的導(dǎo)電性的天線管，并且在該天線管上沿氣體流路管的管軸線方向形成有規(guī)定長(zhǎng)度的狹縫，因此，利用該狹縫可使微波的激勵(lì)電場(chǎng)集中在該狹縫部分，在該狹縫部分穩(wěn)定地將通過(guò)氣體流路管內(nèi)的氣體等離子體化。采用技術(shù)方案2的發(fā)明，由于狹縫在氣體流路管的排出氣體一側(cè)具有開口端，因此，可以穩(wěn)定地形成從天線管的前端向氣體流路管的排出氣體一側(cè)延伸的等離子體焰炬。采用技術(shù)方案3的發(fā)明，由于狹縫形成在天線管的內(nèi)部，因此，可在天線管的內(nèi)部穩(wěn)定地形成等離子體。采用技術(shù)方案4的發(fā)明，由于天線管在氣體流路管的排氣一側(cè)的端部朝向該氣體流路管彎折，因此，可在天線管的內(nèi)部穩(wěn)定地形成等離子體。采用技術(shù)方案5的發(fā)明，由于上述狹縫長(zhǎng)度設(shè)定為所照射的微波的半波長(zhǎng)的整數(shù)倍，因此，可在狹縫部分形成穩(wěn)定的駐波，并有效地集中激勵(lì)電場(chǎng)而生成穩(wěn)定的等離子體。采用技術(shù)方案6的發(fā)明，由于上述氣體流路管在氣體流路方向的下游側(cè)從天線管的端部突出，而該突出部分的長(zhǎng)度比等離子體焰炬的長(zhǎng)度長(zhǎng)，因此，可以防止對(duì)象物與等離子體焰炬相接觸，并能有效地只將利用等離子體生成的活性氧提供給對(duì)采用技術(shù)方案7的發(fā)明，由于上述氣體流路管和上述天線管可相對(duì)移動(dòng)，因此，在等離子體點(diǎn)火時(shí)和滅菌處理時(shí)或滅菌處理工序中，可將氣體流路管的前端部分移動(dòng)配置在最適于各工序的位置上。采用技術(shù)方案8的發(fā)明，在氣體流路管的內(nèi)部或氣體流路管的周圍配置有用于導(dǎo)入氧氣的氧氣管，通過(guò)使在該氣體流路管內(nèi)生成的等離子體與由該氧氣管導(dǎo)入的氧氣相接觸，可利用在氣體流路管內(nèi)生成的等離子體穩(wěn)定地生成活性氧。特別是，能將等離子體的生成部分與活性氧的生成部分分離，在等離子體生成部分也能利用容易等離子體化的氣體。采用技術(shù)方案9的發(fā)明，由于進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器或容器蓋，因此，對(duì)于這些對(duì)象物也可利用活性氧進(jìn)行滅菌處理。采用技術(shù)方案10的發(fā)明，由于具有使對(duì)象物相對(duì)于上述氣體流路管相對(duì)移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)旋轉(zhuǎn)部件，因此能對(duì)對(duì)象物的所有表面進(jìn)行滅菌處理，并且也能使活性氧有效地與這些表面相接觸。釆用技術(shù)方案ll的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，包括如下工序?qū)⒃摎怏w流路管的前端插入到該容器內(nèi)部最深部附近的插入工序；在進(jìn)行該插入工序的狀態(tài)下，將從該氣體流路管排出的氣體填充到該容器內(nèi)部的填充工序；在該填充工序之后，將該氣體流路管從該容器內(nèi)部的最深部附近抽出到該容器口部附近的抽出工序。因此，能將容器內(nèi)的氣體置換為活性氧，并且能穩(wěn)定地對(duì)容器內(nèi)表面進(jìn)行滅菌處理。采用技術(shù)方案12的發(fā)明，上述插入工序和上述抽出工序通過(guò)使該氣體流路管和容器相對(duì)于氣體流路管的管軸線方向相對(duì)移動(dòng)來(lái)進(jìn)行，因此，可將活性氧供給到容器內(nèi)部的必要部位。采用技術(shù)方案13的發(fā)明，由于該氣體流路管與該容器的相對(duì)移動(dòng)速度在該抽出工序中比在該插入工序中慢，因此，在插入工序時(shí)能有效地將容器內(nèi)的氣體置換為活性氧，在抽出工序時(shí)能沿著容器內(nèi)表面適當(dāng)?shù)毓┙o活性氧。采用技術(shù)方案14的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，將氣體流路管和天線管的一部分收容在該容器內(nèi)部，并且配置包圍該容器的密封部件，一邊從該氣體流路管向該容器內(nèi)排出氣體，一邊對(duì)該天線管照射微波，因此，即使容器內(nèi)的深度很深，天線管的前端也能收容到容器內(nèi)部，穩(wěn)定地將活性氧供給到最深部。采用技術(shù)方案15的發(fā)明，在上述密封部件的一部分上形成有用于將該密封部件內(nèi)的氣體排出到外部的排出口，一邊從該排出口排出氣體，一邊向氣體流路管內(nèi)供給氣體，因此，能快速地將容器內(nèi)的氣體置換為活性氧。采用技術(shù)方案16的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，形成使從氣體流路管排出的氣體暫時(shí)滯留的空間，使該容器貫通該空間地輸送該容器，因此，只要使容器通過(guò)充滿了活性氧的空間，就能連續(xù)地對(duì)容器進(jìn)行滅菌，特別是對(duì)容器表面進(jìn)行滅菌處理。采用技術(shù)方案17的發(fā)明，上述空間是隧道形狀的空間，氣體流路管的排出口與該空間相連接，因此，在容器通過(guò)隧道形狀的空間時(shí)，利用充滿于該空間內(nèi)的活性氧有效地進(jìn)行滅菌。并且，由于容器通過(guò)而擠出空間內(nèi)的氣體，并且從氣體流路管連續(xù)供給新的活性氧，因此，該空間內(nèi)能總是保持新鮮的活性采用技術(shù)方案18的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，面向該容器的外表面吹拂從氣體流路管排出的氣體，并且使該容器以大致垂直于氣體流路管的管軸線的方向?yàn)橹行倪M(jìn)行旋轉(zhuǎn)，因此能對(duì)容器的整個(gè)外表面進(jìn)行滅菌處理。采用技術(shù)方案19的發(fā)明，由于在該氣體流路管的排出口附近配置用于使從上述氣體流路管排出的氣體與容器相接觸的罩，因此，能將從氣體流路管排出的氣體有效地供給到容器的外表面。采用技術(shù)方案20的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將氣體流路管的排出口配置成朝向該蓋的內(nèi)側(cè)，從該氣體流路管向該蓋供給氣體，并且使該蓋旋轉(zhuǎn)，一邊排出保持在蓋內(nèi)部的間隙內(nèi)的氣體，一邊向蓋的內(nèi)表面供給活性氧。采用技術(shù)方案21的發(fā)明，由于上述蓋的旋轉(zhuǎn)速度或旋轉(zhuǎn)方向與時(shí)間同時(shí)變化，因此能改變?cè)谏w的內(nèi)側(cè)產(chǎn)生的氣壓，利用該氣壓的變化能更有效地使活性氧向內(nèi)部浸透。采用技術(shù)方案22的發(fā)明，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將該蓋放入到真空容器內(nèi)，一邊對(duì)該真空容器內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊從氣體流路管的排出口向該真空容器內(nèi)供給氣體，因此，在真空處理中能將殘存在蓋內(nèi)部的氣體抑制到最小限度，能將活性氧供給到蓋的內(nèi)部，并且能總是不斷地向蓋供給新的活性采用技術(shù)方案23的發(fā)明，包括將比氧氣更易于等離子體化的氣體供給到氣體流路管內(nèi)，照射微波而點(diǎn)燃等離子體的等離子體點(diǎn)火工序；在等離子體點(diǎn)火工序之后，同時(shí)供給氧氣與上述比氧氣更易于等離子體化的氣體，將氧氣等離子體化的工序。因此，即使對(duì)難以等離子體化的氧氣也能改進(jìn)等離子體的點(diǎn)火性。采用技術(shù)方案24的發(fā)明，在等離子體點(diǎn)火工序中供給的氣體為氬氣，因此等離子體能容易點(diǎn)火，并且，隨后即使供給氧氣也能維持等離子體狀態(tài)，進(jìn)而還能輔助氧氣的等離子體化。圖l是概略表示本發(fā)明所使用的等離子體生成部的圖。圖2是概略表示本發(fā)明所使用的等離子體發(fā)生裝置的圖。圖3是表示在本發(fā)明所使用的等離子體發(fā)生裝置中具有多個(gè)等離子體生成部時(shí)的圖。圖4是表示在本發(fā)明所使用的等離子體發(fā)生裝置中使用一個(gè)微波發(fā)生器驅(qū)動(dòng)多個(gè)等離子體生成部時(shí)的圖。圖5是用于說(shuō)明使用電弧放電作為等離子體生成部的輔助點(diǎn)火部件時(shí)的圖。圖6是用于說(shuō)明使用副天線管作為等離子體生成部的輔助點(diǎn)火部件時(shí)的圖。圖7是用于說(shuō)明使用多種氣體改進(jìn)等離子體點(diǎn)火性的方法的圖。圖8是用于說(shuō)明在生成等離子體時(shí)以脈沖驅(qū)動(dòng)導(dǎo)入微波的方法的曲線圖。圖9是用于說(shuō)明本發(fā)明的滅菌方法的圖。圖IO是用于說(shuō)明對(duì)容器內(nèi)部進(jìn)行滅菌的方法的圖。圖ll是用于說(shuō)明將容器收容在密封部件內(nèi)時(shí)的滅菌方法的圖。圖12是表示對(duì)容器外部進(jìn)行滅菌的方法的一個(gè)例子的圖。圖13是表示對(duì)容器外部進(jìn)行滅菌的方法的另一例子的圖。圖14是表示利用圓筒狀隧道對(duì)容器外部進(jìn)行滅菌的方法的圖。圖15是對(duì)容器蓋進(jìn)行滅菌的方法的圖。圖16是使用真空容器對(duì)容器蓋進(jìn)行滅菌的方法的圖。圖17是概略表示將狹縫形成在天線管內(nèi)部的等離子體生成部的圖。圖18是概略表示將天線管的端部彎折時(shí)等離子體生成部的圖。圖19是用于說(shuō)明向生成的等離子體內(nèi)供給氧氣的方法的圖。圖20是實(shí)施例2中所使用的滅菌裝置(等離子體發(fā)生裝置)的概略圖。圖21是表示生成等離子體時(shí)的發(fā)光光譜分布的曲線圖。圖22是表示等離子體的發(fā)光強(qiáng)度相對(duì)于氬氣中的氧氣含量變化的曲線圖。圖23是表示等離子體的發(fā)光強(qiáng)度相對(duì)于所輸入的微波功率變化的曲線圖。圖24是氣體溫度分布相對(duì)于氧氣含量的變化的曲線圖。圖25是氣體溫度分布相對(duì)于氣體流量的變化的曲線圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明1、201、301、氣體流路管；2、202、302、天線管；2'、副天線管；3、203、303、狹縫；4、204、等離子體焰炬；5、40、110、密封部件；6、微波發(fā)生器；7、11、12、13、14、61、62、63、64、微波；8、70、71、氣體供給源；9、74、306、氣體；10、微波強(qiáng)度調(diào)節(jié)部件；50、電弧放電用電極；51、高壓電源；72、73、閥；80、微波入射功率的脈沖波形；100、含活性氧的氣體；101、對(duì)象物；102、容器；111、163、排出氣體；120、152、輥；121、罩；130、140、隧道；131、132、容器輸送方向；141、導(dǎo)向部件；150、161、容器蓋；151、密封構(gòu)件；160、真空容器；162、擱架；205、彎折部；305、氧氣管；307、氧氣；308、等離子體氣體。具體實(shí)施例方式以下，對(duì)本發(fā)明的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法作詳細(xì)i兌明。等離子體生成部圖l的(a)表示滅菌裝置所使用的等離子體生成部的構(gòu)造。等離子體生成部由石英管等非導(dǎo)電性氣體流路管1和鋁制管等導(dǎo)電性天線管2構(gòu)成，圍繞著該氣體流路管1地配置該導(dǎo)電性天線管2。本發(fā)明所使用的等離子體生成部的特征是在導(dǎo)電性天線管2上形成有狹縫3。利用該狹縫部分可集中照射到等離子體生成部上的微波的激勵(lì)電場(chǎng)，從而利用該電場(chǎng)生成并維持等離子體。該狹縫3的形狀被設(shè)定為，使狹縫部分的長(zhǎng)度L為對(duì)等離子體生成部進(jìn)行照射的微波的波長(zhǎng)人的半波長(zhǎng)的整數(shù)倍(nX/2;n為l以上的整數(shù))。另外，狹縫部分的寬度D并沒有特別限定，但隨著寬度D變窄，在狹縫部分產(chǎn)生的激勵(lì)電場(chǎng)強(qiáng)度增加，雖然能促進(jìn)通過(guò)氣體流路管的氣體等離子體化，但另一方面，氣體流^各管周圍的產(chǎn)生激勵(lì)電場(chǎng)的區(qū)域會(huì)減少，因此能進(jìn)行等離子體化的氣體量也會(huì)減少。設(shè)在天線管2上的狹縫3的數(shù)量，不像圖l的(a)那樣只限定為一個(gè)。圖l的(b)表示圖l的(a)的箭頭X-X的截面圖，相對(duì)于氣體流路管l以同心狀配置天線管2，天線管2的截面形狀因狹縫3的關(guān)系而形成為C字形。通過(guò)增加狹縫3的數(shù)量，可在各狹縫處形成激勵(lì)電場(chǎng)，可使通過(guò)氣體流路管的氣體在更多的部位進(jìn)行等離子體化。如圖l的(a)所示，對(duì)于上述狹縫的形狀和配置，例示了在天線管端部(氣體流路管的排出氣體一側(cè)的端部)具有開口端的狹縫，在使用這樣的狹縫的情況下，可穩(wěn)定地形成從天線管的前端向氣體流路管的排出氣體一側(cè)延伸的等離子體焰炬。另一方面，為了在天線管內(nèi)部穩(wěn)定地形成等離子體，如圖17所示，在天線管202的內(nèi)部形成狹縫203。由此，可在狹縫203附近的氣體流路管201的內(nèi)部生成等離子體204。從天線管、進(jìn)而從氣體流路管向外部延伸的等離子體焰炬，可適合用于直接照射等離子體的情況，但在避免直接照射等離子體的情況下，如下所述，需要充分確保氣體流路管的前端與天線管的前端之間的距離。通過(guò)^f吏用圖17的天線管202,也能縮短該距離。作為用于在天線管內(nèi)部形成等離子體的其他方法，也可采用圖18所示那樣的天線管的形狀。圖18的(a)的天線管形狀呈與圖l的(a)的天線管形狀比較類似的形狀，但如作為圖18的(a)的箭頭X—X的截面圖的圖18的(c)所示，天線管202的端部(氣體流路管201的排出氣體一側(cè)的端部)朝向氣體流路管201彎折。利用該彎折部205，可在天線管202內(nèi)部形成等離子體204,并抑制形成等離子體焰炬。另外，圖18的(b)所示的天線管與圖17的天線管相類似，是在天線管202的端部形成彎折部205的形狀。圖18的(b)的箭頭X一X處的截面圖與圖18的(c)相同。本發(fā)明人確；人，如圖17、圖18所示，通過(guò)在天線管內(nèi)部形成狹縫或者在天線管端部形成彎折部，不僅能在天線管內(nèi)部形成等離子體，而且能提高等離子體的點(diǎn)火性。另外，雖然在以下說(shuō)明中，是以具有圖l的(a)所示形狀的狹縫的天線管的例子為中心進(jìn)行說(shuō)明，但不言而喻，具有圖17或圖18所示的狹縫的天線管也同樣適用。下面，對(duì)等離子體生成部的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。將要進(jìn)行等離子體化的氣體9導(dǎo)入到氣體流路管1內(nèi)，并使氣體沿一個(gè)方向連續(xù)流動(dòng)。在該狀態(tài)下，對(duì)等離子體生成部照射微波7，則在天線管2的狹縫部分生成微波的駐波，產(chǎn)生激勵(lì)電場(chǎng)的集中。該激勵(lì)電場(chǎng)進(jìn)入到氣體流路管內(nèi)對(duì)氣體進(jìn)行加熱而生成等離子體。所生成的等離子體隨著氣體的流動(dòng)向氣體流路管l的出口方向(圖中左方向)前進(jìn)，特別是在使用圖l的(a)所示形狀的狹縫的情況下，從流路管1的出口釋放出焰炬狀的等離子體(稱作"等離子體焰炬")。本發(fā)明中使用的氣體是氧氣，但根據(jù)需要也可與氬氣、氦氣、氫氣等各種氣體混合使用。另外，如下所述，為了改進(jìn)等離子體的點(diǎn)火性，也可構(gòu)成為最初將氬氣等比氧氣更易于等離子體化的氣體導(dǎo)入到氣體流路管中，待等離子體點(diǎn)火后再供給作為等離子體焰炬的特性的電子溫度、氣體溫度、等離子體密度、自由基氣體的密度或焰炬的長(zhǎng)度(從氣體流路管的開口部或天線管的端部到等離子體焰炬前端的長(zhǎng)度)等，可通過(guò)調(diào)節(jié)用亍對(duì)等離子體生成部進(jìn)行照射的微波功率、氣體流量等來(lái)改等離子體發(fā)生裝置圖2是表示包括上述等離子體生成部的等離子體發(fā)生裝置的基本構(gòu)成的概略圖。由蓄積了氧氣等用于生成等離子體的氣體的儲(chǔ)氣瓶等供氣源8向構(gòu)成等離子體生成部的氣體流路管1中供給規(guī)定量的氣體9。圍繞著氣體流路管1的天線管2被收容在用于封閉微波的密封部件5中，天線管2的一端側(cè)(是未形成狹縫3的一端部側(cè)，在如圖17所示的在天線管內(nèi)部有狹縫的情況下是兩端部側(cè))與密封部件5電連接。所謂密封部件是指相當(dāng)于以往的內(nèi)腔(cavity)的部分，以下，作為包括內(nèi)腔的概念，使用"密封部件，，這樣的表現(xiàn)。利用微波發(fā)生器6向密封部件5內(nèi)導(dǎo)入微波7,對(duì)天線管2照射微波7。微波在天線管2的狹縫3內(nèi)形成駐波，產(chǎn)生激勵(lì)電場(chǎng)。利用該激勵(lì)電場(chǎng)將通過(guò)氣體流路管1內(nèi)的氣體等離子體化，并形成從氣體流路管1的開口部排出的等離子體焰炬4。作為密封部件5，只要能封閉微波即可，并不特別限定材地反射微波的部件，優(yōu)選使用不銹鋼制的容器。封部件5做成為微波易于共振的形狀，可以做成為使構(gòu)成密封部件的一部分的壁面可移動(dòng)，從而可調(diào)整改變密封部件內(nèi)的容積、形狀。圖3表示在密封部件5內(nèi)配置了多個(gè)等離子體生成部。本發(fā)明中使用的等離子體生成部的特征是，等離子體是在形成于天線管2上的狹縫3處產(chǎn)生的激勵(lì)電場(chǎng)的作用下產(chǎn)生的，因此即使在密封部件5內(nèi)配置了多個(gè)等離子體生成部的情況下，也能良好地生成并維持等離子體。另外，向構(gòu)成等離子體生成部的各個(gè)氣體流路管l內(nèi)供給氣體，可以采用圖3所示地將由氣體供給源8供給的氣體分支進(jìn)行供給的方法，也可與各氣體流路管1相對(duì)應(yīng)地配置氣體供給源。另外，如圖4所示，也可與各等離子體生成部相對(duì)應(yīng)地分別設(shè)置密封部件5。在多個(gè)等離子體生成部分散配置或?qū)⒏鞯入x子體生成部的天線管配置為不同方向等的情況下，與用一個(gè)密封部件包圍全部天線管的情況相比，設(shè)置與各等離子體生成部相對(duì)應(yīng)的密封部件，能抑制微波損失，有效地生成等離子體。作為用于向多個(gè)密封部件5內(nèi)供給微波的方法，也可以設(shè)置與各個(gè)密封部件相對(duì)應(yīng)的微波發(fā)生器，如圖4所示，可以將來(lái)自一個(gè)微波發(fā)生器6的微波11分支，再將分支了的微波12、13供給到各個(gè)密封部件5內(nèi)。但是，為了使供給到密封部件內(nèi)的微波達(dá)到最適宜的強(qiáng)度，至少可以在用于傳導(dǎo)分支后的其中一支微波12的波導(dǎo)管的一部分上設(shè)置用于調(diào)節(jié)微波強(qiáng)度的強(qiáng)度調(diào)節(jié)部件IO。另外，不言而喻，在本發(fā)明的等離子體發(fā)生裝置中，在微波發(fā)生器與密封部件之間，根據(jù)需要也可設(shè)置單面波導(dǎo)管(isolator)、調(diào)諧器(tuner)。輔助點(diǎn)火部Y牛在等離子體點(diǎn)火時(shí)，通過(guò)將氣體流路管1內(nèi)部的氣壓維持在低于大氣壓(10sPa左右)的狀態(tài)下(102~10sPa左右，另外，設(shè)定壓力根據(jù)微波的頻率、功率、要進(jìn)行等離子體化的氣體種類發(fā)生變化)，可以改進(jìn)等離子體的點(diǎn)火性。這種情況下，在氣體流路管l的前端連接排氣管，等離子體點(diǎn)火后卸下該排氣管，使氣體流路管內(nèi)為大氣壓狀態(tài)。除了這樣設(shè)置低壓狀態(tài)的方法之外，例如還可以組合使用圖5所示的電弧;汶電部件、圖6所示的微波加熱部件等輔助點(diǎn)火部件。這樣的輔助點(diǎn)火部件，能在大氣壓中容易地進(jìn)行等離子體點(diǎn)火，不需要像低壓狀態(tài)的情況那樣使用排氣管、真空泵等，能簡(jiǎn)化等離子體發(fā)生裝置的結(jié)構(gòu)。作為電弧放電部件，如圖5所示，將2個(gè)電極50配置成突出到氣體流路管l內(nèi)，利用高壓電源51在兩者之間進(jìn)行電弧放電。一度放電了的氣體在天線管2形成的激勵(lì)電場(chǎng)的作用下容易地等離子體化，因此不需要將氣體流路管l內(nèi)維持在低于大氣壓的氣壓狀態(tài)。另外，電弧放電不必要是連續(xù)放電，可以是脈沖狀放電。當(dāng)然，在由天線管2進(jìn)行的等離子體點(diǎn)火后，停止電弧放電。圖6中表示在氣體流路管l的上游側(cè)配置輔助點(diǎn)火用的副天線管2',在由主天線管2進(jìn)行等離子體化之前，先將部分氣體等離子體化的方法。圍繞各天線管2、的密封部件5、5、不僅可以分別設(shè)置，也可以如圖12所示地共用一個(gè)密封部件。但是，為了能對(duì)各天線管照射適合的微波，優(yōu)選是分別設(shè)置各密封部件。就副天線管2'而言，只要能將通過(guò)氣體流路管內(nèi)的一部分氣體等離子體化即可，例如可以構(gòu)成為使狹縫寬度比主天線管2狹窄，局部提高激勵(lì)電場(chǎng)，另外，也可采用使氣體流路管l的口徑在副天線管2'處較窄，而副天線管2'自身的口徑也比主天線管狹窄來(lái)提高激勵(lì)電場(chǎng)的方法。在2個(gè)天線管共用一個(gè)用于供給微波的微波發(fā)生器6時(shí)，如圖6所示，將由微波發(fā)生器6射出的微波61分支，使一支微波62照射到主天線管2上。并且，使另一支微波63通過(guò)微波隔斷部件60而成為微波64照射到副天線管2'上。微波隔斷部件60在進(jìn)行輔助點(diǎn)火時(shí)用于傳導(dǎo)微波63,在不需要輔助點(diǎn)火時(shí)則隔斷微波63。另外，根據(jù)需要，也可在分支的微波的波導(dǎo)管上配置用于調(diào)節(jié)微波強(qiáng)度的調(diào)節(jié)部件(未圖示)。圖7是表示用于改進(jìn)等離子體點(diǎn)火性的其他方法的圖，是利用根據(jù)氣體種類不同而用于進(jìn)行等離子體化的能量不同的特性。附圖標(biāo)記70、71是用于供給不同種類氣體的氣體供給源，各氣體的供給由閥72、73控制。最初，將裝入到氣體供給源70內(nèi)的易于等離子體化的氣體通過(guò)閥72成為氣體流74供給到氣體流路管1中。然后，對(duì)天線管2照射微波而生成等離子體焰炬4。接著，慢慢關(guān)閉閥72，同時(shí)打開閥73,將供給到氣體流路管l內(nèi)的氣體從氣體供給源70切換成含氧的氣體供給源71。由于利用來(lái)自氣體供給源70的氣體已經(jīng)產(chǎn)生等離子體，因此，即使從氣體供給源71供給的氣體具有難以等離子體化的特性，也能容易地進(jìn)行等離子體化。當(dāng)然，也可以同時(shí)從氣體供給源70和71連續(xù)供給氣體。作為這樣的易于等離子體化的氣體，可舉出氬氣等。等離子體的脈沖驅(qū)動(dòng)在本發(fā)明的等離子體發(fā)生裝置中，通過(guò)調(diào)節(jié)向等離子體生成部的天線管內(nèi)供給的微波輸出功率，可調(diào)節(jié)所產(chǎn)生的等離子體的量，但在狹縫寬度被固定的情況下，當(dāng)所照射的微波的輸出功率不為規(guī)定值以上時(shí)，難以生成并維持等離子體。因此，難以連續(xù)地調(diào)節(jié)等離子體的產(chǎn)生量，因此本發(fā)明的等離子體生成方法中，利用脈沖驅(qū)動(dòng)來(lái)彌補(bǔ)這種缺陷。并且，利用該脈沖驅(qū)動(dòng)，可抑制等離子體的氣體溫度上升，可減少等離子體對(duì)滅菌對(duì)象物帶來(lái)的熱損壞。圖8是示意性地表示由微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波功率變化的曲線圖，表示向微波發(fā)生器供給的驅(qū)動(dòng)功率波形的典型形狀。脈沖驅(qū)動(dòng)的周期T包括ON期間11和OFF期間(休止期間)t2,通過(guò)調(diào)整脈沖的占空比tl/T,可連續(xù)改變等離子體的產(chǎn)生量。但是，作為等離子體的熄火期間的休止時(shí)間t2若過(guò)長(zhǎng)，則等離子體難以再點(diǎn)火，因此，為了實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的脈沖驅(qū)動(dòng)，優(yōu)選使該休止期間t2處于殘存等離子體的平均殘存期間內(nèi)。所謂等離子體的平均殘存期間是指從生成等離子體后到等離子體與周圍氣體相接觸而等離子體狀態(tài)消失的時(shí)間的平均值，其隨著氣體密度、等離子體化了的氣體的運(yùn)動(dòng)能量等而發(fā)生變化。向等離子體中供氧在上述等離子體生成部及等離子體發(fā)生裝置中，雖然以向要進(jìn)行等離子體化的氣體中供給氧的方法為中心進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明的滅菌裝置中所使用的活性氧也可以通過(guò)使等離子體化了的氣體與氧氣接觸而生成。如圖19的(a)所示，在氣體流路管301內(nèi)部配置用于供給氧的氧氣管305,利用具有狹縫303的天線管302將供給到氣體流路管301內(nèi)的氣體(也可含有氧，優(yōu)選是氬氣等易于等離子體化的氣體)306等離子體化，再將等離子體氣體308從氣體流路管301排出。另一方面，向氧氣管305內(nèi)供給氧氣307,并且為了使氧氣307與來(lái)自氣體流路管301的等離子體氣體相接觸而排出氧氣307。通過(guò)使等離子體氣體308與氧氣307相互接觸，從而利用等離子體氣體的能量使氧氣變成活性氧。如圖19的(a)所示，氧氣管305的端部不必要位于與氣體流路管301的端部相同的位置，也可以使氧氣管305的端部位于氣體流路管301的內(nèi)部地配置氧氣管305,使氧氣在氣體流路管301的內(nèi)部與等離子體氣體混合存在。另外，不言而喻，代替供給到氧氣管305內(nèi)的氧氣而供給用含氧分子可氣體化的物質(zhì)，也能生成活性氧。圖19的(b)和(c)是表示向等離子體氣體中供給氧的另一例子。圖19的(b)是在天線管302的內(nèi)部并排配置用于供給要進(jìn)行等離子體化的氣體306的氣體流路管301和用于供給氧氣307的氧氣管305,在天線管302的狹縫303附近配置氣體流路管301。利用這種構(gòu)成，可有效地對(duì)氣體流路管301施加激勵(lì)電場(chǎng)，從而將在氣體流路管301內(nèi)部流動(dòng)的氣體等離子體化。另外，圖19的(c)是在排出等離子體氣體308的氣體流路管301的排出口附近配置用于供給氧氣的氧氣管305的排出口，由于在天線管302內(nèi)部只配置了氣體流路管301,因此，可使用于產(chǎn)生活性氧的結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單化。圖19的(b)或(c)中也可采用如下結(jié)構(gòu)，在氣體流路管301與氧氣管305的排出口附近設(shè)置圍繞兩者的導(dǎo)向管(未圖示)，可以高效率地混合等離子體氣體308和氧氣307。在上述例中，另外需要用于供給氧氣的部件，但是大氣中本來(lái)含有氧氣，例如將等離子體化了的氬氣釋放到空氣中，也能由空氣中的氧氣生成活性氧。滅菌裝置及滅菌方法下面，說(shuō)明利用上述等離子體發(fā)生裝置進(jìn)行滅菌處理。在將含氧的氣體等離子體化時(shí)，在該等離子體內(nèi)存在電子、離子及與電子撞擊解離而生成的氧自由基等活性氧。另外，在將不含氧的氣體等離子體化后，使等離子氣體與氧氣等含氧氣體接觸時(shí)，同樣也能生成活性氧。通過(guò)對(duì)容器等對(duì)象物照射該活性氧，可以對(duì)附著在對(duì)象物表面等處的菌進(jìn)行氧化滅菌。并且，當(dāng)斷絕供給微波時(shí)，等離子體立即消失，隨之活性氧也消失。因此，可無(wú)殘留性地極安全地進(jìn)行滅菌處理。并且，利用上述等離子體發(fā)生裝置可在大氣中連續(xù)地產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體，因此，本發(fā)明中所使用的等離子體可大量且連續(xù)地對(duì)容器等對(duì)象物進(jìn)行滅菌處理。圖9示意性地表示等離子體生成部與進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物101之間的關(guān)系。含氧的氣體在通過(guò)氣體流路管1時(shí)，利用在天線管2的狹縫3處產(chǎn)生的激勵(lì)電場(chǎng)被等離子體化。由于等離子體與周圍的中性氣體、電子等發(fā)生撞擊而逐漸減少，因此形成圖9所示那樣的等離子體焰炬4。在等離子體焰炬4的前端，氣體呈比等離子體狀態(tài)含有更多活性氧的狀態(tài)，如箭頭100所示地從氣體流路管l的前端排出而照射到對(duì)象物101上。在本發(fā)明的滅菌處理中，如圖9所示，設(shè)定天線管2與氣體流路管l之間的關(guān)系，使等離子體焰炬4位于氣體流路管1內(nèi)。具體地講，氣體流路管1的從天線管的前端(形成狹縫一側(cè)的端部)突出的長(zhǎng)度l需要比等離子體焰炬的長(zhǎng)度lp長(zhǎng)。通過(guò)如此設(shè)定，可抑制等離子體、特別是等離子體密度較高的氣體直接與對(duì)象物相接觸，從而可保護(hù)對(duì)象物避免受到等離子體的熱損壞。在對(duì)塑料瓶(PETbottle)等耐熱性差的對(duì)象物進(jìn)行滅菌時(shí)，避免等離子體的熱損壞是很重要的。另外，為了避免等離子體焰炬從天線管冒出，優(yōu)選使用上述圖17或圖18所示那樣的天線管。另外，通過(guò)進(jìn)一步加長(zhǎng)氣體流路管的突出部分的長(zhǎng)度l，可避免等離子體、活性氧等擴(kuò)散到氣體流路管l周圍的氣體中，并且避免了等離子體、活性氧等與周圍氣體相接觸，從而可以對(duì)位于更遠(yuǎn)處的對(duì)象物照射活性氧。從等離子體焰炬4的前端到對(duì)象物101的距離S，設(shè)定為能充分供給滅菌處理所需的活性氧的距離?；钚匝醯牧咳Q于所供給的氧氣等的氣體流量、施加的微波的功率量等為幾cm十幾cm左右的范圍。容器內(nèi)部的滅菌處理下面，對(duì)作為滅菌處理對(duì)象物的容器進(jìn)行滅菌處理的方法進(jìn)行說(shuō)明。容器內(nèi)表面的滅菌處理按以下順序進(jìn)行。(1)等離子體的點(diǎn)火工序如圖10的(a)所示，使用上述各種方法從等離子體生成部釋it出活性氧IOO。(2)向容器內(nèi)插入氣體流路管的工序如圖10的(b)所示，相對(duì)于氣體流路管1按箭頭A的方向移動(dòng)容器102，將氣體流路管l的前端部配置在容器內(nèi)。氣體流路管l可插入到容器102內(nèi)的距離取決于氣體流路管l從密封部件5突出的長(zhǎng)度，為了能對(duì)容器內(nèi)部底面滅菌，在不會(huì)給容器帶來(lái)等離子體的熱損壞的范圍內(nèi)，優(yōu)選將氣體流路管的前端插入到容器內(nèi)部最深部附近。另外，插入氣體流路管的工序，不僅只使容器移動(dòng)，根據(jù)需要也可使氣體流路管l移動(dòng)而進(jìn)入到容器內(nèi)。并且，可采用在移動(dòng)氣體流路管時(shí)也一起移動(dòng)天線管2，或者使天線管為固定狀態(tài)而僅使氣體流路管l移動(dòng)等各種形式。(3)填充活性氧的工序如圖10的(b)所示，保持氣體流路管的前端插入到容器內(nèi)部最深部附近的狀態(tài)一段時(shí)間，向容器102的內(nèi)部填充由氣體流路管l排出的含活性氧的氣體。雖然容器102的內(nèi)部予先進(jìn)入有通常的大氣，但由于氣體流路管的前端位于容器的最深部附近，因此，大氣因從氣體流路管排出的氣體而被排出到容器外，容器內(nèi)的氣體被置換為含活性氧的氣體。另外，為了高效率地排出容器內(nèi)的氣體，可采用在容器的開口部設(shè)置用于吸引容器內(nèi)部的氣體的吸引部件的方法、使容器外部為真空狀態(tài)的方法等。(4)抽出氣體流路管的工序在將容器內(nèi)部的氣體全部置換為含活性氧的氣體之后，如圖10的(C)所示，按箭頭B的方向慢慢移動(dòng)容器102，將氣體流路管l從容器內(nèi)部的最深部附近抽出到容器口部附近。在進(jìn)行該抽出工序時(shí)，從氣體流路管排出的氣體易于與位于氣體流路管前端附近的容器內(nèi)表面相接觸，結(jié)果，可將含活性氧的氣體供給到整個(gè)容器內(nèi)表面。上述插入工序時(shí)的氣體流路管的插入速度和上述抽出工序時(shí)的氣體流路管的抽出速度并沒有特別限定，但為了有效地將容器內(nèi)的氣體置換成含活性氧的氣體，優(yōu)選插入速度較快，而為了在抽出工序時(shí)將含活性氧的氣體充分地供給到整個(gè)容器內(nèi)表面，優(yōu)選抽出速度較慢。另外，也可構(gòu)成為插入速度與抽出速度同樣較慢，在插入工序時(shí)也對(duì)整個(gè)容器內(nèi)表面進(jìn)行滅菌處理。另外，根據(jù)需要，也可對(duì)同一容器反復(fù)進(jìn)行多次從上述插入工序至抽出工序。下面，對(duì)容器內(nèi)部進(jìn)行滅菌處理的另一方法進(jìn)行說(shuō)明。如圖ll所示，將氣體流路管1和天線管2的一部分收容在容器102的內(nèi)部，并且配置圍繞該容器102的密封部件110。然后，可以一邊從氣體流路管l向容器內(nèi)排出氣體一邊對(duì)天線管2照射微波7，從而將含活性氧的氣體100供給到容器內(nèi)部。這樣，由于能將天線管2的前端收容在容器內(nèi)部，因此，即使在容器內(nèi)的深度較深的情況下，也能穩(wěn)定地將活性氧供給到容器的最深部。但是，由于需要對(duì)天線管2照射微波，因此，只在容器102的材質(zhì)是可透過(guò)微波的非導(dǎo)電性材質(zhì)的情況下才可使用該方法。在圖ll所示的滅菌裝置中，優(yōu)選在上述密封部件110上的一邊由該排出口排出氣體lll一邊向氣體流路管內(nèi)供給氣體。由此，可在供給含活性氧的氣體之前，首先將容器內(nèi)的氣體從該排出口排出，提高容器內(nèi)的真空度，然后，利用所供給的含活性氧的氣體更快速地將容器內(nèi)的氣體置換為活性氧。并且，也可將利用等離子體生成部進(jìn)行等離子體點(diǎn)火時(shí)的氣壓保持得低于大氣壓，從而可改進(jìn)等離子體的點(diǎn)火性。另外，不言而喻，為了充分確保密封部件110的內(nèi)部空間，也可如上述圖10所示地使容器102可在密封部件110內(nèi)部相對(duì)于氣體流路管l進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。容器外部的滅菌處理下面，對(duì)容器外部的滅菌處理進(jìn)行說(shuō)明。圖12是表示對(duì)容器外部進(jìn)行滅菌處理的方法的一個(gè)例子的圖，圖12的(a)表示滅菌裝置的立體圖，圖12的(b)表示圖12的(a)的箭頭X處的剖視圖。在圖12的滅菌裝置中，具有面對(duì)容器102的外表面吹拂從氣體流路管l排出的氣體，并且使容器102以大致垂直于氣體流路管1的管軸線的方向?yàn)橹行倪M(jìn)行旋轉(zhuǎn)的部件。作為旋轉(zhuǎn)部件，例示了2個(gè)輥120,但本發(fā)明并不限于此，只要可使容器102相對(duì)于氣體流路管l旋轉(zhuǎn)即可，可采用任何部件。這樣，由于可以一邊使容器102旋轉(zhuǎn)一邊從氣體流路管1向容器外表面供給含活性氧的氣體，因此，可以對(duì)整個(gè)容器外表面進(jìn)行滅菌處理。另外，為了使從氣體流路管l排出的氣體有效地與容器102相接觸，可以在氣體流路管的排出口附近配置罩(hood)121，將從氣體流路管l排出的氣體導(dǎo)向容器102的外表面。另外，作為對(duì)容器外部進(jìn)行滅菌處理的另一方法，如圖13所示，形成使從氣體流路管l排出的氣體暫時(shí)滯留的空間，使容器102貫通該空間地輸送該容器。作為使氣體滯留的空間，可以如圖13所示那樣使用隧道130。隧道130上連接多個(gè)等離子體生成部，使從氣體流路管l排出的氣體充滿隧道130的內(nèi)部。隧道的長(zhǎng)度根據(jù)容器102的輸送速度設(shè)定，具有在容器102通過(guò)該隧道內(nèi)時(shí)與充滿于隧道內(nèi)的含活性氧的氣體相接觸而進(jìn)行滅菌處理的足夠的長(zhǎng)度。如圖13所示，按照箭頭131的方向?qū)⑷萜?02連續(xù)地送入到隧道130內(nèi)，再按箭頭132的方向送出。這樣，可一邊連續(xù)地輸送容器一邊進(jìn)行滅菌處理，因此，可以極高效率地實(shí)施滅菌處理。另外，根據(jù)需要，通過(guò)使容器102在隧道內(nèi)例如相對(duì)于容器中心軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，也可對(duì)容器的外表面均勻地照射含活性氧的氣體。另外，等離子體生成部不僅可以如圖13所示地配置在隧道130的上部，而且也可配置在隧道130的側(cè)部、下部。圖14表示將使氣體滯留的空間變形為大致圓筒狀的例子。在隧道140的周圍配置等離子體生成部，各氣體流路管l的前端與隧道140的內(nèi)部相連通。在隧道140內(nèi)貫穿有用于輸送容器102的導(dǎo)向部件141。在容器102沿著該導(dǎo)向部件141移動(dòng)時(shí)，利用充滿于隧道140內(nèi)的氣體對(duì)容器102的外表面進(jìn)行滅菌處理。圖14的(b)是圖14的(a)的箭頭X處的剖視圖，如圖14的(b)所示，為了將含活性氧的氣體100供給到容器102的整個(gè)外表面，在容器102的周圍配置多個(gè)等離子體生成部。在容器102通過(guò)隧道140內(nèi)時(shí)，會(huì)起到擠出充滿隧道140內(nèi)部的空間的作用。因此，優(yōu)選氣體流路管l以多于被容器102擠出的氣體量的流量供給氣體，利用該氣體的擠出效果，在隧道內(nèi)的空間內(nèi)總是存在含有新鮮的活性氧的氣體。容器蓋的滅菌處理對(duì)于容器蓋，如圖15的(a)所示，有時(shí)在蓋150的內(nèi)側(cè)配置由橡膠、塑料等樹脂形成的密封構(gòu)件151。在有這樣的密封構(gòu)件151的情況下，細(xì)菌會(huì)附著在密封構(gòu)件151與蓋150之間的間隙內(nèi)，若只將含活性氧的氣體吹到蓋150的內(nèi)部，由于活性氧不能充分進(jìn)入到該間隙內(nèi)，因此可能不能充分地進(jìn)行滅菌處理。為了消除這種問題，如圖15的(b)和(c)所示，一邊使蓋150旋轉(zhuǎn)一邊照射活性氧。圖15的(c)表示圖15的(b)的箭頭X處的剖視圖。在蓋150的周圍配置輥152而使蓋旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)部件并不限于輥，只要能使蓋旋轉(zhuǎn)即可。通過(guò)使蓋150旋轉(zhuǎn)，可使處于蓋150與密封構(gòu)件151之間的間隙中的氣體因離心力而排出到蓋150的外部，在降低旋轉(zhuǎn)速度或停止旋轉(zhuǎn)時(shí)，照射到蓋上的含活性氧的氣體可進(jìn)入到該間隙內(nèi)而對(duì)存在于間隙內(nèi)的細(xì)菌進(jìn)行滅菌處理。這樣，通過(guò)多次改變使蓋150旋轉(zhuǎn)的速度、方向等，可反復(fù)使含活性氧的氣體進(jìn)入間隙內(nèi)進(jìn)行滅菌處理。圖16表示對(duì)蓋161進(jìn)行滅菌處理的另一方法。蓋161與圖15的(a)同樣地在蓋的內(nèi)部具有未圖示的密封構(gòu)件。將蓋配置在配置于真空容器160內(nèi)部的擱架162上，利用真空泵等將真空容器內(nèi)部的氣體作為排出氣體163排出，使真空容器內(nèi)部減壓。在該減壓工序中，可將殘留在蓋與密封構(gòu)件之間的間隙內(nèi)的氣體排出，然后由等離子生成部向真空容器160內(nèi)供給含活性氧的氣體，使活性氧進(jìn)入到該間隙內(nèi)。通過(guò)相對(duì)于含活性氧的氣體100的流量來(lái)改變從真空容器排出的氣體163的流量，可使氣體100反復(fù)進(jìn)入到上述間隙內(nèi)。即，在氣體163的流量多于氣體100的流量的情況下，使氣體從上述間隙內(nèi)排出，在氣體163的流量少于氣體100的流量的情況下，使氣體100進(jìn)入到上述間隙內(nèi)。實(shí)施例1對(duì)使用本發(fā)明的滅菌裝置的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明。在圖18的(b)所示的等離子體生成部中，使用石英管(內(nèi)徑20mm、外徑22mm)作為氣體流路管，使用鋁制管(內(nèi)徑26mm、外徑28mm)作為天線管。在天線管上形成一個(gè)寬D為5mm，長(zhǎng)L為60mm的狹縫。將由天線管和氣體流路管構(gòu)成的等離子體生成部配置在作為密封部件的內(nèi)徑160mm、長(zhǎng)度1500mm的腔室內(nèi)。將氣體流路管內(nèi)減壓到102Pa,并且向氣體流路管內(nèi)導(dǎo)入氣體流量為0.3(1/min)的氧氣和氣體流量為3.0(1/min)的氬氣，再向腔室內(nèi)導(dǎo)入微波入射功率為IOOOW的微波(頻率數(shù)2.45GHz)。等離子體點(diǎn)火后，將氣體流路管內(nèi)開放為大氣壓(10sPa)，觀察從天線管的狹縫處放射出的氧原子的發(fā)光光語(yǔ)時(shí)，777nm的光譜強(qiáng)度為2.9(a.u.)。在供給到上述氣體流路管內(nèi)的氣體只為氬氣的情況下，同樣的光i脊強(qiáng)度為l.(Ha.u.),甶此可以確認(rèn)，在上述含氧的氣體的情況下，氧氣護(hù)穩(wěn)定^錄離工*#第&由基。接著，使腐爛的豬肉的細(xì)^叫著六DF,T材，的試—給片站一個(gè)面上，將該試-險(xiǎn)片一分為二，制作成2個(gè)，40mmxi2t)mm大小的試驗(yàn)片。如圖9所示，將一個(gè)試驗(yàn)片配置在距天線管端部3^11處(^+S),照射含活性氧的氣體3秒鐘。滅菌處理后，將試驗(yàn)片在35。C下培養(yǎng)24小時(shí)，統(tǒng)計(jì)了菌落數(shù)。為了比較滅菌效果，對(duì)另一個(gè)試驗(yàn)片不照射含活性氧的氣體而同樣進(jìn)行培養(yǎng)，統(tǒng)計(jì)了菌落數(shù)。進(jìn)行2次上述實(shí)驗(yàn)的結(jié)果示于表l中。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>根據(jù)表l的結(jié)果可以確認(rèn)，在使用本發(fā)明的滅菌裝置進(jìn)行處理的情況下，為100%滅菌。由此可以認(rèn)為，本發(fā)明的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法在短時(shí)間內(nèi)就有極高的滅菌效果。實(shí)施例2下面，使用圖20所示的等離子體發(fā)生裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。等離子體發(fā)生裝置大體可以分成兩部分，一部分是等離子體生成用腔室(PlasmaProductionChamber),另一部分是處理用腔室(ProcessChamber)。通過(guò)設(shè)置處理用腔室，可對(duì)各種對(duì)象物照射自由基。等離子體生成用腔室的內(nèi)部用鋁制密封板分隔，使其中心軸通過(guò)石英管(內(nèi)徑10mm、夕卜徑13mm)而延伸到處理用腔室內(nèi)。并且，石英管用圖18的(b)所示那樣的圓筒狀的鋁制天線管包覆，在天線管上，在沿著天線管的圓周面相對(duì)稱的位置上設(shè)置2個(gè)相當(dāng)于微波半波長(zhǎng)的長(zhǎng)度為(寬為5mm)的狹縫，其中一個(gè)狹縫朝向微波入射口設(shè)直。作為等離子體產(chǎn)生方法的個(gè)例子,用回轉(zhuǎn)泵將石英管內(nèi)和處理用腔室內(nèi)排氣后，使氬氣流入到石關(guān)官內(nèi)，將氣壓保持在100~200Pa后，通過(guò)波導(dǎo)管向石英管照射微波(頻率為2.45GHz),從而生成氬氣等離子體。然后，在操作回轉(zhuǎn)泵的轉(zhuǎn)換桿而將氣壓提高至大氣壓時(shí)，在大氣壓下維持非平衡等離子體(電子溫度為幾萬(wàn)度以上的高溫，離子溫度或氣體溫度為幾十~幾百度左右的狀態(tài)的等離子體狀態(tài))。在等離子體生成部中生成的等離子體伴隨著氣流吹入等離子體處理用腔室內(nèi)。觀察等離子體的發(fā)光光譜生成并維持等離子體，將只使用氬氣時(shí)(圖21的(a))的發(fā)光光譜和使用氬氣和氧氣的混合氣體時(shí)(圖21的(b))的發(fā)光光譜的樣子示于圖21中。測(cè)定條件為，氬氣流量都為6.0[l/min]，在圖18的(b)中氧氣流量為0.07[1/min](混合比約1%)。微波入射功率為600W。圖21的(a)中，可在波長(zhǎng)763.5nm和波長(zhǎng)772.4nm的位置觀察到氬原子的光譜線(ArI),在圖21的(b)中，除了觀察到圖21的(a)的光語(yǔ)線外，還在波長(zhǎng)777.3nm的位置觀察到氧原子的相當(dāng)強(qiáng)的光i普線(OI)。使用本裝置，盡管氧的混合比為約1%,但仍可觀察到氧原子發(fā)出的強(qiáng)光，認(rèn)為這是由于氧分子進(jìn)行高效率地解離，在等離子體中存在有較多的氧原子(氧自由基)的緣故。下面，調(diào)查了Arl(763.5nm)和01(777.3nm)的發(fā)光強(qiáng)度對(duì)氧氣混合比和微波入射功率的各依賴性。將結(jié)果示于圖22(對(duì)氧氣混合比的依賴性)和圖23(微波入射功芊的依賴性)中。對(duì)氧氣混合比的依賴性為了調(diào)查對(duì)氧氣混合比的依賴性，便微》夂入射勸半刀600W、氬氣流量為6.0[l/mi:丄只改變，、氣流量(氧含量)，伊氧氣混合比在l~15%的范圍內(nèi)變動(dòng)。根據(jù)圖22。]知，隨著氧濃度的增加，氬及氧原子的發(fā)光強(qiáng)度都急劇減小。實(shí)際上，用肉眼也能觀察到整個(gè)等離子體的發(fā)光強(qiáng)度由于混合了氧氣而減小。認(rèn)為這是由于氧以分子狀態(tài)存在，微波的能量不僅用于電離、激勵(lì)，而且也用于氧分子的解離的緣故。對(duì)微波入射功率的依賴性下面，為了調(diào)查等離子體產(chǎn)生狀態(tài)對(duì)微波入射功率的依賴性，使氬氣流量為6.0[l/min]、氧氣流量為0.07[1/min](氧混合比約1%),使微波入射功率在300~800W的范圍內(nèi)變動(dòng)。根據(jù)圖23可知，在增加微波入射功率的情況下，氬原子的發(fā)光強(qiáng)度并無(wú)太大變化，與此相對(duì)，氧原子的發(fā)光強(qiáng)度隨著微波入射功率一起上升。認(rèn)為是由于氧分子的解離能遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于氬原子的電離能，因此微波入射功率的增加量不是被氬原子消耗掉，而是被氧分子的解離所消耗。測(cè)定活性氧到達(dá)的距離為了調(diào)查從石英管釋放出的活性氧、特別是氧自由基可到達(dá)何處，在從石英管前端向石英管的延長(zhǎng)方向離開6~10cm的范圍內(nèi)，配置與氧自由基進(jìn)行反應(yīng)的化學(xué)指示劑帶(ASP公司制，制品名STERRADChemicalIndicatorStrip，制品號(hào)REF14100)，調(diào)查了該指示劑的反應(yīng)。石英管前端與天線管前端之間的距離為20mm，天線管前端與狹縫前端(氣體排出側(cè)的前端)之間的距離為3mm。另外，使氬氣的流i-恒定為6.0[1/min]，使氧氣混合比在0~2%的范圍內(nèi)變化地調(diào)整氧氣的流量。另外，微波入射功率為SOGW。測(cè)定結(jié)果示于表2中。在指示劑的顏色從紫A變成黃色的情況下，認(rèn)為存在氧自由基，if價(jià)為O,在變化很少或沒冇變化的情況下，評(píng)價(jià)為x。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>由表2的結(jié)果可以確認(rèn)，與氧氣的混合比無(wú)關(guān)，一直到距離石英管的前端9cm的位置都存在氧自由基。還可以確認(rèn)，盡管是大氣壓下，仍可在很長(zhǎng)的距離內(nèi)存在氧自由基。還可以確認(rèn)，在不添加氧氣而只是氬氣的情況下，在6cm的位置處也存在氧自由基。認(rèn)為這是在天線管部分被激勵(lì)的壽命長(zhǎng)的亞穩(wěn)定態(tài)的氬原子將包含在處理用腔室內(nèi)的空氣中的氧分子解離而產(chǎn)生氧原子(自由基)的緣故。測(cè)定氣體溫度為了測(cè)定處理用腔室內(nèi)的溫度分布，在從石英管前端到石英管的延長(zhǎng)方向上010cm的范圍內(nèi)配置熱電偶，測(cè)定氣體溫度。將測(cè)定結(jié)果示于圖24中。另外，使氬氣流量恒定為6.0[1/min]，使氧氣混合比在l~5%的范圍內(nèi)變化地調(diào)整氧氣流量。另外，使微波入射功率為600W。由圖24可知，隨著距吹出口距離的增;,任'f丫—種氣;混合比下的氣體溫度都急劇降低。認(rèn)為是在天線管部分產(chǎn)生的高溫氣體粒子在處理用腔室內(nèi)移動(dòng)W與其他粒子撞擊而快速^失去能量的緣故。另外，隨著增高氧的混合比，氣體溫度整體上趨于降低。認(rèn)為與圖22中發(fā)光強(qiáng)度對(duì)氧混合比的依賴性一樣，隨著氧分子的增加，微波付與電子的能量被氧分子的解離所消耗掉，抑制了電子對(duì)氣體粒子加熱。由圖24可知，在9cm的位置處，與氧氣混合比無(wú)關(guān)，氣體溫度低至80。C以下。4妻著，使氧氣的混合比固定為1%,測(cè)定改變氣體流量時(shí)的氣體溫度分布的變化。調(diào)整氣體流量，使氧氣在0.07~0.21[1/min]的范圍內(nèi)變動(dòng)，同時(shí)調(diào)整氬氣流量，使氧氣的混合比保持在1%。微波入射功率為600W。將測(cè)定結(jié)果示于圖25中。由圖25可知，通過(guò)增加氣體流量可降低氣體溫度。由于氣體流量增加而氣體流速加快，該情況下氣體通過(guò)等離子體生成區(qū)域(天線管部分)所需要的時(shí)間也變短。即，由于減少了與高能量電子的撞擊次數(shù)，因此當(dāng)氣體流量增加時(shí)，氣體溫度降低。利用菌落計(jì)數(shù)法評(píng)價(jià)滅菌效果所謂菌落計(jì)數(shù)法是在滅菌處理后，釆集對(duì)象物表面上的細(xì)菌，用通過(guò)在培養(yǎng)基中培養(yǎng)而生成的菌落(細(xì)菌的群落)數(shù)評(píng)價(jià)滅菌率的方法。以下表示本實(shí)驗(yàn)中進(jìn)行的菌落計(jì)數(shù)法的順序。(1)3奪f^為指示菌的Bacillusatrophaeus菌(MicroBiologics乂i^司、KWIK-STIK10PK0953S)普遍均勻地涂敷到鋁板(2cmx2cm)上。另夕卜，在此使用的Bacillusatrophaeus菌是芽孑包形成菌，耐熱溫度為80。C左右。用作加熱滅菌、氣體滅菌的指示菌。(2)接著，用棉棒擦拭鋁板的一半，并將該棉棒浸入到培養(yǎng)液中。(3)將鋁板設(shè)置于等離子體生成裝置內(nèi)來(lái)進(jìn)行滅菌處理。(4)滅菌處理后，同樣用棉棒擦拭取出來(lái)的鋁板的另一半，并將棉棒浸入在另一培養(yǎng)液中。(5)將2個(gè)培養(yǎng)液以相同量分別滴加到培養(yǎng)基(智索林式會(huì)社(ChissoCorporation)、Sanita-kun)中。將培養(yǎng)基在被設(shè)定為Bacillusatrophaeus菌的生育適宜溫度的35°C的培養(yǎng)箱內(nèi)培養(yǎng)48小時(shí)。存在細(xì)菌時(shí)，會(huì)根據(jù)其數(shù)量在培養(yǎng)基中出現(xiàn)菌落。(6)根據(jù)滅菌處理前(上述(2))的菌落數(shù)和滅菌處理后的菌落數(shù)(上述(3))求出滅菌率。上述(3)的等離子體的滅菌處理?xiàng)l件使微波入射功率為600W,使氬氣流量為6.0[1/min]，使處理時(shí)間為3秒，使處理位置(在石英管的延長(zhǎng)方向上距離石英管的前端的距離)為9cm,使氧混合比濃度在O~2%范圍內(nèi)變化。將測(cè)定結(jié)果示于表3中。表3A<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>仍在任一種情況下都達(dá)到了較高的滅菌率。另外，通常來(lái)說(shuō)，作為滅菌原因，可舉出熱、紫外線、氧自由基等，但Bacillus屬的菌是高溫菌，即使在80。C的溫度下也不會(huì)被殺滅。另外，根據(jù)氣體溫度測(cè)定的結(jié)果，在滅菌處理位置的氣體溫度，在氧氣混合比為1%時(shí)約為55",在該混合比為2%時(shí)約為7(TC。另外，未觀測(cè)到紫外線滅菌中滅菌效舉較高的波長(zhǎng)為200~280nm的紫外線。根據(jù)表2可以確認(rèn)在滅菌處理位置存在氧自由基，由此可以推定上述滅菌效果是由氧自由泉決定的。另外，根據(jù)表3，即使氧混合比為0%的情況下，也能實(shí)現(xiàn)滅菌，這可能是因?yàn)闅鍤獾木哂休^高內(nèi)部能量的亞穩(wěn)態(tài)原子(metastableatom)，其自身反應(yīng)或與空氣中的氧進(jìn)行反應(yīng)而發(fā)揮了滅菌的作用。利用生物指示劑評(píng)價(jià)滅菌效果使用濾紙上附著了大量細(xì)菌(lxlOS個(gè))的試紙(生物指示劑)進(jìn)行滅菌評(píng)價(jià)。所使用的生物指示劑(Raven公司制)是在6.4mmx38.1mm的濾纟氏上附著106個(gè)Bacillusstearothermophilus菌的孢子而成的。在實(shí)驗(yàn)中，將該生物指示劑切割成6等份后使用。并且，本次使用的細(xì)菌是芽孢形成菌，耐熱溫度為i2crc。用作加熱滅菌的指示菌。下面，表示使用生物指示劑的滅菌順序。(1)將切割后的生物指示劑放置在處理用腔室內(nèi)，進(jìn)行等離子體滅菌。(2)取出生物指示劑并將其投入到裝入了培養(yǎng)液(胰蛋白酶'醬油'肉湯)的試管內(nèi)。(3)將試管放入到恒溫箱(incubator)內(nèi)，在60。C下培養(yǎng)72小時(shí)。72小時(shí)后，試管內(nèi)的培養(yǎng)液顏色未發(fā)生變化而呈紫色時(shí)表示不存在細(xì)菌(表4中評(píng)價(jià)為0),變成黃色時(shí)表示殘留有活菌(表4中評(píng)價(jià)為x)。利用等離子體滅菌處理的條件使微波入射功率為600W,使氬氣流量為6.0[l/min],使照射位置(在石英管的延長(zhǎng)方向上距離石英管的前端的距離)為9cm。進(jìn)行滅菌處理時(shí)，首先將試紙的一個(gè)面設(shè)置為朝向吹出口進(jìn)行處理，然后齊將試紙的另一面設(shè)置為朝向吹出口進(jìn)行同樣處理。任何一個(gè)甶都進(jìn)行相同時(shí)間的處理。表4中的處理時(shí)間，良示兩個(gè)面處理所用的合計(jì)時(shí)間。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>處理位置處的氣體溫度(55~75。C左右)遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于細(xì)菌的滅菌溫度(120。C以上)，且?guī)缀跷从^測(cè)到紫外線，因此，本實(shí)驗(yàn)中的滅菌由氧自由基進(jìn)行。根據(jù)表4可知，若氧混合比為1~3%,則用于殺滅細(xì)菌需要50秒(單面25秒)的處理時(shí)間。另外，若氧混合比為5%,則在本次進(jìn)行的處理時(shí)間的范圍內(nèi)未能將細(xì)菌殺滅。推斷這是因?yàn)榘殡S著氧混合比的增加，被激勵(lì)(具有內(nèi)部能量的)出的氧自由基減少的緣故。8.6[1/min]、氧混合比1%,只對(duì)試紙的一個(gè)面了進(jìn)行滅菌處理。確認(rèn)了使處理位置在6~9cm范圍內(nèi)變化，在25秒以上都能滅菌成功。另外，各處理位置的氣體溫度9cm處為68.8。C、8cm處為72.9。C、7cm處為74.5。C、6cm處為72.2。C。根據(jù)以上結(jié)果可以明白，使用本發(fā)明的滅菌裝置，Bacillusatrophaeus菌的6D值(殘留活菌的抹數(shù)達(dá)到初期的10-6的處理曰于間)約為9秒，Bacillusstearothermopnilus菌曰〈約為30秒左右。與當(dāng)前大多^吏用的高壓蒸汽滅菌(高壓滅菌(autoclave法))的3分鐘相比較，本發(fā)明可以在極短的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)滅菌處理。不言而喻，本發(fā)明的滅菌裝置及滅菌方法并不僅限定于上述內(nèi)容，在上述滅菌裝置和滅菌方法中，例如可利用等離子體發(fā)生裝置、輔助點(diǎn)火部件或等離子體的脈沖驅(qū)動(dòng)等上述各種技術(shù)。另外，在上述滅菌裝置和滅菌方法中，雖然以利用氧氣的例子為中心進(jìn)行了說(shuō)明，但也可以使用氧化力更強(qiáng)的OH自由基取代由氧氣生成的氧自由基。在使用OH自由基的情況下，可縮短滅菌處理時(shí)間。其中，為了產(chǎn)生OH自由基，可以使用將費(fèi)用低的水氣化而成的氣體作為等離子體生成原料。工業(yè)實(shí)用性如以上說(shuō)明，本發(fā)明可以提供一種使用利用等離子體生成的活性氧有效地對(duì)容器等對(duì)象物進(jìn)行滅菌處理的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法。并且，采用本發(fā)明，即使在大氣壓力中也能穩(wěn)定地形成等離子體，并能大量地對(duì)容器等對(duì)象物進(jìn)行滅菌處理。權(quán)利要求1.一種滅菌裝置，其通過(guò)使含有活性氧的氣體與對(duì)象物接觸而除去附著于該對(duì)象物上的細(xì)菌，該活性氧是將氧氣等離子體化而生成的活性氧以及將氧以外的其他氣體等離子體化再使該等離子體與氧氣接觸而生成的活性氧中的至少任一種，其特征在于，該滅菌裝置具有用于導(dǎo)入等離子體化的氣體再將該氣體排放到大氣中的非導(dǎo)電性的氣體流路管；圍繞該氣體流路管的導(dǎo)電性的天線管；在該天線管上沿著氣體流路管的管軸線方向形成有規(guī)定長(zhǎng)度的狹縫，對(duì)該天線管照射微波，從而將該氣體流路管中的氣體等離子體化。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的滅菌裝置，其特征在于，該狹縫在該氣體流路管的排出氣體一側(cè)具有開口端。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的滅菌裝置，其特征在于，該狹縫形成在該天線管的內(nèi)部。4.根據(jù)權(quán)利要求l~3中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，該天線管在該氣體流路管的排出氣體一側(cè)的端部朝向該氣體流路管彎折。5.根據(jù)權(quán)利要求l~4中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，該狹縫的長(zhǎng)度設(shè)定為所照射的微波的半波長(zhǎng)的整數(shù)倍。6.根據(jù)權(quán)利要求l~5中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，該氣體流路管在氣體流路方向的下游側(cè)自天線管的端部突出，該突出部分的長(zhǎng)度比等離子體焰炬的長(zhǎng)度長(zhǎng)。7.根據(jù)權(quán)利要求l~6中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，該氣體流3各管和該天線管可相對(duì)移動(dòng)。8.根據(jù)權(quán)利要求l~7中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，在該氣體流路管的內(nèi)部或該氣體流路管的周圍配置有用于導(dǎo)入氧氣的氧氣管，使在該氣體流路管內(nèi)生成的等離子體與由該氧氣管導(dǎo)入的氧氣相接觸。9.根據(jù)權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器或容器蓋。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的滅菌裝置，其特征在于，該滅菌裝置具有使該對(duì)象物相對(duì)于該氣體流路管相對(duì)移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)旋轉(zhuǎn)部件。11.一種滅菌方法，使用權(quán)利要求10所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，該方法包括如下工序?qū)⒃摎怏w流路管的前端插入到該容器內(nèi)部最深部附近的插入工序；在進(jìn)行該插入工序的狀態(tài)下，將從該氣體流路管排出的氣體填充到該容器內(nèi)部的填充工序；在該填充工序之后，將該氣體流路管從該容器內(nèi)部的最深部附近抽出到該容器口部附近的抽出工序。12.根據(jù)權(quán)利要求ll所述的滅菌方法，其特征在于，該插入工序和該抽出工序通過(guò)使該氣體流3各管和該容器沿該氣體流路管的管軸線方向相對(duì)移動(dòng)來(lái)進(jìn)^f亍。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的滅菌方法，其特征在于，該氣體流路管與該容器的相對(duì)移動(dòng)速度在該抽出工序中比在該插入工序中慢。14.一種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物是容器，將該氣體流路管和該天線管的一部分收容到該容器內(nèi)部，并且配置包圍該容器的密封部件，一邊使氣體從該氣體流路管排出到該容器內(nèi)，一邊對(duì)該天線管照射微波。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的滅菌方法，其特征在于，在該密封部件的一部分上形成有用于將該密封部件內(nèi)的氣體排出到外部的排出口，一邊從該排出口排出氣體，一邊向該氣體流路管內(nèi)供給氣體。16.—種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，形成使從該氣體流路管排出的氣體暫時(shí)滯留的空間，使該容器貫通該空間地輸送該容器。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的滅菌方法，其特征在于，該空間為隧道形狀的空間，該氣體流路管的排出口與該空間相連接。18.—種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器，面向該容器的外表面吹拂從該氣體流路管排出的氣體，并且使該容器以大致垂直于氣體流路管的管軸線的方向?yàn)橹行倪M(jìn)行旋轉(zhuǎn)。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的滅菌方法，其特征在于，在該氣體流路管的排出口附近配置用于使從該氣體流路管排出的氣體與該容器相接觸的罩。20.—種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將該氣體流路管的排出口配置為朝向該蓋的內(nèi)側(cè)，從該氣體流路管向該蓋供給氣體，并且使該蓋進(jìn)行4^轉(zhuǎn)。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的滅菌方法，其特征在于，該蓋的旋轉(zhuǎn)速度或旋轉(zhuǎn)方向與時(shí)間同時(shí)變化。22.—種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，進(jìn)行滅菌處理的對(duì)象物為容器蓋，將該蓋放入真空容器內(nèi)，一邊對(duì)該真空容器內(nèi)進(jìn)行排氣，一邊從該氣體流路管的排出口向該真空容器內(nèi)供給氣體。23.—種滅菌方法，使用權(quán)利要求l~8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其特征在于，該方法包括將比氧氣更容易等離子體化的氣體供給到該氣體流路管內(nèi)，照射微波而點(diǎn)燃等離子體的等離子體點(diǎn)火工序；在該等離子體點(diǎn)火工序之后，同時(shí)供給氧氣與上述比氧氣更容易等離子體化的氣體，將氧氣等離子體化的工序。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的滅菌方法，其特征在于，在等離子體點(diǎn)火工序中供給的氣體為氬氣。全文摘要本發(fā)明提供使用利用等離子體生成的活性氧對(duì)容器等對(duì)象物有效地進(jìn)行滅菌處理的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法。特別是提供利用等離子體穩(wěn)定地產(chǎn)生活性氧的技術(shù)，根據(jù)需要提供能在大氣壓中穩(wěn)定地生成等離子體和活性氧，并能抑制等離子體給滅菌對(duì)象物帶來(lái)熱損壞的滅菌裝置及使用該裝置的滅菌方法。在通過(guò)使含有將氧氣等離子體化而生成的活性氧及將氧以外的其他氣體等離子體化再使該等離子體與氧氣接觸而生成的活性氧中的至少任一種活性氧的氣體(100)與對(duì)象物(110)接觸而除去附著于該對(duì)象物上的細(xì)菌的滅菌裝置中，其特征在于，具有用于導(dǎo)入要進(jìn)行等離子體化的氣體并將該氣體向大氣中排出的非導(dǎo)電性氣體流路管(1)和圍繞該氣體流路管的導(dǎo)電性天線管(2)，在該天線管上沿著氣體流路管的管軸線方向形成有規(guī)定長(zhǎng)度的狹縫(3)，對(duì)該天線管照射微波，將該氣體流路管中的氣體等離子體化。該狹縫的長(zhǎng)度優(yōu)選設(shè)定為所照射的微波的半波長(zhǎng)的整數(shù)倍。文檔編號(hào)A61L2/02GK101394870SQ20078000789公開日2009年3月25日申請(qǐng)日期2007年3月7日優(yōu)先權(quán)日2006年3月7日發(fā)明者林信哉,立花慶久,米須章申請(qǐng)人:國(guó)立大學(xué)法人琉球大學(xué);國(guó)立大學(xué)法人佐賀大學(xué);可口可樂公司